JP6042143B2 - 基板保持部材及びそれを備えた基板処理装置 - Google Patents

Description

本発明は、半導体ウエハ、液晶ディスプレイ用基板、プラズマディスプレイ用基板、有機ＥＬ用基板、ＦＥＤ(Field Emission Display)用基板、光ディスプレイ用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、太陽電池用基板（以下、単に基板と称する）を起立姿勢で保持する基板保持部材及びそれを備えた基板処理装置に関する。

従来、この種の装置として、基板の両面の周縁部を当接して保持する基板保持部材がある（例えば、特許文献１参照）。この基板保持部材は、第１Ｖ溝と第２Ｖ溝を含む保持溝を備え、第１Ｖ溝は、一対の第１傾斜面と、基板の厚み未満の幅に形成された水平な第１溝底部とを含み、第２Ｖ溝は、一対の第２傾斜面と、第１溝底部から下降するように傾斜した第２溝底部とを備えている。

このように構成された基板保持部材は、第１溝底部の幅が基板の厚み未満であるので、基板はその両面の周辺部において一対の第１傾斜面に点接触する。そのため、濡れている基板を保持する場合であっても、基板から流下する液体は保持溝から排出されやすくなるので、液切れ性能を向上できる。

特許３７１４７６３号公報（図１０）

しかしながら、このような構成を有する従来例の場合には、次のような問題がある。
すなわち、従来の装置は、基板の面方向から見た場合、基板の左右周縁から基板の中央下部に向かって基板の周縁を流下してきた液滴が、外側の周縁と基板保持部材の外側面との間に滞留しやすい。したがって、この液溜まりが乾燥しづらく、乾燥に長時間を要する上に、特に基板の左右周縁に乾燥不良が生じやすいという問題がある。

本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、液滴を誘導することにより、基板の下縁における液滴溜まりを防止して、乾燥を短時間できるとともに乾燥不良を防止することができる基板保持部材及びそれを備えた基板処理装置を提供することを目的とする。

本発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。
すなわち、請求項１に記載の発明は、基板の周縁を当接して保持する基板保持部材において、基板の厚みより狭い溝底部と、この溝底部から上方へ向かって開いた一対の傾斜面とを備えた保持溝を有する保持部と、前記保持部の側面に形成され、前記一対の傾斜面の各々から下方に向かって形成された液滴誘導部と、を備え、前記液滴誘導部の下部に接続され、下方に向かって縦方向に延出された縦方向液滴誘導部をさらに備えていることを特徴とするものである。

［作用・効果］請求項１に記載の発明によれば、基板の左右周縁から基板の中央下部に向かって基板の周縁を流下し、基板の周縁と保持部との間に滞留した液滴は、液滴誘導部によって吸い取られるように誘導されて除去される。したがって、基板の周縁と保持部との間に液滴が滞留するのを防止できるので、乾燥の短時間化を図ることができるとともに、乾燥不良を防止することができる。また、液滴誘導部によって下部に誘導された液滴を、縦方向液滴誘導部によって下方へ集め、基板から遠ざけることができる。したがって、傾斜液滴誘導部に貯留する液滴が飛散する等によって基板へ悪影響を与えることを防止できる。

また、請求項２に記載の発明は、基板の周縁を当接して保持する基板保持部材において、基板の厚みより狭い溝底部と、この溝底部から上方へ向かって開いた一対の傾斜面とを備えた保持溝を有する保持部と、前記保持部の側面に形成され、前記一対の傾斜面の各々から下方に向かって形成された液滴誘導部と、を備え、前記一対の傾斜面において下方に向かって前記保持部の側面に至る副液滴誘導部をさらに備えたことを特徴とするものである。

［作用・効果］請求項２に記載の発明によれば、基板の左右周縁から基板の中央下部に向かって基板の周縁を流下し、基板の周縁と保持部との間に滞留した液滴は、液滴誘導部によって吸い取られるように誘導されて除去される。したがって、基板の周縁と保持部との間に液滴が滞留するのを防止できるので、乾燥の短時間化を図ることができるとともに、乾燥不良を防止することができる。また、副液滴誘導部によって、一対の傾斜面と基板の周縁との間に滞留した液滴が誘導されて除去される。

また、請求項３に記載の発明は、基板の周縁を当接して保持する基板保持部材において、基板の厚みより狭い溝底部と、この溝底部から上方へ向かって開いた一対の傾斜面とを備えた保持溝を有する保持部と、前記保持部の側面に形成され、前記一対の傾斜面の各々から下方に向かって形成された液滴誘導部と、を備え、前記液滴誘導部と、前記溝底部液滴誘導部と、前記縦方向液滴誘導部と、前記副液滴誘導部の少なくともいずれかは、前記保持部に凹状の溝で形成され、前記凹状の溝は、下方ほど幅広に形成されていることを特徴とするものである。

