JP6035587B2 - ガラス用研磨剤組成物 - Google Patents
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Description
本発明はガラス用研磨剤組成物に関する。より詳細には、本発明は、磁気ディスク用ガラス基板、フラットパネル用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板や光学レンズ用ガラス基板等を研磨するための、二酸化ジルコニウム粒子含有研磨剤組成物に関する。
ガラスは、ハードディスクに使用される磁気ディスク用ガラス基板、ＬＣＤや太陽電池等に使用されるフラットパネルガラス基板、電子部品の製造工程で用いられるフォトマスク用ガラス基板や光学レンズ用ガラス基板等、様々な分野で使用されている。
いずれのガラス基板も、その要求品質は若干異なるものの、その表面が高い平滑性や平坦性を有することが要求されている。
かかるガラス基板表面における高い平滑性及び平坦性を達成するために、ガラス用研磨剤組成物が用いられている。
ガラス用研磨剤組成物として、種々の物質を研磨剤として配合したものが知られている。例えば、二酸化ジルコニウムを研磨剤として配合したもの（特許文献１、２、９、１０及び１１）、酸化チタニウムを研磨剤として配合したもの（特許文献３）や、セリウムとジルコニウムとを含む複合酸化物を研磨剤として配合したもの（特許文献４〜８）が知られている。
いずれのガラス基板も、その要求品質は若干異なるものの、その表面が高い平滑性や平坦性を有することが要求されている。
かかるガラス基板表面における高い平滑性及び平坦性を達成するために、ガラス用研磨剤組成物が用いられている。
ガラス用研磨剤組成物として、種々の物質を研磨剤として配合したものが知られている。例えば、二酸化ジルコニウムを研磨剤として配合したもの（特許文献１、２、９、１０及び１１）、酸化チタニウムを研磨剤として配合したもの（特許文献３）や、セリウムとジルコニウムとを含む複合酸化物を研磨剤として配合したもの（特許文献４〜８）が知られている。
ガラス基板に対して要求される平滑性及び平坦性のレベルが高くなっていることに伴い、かかる要求品質をもたらすガラス用研磨剤組成物が求められている。また、ガラス用研磨剤組成物には、研磨速度が高いこと、及び、付着物（研磨剤や研磨屑）のガラス基板への付着やスクラッチが少ないことも求められている。
更に、研磨剤の構成材料であるセリウムの入手は輸入に依存せざるを得ない状況下、輸出国の供給制限により入手が困難となってきており、酸化セリウムを研磨剤の主成分として用いない研磨剤組成物に対する高いニーズも存在する。
更に、研磨剤の構成材料であるセリウムの入手は輸入に依存せざるを得ない状況下、輸出国の供給制限により入手が困難となってきており、酸化セリウムを研磨剤の主成分として用いない研磨剤組成物に対する高いニーズも存在する。
本発明者等は上記の課題を解決するために鋭意検討した結果、所定の比表面積及び二酸化ケイ素含量を有する二酸化ジルコニウムの粒子と、沈降防止作用及び再分散作用を有する所定の物質と、水とを配合することにより、上記課題を解決することができることを見いだし、本発明を完成させるに至った。
すなわち、本発明は、下記の（１）〜（１５）に関するものである。
（１）（ａ）比表面積が３．０〜１４．０ｍ2／ｇであり、かつ、二酸化ケイ素含量が０．００５〜０．４５０質量％である二酸化ジルコニウムの粒子、
（ｂ）アルミナゾル、シリカゾル、ジルコニアゾル、チタニアゾル、酸化錫ゾル、アルミナ・シリカ複合ゾル、酸化セリウムゾル及び結晶セルロースゾルからなる群より選ばれる少なくとも１種の物質、及び
（ｃ）水
を含むことを特徴とする、ガラス用研磨剤組成物。
（２）（ａ）が、湿式法により製造された二酸化ジルコニウムである、前記（１）に記載のガラス用研磨剤組成物。
（３）（ａ）が、バデライト系二酸化ジルコニウムから湿式法により製造された二酸化ジルコニウムである、前記（２）に記載のガラス用研磨剤組成物。
（４）（ｂ）のアルミナゾルが、
硫酸アルミニウムとアンモニア又はアミン系化合物とを反応させて得られる非晶質の水酸化アルミニウムのゾル、又は、
ベーマイトを１価の酸と反応させて得られるベーマイトゾルである、前記（１）〜（３）のいずれかに記載のガラス用研磨剤組成物。
（５）更に、（ｄ）ポリカルボン酸塩及びその重合体、ナフタレンスルフォン酸塩及びその縮合体、ヘキサメタリン酸塩、ピロリン酸塩、トリポリリン酸塩、酸性メタリン酸塩、酸性ピロリン酸塩、第二リン酸塩並びに結晶セルロースからなる群より選ばれる少なくとも１種の分散剤を含む、前記（１）〜（４）のいずれかに記載のガラス用研磨剤組成物。
（６）（ｄ）が、ポリカルボン酸塩及びヘキサメタリン酸塩からなる群より選ばれる少なくとも１種である、前記（５）に記載のガラス用研磨剤組成物。
（７）更に、（ｅ）研磨補助材を含む、前記（１）〜（６）のいずれかに記載のガラス用研磨剤組成物。
（８）（ｅ）が、酸化セリウムである、前記（７）に記載のガラス用研磨剤組成物。
（９）ガラス用研磨剤組成物のｐＨが３〜１０である、前記（１）〜（７）のいずれかに記載のガラス用研磨剤組成物。
（１０）ガラス用研磨剤組成物のｐＨが４〜１０である、前記（９）に記載のガラス用研磨剤組成物。
（１１）更に、（ｆ）ラジカル発生剤を含む、前記（１）〜（８）のいずれかに記載のガラス用研磨剤組成物。
（１２）ガラス用研磨剤組成物のｐＨが３〜７である、前記（１１）に記載のガラス用研磨剤組成物。
（１３）磁気ディスク用ガラスの研磨剤組成物である、前記（１）〜（１２）のいずれかに記載のガラス用研磨剤組成物。
（１４）二酸化ジルコニウムの粒子の平均粒径が０．４〜１．３μｍである、前記（１）〜（１３）のいずれかに記載のガラス用研磨剤組成物。
