JP6039661B2 - Oledマイクロキャビティおよび緩衝層のための材料および方法 - Google Patents
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Description
本願は、2011年12月21日出願の米国特許出願第13/333,867号および2012年1月27日出願の米国特許出願第13/360,597号の利益を主張するものであって、また、両方とも、2011年6月21日出願の米国仮特許出願第61/499,465号および第61/499,496号の優先権を主張するものであって、全て参照することによって全体として本明細書に組み込まれるものである。
本教示は、有機発光素子(OLED)の層を形成するためのプロセスに関する。本教示はまた、OLED積層構造に関する。
例えば、本願発明は以下の項目を提供する。
(項目1)
有機発光素子のためのマイクロキャビティを形成する方法であって、前記方法は、
インクをインクジェット印刷ヘッドから第1の反射電極を備えている基板上に堆積させ、印刷された層を形成することであって、前記インクは、キャリアと溶解または懸濁された膜を形成する有機材料とによって規定される、ことと、
前記キャリアを前記印刷された層から除去し、第1の有機緩衝層を前記基板上に形成することと、
発光有機材料を前記第1の有機緩衝層を覆って堆積させ、発光層を形成することであって、前記第1の有機緩衝層は、前記基板と前記発光層との間に配置され、前記発光有機材料は、励起に応じて、ピーク発光波長において光を放出する、ことと、
第2の反射電極を前記発光層を覆って堆積させ、OLEDマイクロキャビティを形成することであって、前記発光層は、前記第1の反射電極と前記第2の反射電極との間に配置される、ことと
を含み、
前記第1および第2の反射電極のうちの少なくとも1つは、半透明であり、前記第1の反射電極および前記第2の反射電極は、ある距離だけ、互から分離され、前記距離は、前記マイクロキャビティの深度に対応し、前記マイクロキャビティの深度は、前記ピーク発光波長の共振発光のために構成されている、方法。
(項目2)
前記第1の有機緩衝層は、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、および電子注入層のうちの少なくとも1つを備えている、項目1に記載の方法。
(項目3)
約50℃〜約250℃の第1の焼成温度において、約5.0ミリ秒〜約5.0時間の第1の焼成時間の間、前記第1の有機緩衝層を焼成し、有機発光素子のための第1の焼成された有機層を形成することをさらに含む、項目1に記載の方法。
(項目4)
前記焼成温度、前記焼成時間、前記インク中の前記膜を形成する有機材料の濃度、および前記第1の有機緩衝層の厚さのうちの少なくとも1つは、前記第1の焼成された有機層が、多孔性構造を示すように調節される、項目3に記載の方法。
(項目5)
前記焼成温度および焼成時間のうちの少なくとも1つは、前記第1の焼成された有機層が、粗面性を示すように調節される、項目3に記載の方法。
(項目6)
前記焼成温度および焼成時間のうちの少なくとも1つは、前記第1の焼成された有機層が、平滑性を示すように調節される、項目3に記載の方法。
(項目7)
前記焼成温度、前記焼成時間、前記インク中の前記膜を形成する有機材料の濃度、および前記第1の有機緩衝層の厚さのうちの少なくとも1つは、前記第1の焼成された有機層が、約0.5nm〜約10nmの表面粗度を有するように調節され、前記表面粗度は、10×10μm 2 の面積内の表面厚偏差の二乗平均平方根として表される、項目6に記載の方法。
(項目8)
前記膜を形成する有機材料は、ガラス転移温度範囲を示し、前記方法は、前記ガラス転移温度範囲内から前記ガラス転移温度範囲を上回る焼成温度において、前記第1の有機緩衝層を焼成し、約1.0x10 −9 S/m〜約1.0x10 −1 S/mの伝導性を有する結晶質有機層を形成することをさらに含む、項目1に記載の方法。
(項目9)
第2のインクをインクジェット印刷ヘッドから前記第1の有機緩衝層に堆積させることであって、前記第2のインクは、第2のキャリアと溶解または懸濁された膜を形成する有機材料とによって規定される、ことと、
前記第2のキャリアを除去し、有機材料層を前記第1の有機緩衝層上に形成することと
をさらに含み、