［作用・効果］請求項３に記載の発明によれば、基板の左右周縁から基板の中央下部に向かって基板の周縁を流下し、基板の周縁と保持部との間に滞留した液滴は、液滴誘導部によって吸い取られるように誘導されて除去される。したがって、基板の周縁と保持部との間に液滴が滞留するのを防止できるので、乾燥の短時間化を図ることができるとともに、乾燥不良を防止することができる。また、下方ほど幅広の凹状の溝とすることで、液滴を下方に円滑に速やかに誘導することができる。

また、請求項４に記載の発明は、基板の周縁を当接して保持する基板保持部材において、基板の厚みより狭い溝底部と、この溝底部から上方へ向かって開いた一対の傾斜面とを備えた保持溝を有する保持部と、前記保持部の側面に形成され、前記一対の傾斜面の各々から下方に向かって形成された液滴誘導部と、を備え、前記液滴誘導部は、高さ方向にて離間して複数個形成されていることを特徴とするものである。

［作用・効果］請求項４に記載の発明によれば、基板の左右周縁から基板の中央下部に向かって基板の周縁を流下し、基板の周縁と保持部との間に滞留した液滴は、液滴誘導部によって吸い取られるように誘導されて除去される。したがって、基板の周縁と保持部との間に液滴が滞留するのを防止できるので、乾燥の短時間化を図ることができるとともに、乾燥不良を防止することができる。また、複数個の傾斜液滴誘導部により大量の液滴を誘導させることができる。

また、請求項５に記載の発明は、基板を処理する基板処理装置において、処理液を貯留し、基板を収容する処理槽と、前記処理槽に付設され、前記処理槽の内部にあたる処理位置と、前記処理槽の上方にあたる待機位置とにわたって昇降するリフタと、前記リフタの下部に水平姿勢で設けられた基板保持部材とを備え、前記基板保持部材は、基板の厚みより狭い溝底部と、この溝底部から上方へ向かって開いた一対の傾斜面とを備えた保持溝を有する保持部と、前記保持部の側面に形成され、前記一対の傾斜面の各々から下方に向かって形成された液滴誘導部と、を備え、前記液滴誘導部の下部に接続され、下方に向かって縦方向に延出された縦方向液滴誘導部をさらに備えていることを特徴とするものである。

［作用・効果］請求項５に記載の発明によれば、基板保持部材で基板を保持したリフタが処理液内の処理位置から乾燥位置へ上昇された際に、基板の左右周縁から基板の中央下部に向かって基板の周縁を流下し、基板の周縁と保持部との間に滞留した液滴は、傾斜液滴誘導部によって吸い取られるように誘導されて除去される。したがって、基板の周縁と保持部との間に液滴が滞留するのを防止できるので、乾燥の短時間化を図ることができるとともに、乾燥不良を防止することができる。また、液滴誘導部によって下部に誘導された液滴を、縦方向液滴誘導部によって下方へ集め、基板から遠ざけることができる。したがって、傾斜液滴誘導部に貯留する液滴が飛散する等によって基板へ悪影響を与えることを防止できる。

また、請求項６に記載の発明は、基板を処理する基板処理装置において、処理液を貯留し、基板を収容する処理槽と、前記処理槽に付設され、前記処理槽の内部にあたる処理位置と、前記処理槽の上方にあたる待機位置とにわたって昇降するリフタと、前記リフタの下部に水平姿勢で設けられた基板保持部材とを備え、前記基板保持部材は、基板の厚みより狭い溝底部と、この溝底部から上方へ向かって開いた一対の傾斜面とを備えた保持溝を有する保持部と、前記保持部の側面に形成され、前記一対の傾斜面の各々から下方に向かって形成された液滴誘導部と、を備え、前記一対の傾斜面において下方に向かって前記保持部の側面に至る副液滴誘導部をさらに備えたことを特徴とするものである。

また、請求項７に記載の発明は、基板を処理する基板処理装置において、処理液を貯留し、基板を収容する処理槽と、前記処理槽に付設され、前記処理槽の内部にあたる処理位置と、前記処理槽の上方にあたる待機位置とにわたって昇降するリフタと、前記リフタの下部に水平姿勢で設けられた基板保持部材とを備え、前記基板保持部材は、基板の厚みより狭い溝底部と、この溝底部から上方へ向かって開いた一対の傾斜面とを備えた保持溝を有する保持部と、前記保持部の側面に形成され、前記一対の傾斜面の各々から下方に向かって形成された液滴誘導部と、を備え、前記液滴誘導部と、前記溝底部液滴誘導部と、前記縦方向液滴誘導部と、前記副液滴誘導部の少なくともいずれかは、前記保持部に凹状の溝で形成され、前記凹状の溝は、下方ほど幅広に形成されていることを特徴とするものである。