（１５）前記（１）〜（１４）のいずれかに記載の研磨剤組成物を用いてガラスを研磨する工程を含む、ガラスの研磨方法。
すなわち、本発明は、下記の（１）〜（１５）に関するものである。
（１）（ａ）比表面積が３．０〜１４．０ｍ2／ｇであり、かつ、二酸化ケイ素含量が０．００５〜０．４５０質量％である二酸化ジルコニウムの粒子、
（ｂ）アルミナゾル、シリカゾル、ジルコニアゾル、チタニアゾル、酸化錫ゾル、アルミナ・シリカ複合ゾル、酸化セリウムゾル及び結晶セルロースゾルからなる群より選ばれる少なくとも１種の物質、及び
（ｃ）水
を含むことを特徴とする、ガラス用研磨剤組成物。
（２）（ａ）が、湿式法により製造された二酸化ジルコニウムである、前記（１）に記載のガラス用研磨剤組成物。
（３）（ａ）が、バデライト系二酸化ジルコニウムから湿式法により製造された二酸化ジルコニウムである、前記（２）に記載のガラス用研磨剤組成物。
（４）（ｂ）のアルミナゾルが、
硫酸アルミニウムとアンモニア又はアミン系化合物とを反応させて得られる非晶質の水酸化アルミニウムのゾル、又は、
ベーマイトを１価の酸と反応させて得られるベーマイトゾルである、前記（１）〜（３）のいずれかに記載のガラス用研磨剤組成物。
（５）更に、（ｄ）ポリカルボン酸塩及びその重合体、ナフタレンスルフォン酸塩及びその縮合体、ヘキサメタリン酸塩、ピロリン酸塩、トリポリリン酸塩、酸性メタリン酸塩、酸性ピロリン酸塩、第二リン酸塩並びに結晶セルロースからなる群より選ばれる少なくとも１種の分散剤を含む、前記（１）〜（４）のいずれかに記載のガラス用研磨剤組成物。
（６）（ｄ）が、ポリカルボン酸塩及びヘキサメタリン酸塩からなる群より選ばれる少なくとも１種である、前記（５）に記載のガラス用研磨剤組成物。
（７）更に、（ｅ）研磨補助材を含む、前記（１）〜（６）のいずれかに記載のガラス用研磨剤組成物。
（８）（ｅ）が、酸化セリウムである、前記（７）に記載のガラス用研磨剤組成物。
（９）ガラス用研磨剤組成物のｐＨが３〜１０である、前記（１）〜（７）のいずれかに記載のガラス用研磨剤組成物。
（１０）ガラス用研磨剤組成物のｐＨが４〜１０である、前記（９）に記載のガラス用研磨剤組成物。
（１１）更に、（ｆ）ラジカル発生剤を含む、前記（１）〜（８）のいずれかに記載のガラス用研磨剤組成物。
（１２）ガラス用研磨剤組成物のｐＨが３〜７である、前記（１１）に記載のガラス用研磨剤組成物。
（１３）磁気ディスク用ガラスの研磨剤組成物である、前記（１）〜（１２）のいずれかに記載のガラス用研磨剤組成物。
（１４）二酸化ジルコニウムの粒子の平均粒径が０．４〜１．３μｍである、前記（１）〜（１３）のいずれかに記載のガラス用研磨剤組成物。
（１５）前記（１）〜（１４）のいずれかに記載の研磨剤組成物を用いてガラスを研磨する工程を含む、ガラスの研磨方法。
後述の実施例で示されるように、本発明のガラス用研磨剤組成物は、付着物のガラス基板への付着やスクラッチが少なく、かつ、高い研磨速度で、平滑性及び平坦性に優れたガラス基板を提供することができる。更に本発明のガラス用研磨剤組成物は、優れた分散性及び再分散性を有する。したがって、本発明はガラス用研磨剤組成物として有用である。
本発明のガラス用研磨剤組成物は、
（ａ）比表面積が３．０〜１４．０ｍ2／ｇであり、かつ、二酸化ケイ素含量が０．００５〜０．４５０質量％である二酸化ジルコニウムの粒子、
（ｂ）アルミナゾル、シリカゾル、ジルコニアゾル、チタニアゾル、酸化錫ゾル、アルミナ・シリカ複合ゾル、酸化セリウムゾル及びコロイダルグレードの結晶セルロースからなる群より選ばれる少なくとも１種、及び
（ｃ）水
を含むことを特徴とする。
（ａ）比表面積が３．０〜１４．０ｍ2／ｇであり、かつ、二酸化ケイ素含量が０．００５〜０．４５０質量％である二酸化ジルコニウムの粒子、
（ｂ）アルミナゾル、シリカゾル、ジルコニアゾル、チタニアゾル、酸化錫ゾル、アルミナ・シリカ複合ゾル、酸化セリウムゾル及びコロイダルグレードの結晶セルロースからなる群より選ばれる少なくとも１種、及び
（ｃ）水
を含むことを特徴とする。
（ａ）成分の二酸化ジルコニウムは、本発明のガラス用研磨剤組成物における研磨材の主成分として配合される物質である。二酸化ジルコニウムは、当該技術分野において酸化ジルコニウム又はジルコニアと称されることもある物質である。
二酸化ジルコニウムとしては、当該技術分野でガラス用研磨剤として用いられているものを特に制限なく使用することができる。例えば、二酸化ジルコニウム材料（当該技術分野において「二酸化ジルコニウム原材料」と称されることもある材料である）を乾式処理して得られるもの（「乾式ジルコニア」と称されることもある）や、二酸化ジルコニウム材料を湿式処理して得られるもの（「湿式ジルコニア」と称されることもある）等が挙げられる。
二酸化ジルコニウム材料としては、バデライト系二酸化ジルコニウム、ジルコンサンド（ジルコニア・シリカ）、中間体のオキシ塩化ジルコニウムや、水酸化ジルコニウム等が挙げられる。
バデライト系二酸化ジルコニウムは、天然のジルコニウム鉱石を精製して得られる材料である。
乾式処理（乾式法）とは、二酸化ジルコニウム材料を高温処理して二酸化ケイ素を昇華除去する処理である。
湿式処理（湿式法）とは、二酸化ジルコニウム材料を選鉱し、アルカリ分（例えば、水酸化ナトリウム）で不純物シリカを溶出し、更に鉱酸（例えば、硫酸や塩酸）で加水分解して水酸化ジルコニウムにし、次いで焼成する処理である。
バデライト系二酸化ジルコニウムは、天然のジルコニウム鉱石を精製して得られる材料である。
乾式処理（乾式法）とは、二酸化ジルコニウム材料を高温処理して二酸化ケイ素を昇華除去する処理である。