前記第1の反射電極は、半透明であり、前記第1の有機緩衝層は、前記基板の屈折率と前記有機材料層の屈折率との間の中間の屈折率を示す、項目1に記載の方法。
(項目10)
項目1に記載の方法によって形成される、有機発光素子(OLED)マイクロキャビティ。
(項目11)
有機発光素子のためのマイクロキャビティであって、前記マイクロキャビティは、
第1の反射電極を備えている基板と、
前記基板上に形成されている乾燥膜有機材料層であって、前記乾燥膜有機材料層は、前記基板に対向する第1の表面および前記第1の表面と反対の第2の表面を備えている、乾燥膜有機材料層と、
前記乾燥膜有機材料層を覆う発光層であって、前記乾燥膜有機材料層は、前記第1の反射電極と前記発光層との間にあり、前記発光層は、励起に応じて、ピーク発光波長において光を放出する発光有機材料を備えている、発光層と、
前記発光層を覆う第2の反射電極であって、前記発光層は、前記第1の反射電極と前記第2の反射電極との間にある、第2の反射電極と
を備え、
前記第2の表面は、約5.0nm〜約1.0μmの表面粗度を示し、前記表面粗度は、10×10μm 2 の面積内の表面厚偏差の二乗平均平方根として表され、
前記有機発光素子積層は、同一であるが、第2の表面が、5.0nm未満の表面粗度を有するマイクロキャビティの光度と比較して、約1.01〜約2.0倍の光度の増加を示し、前記表面粗度は、10×10μm 2 の面積内の表面厚偏差の二乗平均平方根として表され、前記第1および第2の反射電極のうちの少なくとも1つは、半透明であり、前記第1の反射電極および前記第2の反射電極は、ある距離だけ、互から分離され、前記距離は、前記マイクロキャビティの深度に対応し、前記マイクロキャビティの深度は、前記ピーク発光波長の共振発光のために構成されている、マイクロキャビティ。
(項目12)
有機発光素子のための有機層を形成する方法であって、前記方法は、
インクをインクジェット印刷ヘッドから基板上に堆積させることであって、前記インクは、キャリアと溶解または懸濁された膜を形成する第1の有機材料とによって規定される、ことと、
前記キャリアを除去し、前記膜を形成する第1の有機材料を堆積させ、焼成前有機層を前記基板上に形成することと、
約50℃〜約250℃の第1の焼成温度において、約5.0ミリ秒〜約5.0時間の第1の焼成時間の間、前記焼成前有機層を焼成し、有機発光素子のための第1の焼成された有機層を形成することと
を含む、方法。
(項目13)
前記焼成温度、前記焼成時間、前記インク中の前記膜を形成する第1の有機材料の濃度、および前記焼成前有機層の厚さのうちの少なくとも1つは、前記第1の焼成された有機層が、多孔性構造を示すように調節される、項目12に記載の方法。
(項目14)
第2のインクをインクジェット印刷ヘッドから前記第1の焼成された有機層上に堆積させることであって、前記第2のインクは、第2のキャリアと溶解または懸濁された膜を形成する第2の有機材料とによって規定される、ことと、
前記第2のキャリアを除去し、前記膜を形成する第2の有機材料を堆積させ、第2の焼成前有機層を形成することと、
約50℃〜約235℃の第2の焼成温度において、約5.0ミリ秒〜約5.0時間の第2の焼成時間の間、前記第2の焼成前有機層を焼成し、第2の焼成された有機層を形成することと
をさらに含み、
前記第2の焼成温度は、前記第1の焼成温度未満であり、前記膜を形成する第2の有機材料は、前記膜を形成する第1の有機材料と同一であるかまたは異なり、随意に、前記第2の焼成時間は、前記第1の焼成時間未満である、項目12に記載の方法。
(項目15)
有機発光素子のための結晶質有機層を形成する方法であって、前記方法は、
インクをインクジェット印刷ヘッドから基板上に堆積させることであって、前記インクは、キャリアとガラス転移範囲を有する溶解または懸濁された膜を形成する第1の有機材料とによって規定される、ことと、
前記キャリアを除去し、前記膜を形成する第1の有機材料を堆積させ、焼成前有機層を前記基板上に形成することと、
前記ガラス転移範囲内から前記ガラス転移範囲を上回る焼成温度において、前記焼成前有機層を焼成し、有機発光素子のための結晶質有機層を形成することと
を含み、
前記結晶質有機層は、約1.0×10 −7 S/m〜約1.0×10 −1 S/mの伝導性を有する、方法。
(項目16)
前記結晶質有機層は、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、および電子注入層のうちの少なくとも1つを備えている、項目15に記載の方法。