また、請求項８に記載の発明は、基板を処理する基板処理装置において、処理液を貯留し、基板を収容する処理槽と、前記処理槽に付設され、前記処理槽の内部にあたる処理位置と、前記処理槽の上方にあたる待機位置とにわたって昇降するリフタと、前記リフタの下部に水平姿勢で設けられた基板保持部材とを備え、前記基板保持部材は、基板の厚みより狭い溝底部と、この溝底部から上方へ向かって開いた一対の傾斜面とを備えた保持溝を有する保持部と、前記保持部の側面に形成され、前記一対の傾斜面の各々から下方に向かって形成された液滴誘導部と、を備え、前記液滴誘導部は、高さ方向にて離間して複数個形成されていることを特徴とするものである。

また、請求項９に記載の発明は、基板の周縁を当接して保持する基板保持部材において、基板の厚みより狭い溝底部と、この溝底部から上方へ向かって開いた一対の傾斜面とを備えた複数の保持溝を有する保持部と、前記保持部の側面に形成され、前記一対の傾斜面の各々から、前記保持溝同士の間の下方に向かって形成された液滴誘導部と、を備えていることを特徴とするものである。

また、請求項１０に記載の発明は、基板を処理する基板処理装置において、処理液を貯留し、基板を収容する処理槽と、前記処理槽に付設され、前記処理槽の内部にあたる処理位置と、前記処理槽の上方にあたる待機位置とにわたって昇降するリフタと、前記リフタの下部に水平姿勢で設けられた基板保持部材とを備え、前記基板保持部材は、基板の厚みより狭い溝底部と、この溝底部から上方へ向かって開いた一対の傾斜面とを備えた複数の保持溝を有する保持部と、前記保持部の側面に形成され、前記一対の傾斜面の各々から、前記保持溝同士の間の下方に向かって形成された液滴誘導部と、を備えていることを特徴とするものである。

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本発明に係る基板保持部材によれば、基板の左右周縁から基板の中央下部に向かって基板の周縁を流下し、基板の周縁と保持部との間に滞留した液滴は、液滴誘導部によって吸い取られるように誘導されて除去される。したがって、基板の周縁と保持部との間に液滴が滞留するのを防止できるので、乾燥の短時間化を図ることができるとともに、乾燥不良を防止することができる。また、液滴誘導部によって下部に誘導された液滴を、縦方向液滴誘導部によって下方へ集め、基板から遠ざけることができる。したがって、傾斜液滴誘導部に貯留する液滴が飛散する等によって基板へ悪影響を与えることを防止できる。

実施例１に係る基板保持部材を備えた基板処理装置の概略構成を示す縦断面図である。 リフタの概略構成を示す正面図である。 基板保持部材の一部を拡大して示した側面図である。 基板保持部材の一部を拡大して示した外観斜視図である。 基板保持部材における液滴の流れを側面から示した模式図である。 基板保持部材における液滴の流れを正面から示した模式図である。 実施例２に係る基板保持部材の一部を拡大して示した側面図である。 実施例３に係る基板保持部材の一部を拡大して示した側面図である。 実施例４に係る基板保持部材の一部を拡大して示した斜視図である。 実施例５に係る基板保持部材の一部を拡大して示した斜視図である。 実施例６に係るリフタの概略構成を示す正面図である。 基板保持部材における液滴の流れを正面から示した模式図である。

本実施例に係る基板保持部材について、基板保持部材を備えた基板処理装置を例にとって説明する。

以下、図面を参照して本発明の実施例１について説明する。
図１は、実施例１に係る基板保持部材を備えた基板処理装置の概略構成を示す縦断面図であり、図２は、リフタの概略構成を示す正面図である。

本実施例に係る基板処理装置１は、複数枚の基板Ｗを処理液に浸漬させて一括して処理するものである。処理液としては、例えば、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）などの有機溶剤を少なくとも一部含む混合液や、フッ酸や、純水などが挙げられる。ここでは、純水を処理液とし、基板Ｗを純水により洗浄する装置であるとして説明する。