湿式処理（湿式法）とは、二酸化ジルコニウム材料を選鉱し、アルカリ分（例えば、水酸化ナトリウム）で不純物シリカを溶出し、更に鉱酸（例えば、硫酸や塩酸）で加水分解して水酸化ジルコニウムにし、次いで焼成する処理である。
湿式処理により製造された二酸化ジルコニウム（湿式ジルコニア）、特にバデライト系二酸化ジルコニウムを湿式処理したものは、粉砕後の乾式ジルコニアに比べて微細な１次結晶の集合体であり、かつ、鋭角部が少ない粒子形状を有するため、ガラス研磨の際のスクラッチの発生がより低くなり、かつ、表面活性（ガラス表面のシラノール基にアタックするケミカル効果）により研磨速度がより向上するので好ましい。
上記の研磨特性により、湿式処理により製造された二酸化ジルコニウム（湿式ジルコニア）、特にバデライト系二酸化ジルコニウムを湿式処理したものは、磁気ディスク用ガラス基板の研磨剤組成物に好適に用いることができる。
乾式処理により製造された二酸化ジルコニウム（乾式ジルコニア）は、メカニカルな研磨力が強いので、石英、水晶や光学レンズ（眼鏡レンズ等）などの硬質ガラスの研磨剤組成物に好適に用いることができる。
上記の研磨特性により、湿式処理により製造された二酸化ジルコニウム（湿式ジルコニア）、特にバデライト系二酸化ジルコニウムを湿式処理したものは、磁気ディスク用ガラス基板の研磨剤組成物に好適に用いることができる。
乾式処理により製造された二酸化ジルコニウム（乾式ジルコニア）は、メカニカルな研磨力が強いので、石英、水晶や光学レンズ（眼鏡レンズ等）などの硬質ガラスの研磨剤組成物に好適に用いることができる。
本発明で用いる二酸化ジルコニウムは、３．０〜１４．０ｍ2／ｇ、好ましくは４．０〜１３．５ｍ2／ｇ、より好ましくは５．０〜１３．０ｍ2／ｇの比表面積を有している。比表面積が３．０ｍ2／ｇ以上であると、メカニカルな研磨力の過剰な増大によるガラスの表面欠陥の助長（スクラッチの増加）を回避することができる。比表面積が１４．０ｍ2／ｇ以下であると、充分な研磨速度を得ることができる。
比表面積は、ＢＥＴ法に従って測定することができる。
比表面積は、ＢＥＴ法に従って測定することができる。
本発明で用いる二酸化ジルコニウムは、０．００５〜０．４５０質量％、好ましくは０．００７〜０．４００質量％、より好ましくは０．００８〜０．４００質量％の二酸化ケイ素含量を有している。二酸化ケイ素含量が０．００５〜０．４５０質量％であり、かつ、比表面積が上述の範囲（３．０〜１４．０ｍ2／ｇ）であると、二酸化ジルコニウムのメカニカルな研磨力とケミカルな研磨力とのバランスを良好なものとし、その靱性をガラス研磨に適切なものとすることができる。
二酸化ケイ素含量は、二酸化ジルコニウム中の二酸化ケイ素濃度を変えて作成した検量線を用いる、蛍光Ｘ線分析による定量分析法（以下、蛍光Ｘ線分析ともいう）に従って測定することができる。
二酸化ケイ素含量は、二酸化ジルコニウム中の二酸化ケイ素濃度を変えて作成した検量線を用いる、蛍光Ｘ線分析による定量分析法（以下、蛍光Ｘ線分析ともいう）に従って測定することができる。
二酸化ジルコニウムは、その平均粒径が０．４〜１．３μｍであると、高い研磨速度と、ガラス基板の高い平滑性及び平坦性とを両立することができるので好ましい。平均粒径はより好ましくは０．５〜１．３μｍであり、特に好ましくは０．６〜１．２μｍである。
平均粒径は、レーザー回折散乱法に従って測定することができる。
平均粒径は、レーザー回折散乱法に従って測定することができる。
上記の比表面積及び二酸化ケイ素含量（並びに、任意に平均粒径）を有する二酸化ジルコニウムは、それ自体公知化合物であり、市場において容易に入手可能であるか、又は、製造可能である。例えば、湿式法により製造された二酸化ジルコニウムは、吉田國夫「鉱産物の知識と取引−工業用鉱物編」、改定新版第１０版、財団法人通商産業調査会（１９９２年）の第２章 主に耐火物原料になる鉱産物 ジルコン（ジルコンサンド）ｐ２６７頁に記載の方法に従って製造することができる。
本発明では、１種類の二酸化ジルコニウムを単独で用いてもよく、２種類以上の二酸化ジルコニウムを組み合わせて使用してもよい。
本発明のガラス用研磨剤組成物における（ａ）成分である二酸化ジルコニウムの含量は、ガラス用研磨剤組成物の総質量に対して好ましくは５〜５０質量％、より好ましくは７〜４０質量％、特に好ましくは１０〜３０質量％である。５質量％以上であると、より高い研磨速度を得ることができる。研磨速度の観点では（ａ）成分の含量の上限は制限されるものではないが、５０質量％以下であると、ガラス用研磨剤組成物の製造コスト上昇を抑制することができる。
（ｂ）成分は、ガラス用研磨剤組成物中で（ａ）成分の二酸化ジルコニウムが短時間に沈降することを防止する（沈降防止剤としての作用）とともに、いったん沈降した二酸化ジルコニウムが強固に固まるのを防止する（再分散剤としての作用）ために配合される物質である。
本発明は特定の理論に限定されるものではないが、沈降防止作用及び再分散作用は、（ｂ）成分が研磨剤組成物の粘度を上げ、かつ、（ａ）成分（砥粒）間に入り込むことで得られると考えられる。
研磨剤組成物中で（ａ）成分が充分に分散していると、（ａ）成分とガラス基板（被研磨物）との接触面及び接触点が多くなり、更に研磨パッドにおける（ａ）成分の保持性が高まるので、研磨速度が向上すると考えられる。
また、（ｂ）成分の一部（ジルコニアゾル、チタニアゾル、酸化セリウムゾル）はそれ自体が研磨剤として作用し、研磨速度の向上に寄与すると考えられる。
なお、上記の沈降防止作用及び再分散作用は、研磨剤組成物の保存安定性やハンドリング性の向上（例えば、研磨剤組成物の輸送時の安定性、研磨剤組成物を研磨機へ移送する際のハンドリング性の向上、研磨機内で沈降防止等）をもたらす。