(項目17)
項目15に記載の方法によって形成される結晶質有機層を備えている有機発光素子。
(項目18)
有機層の屈折率を低下させる方法であって、前記方法は、
インクをインクジェット印刷ヘッドから透光性基板上に配置されている透光性電極上に堆積させることであって、前記インクは、キャリアと溶解または懸濁された膜を形成する第1の有機材料とによって規定される、ことと、
前記キャリアを除去し、前記膜を形成する第1の有機材料を堆積させ、第1の有機層を前記透光性電極上に形成することと、
第2のインクをインクジェット印刷ヘッドから前記第1の有機層に堆積させることであって、前記インクは、第2のキャリアと溶解または懸濁された膜を形成する第2の有機材料とによって規定される、ことと、
前記第2のキャリアを除去し、前記膜を形成する第2の有機材料を堆積させ、第2の有機層を前記第1の有機層上に形成することと
を含み、
前記第1の有機層の屈折率は、前記透光性基板の屈折率と前記第2の有機層の屈折率との間の中間である、方法。
(項目19)
有機発光素子中の光散乱を増加させる方法であって、前記方法は、
インクをインクジェット印刷ヘッドから基板上に堆積させることであって、前記インクは、キャリアと溶解または懸濁された膜を形成する第1の有機材料とによって規定される、ことと、
前記キャリアを除去し、前記膜を形成する第1の有機材料を堆積させ、多層粗面有機層を形成することであって、前記多層粗面有機層は、約2〜約20のサブ層を備え、約5.0nm〜約1.0μmの粗度を有し、前記粗度は、10×10μm 2 の面積内の表面厚偏差の二乗平均平方根として表される、ことと、
発光材料を前記多層粗面有機層を覆って堆積させ、発光層および有機発光素子積層を形成することと
を含み、
前記有機発光素子積層は、約1.01〜約2.0の光度効率を示す、方法。
(項目20)
項目19に記載の方法によって形成されている有機発光素子。
(項目21)
有機発光素子であって、
第1の電極と、
前記第1の電極を覆い、前記第1の電極に電気的に関連付けられている結晶質有機層であって、前記結晶質有機層は、約1.0×10 −7 S/m〜約1.0×10 −1 S/mの伝導性を有する、結晶質有機層と、
前記結晶質有機層を覆い、前記結晶質有機層に電気的に関連付けられている発光層であって、前記発光層は、励起に応じて、発光波長において光を放出する発光有機材料を備えている、発光層と、
前記発光層を覆い、前記発光層に電気的に関連付けられている第2の電極と
を備えている、有機発光素子。
(項目22)
有機発光素子積層であって、
基板と、
前記基板上に形成されている乾燥膜有機材料層であって、前記乾燥膜有機材料層は、約2〜約20のサブ層、前記基板に対向する第1の表面、および前記第1の表面と反対の第2の表面を備えている、乾燥膜有機材料層と、
前記乾燥膜有機材料層を覆う発光層であって、前記乾燥膜有機材料層は、前記基板と前記発光層との間にあり、前記発光層は、発光波長において光を放出する発光有機材料を備えている、発光層と
を備え、
前記第2の表面は、約5.0nm〜約1.0μmの表面粗度を示し、前記表面粗度は、10×10μm 2 の面積内の表面厚偏差の二乗平均平方根として表され、前記有機発光素子積層は、約1.01〜約2.0の光度効率を示す、有機発光素子積層。
2Σn1Li+2NsLs+(Qm1+Qm2)λ/2π=mλ
式中、niは、屈折率であり、Liは、有機EL媒体構造のi番目のサブ層の厚さであり、nsは、屈折率であり、Lsは、透明伝導相層のゼロであり得る厚さであり、Qm1およびQm2は、それぞれ、2つの有機EL媒体構造金属電極界面におけるラジアンでの位相シフトであり、λは、素子から放出されるべき所定の波長であり、mは、非負整数である。製造上の配慮を容易にするため、かつ色純度のため、青色ピクセルに対しては1に等しく、緑色および赤色ピクセルに対しては0または1に等しいmを有することが好ましい。
2Σn1Ls+Qm1λ/2π=mDλ
式中、niは、屈折率であり、Liは、有機EL媒体構造内のi番目のサブ層の厚さであり、Qm1は、有機EL媒体構造金属カソード界面におけるラジアンでの位相シフトであり、λは、素子から放出されるべき所定の波長であり、mDは、非負整数である。
2nALA+nTLT=(mA+1/2)λ