基板処理装置１は、処理槽３と、リフタ５とを備えている。なお、この基板処理装置１は、この他に、処理液供給系を備えているが、図示を省略してある。処理槽３は、純水を貯留し、複数枚の基板Ｗを収容して、複数枚の基板Ｗに対して純水洗浄処理を行う。リフタ５は、処理槽３の内部にあたる処理位置（図１中に実線で示す位置）と、処理槽３の上方にあたる待機位置（図１中に二点鎖線で示す位置）とにわたって昇降可能に構成されている。

リフタ５は、背板７と、基板保持部９とを備えている。背板７は、処理槽３の背面側（図１の右側）にて縦姿勢とされ、リフタ５が処理位置にある際には、処理槽３の内壁から離間して、下端部が処理槽３の底部付近に延出されている。背板７は、その下部側面（図１の左側であって、図２の正面側）の三箇所に基板保持部９が取り付けられている。

基板保持部９は、図１に示すように、背板７の下部から水平姿勢で取り付けられている。また、基板保持部９は、図２に示すように、正面から見て中央部に位置する中央保持部１１と、正面から見て左側に位置する左側保持部１３と、正面から見て右側に位置する右側保持部１５とを備えている。左側保持部１３と右側保持部１５とは左右反転させた構成である。中央保持部１１は、左側保持部１３と右側保持部１５とを合わせたような構成である。

具体的には、中央保持部１１は、背板７の中央部における最下部に配置されている。中央保持部１１は、中心部に芯部材１７を備えている。芯部材１７の両側面には、基板保持部材１９が取り付けられている。芯部材１７は、角棒状の外観を呈し、基板保持部材１９は、薄板状を呈している。二枚の基板保持部材１９は、芯部材１７の上面を越える位置にそれらの上縁が位置するように取り付けられている。

左側保持部１３は、中央保持部１１と同様の芯部材１７を備え、正面から見て芯部材１７の左側面に基板保持部材１９を取り付けられている。基板保持部材１９は、その上面が芯部材１７の上面を越える位置に取り付けられている。

右側保持部１５は、左側保持部１３と左右を反転したように構成されている。つまり、正面から見て芯部材１７の右側面に基板保持部材１９を取り付けられている。同様に、基板保持部材１９は、芯部材１７の上面を越える高さに上面が位置するように取り付けられている。

なお、以下の説明においては、右側保持部１５の基板保持部材１９を例に採って説明するが、左側保持部１３及び中央保持部１１であっても基板保持部材１９が同様の構成を備えている。

ここで図３及び図４を参照する。なお、図３は、基板保持部材の一部を拡大して示した側面図であり、図４は、基板保持部材の一部を拡大して示した外観斜視図である。

基板保持部材１９は、上部であって、基板保持部材１９の長手方向に、複数個の保持部２１を形成されている。各保持部２１は、基板Ｗの厚みよりも狭い溝底部２３を形成されている。溝底部２３の上部には、溝底部２３から上方へ向かって開いた一対の第１の傾斜面２５が形成されている。さらに、各々の第１の傾斜面２５の上部には、一対の第１の傾斜面２５のなす角度よりも大きな角度で上方へ向かって開いた一対の第２の傾斜面２７が形成されている。

溝底部２３は、基板Ｗの厚みよりも狭く形成されているので、基板Ｗが保持部２１に載置されても、基板Ｗの周縁が溝底部２３に当接することはない。ここでは、基板Ｗの両面の周縁が接触高さＣＰで第１の傾斜面２５と接触しているものとする。

基板保持部材１９は、右側面に傾斜液滴誘導部２９を形成されている。傾斜液滴誘導部２９は、各第１の傾斜面２５から斜め下方に向かって形成されている。傾斜液滴誘導部２９は、凹状の溝で構成されている。より詳細には、傾斜液滴誘導部２９は、第１傾斜面２５から開口部の形状が逆Ｖ字状を呈するとともに、溝の深さ方向における形状がＶ字状を呈し、底部３１が線状となっている。傾斜液滴誘導部２９は、底部３１が第１の傾斜面２５から離れるにしたがって深くなるように形成されている。また、傾斜液滴誘導部２９は、高さ方向に離間して、２個形成されている。下側の傾斜液滴誘導部２９は、その第１の傾斜面２５側の高さが、接触高さＣＰよりも上に位置するように形成されている。また、上側の傾斜液滴誘導部２９は、その先端が第１の傾斜面２５と第２の傾斜面２７との接続部に位置している。

各保持部２１の間には、縦方向液滴誘導部３３が形成されている。縦方向液滴誘導部３３は、傾斜液滴誘導部２９の下端に連通接続され、縦方向に延出されて基板保持部材１９の下端部に開口されている。縦方向液滴誘導部３３は、傾斜液滴誘導部２９と同様に、凹状の溝であって、溝の深さ方向における形状がＶ字状を呈するように形成されている。そして、縦方向液滴誘導部３３、傾斜液滴誘導部２９の全体でいわゆる葉脈の形状を呈するよう形成されている。