更に（ｂ）成分は、研磨時の付着物のガラス基板への付着やスクラッチを減少させ、かつ、研磨時に基板表面に（ａ）成分による過剰な力がかかることを防止して、研磨後のカラス基板の平滑性及び平坦性を向上させる。
（ｂ）成分は、アルミナゾル、シリカゾル、ジルコニアゾル、チタニアゾル、酸化錫ゾル、アルミナ・シリカ複合ゾル、酸化セリウムゾル及び結晶セルロースゾルからなる群より選ばれる少なくとも１種である。
本発明は特定の理論に限定されるものではないが、沈降防止作用及び再分散作用は、（ｂ）成分が研磨剤組成物の粘度を上げ、かつ、（ａ）成分（砥粒）間に入り込むことで得られると考えられる。
研磨剤組成物中で（ａ）成分が充分に分散していると、（ａ）成分とガラス基板（被研磨物）との接触面及び接触点が多くなり、更に研磨パッドにおける（ａ）成分の保持性が高まるので、研磨速度が向上すると考えられる。
また、（ｂ）成分の一部（ジルコニアゾル、チタニアゾル、酸化セリウムゾル）はそれ自体が研磨剤として作用し、研磨速度の向上に寄与すると考えられる。
なお、上記の沈降防止作用及び再分散作用は、研磨剤組成物の保存安定性やハンドリング性の向上（例えば、研磨剤組成物の輸送時の安定性、研磨剤組成物を研磨機へ移送する際のハンドリング性の向上、研磨機内で沈降防止等）をもたらす。
更に（ｂ）成分は、研磨時の付着物のガラス基板への付着やスクラッチを減少させ、かつ、研磨時に基板表面に（ａ）成分による過剰な力がかかることを防止して、研磨後のカラス基板の平滑性及び平坦性を向上させる。
（ｂ）成分は、アルミナゾル、シリカゾル、ジルコニアゾル、チタニアゾル、酸化錫ゾル、アルミナ・シリカ複合ゾル、酸化セリウムゾル及び結晶セルロースゾルからなる群より選ばれる少なくとも１種である。
アルミナゾルとしては、当該技術分野において用いられているものを特に制限なく用いることができる。例えば、特開２００２−２０７３２号公報に記載の方法に従って硫酸アルミニウムとアンモニア又はアミン系化合物（例えば、トリエタノールアミン）とを反応させて得られる非晶質の水酸化アルミニウムのゾルや、アルミニウムアルコキシド法（別名：チーグラー・ナッタ法）に従って金属アルミニウムと多価アルキルアルコール（例えば、１，３−プロパンジオールやグリセリン）とを反応させてベーマイトを生成し、このベーマイトを１価の酸（例えば、硝酸）と反応させて得られるゾル（例えば、１価の酸として硝酸を用いた場合は、硝酸アルミナゾル（硝酸ベーマイトゾル））等が挙げられる。
アルミナゾルは、それ自体公知物質であり、市場において容易に入手可能であるか、又は、製造可能である。
本発明では、１種類のアルミナゾルを単独で用いてもよく、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
アルミナゾルは、それ自体公知物質であり、市場において容易に入手可能であるか、又は、製造可能である。
本発明では、１種類のアルミナゾルを単独で用いてもよく、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
シリカゾルとしては、当該技術分野において用いられているものを特に制限なく用いることができる。例えば、特開２００３−２２１２２２号公報や特開平５−２９４６１２号公報に記載の方法に従ってケイ酸塩（例えば、ケイ酸ソーダ）と酸（例えば、硫酸）とを反応させて得られるゾル等が挙げられる。
シリカゾルは、それ自体公知物質であり、市場において容易に入手可能であるか、又は、製造可能である。
本発明では、１種類のシリカゾルを単独で用いてもよく、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
シリカゾルは、それ自体公知物質であり、市場において容易に入手可能であるか、又は、製造可能である。
本発明では、１種類のシリカゾルを単独で用いてもよく、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
ジルコニアゾルとしては、当該技術分野において用いられているものを特に制限なく用いることができる。例えば、特開２００８−３１０２３号公報に記載の方法に従ってジルコニア（二酸化ジルコニウム）の水酸化物（例えば、水酸化ジルコニウム）と酸（例えば、硝酸）とを反応させて得られるゾル等が挙げられる。
平均粒子径が６０〜９０ｎｍのジルコニアゾルが、研磨速度向上の観点から好ましい。平均粒径は、動的光散乱法に従って測定することができる。
ジルコニアゾルは、それ自体公知物質であり、市場において容易に入手可能であるか、又は、製造可能である。
本発明では、１種類のジルコニアゾルを単独で用いてもよく、２種類以上の異なる種類のゾルを組み合わせて使用してもよい。
平均粒子径が６０〜９０ｎｍのジルコニアゾルが、研磨速度向上の観点から好ましい。平均粒径は、動的光散乱法に従って測定することができる。
ジルコニアゾルは、それ自体公知物質であり、市場において容易に入手可能であるか、又は、製造可能である。
本発明では、１種類のジルコニアゾルを単独で用いてもよく、２種類以上の異なる種類のゾルを組み合わせて使用してもよい。
チタニアゾルとしては、当該技術分野において用いられているものを特に制限なく用いることができる。例えば、特開２００４−９１２６３号公報に記載の方法に従ってチタニア（酸化チタン）の水酸化物（例えば、水酸化チタン）と酸（例えば、塩酸）とを反応させて得られるゾル等が挙げられる。
チタニアゾルは、それ自体公知物質であり、市場において容易に入手可能であるか、又は、製造可能である。
本発明では、１種類のチタニアゾルを単独で用いてもよく、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
チタニアゾルは、それ自体公知物質であり、市場において容易に入手可能であるか、又は、製造可能である。
