JP2013114881A - 試料解析装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】電子ビーム鏡筒7と、イオンビーム鏡筒17と、制御手段25,23とを備え、イオンビーム15の照射により試料9が切削加工され、これにより露出された試料9の断面を解析対象面として該断面に電子ビーム5を照射し、これによる試料9の断面情報を検出する試料解析装置において、電子ビーム5の光軸6に直交する面に対して所定の傾斜角度となる断面が試料9に形成されるように、試料9へのイオンビーム照射時におけるイオンビーム走査のスキャンローテーション量が制御部25,23により設定可能とされ、該スキャンローテーション量に基づくイオンビーム走査により試料9に形成された断面に対して正面側に、試料9の断面情報を検出するための検出器9が配置されている。
【選択図】図2
Description
Claims (5)
- 試料に対して電子ビームを照射するための電子ビーム鏡筒と、試料に対してイオンビームを照射するためのイオンビーム鏡筒と、制御手段とを備え、イオンビームの照射により試料が切削加工され、これにより露出された試料の断面を解析対象面として該断面に電子ビームを照射し、これによる試料の断面情報を検出する試料解析装置であって、電子ビームの光軸に直交する面に対して所定の傾斜角度となる断面が試料に形成されるように、試料へのイオンビーム照射時におけるイオンビーム走査のスキャンローテーション量が制御手段により設定可能とされ、該スキャンローテーション量に基づくイオンビーム走査により試料に形成された断面に対して正面側に、試料の断面情報を検出するための検出器が配置されていることを特徴とする試料解析装置。
- 前記スキャンローテーション量に基づくイオンビーム走査によって試料に形成された断面に電子ビームを照射する際に、該断面上で電子ビームの走査を行うことを特徴とする請求項1記載の試料解析装置。
- 前記電子ビームの走査時において、前記断面が面する方向に応じて電子ビームのスキャンローテーションを行うことを特徴とする請求項2記載の試料解析装置。
- 前記試料へのイオンビーム照射時におけるイオンビーム走査の領域が制御手段により分割設定されており、各分割領域に応じたイオンビーム走査が行われるごとに試料断面への電子ビーム走査が行われ、これにより各試料断面ごとの断面情報を検出することを特徴とする請求項1乃至3何れか記載の試料解析装置。
- 前記傾斜角度は70°となっており、前記検出器により後方散乱電子回折パターンを検出することを特徴とする請求項1乃至4何れか記載の試料解析装置。
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015057773A (ja) * | 2013-08-19 | 2015-03-26 | カール ツァイス マイクロスコーピー ゲーエムベーハーCarl Zeiss Microscopy GmbH | 物体の処理及び/又は観察方法及び当該方法を実行する粒子ビーム装置 |
JP2019096395A (ja) * | 2017-11-17 | 2019-06-20 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | 荷電粒子ビーム装置 |
WO2023053188A1 (ja) * | 2021-09-28 | 2023-04-06 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | 制御方法、荷電粒子ビーム装置及びプログラム |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001035433A (ja) * | 1999-07-19 | 2001-02-09 | Jeol Ltd | 走査型荷電粒子ビーム装置における試料像観察方法 |
JP2004294282A (ja) * | 2003-03-27 | 2004-10-21 | Renesas Technology Corp | 結晶解析装置 |
JP2005122909A (ja) * | 2003-10-14 | 2005-05-12 | Sii Nanotechnology Inc | リアルタイム加工位置補正方法とその装置 |
JP2011159483A (ja) * | 2010-01-29 | 2011-08-18 | Sii Nanotechnology Inc | 電子顕微鏡及び試料分析方法 |
-
2011
- 2011-11-29 JP JP2011259686A patent/JP5851218B2/ja active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001035433A (ja) * | 1999-07-19 | 2001-02-09 | Jeol Ltd | 走査型荷電粒子ビーム装置における試料像観察方法 |
JP2004294282A (ja) * | 2003-03-27 | 2004-10-21 | Renesas Technology Corp | 結晶解析装置 |
JP2005122909A (ja) * | 2003-10-14 | 2005-05-12 | Sii Nanotechnology Inc | リアルタイム加工位置補正方法とその装置 |
JP2011159483A (ja) * | 2010-01-29 | 2011-08-18 | Sii Nanotechnology Inc | 電子顕微鏡及び試料分析方法 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015057773A (ja) * | 2013-08-19 | 2015-03-26 | カール ツァイス マイクロスコーピー ゲーエムベーハーCarl Zeiss Microscopy GmbH | 物体の処理及び/又は観察方法及び当該方法を実行する粒子ビーム装置 |
JP2019096395A (ja) * | 2017-11-17 | 2019-06-20 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | 荷電粒子ビーム装置 |
WO2023053188A1 (ja) * | 2021-09-28 | 2023-04-06 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | 制御方法、荷電粒子ビーム装置及びプログラム |
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