溝底部２３の下部には、溝底部液滴誘導部３５が形成されている。この溝底部液滴誘導部３５は、溝底部２３に連通し、下方に向かって延出されて基板保持部材１９の下端部に開口されている。この溝底部液滴誘導部３５は、縦方向液滴誘導部３３と同様に、凹状の溝であって、溝の深さ方向における形状がＶ字状を呈する。

なお、上述のとおり、右側保持部１５の基板保持部材１９にあってはその右側面に傾斜液滴誘導部２９等を形成しており、中央保持部１１の右側の基板保持部材１９においても同様にその右側面に傾斜液滴誘導部２９等を形成している。逆に、左側保持部１３の基板保持部材１９および中央保持部１１の左側の基板保持部材１９にあってはその左側面に傾斜液滴誘導部２９等を形成する。すなわち、これらは基板保持部材１９からみて基板Ｗが高い位置にある側に液滴が残留しやすいため、その側に傾斜液滴誘導部２９等を形成している。ただし、中央保持部１１の基板保持部材１９の位置においては基板Ｗの傾斜が小さいので、その両側面に傾斜液滴誘導部２９等を形成してもよい。

次に、図５及び図６を参照して、基板保持部材１９における液滴の挙動について説明する。図５は、基板保持部材における液滴の流れを側面から示した模式図であり、図６は、基板保持部材における液滴の流れを正面から示した模式図である。なお、図５及び図６は、右側保持部１５の拡大図であるが、反対側の左側保持部１３でも同様である。また、中央保持部１１においても以下に説明するような挙動が生じる。

処理槽３に純水が貯留された状態でリフタ５が処理位置にあり、所定時間の洗浄処理後に、リフタ５が待機位置に上昇されたものとする。すると、ほとんどの純水は基板Ｗ面及び基板保持部１９から離脱する。しかしながら、基板Ｗに付着していた純水のうち、基板Ｗの周縁に付着していた純水は、滴となって基板Ｗの周縁を流下する。そして、基板Ｗの左右周縁と保持部２１に滞留することになる。この滞留した液滴ＬＱは、図５及び図６中に二点鎖線矢印で示すように、傾斜液滴誘導部２９によって吸い取られるように誘導されて保持部２１から除去される。傾斜液滴誘導部２９により誘導された液滴ＬＱは、図５及び図６中に二点鎖線矢印で示すように、縦方向液滴誘導部３３によって基板Ｗから離れた位置まで誘導される。また、溝底部２３に滞留する液滴はＬＱは、図５及び図６中に二点鎖線矢印で示すように、溝底部液滴誘導部３５によって吸い取られるように誘導されて溝底部２３から除去される。

なお、第1の傾斜面２５と基板Ｗの周縁との接触高さＣＰより上に液滴ＬＱが滞留しやすいが、２個の傾斜液滴誘導部２９は、接触高さＣＰより上で第１の傾斜面２５に形成されている。したがって、効率的に液滴ＬＱを基板Ｗから離れるように誘導させることができる。また、上側の傾斜液滴誘導部２９は、第１の傾斜面２５と第２の傾斜面２７との接続部に先端部が位置しており、第２の傾斜面２７の上に滞留する液滴ＬＱを主として誘導させることができる。

また、上述した傾斜液滴誘導部２９と、縦方向液滴誘導部３３と、溝底部液滴誘導部３５とは、凹状の溝で構成されているので、従来の基板保持部材を研削するだけで容易に製造することができる。

上述した基板処理装置１では、基板保持部材１９で基板Ｗを保持したリフタ５が処理液内の処理位置から乾燥位置へ上昇された際に、基板Ｗの左右周縁から基板Ｗの中央下部に向かって基板の周縁を流下し、基板Ｗの周縁と保持部との間に滞留した液滴ＬＱは、傾斜液滴誘導部２９によって吸い取られるように誘導されて、葉脈の形状をなした縦方向液滴誘導部３３、傾斜液滴誘導部２９によって円滑に除去される。したがって、基板Ｗの周縁と保持部２１との間に液滴ＬＱが滞留するのを防止できるので、乾燥の短時間化を図ることができるとともに、乾燥不良を防止することができる。

以下において、上述した基板保持部材１９の他の実施例について説明する。

次に、図面を参照して本発明の実施例２について説明する。
図７は、実施例２に係る基板保持部材の一部を拡大して示した側面図である。なお、上述した実施例１の基板保持部材１９と共通する構成については同符号を付すことで詳細な説明については省略する。