本発明では、１種類のチタニアゾルを単独で用いてもよく、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
酸化錫ゾルとしては、当該技術分野において用いられているものを特に制限なく用いることができる。例えば、特開２０００−１２８５３２号公報に記載の方法に従ってハロゲン化錫（例えば、四塩化錫）の加水分解により得られた酸化錫スラリーとアルカリ（例えば、アンモニア）とを反応させて得られるゾル等が挙げられる。
酸化錫ゾルは、それ自体公知物質であり、市場において容易に入手可能であるか、又は、製造可能である。
本発明では、１種類の酸化錫ゾルを単独で用いてもよく、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
酸化錫ゾルは、それ自体公知物質であり、市場において容易に入手可能であるか、又は、製造可能である。
本発明では、１種類の酸化錫ゾルを単独で用いてもよく、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
アルミナ・シリカ複合ゾル（アルミナとシリカとの複合ゾル）としては、当該技術分野において用いられているものを特に制限なく用いることができる。例えば、特開平５−３３０８１８号公報に記載の方法に従ってオルトケイ酸アルキル（例えば、オルトケイ酸エチル）を、水とアルコールが共存する媒体中で、アルミニウム化合物（例えば、塩化アルミニウム）と反応させて得られるゾル等が挙げられる。
アルミナ・シリカ複合ゾルは、それ自体公知物質であり、市場において容易に入手可能であるか、又は、製造可能である。
本発明では、１種類のアルミナ・シリカ複合ゾルを単独で用いてもよく、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
アルミナ・シリカ複合ゾルは、それ自体公知物質であり、市場において容易に入手可能であるか、又は、製造可能である。
本発明では、１種類のアルミナ・シリカ複合ゾルを単独で用いてもよく、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
酸化セリウムゾルとしては、当該技術分野において用いられているものを特に制限なく用いることができる。例えば、特開２００３−２７０４５号公報に記載の方法に従って、セリウム塩（例えば、硝酸セリウム）とアルカリ（例えば、水酸化ナトリウム）とを反応させて得られる水酸化セリウムを酸化させ、酸化セリウム微粒子を分散させて得られるゾル等が挙げられる。
酸化セリウムゾルは、それ自体公知物質であり、市場において容易に入手可能であるか、又は、製造可能である。
本発明では、１種類の酸化セリウムゾルを単独で用いてもよく、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
酸化セリウムゾルは、それ自体公知物質であり、市場において容易に入手可能であるか、又は、製造可能である。
本発明では、１種類の酸化セリウムゾルを単独で用いてもよく、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
結晶セルロースゾルとしては、当該技術分野において用いられているものを特に制限なく用いることができる。例えば、結晶セルロースをCMC-Naでゾル化したものを用いることができる。
結晶セルロースゾルは、それ自体公知物質であり、市場において容易に入手可能であるか、又は、製造可能である。具体例としては、旭化成ケミカルズ社製品の結晶セルロース「セオラス」のゾルグレード（例えば、セオラスＲＣタイプ）が挙げられる。
本発明では、１種類の結晶セルロースゾルを単独で用いてもよく、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
結晶セルロースゾルは、それ自体公知物質であり、市場において容易に入手可能であるか、又は、製造可能である。具体例としては、旭化成ケミカルズ社製品の結晶セルロース「セオラス」のゾルグレード（例えば、セオラスＲＣタイプ）が挙げられる。
本発明では、１種類の結晶セルロースゾルを単独で用いてもよく、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
本発明では、上記のゾルのうち１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
上記のゾルの中ではアルミナゾル又はジルコニアゾルの単独使用又はその併用が好ましく、アルミナゾルの単独使用が特に好ましい。
上記のゾルの中ではアルミナゾル又はジルコニアゾルの単独使用又はその併用が好ましく、アルミナゾルの単独使用が特に好ましい。
本発明のガラス用研磨剤組成物における（ｂ）成分の沈降防止剤の含量は、ガラス用研磨剤組成物の総質量に対して０．５〜２０．０質量％、好ましくは０．５〜１７．０質量％、特に好ましくは１．０〜１５．０質量％である。０．５質量％以上であると、（ｂ）成分の効果（沈降防止作用及び再分散作用）をより高く得ることができる。２０．０質量％以下であると、ガラス用研磨剤組成物の製造コスト上昇を抑制しつつ、充分な研磨速度を得ることができる。
（ｃ）成分は、（ａ）成分の分散媒として配合される水である。水としては、天然水、水道水、イオン交換水や、蒸留水などの純水を用いることができるが、（ａ）成分の分散性をより良くし、ガラス用研磨剤組成物の安定性を高め、かつ、当該組成物の製造を容易にする点でイオン交換水又は蒸留水が好ましい。
本発明のガラス用研磨剤組成物には、（ｄ）成分として分散剤を任意に配合することができる。（ｄ）成分の分散剤は、（ｂ）成分の効果を高め、ガラス用研磨剤組成物中で（ａ）成分の二酸化ジルコニウムを充分に分散させることにより、付着物（研磨剤や研磨屑）のガラス基板への付着やスクラッチをより少なくするために配合される物質である。