式中、nAおよびLAは、それぞれ、吸収低減層の屈折率および厚さであり、nTおよびLTは、それぞれ、光透過性金属底部電極の屈折率および厚さの実部であり、mAは、非負整数である。値mAは、できる限り小さくあり得、例えば、約0〜約2である。吸収低減層の有益な効果は、概して、より高い屈折率材料が使用されるとき、より高くなる。
(実施例1)
本実施例は、本教示による、OLED構成要素の機能的かつ優れた特性およびそれを産生する方法を実証する。100nm厚膜に対して、2滴のインク(約12ピコリットル)が、1.2%インク濃度かつ100HZにおいて適用された。装填温度は、150℃であった。約250℃の沸騰温度が、約200ミリ秒〜約1.0秒の間、使用された。250℃〜380℃温度傾斜が、次いで、約200ミリ秒〜800ミリ秒の間、使用され、固体を蒸発させた。350℃〜900℃の洗浄温度が、次いで、使用された。印刷ピッチは、約50μmであった。堆積時の膜は、濁って見え、AFM表面粗度は、5.0nmより大きかった。印刷された膜は、窒素環境内のホットプレート上において、約150℃〜約200℃で約10秒〜約5.0分間、後焼成を受けた。原子間力顕微鏡検査(AFM)データによって、表面粗度が2nm以下に低減されたことを確認した。
Claims (17)
- 有機発光素子のためのマイクロキャビティを形成する方法であって、前記方法は、
インクをインクジェット印刷ヘッドから第1の反射電極を備えている基板上に堆積することにより、印刷された層を形成することであって、前記インクは、キャリアと溶解または懸濁された膜を形成する有機材料とによって規定される、ことと、
前記キャリアを前記印刷された層から除去することにより、第1の有機緩衝層を前記基板上に形成することであって、前記膜を形成する有機材料は、ガラス転移温度範囲を示す、ことと、
前記ガラス転移温度範囲内から前記ガラス転移温度範囲を上回る焼成温度で前記第1の有機緩衝層を焼成することにより、1.0x10 −9 S/m〜1.0x10 −1 S/mの伝導性を有する結晶質有機層を形成することと、
前記第1の有機緩衝層を覆うように発光有機材料を堆積することにより、発光層を形成することであって、前記第1の有機緩衝層は、前記基板と前記発光層との間に配置され、前記発光有機材料は、励起に応じて、ピーク発光波長において光を放出する、ことと、
前記発光層を覆うように第2の反射電極を堆積することにより、OLEDマイクロキャビティを形成することであって、前記発光層は、前記第1の反射電極と前記第2の反射電極との間に配置される、ことと
を含み、
前記第1の反射電極および前記第2の反射電極のうちの少なくとも1つは、半透明であり、前記第1の反射電極および前記第2の反射電極は、ある距離だけ、互いから分離され、前記距離は、前記マイクロキャビティの深度に対応し、前記マイクロキャビティの深度は、前記ピーク発光波長の共振発光のために構成されている、方法。 - 前記第1の有機緩衝層は、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層のうちの少なくとも1つを備えている、請求項1に記載の方法。
- 50℃〜250℃の第1の焼成温度において、5.0ミリ秒〜5.0時間の第1の焼成時間の間、前記第1の有機緩衝層を焼成することにより、有機発光素子のための第1の焼成された有機層を形成することをさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 前記焼成温度、前記焼成時間、前記インク中の前記膜を形成する有機材料の濃度、前記第1の有機緩衝層の厚さのうちの少なくとも1つは、前記第1の焼成された有機層が多孔性構造を示すように調節される、請求項3に記載の方法。
- 前記焼成温度および焼成時間のうちの少なくとも1つは、前記第1の焼成された有機層が粗面性を示すように調節される、請求項3に記載の方法。
- 前記焼成温度および焼成時間のうちの少なくとも1つは、前記第1の焼成された有機層が平滑性を示すように調節される、請求項3に記載の方法。
- 前記焼成温度、前記焼成時間、前記インク中の前記膜を形成する有機材料の濃度、前記第1の有機緩衝層の厚さのうちの少なくとも1つは、前記第1の焼成された有機層が0.5nm〜10nmの表面粗度を有するように調節され、前記表面粗度は、10×10μm2の面積内の表面厚偏差の二乗平均平方根として表される、請求項6に記載の方法。
- 第2のインクをインクジェット印刷ヘッドから前記第1の有機緩衝層に堆積することであって、前記第2のインクは、第2のキャリアと溶解または懸濁された膜を形成する有機材料とによって規定される、ことと、