基板保持部材１９Ａは、縦方向液滴誘導部３３Ａの開口部の側面視における形状が逆Ｖ字状となるように形成されている。また、溝底部液滴誘導部３５Ａも同様に逆Ｖ字状に形成されている。

このような基板保持部材１９Ａとしても、上述した実施例１と同様の効果を奏する。

次に、図面を参照して本発明の実施例３について説明する。
図８は、実施例３に係る基板保持部材の一部を拡大して示した側面図である。なお、上述した実施例１の基板保持部材１９と共通する構成については同符号を付すことで詳細な説明については省略する。

基板保持部材１９Ｂは、傾斜液滴誘導部２９Ｂの開口部上辺が横向きに形成されている点において相違する。但し、その底部３１Ｂは、下方に向かって斜めに形成されているので、液滴を斜め下方に向かって誘導することができる。

このような基板保持部材１９Ｂとしても、上述した実施例１と同様の効果を奏する。

次に、図面を参照して本発明の実施例４について説明する。
図９は、実施例４に係る基板保持部材の一部を拡大して示した斜視図である。なお、上述した実施例１の基板保持部材１９と共通する構成については同符号を付すことで詳細な説明については省略する。

この基板保持部材１９Ｃは、傾斜液滴誘導部２９Ｃと、縦方向液滴誘導部３３Ｃと、溝底部液滴誘導部３５Ｃとが凸状の突起で形成されている点において実施例１の構成と相違する。

傾斜液滴誘導部２９Ｃは、稜線４１が第１の傾斜面２５から離れるにつれて高くなるように形成されている。最も突出した稜線４１には、縦方向液滴誘導部３３Ｃが接続されている。

このように傾斜液滴誘導部２９Ｃと、縦方向液滴誘導部３３Ｃと、溝底部液滴誘導部３５Ｃとを凸状の突起で構成しても、上述した実施例１と同様の効果を奏する。

次に、図面を参照して本発明の実施例５について説明する。
図１０は、実施例５に係る基板保持部材の一部を拡大して示した斜視図である。なお、この実施例５は上述した実施例１を変形したものであり、実施例１の基板保持部材１９と共通する構成については同符号を付すことで詳細な説明については省略する。

この基板保持部材１９Ｄは、実施例１の基板保持部材１９に対して、第１の傾斜面２５に副液滴誘導部４０、４２を形成されている。副液滴誘導部４０、４２はいずれも、傾斜液滴誘導部２９よりも微小な溝であって、副液滴誘導部４０は第１の傾斜面２５の上部に形成され、副液滴誘導部４２は第１の傾斜面２５の下部に形成される。より詳細には、副液滴誘導部４０は、第１の傾斜面２５と基板保持部材１９の左側面とが交差する稜線部分から、右側面と交差する稜線部分に向かって斜め下向きに形成された直線状の溝であって、図１０に示す実施例では左側面側の高さが異なる３本の副液滴誘導部４０を備える。３本の副液滴誘導部４０はいずれも、右側面と交差する稜線部分において右側面に至り、その右側面に形成された下側の傾斜液滴誘導部２９の端部に連なっている。

また副液滴誘導部４２は、第１の傾斜面２５の下部において、最も下位置にある副液滴誘導部４０の中央位置から右側面に至り、溝底部２３の下部の溝底部液滴誘導部３５に連続する溝である。

このように、第１の傾斜面２５にも副液滴誘導部４０、４２を形成することによって、
基板Ｗを保持したリフタ５が処理液内の処理位置から乾燥位置へ上昇された際に、基板Ｗの表面または裏面と第１の傾斜面との間に処理液が滞留したとしても、滞留した液滴ＬＱは、副液滴誘導部４０によって下側の傾斜液滴誘導部２９の端部に誘導され、あるいは副液滴誘導部４２によって溝底部液滴誘導部３５に誘導されて除去される。したがって、基板Ｗの表面または裏面と保持部２１との間に液滴ＬＱが滞留するのを防止できるので、乾燥のさらなる短時間化を図ることができるとともに、乾燥不良を防止することができる。