（ｄ）成分の分散剤は、ポリカルボン酸塩及びその重合体、ナフタレンスルフォン酸塩及びその縮合体、ヘキサメタリン酸塩、ピロリン酸塩、トリポリリン酸塩、酸性メタリン酸塩、酸性ピロリン酸塩、第二リン酸塩並びに結晶セルロースからなる群より選ばれる少なくとも１種である。
ポリカルボン酸塩及びその重合体としては、当該技術分野において用いられているものを特に制限なく用いることができる。例えば、ポリアクリル酸塩（例えば、ポリアクリル酸アンモニウム）やポリアクリル酸ソーダの共重合体等が挙げられる。
ポリカルボン酸塩及びその重合体は、それ自体公知物質であり、市場において容易に入手可能であるか、又は、製造可能である。
本発明では、１種類のポリカルボン酸塩及びその重合体を単独で用いてもよく、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
ポリカルボン酸塩及びその重合体は、それ自体公知物質であり、市場において容易に入手可能であるか、又は、製造可能である。
本発明では、１種類のポリカルボン酸塩及びその重合体を単独で用いてもよく、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
ナフタレンスルフォン酸塩及びその縮合体としては、当該技術分野において用いられているものを特に制限なく用いることができる。例えば、ナフタレンスルフォン酸ナトリウムやナフタレンスルフォン酸ホルマリン縮合体ナトリウム等が挙げられる。
ナフタレンスルフォン酸塩及びその縮合体は、それ自体公知物質であり、市場において容易に入手可能であるか、又は、製造可能である。
本発明では、１種類のナフタレンスルフォン酸塩及びその縮合体を単独で用いてもよく、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
ナフタレンスルフォン酸塩及びその縮合体は、それ自体公知物質であり、市場において容易に入手可能であるか、又は、製造可能である。
本発明では、１種類のナフタレンスルフォン酸塩及びその縮合体を単独で用いてもよく、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
ヘキサメタリン酸塩としては、当該技術分野において用いられているものを特に制限なく用いることができる。例えば、ヘキサメタリン酸ナトリウムやヘキサメタリン酸カリウム等が挙げられる。
ヘキサメタリン酸塩は、それ自体公知物質であり、市場において容易に入手可能であるか、又は、製造可能である。
本発明では、１種類のヘキサメタリン酸塩を単独で用いてもよく、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
ヘキサメタリン酸塩は、それ自体公知物質であり、市場において容易に入手可能であるか、又は、製造可能である。
本発明では、１種類のヘキサメタリン酸塩を単独で用いてもよく、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
ピロリン酸塩としては、当該技術分野において用いられているものを特に制限なく用いることができる。例えば、ピロリン酸ナトリウムやピロリン酸鉄等が挙げられる。
ピロリン酸塩は、それ自体公知物質であり、市場において容易に入手可能であるか、又は、製造可能である。
本発明では、１種類のピロリン酸塩を単独で用いてもよく、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
ピロリン酸塩は、それ自体公知物質であり、市場において容易に入手可能であるか、又は、製造可能である。
本発明では、１種類のピロリン酸塩を単独で用いてもよく、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
トリポリリン酸塩としては、当該技術分野において用いられているものを特に制限なく用いることができる。例えば、トリポリリン酸ナトリウムやトリポリリン酸カリウム等が挙げられる。
トリポリリン酸塩は、それ自体公知物質であり、市場において容易に入手可能であるか、又は、製造可能である。
本発明では、１種類のトリポリリン酸塩を単独で用いてもよく、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
トリポリリン酸塩は、それ自体公知物質であり、市場において容易に入手可能であるか、又は、製造可能である。
本発明では、１種類のトリポリリン酸塩を単独で用いてもよく、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
酸性メタリン酸塩としては、当該技術分野において用いられているものを特に制限なく用いることができる。例えば、酸性メタリン酸ナトリウムや酸性メタリン酸カリウム等が挙げられる。
酸性メタリン酸塩は、それ自体公知物質であり、市場において容易に入手可能であるか、又は、製造可能である。
本発明では、１種類の酸性メタリン酸塩を単独で用いてもよく、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
酸性メタリン酸塩は、それ自体公知物質であり、市場において容易に入手可能であるか、又は、製造可能である。
本発明では、１種類の酸性メタリン酸塩を単独で用いてもよく、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
酸性ピロリン酸塩としては、当該技術分野において用いられているものを特に制限なく用いることができる。例えば、酸性ピロリン酸ナトリウムや酸性ピロリン酸カリウム等が挙げられる。