前記第2のキャリアを除去することにより、有機材料層を前記第1の有機緩衝層上に形成することと
をさらに含み、
前記第1の反射電極は、半透明であり、前記第1の有機緩衝層は、前記基板の屈折率と前記有機材料層の屈折率との間の中間の屈折率を示す、請求項1に記載の方法。 - 有機発光素子のためのマイクロキャビティであって、前記マイクロキャビティは、
第1の反射電極を備えている基板と、
前記基板上に形成されている乾燥膜有機材料層であって、前記乾燥膜有機材料層は、前記基板に対向する第1の表面および前記第1の表面と反対の第2の表面を備えており、前記乾燥膜有機材料層は、結晶質の焼成された乾燥膜有機材料層を備えている、乾燥膜有機材料層と、
前記乾燥膜有機材料層を覆う発光層であって、前記乾燥膜有機材料層は、前記第1の反射電極と前記発光層との間にあり、前記発光層は、励起に応じて、ピーク発光波長において光を放出する発光有機材料を備えている、発光層と、
前記発光層を覆う第2の反射電極であって、前記発光層は、前記第1の反射電極と前記第2の反射電極との間にある、第2の反射電極と
を備え、
前記第2の表面は、5.0nm〜1.0μmの表面粗度を示し、前記表面粗度は、10×10μm2の面積内の表面厚偏差の二乗平均平方根として表され、
前記有機発光素子の積層は、同一であるが、前記第2の表面が、5.0nm未満の表面粗度を有するマイクロキャビティの光度と比較して、1.01〜2.0倍の光度の増加を示し、前記表面粗度は、10×10μm2の面積内の表面厚偏差の二乗平均平方根として表される、マイクロキャビティ。 - 有機発光素子のための有機層を形成する方法であって、前記方法は、
インクをインクジェット印刷ヘッドから基板上に堆積することであって、前記インクは、キャリアと溶解または懸濁された膜を形成する第1の有機材料とによって規定される、ことと、
前記堆積されたインクが堆積後熱処理を受けるようにすることと
を含み、
前記堆積後熱処理は、
前記キャリアを除去し、前記膜を形成する第1の有機材料を堆積することにより、前記第1の有機材料を備えている焼成前有機層を前記基板上に形成することと、
50℃〜250℃の第1の焼成温度において、5.0ミリ秒〜5.0時間の第1の焼成時間の間、前記焼成前有機層を焼成することにより、有機発光素子のための前記第1の有機材料を備えている第1の焼成された有機層を形成することと
を含み、
前記インクの堆積、前記堆積後熱処理、または、その両方の1つ以上の条件は、粗面性、多孔性構造、または、1つ以上の結晶質領域を備えている結晶質構造のうちの少なくとも1つを有する前記第1の焼成された有機層を提供し、
さらに、表面粗度、前記多孔性構造の孔、または、前記1つ以上の結晶質領域は、前記インクの堆積、前記堆積後熱処理、または、その両方のうちの少なくとも1つの間に形成され、
さらに、前記焼成温度、前記焼成時間、前記インク中の前記膜を形成する第1の有機材料の濃度、前記焼成前有機層の厚さのうちの少なくとも1つは、前記第1の焼成された有機層が5.0nm〜1.0μmの表面粗度を有するように調節され、前記表面粗度は、10×10μm 2 の面積内の表面厚偏差の二乗平均平方根として表される、方法。 - 第2のインクをインクジェット印刷ヘッドから前記第1の焼成された有機層上に堆積することであって、前記第2のインクは、第2のキャリアと溶解または懸濁された膜を形成する第2の有機材料とによって規定される、ことと、
前記第2のキャリアを除去し、前記膜を形成する第2の有機材料を堆積することにより、第2の焼成前有機層を形成することと、
50℃〜235℃の第2の焼成温度において、5.0ミリ秒〜5.0時間の第2の焼成時間の間、前記第2の焼成前有機層を焼成することにより、第2の焼成された有機層を形成することと
をさらに含み、
前記第2の焼成温度は、前記第1の焼成温度未満であり、前記膜を形成する第2の有機材料は、前記膜を形成する第1の有機材料と同一であるかまたは異なり、随意に、前記第2の焼成時間は、前記第1の焼成時間未満である、請求項10に記載の方法。 - 有機発光素子のための結晶質有機層を形成する方法であって、前記方法は、
インクをインクジェット印刷ヘッドから基板上に堆積することであって、前記インクは、キャリアとガラス転移範囲を有する溶解または懸濁された膜を形成する第1の有機材料とによって規定される、ことと、