次に、図面を参照して本発明の実施例６について説明する。なお、この実施例６は上述した実施例１を変形したものであり、実施例１と異なる部分のみ説明する。

図１１は、実施例６に係るリフタの概略構成を示す正面図である。基板保持部９は、図１１に示すように、正面から見て左側に位置する左側保持部１３と、正面から見て右側に位置する右側保持部１５とを備え、そのそれぞれが、その左右に長さの異なる基板保持部材１９を備えている。図１２は、基板保持部材における液滴の流れを正面から示した模式図である。この実施例６の場合、例えば右側保持部１５については、図１２に示すように、図１２中の右側の基板保持部材１９の右側の面と、左側の基板保持部材１９の左側の面、すなわち右側保持部１５の外側の面に液滴が残りやすい。したがってこの実施例６においては、右側保持部１５については、右側の基板保持部材１９の右側の面と、左側の基板保持部材１９の左側の面とに、傾斜液滴誘導部２９、縦方向液滴誘導部３３を形成している。同様に左側保持部１３については、右側の基板保持部材１９の右側の面と、左側の基板保持部材１９の左側の面とに、傾斜液滴誘導部２９、縦方向液滴誘導部３３を形成している。

なお、この実施例６の構成の場合、図１２に示す右側の基板保持部材１９の左側の面と、左側の基板保持部材１９の右側の面にも、傾斜液滴誘導部２９、縦方向液滴誘導部３３を形成してもよく、この場合、両側の基板保持部材１９の間の部分（すなわち芯部材１７の上方）に仮に液滴が残留したとしても、かかる液滴を誘導して除去することができる。

本発明は、上記実施形態に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。

（１）上述した各実施例１〜６では、傾斜液滴誘導部２９，２９Ｂ、２９Ｃに加えて、縦方向液滴誘導部３３，３３Ａ，３３Ｃを備えている。しかしながら、本発明は、傾斜液滴誘導部２９，２９Ｂ、２９Ｃだけを備え、縦方向液滴誘導部３３，３３Ａ，３３Ｃを省略した構成としてもよい。

（２）上述した各実施例１〜６では、溝底部液滴誘導部３５，３５Ａ，３５Ｃを備えているが、これを省略した構成としてもよい。

（３）上述した各実施例１〜６では、傾斜液滴誘導部２９，２９Ｂ、２９Ｃが高さ方向に離間して２個形成されている。しかしながら、本発明は、このような構成に限定されるものではない。例えば、傾斜液滴誘導部２９，２９Ｂ、２９Ｃを１個だけとしてもよく、また、傾斜液滴誘導部２９，２９Ｂ、２９Ｃを３個以上備えるようにしてもよい。

Ｗ … 基板
１ … 基板処理装置
３ … 処理槽
５ … リフタ
７ … 背板
９ … 基板保持部
１１ … 中央保持部
１３ … 左側保持部
１５ … 右側保持部
１９ … 基板保持部材
２１ … 保持部
２３ … 溝底部
２５ … 第１の傾斜面
２７ … 第２の傾斜面
２９ … 傾斜液滴誘導部
３３ … 縦方向液滴誘導部
３５ … 溝底部液滴誘導部
４０ … 副液滴誘導部
４２ … 副液滴誘導部

Claims (10)