酸性ピロリン酸塩は、それ自体公知物質であり、市場において容易に入手可能であるか、又は、製造可能である。
本発明では、１種類の酸性ピロリン酸塩を単独で用いてもよく、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
酸性ピロリン酸塩は、それ自体公知物質であり、市場において容易に入手可能であるか、又は、製造可能である。
本発明では、１種類の酸性ピロリン酸塩を単独で用いてもよく、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
第二リン酸塩としては、当該技術分野において用いられているものを特に制限なく用いることができる。例えば、第二リン酸ナトリウム（リン酸一水素ナトリウム）や第二リン酸カリウム等が挙げられる。
第二リン酸塩は、それ自体公知物質であり、市場において容易に入手可能であるか、又は、製造可能である。
本発明では、１種類の第二リン酸塩を単独で用いてもよく、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
第二リン酸塩は、それ自体公知物質であり、市場において容易に入手可能であるか、又は、製造可能である。
本発明では、１種類の第二リン酸塩を単独で用いてもよく、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
結晶セルロースとしては、当該技術分野において用いられているものを特に制限なく用いることができる。例えば、結晶化度が７３％のもの等が挙げられる。なお、（ｄ）成分としては、ゾルタイプではないパウダータイプの結晶セルロースが用いられる。
結晶セルロースは、それ自体公知物質であり、市場において容易に入手可能であるか、又は、製造可能である。
本発明では、１種類の結晶セルロースを単独で用いてもよく、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
結晶セルロースは、それ自体公知物質であり、市場において容易に入手可能であるか、又は、製造可能である。
本発明では、１種類の結晶セルロースを単独で用いてもよく、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
本発明では、上記の分散剤のうち１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
上記の分散剤の中ではヘキサメタリン酸塩又はポリカルボン酸塩の単独使用が好ましい。
上記の分散剤の中ではヘキサメタリン酸塩又はポリカルボン酸塩の単独使用が好ましい。
本発明のガラス用研磨剤組成物における（ｄ）成分の分散剤の含量は、ガラス用研磨剤組成物の総質量に対して０．０５〜０．５０質量％、好ましくは０．０５〜０．３０質量％、特に好ましくは０．０５〜０．２０質量％である。
本発明のガラス用研磨剤組成物には、（ｅ）成分として研磨補助材を任意に配合することができる。（ｅ）成分の研磨補助材は、ガラス用研磨剤組成物中で（ａ）成分の二酸化ジルコニウム（研磨材主成分）による研磨を補助して、ガラス用研磨剤組成物の研磨性能を向上させるために配合される物質である。
（ｅ）成分の研磨補助材としては、当該技術分野において用いられているものを特に制限なく用いることができる。具体例としては、（ａ）成分のメカニカル研磨特性を補助するもの（例えば、イットリア、カルシア安定化ジルコニアや未安定化ジルコニア（いずれも（ａ）成分に該当しないもの）、ジルコンサンド（ZrO2・SiO2）や二酸化ケイ素等）や、（ａ）成分のメカニカル研磨特性及びケミカル研磨特性を補助するもの（例えば、酸化鉄、酸化マンガン、酸化チタン、酸化アルミニウムや、酸化セリウム等）が挙げられる。
ジルコンサンドとしては、ジルコンやジルコンフラワー等が挙げられる。
二酸化ケイ素としては、湿式合成シリカ、乾式合成シリカ（ヒュームドシリカ）や、コロイダルシリカ等が挙げられる。
酸化鉄としては、酸化鉄（III）Fe2O3や、三四酸化鉄Fe3O4（FeO・Fe2O3）等が挙げられる。
酸化マンガンとしては、二酸化マンガン（MnO2）、二三酸化マンガン（Mn2O3）や、三四酸化マンガン（Mn3O4）等が挙げられる。
酸化チタンとしては、酸化チタン（TiO2）や、二三酸化チタン（Ti2O3）等が挙げられる。
酸化アルミニウムとしては、ベーマイトアルミナ、バイヤー法で生成する水酸化アルミニウムを假焼して得られる酸化アルミニウムや、乾式合成アルミナ（ヒュームドアルミナ）、アルキルアルミニウムの加水分解等によって得られる高純度アルミナ等が挙げられる。
酸化セリウムとしては、酸化セリウム、酸化希土セリウム（セリウム以外の希土類元素を含む酸化セリウム）や、高純度酸化セリウム等が挙げられる。
ジルコンサンドとしては、ジルコンやジルコンフラワー等が挙げられる。
二酸化ケイ素としては、湿式合成シリカ、乾式合成シリカ（ヒュームドシリカ）や、コロイダルシリカ等が挙げられる。
酸化鉄としては、酸化鉄（III）Fe2O3や、三四酸化鉄Fe3O4（FeO・Fe2O3）等が挙げられる。
酸化マンガンとしては、二酸化マンガン（MnO2）、二三酸化マンガン（Mn2O3）や、三四酸化マンガン（Mn3O4）等が挙げられる。
酸化チタンとしては、酸化チタン（TiO2）や、二三酸化チタン（Ti2O3）等が挙げられる。
酸化アルミニウムとしては、ベーマイトアルミナ、バイヤー法で生成する水酸化アルミニウムを假焼して得られる酸化アルミニウムや、乾式合成アルミナ（ヒュームドアルミナ）、アルキルアルミニウムの加水分解等によって得られる高純度アルミナ等が挙げられる。
酸化セリウムとしては、酸化セリウム、酸化希土セリウム（セリウム以外の希土類元素を含む酸化セリウム）や、高純度酸化セリウム等が挙げられる。
