JP5934521B2 - 試料解析装置 - Google Patents
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- 試料室に配置された試料に対して電子ビームを照射するための電子ビーム鏡筒と、
試料に対してイオンビームを照射するためのイオンビーム鏡筒と、
制御手段とを備え、
イオンビームの照射により試料が切削加工され、これにより露出された試料の断面を解析対象面として該断面に電子ビームを照射し、これによる試料の断面情報を検出する試料解析装置であって、
電子ビーム鏡筒の光軸とイオンビーム鏡筒の光軸との成す角度をθ 1 とし、電子ビームの光軸に直交する面に対して所定の傾斜角度θ 2 となる断面が試料に形成されるように、試料へのイオンビーム照射時におけるイオンビーム走査のスキャンローテーション量θ 3 を、
「θ 3 =cos -1 (cosθ 2 /sinθ 1 )」に基づき、
制御手段により設定可能とされ、該スキャンローテーション量θ 3 に基づくイオンビーム走査により試料に形成された断面に対して正面側に、試料の断面情報を検出するための検出器が配置されており、
前記試料室に配置された移動可能なプローブを更に備え、そのプローブ先端に前記試料が固定された状態で、前記試料に対して前記電子ビーム照射および前記イオンビーム照射が行われることを特徴とする試料解析装置。 - 前記スキャンローテーション量θ 3 に基づくイオンビーム走査によって試料に形成された断面に電子ビームを照射する際に、該断面上で電子ビームの走査を行うことを特徴とする請求項1記載の試料解析装置。
- 前記電子ビームの走査時において、前記断面が面する方向に応じて電子ビームのスキャンローテーションを行うことを特徴とする請求項2記載の試料解析装置。
- 前記試料へのイオンビーム照射時におけるイオンビーム走査の領域が制御手段により分割設定されており、各分割領域に応じたイオンビーム走査が行われるごとに試料断面への電子ビーム走査が行われ、これにより各試料断面ごとの断面情報を検出することを特徴とする請求項1乃至3何れか記載の試料解析装置。
- 前記傾斜角度θ 2 は70°となっており、前記検出器により後方散乱電子回折パターンを検出することを特徴とする請求項1乃至4何れか記載の試料解析装置。
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