前記キャリアを除去し、前記膜を形成する第1の有機材料を堆積することにより、焼成前有機層を前記基板上に形成することと、
前記ガラス転移範囲内から前記ガラス転移範囲を上回る焼成温度において、前記焼成前有機層を焼成することにより、有機発光素子のための結晶質有機層を形成することと
を含み、
前記結晶質有機層は、1.0×10−7S/m〜1.0×10−1S/mの伝導性を有する、方法。 - 前記結晶質有機層は、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層のうちの少なくとも1つを備えている、請求項12に記載の方法。
- 有機層の屈折率を低下させる方法であって、前記方法は、
インクをインクジェット印刷ヘッドから透光性基板上に配置されている透光性電極上に堆積することであって、前記インクは、キャリアと溶解または懸濁された膜を形成する第1の有機材料とによって規定される、ことと、
前記堆積されたインクが堆積後熱処理を受けるようにすることと
を含み、
前記堆積後熱処理は、
前記キャリアを除去し、前記膜を形成する第1の有機材料を堆積することにより、第1の有機層を前記透光性電極上に形成することと、
第2のインクをインクジェット印刷ヘッドから前記第1の有機層に堆積することであって、前記インクは、第2のキャリアと溶解または懸濁された膜を形成する第2の有機材料とによって規定される、ことと、
前記第2のキャリアを除去し、前記膜を形成する第2の有機材料を堆積することにより、第2の有機層を前記第1の有機層上に形成することと
を含み、
前記第1の有機層は、多孔性構造で形成され、前記多孔性構造は、前記インクの堆積、前記堆積後熱処理、または、その両方のうちの少なくとも1つの間に形成される孔を備え、さらに、前記孔は、非多孔性構造で形成された場合の前記第1の有機材料と比較してその反射率を低減させ、これにより、前記第1の有機層の屈折率は、前記透光性基板の屈折率と前記第2の有機層の屈折率との間の中間である、方法。 - 有機発光素子中の光散乱を増加させる方法であって、前記方法は、
インクをインクジェット印刷ヘッドから基板上に堆積することであって、前記インクは、キャリアと溶解または懸濁された膜を形成する第1の有機材料とによって規定される、ことと、
前記キャリアを除去し、前記膜を形成する第1の有機材料を堆積することにより、多層粗面有機層を形成することであって、前記多層粗面有機層は、前記第1の有機材料を備えている2〜20のサブ層を備え、前記多層粗面有機層は、5.0nm〜1.0μmの粗度で形成され、これにより、前記粗度は、前記有機層による光散乱を増加させ、前記有機発光素子の光度効率を増加させ、前記粗度は、10×10μm2の面積内の表面厚偏差の二乗平均平方根として表される、ことと、
前記多層粗面有機層を覆うように発光材料を堆積することにより、発光層および有機発光素子積層を形成することと
を含む、方法。 - 有機発光素子であって、
第1の電極と、
前記第1の電極を覆い、前記第1の電極に電気的に関連付けられている結晶質有機層であって、前記結晶質有機層は、1.0×10−7S/m〜1.0×10−1S/mの伝導性を有する、結晶質有機層と、
前記結晶質有機層を覆い、前記結晶質有機層に電気的に関連付けられている発光層であって、前記発光層は、励起に応じて、発光波長において光を放出する発光有機材料を備えている、発光層と、
前記発光層を覆い、前記発光層に電気的に関連付けられている第2の電極と
を備えている、有機発光素子。 - 有機発光素子積層であって、
電極を備えている基板と、
前記電極を備えている前記基板上に形成されている乾燥膜有機材料層であって、前記乾燥膜有機材料層は、2〜20のサブ層と、前記電極を備えている前記基板に対向する第1の表面と、前記第1の表面と反対の第2の表面とを備えており、前記2〜20のサブ層の各々は、第1の有機材料を備えている、乾燥膜有機材料層と、
前記乾燥膜有機材料層を覆う発光層であって、前記乾燥膜有機材料層は、前記電極を備えている前記基板と前記発光層との間にあり、前記発光層は、発光波長において光を放出する発光有機材料を備えている、発光層と
を備え、
前記第2の表面は、5.0nm〜1.0μmの表面粗度を示し、前記表面粗度は、10×10μm2の面積内の表面厚偏差の二乗平均平方根として表される、有機発光素子積層。
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