1. 基板の周縁を当接して保持する基板保持部材において、
   基板の厚みより狭い溝底部と、この溝底部から上方へ向かって開いた一対の傾斜面とを備えた保持溝を有する保持部と、
   前記保持部の側面に形成され、前記一対の傾斜面の各々から下方に向かって形成された液滴誘導部と、
   を備え、
   前記液滴誘導部の下部に接続され、下方に向かって縦方向に延出された縦方向液滴誘導部をさらに備えていることを特徴とする基板保持部材。
2. 基板の周縁を当接して保持する基板保持部材において、
   基板の厚みより狭い溝底部と、この溝底部から上方へ向かって開いた一対の傾斜面とを備えた保持溝を有する保持部と、
   前記保持部の側面に形成され、前記一対の傾斜面の各々から下方に向かって形成された液滴誘導部と、
   を備え、
   前記一対の傾斜面において下方に向かって前記保持部の側面に至る副液滴誘導部をさらに備えたことを特徴とする基板保持部材。
3. 基板の周縁を当接して保持する基板保持部材において、
   基板の厚みより狭い溝底部と、この溝底部から上方へ向かって開いた一対の傾斜面とを備えた保持溝を有する保持部と、
   前記保持部の側面に形成され、前記一対の傾斜面の各々から下方に向かって形成された液滴誘導部と、
   を備え、
   前記液滴誘導部と、前記溝底部液滴誘導部と、前記縦方向液滴誘導部と、前記副液滴誘導部の少なくともいずれかは、前記保持部に凹状の溝で形成され、
   前記凹状の溝は、下方ほど幅広に形成されていることを特徴とする基板保持部材。
4. 基板の周縁を当接して保持する基板保持部材において、
   基板の厚みより狭い溝底部と、この溝底部から上方へ向かって開いた一対の傾斜面とを備えた保持溝を有する保持部と、
   前記保持部の側面に形成され、前記一対の傾斜面の各々から下方に向かって形成された液滴誘導部と、
   を備え、
   前記液滴誘導部は、高さ方向にて離間して複数個形成されていることを特徴とする基板保持部材。
5. 基板を処理する基板処理装置において、
   処理液を貯留し、基板を収容する処理槽と、
   前記処理槽に付設され、前記処理槽の内部にあたる処理位置と、前記処理槽の上方にあたる待機位置とにわたって昇降するリフタと、
   前記リフタの下部に水平姿勢で設けられた基板保持部材とを備え、
   前記基板保持部材は、
   基板の厚みより狭い溝底部と、この溝底部から上方へ向かって開いた一対の傾斜面とを備えた保持溝を有する保持部と、
   前記保持部の側面に形成され、前記一対の傾斜面の各々から下方に向かって形成された液滴誘導部と、
   を備え、
   前記液滴誘導部の下部に接続され、下方に向かって縦方向に延出された縦方向液滴誘導部をさらに備えていることを特徴とする基板処理装置。
6. 基板を処理する基板処理装置において、
   処理液を貯留し、基板を収容する処理槽と、
   前記処理槽に付設され、前記処理槽の内部にあたる処理位置と、前記処理槽の上方にあたる待機位置とにわたって昇降するリフタと、
   前記リフタの下部に水平姿勢で設けられた基板保持部材とを備え、
   前記基板保持部材は、
   基板の厚みより狭い溝底部と、この溝底部から上方へ向かって開いた一対の傾斜面とを備えた保持溝を有する保持部と、
   前記保持部の側面に形成され、前記一対の傾斜面の各々から下方に向かって形成された液滴誘導部と、
   を備え、
   前記一対の傾斜面において下方に向かって前記保持部の側面に至る副液滴誘導部をさらに備えたことを特徴とする基板処理装置。
7. 基板を処理する基板処理装置において、
   処理液を貯留し、基板を収容する処理槽と、
   前記処理槽に付設され、前記処理槽の内部にあたる処理位置と、前記処理槽の上方にあたる待機位置とにわたって昇降するリフタと、
   前記リフタの下部に水平姿勢で設けられた基板保持部材とを備え、
   前記基板保持部材は、
   基板の厚みより狭い溝底部と、この溝底部から上方へ向かって開いた一対の傾斜面とを備えた保持溝を有する保持部と、
   前記保持部の側面に形成され、前記一対の傾斜面の各々から下方に向かって形成された液滴誘導部と、
   を備え、
   前記液滴誘導部と、前記溝底部液滴誘導部と、前記縦方向液滴誘導部と、前記副液滴誘導部の少なくともいずれかは、前記保持部に凹状の溝で形成され、
   前記凹状の溝は、下方ほど幅広に形成されていることを特徴とする基板処理装置。
8. 基板を処理する基板処理装置において、
   処理液を貯留し、基板を収容する処理槽と、
   前記処理槽に付設され、前記処理槽の内部にあたる処理位置と、前記処理槽の上方にあたる待機位置とにわたって昇降するリフタと、
   前記リフタの下部に水平姿勢で設けられた基板保持部材とを備え、
   前記基板保持部材は、
   基板の厚みより狭い溝底部と、この溝底部から上方へ向かって開いた一対の傾斜面とを備えた保持溝を有する保持部と、
   前記保持部の側面に形成され、前記一対の傾斜面の各々から下方に向かって形成された液滴誘導部と、
   を備え、
   前記液滴誘導部は、高さ方向にて離間して複数個形成されていることを特徴とする基板処理装置。
9. 基板の周縁を当接して保持する基板保持部材において、
   基板の厚みより狭い溝底部と、この溝底部から上方へ向かって開いた一対の傾斜面とを備えた複数の保持溝を有する保持部と、
   前記保持部の側面に形成され、前記一対の傾斜面の各々から、前記保持溝同士の間の下方に向かって形成された液滴誘導部と、
   を備えていることを特徴とする基板保持部材。
10. 基板を処理する基板処理装置において、
    処理液を貯留し、基板を収容する処理槽と、
    前記処理槽に付設され、前記処理槽の内部にあたる処理位置と、前記処理槽の上方にあたる待機位置とにわたって昇降するリフタと、
    前記リフタの下部に水平姿勢で設けられた基板保持部材とを備え、
    前記基板保持部材は、
    基板の厚みより狭い溝底部と、この溝底部から上方へ向かって開いた一対の傾斜面とを備えた複数の保持溝を有する保持部と、
    前記保持部の側面に形成され、前記一対の傾斜面の各々から、前記保持溝同士の間の下方に向かって形成された液滴誘導部と、
    を備えていることを特徴とする基板処理装置。

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