上記の研磨補助材は、それ自体公知物質であり、市場において容易に入手可能であるか、又は、製造可能である。
本発明では、上記の研磨補助材のうち１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
上記の研磨補助材の中では酸化セリウム（特に、酸化希土セリウム）、酸化マンガン（特に二酸化マンガン）又は二酸化ケイ素（特にヒュームドシリカ）の単独使用が好ましく、酸化セリウム（特に、酸化希土セリウム）の単独使用が特に好ましい。
上記の研磨補助材の中では酸化セリウム（特に、酸化希土セリウム）、酸化マンガン（特に二酸化マンガン）又は二酸化ケイ素（特にヒュームドシリカ）の単独使用が好ましく、酸化セリウム（特に、酸化希土セリウム）の単独使用が特に好ましい。
研磨補助材の平均粒径（ヒュームドシリカの場合には、凝結状態における平均粒径）は、好ましくは０．１〜５．０μｍであり、より好ましくは０．１３〜３．０μｍであり、特に好ましくは０．１５〜２．０μｍである。
平均粒径は、動的光散乱法に従って測定することができる。
平均粒径は、動的光散乱法に従って測定することができる。
本発明のガラス用研磨剤組成物における（ｅ）成分の研磨補助材の含量は、ガラス用研磨剤組成物の総質量に対して０．１〜５．０質量％、好ましくは０．３〜５．０質量％、特に好ましくは０．５〜５．０質量％である。０．１〜５．０質量％であると、優れた研磨特性を維持しつつ、研磨補助材としての機能を経済的かつ充分に発揮させることができる。
また、（ａ）成分の二酸化ジルコニウムと（ｅ）成分の研磨補助材との合計の含量は、ガラス用研磨剤組成物の総質量に対して、好ましくは１〜４５質量％、より好ましくは３〜３５質量％、特に好ましくは５〜３０質量％である。合計量が１〜４５質量％であると、経済的かつ充分に研磨補助材としての機能を発揮させることができる。
本発明のガラス用研磨剤組成物には、（ｆ）成分としてラジカル発生剤を任意に配合することができる。（ｆ）成分のラジカル発生剤は、ガラス用研磨剤組成物の研磨性能を向上させるために配合される物質である。本発明は特定の理論に限定されるものではないが、ラジカル発生剤により生じたラジカルがガラス（披研磨物）中のＳｉ−Ｏ基の結合電子へ作用することでＳｉとＯとの間の電子結合が弱まり、ガラスの強度が低下するため、研磨剤組成物の研磨性能が向上すると考えられる。
（ｆ）成分のラジカル発生剤としては、当該技術分野において用いられているものを特に制限なく用いることができる。具体例としては、下記の（１）〜（６）が挙げられる。
（１）過酸化水素と、２価の鉄塩及び／又は１価の銅塩との組合せ
（２）過酸塩
（３）過硫酸塩と、亜硫酸塩及び／又は次亜硫酸塩との組合せ
（４）ハロゲン化塩及び／又はオキソハロゲン酸塩
（５）水溶性アゾ化合物
（６）有機過酸化物
（１）過酸化水素と、２価の鉄塩及び／又は１価の銅塩との組合せ
（２）過酸塩
（３）過硫酸塩と、亜硫酸塩及び／又は次亜硫酸塩との組合せ
（４）ハロゲン化塩及び／又はオキソハロゲン酸塩
（５）水溶性アゾ化合物
（６）有機過酸化物
（１）の２価の鉄塩としては、硫酸鉄、硝酸鉄、塩化鉄、臭化鉄、沃化鉄、リンゴ酸鉄、フマル酸鉄、硫酸アンモニウム鉄や、硝酸アンモニウム鉄等が挙げられる。２価の鉄塩は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
（１）の１価の銅塩としては、塩化銅、亜酸化銅、臭化銅、沃化銅や、酢酸銅等が挙げられる。１価の銅塩は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
（１）の１価の銅塩としては、塩化銅、亜酸化銅、臭化銅、沃化銅や、酢酸銅等が挙げられる。１価の銅塩は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
（２）の過酸塩としては、過硫酸アンモニウム、過硫酸ナトリウム、過硫酸カリウム、過炭酸アンモニウム、過炭酸ナトリウム、過炭酸カリウム、過燐酸アンモニウム、過燐酸ナトリウム、過燐酸カリウム、次過塩素酸アンモニウム、次過塩素酸ナトリウム、次過塩素酸カリウム、過酢酸アンモニウム、過酢酸ナトリウムや、過酢酸カリウム等が挙げられる。過酸塩は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
（３）の過硫酸塩としては、過硫酸ナトリウムや過硫酸アンモニウム等が挙げられる。過硫酸塩は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
（３）の亜硫酸塩としては、亜硫酸アンモニウム、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸水素アンモニウム、亜硫酸水素ナトリウムや、亜硫酸水素カリウム等が挙げられる。亜硫酸塩は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
（３）の次亜硫酸塩としては、次亜硫酸アンモニウム、次亜硫酸ナトリウムや、次亜硫酸カリウム等が挙げられる。次亜硫酸塩は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
（３）の亜硫酸塩としては、亜硫酸アンモニウム、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸水素アンモニウム、亜硫酸水素ナトリウムや、亜硫酸水素カリウム等が挙げられる。亜硫酸塩は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
（３）の次亜硫酸塩としては、次亜硫酸アンモニウム、次亜硫酸ナトリウムや、次亜硫酸カリウム等が挙げられる。次亜硫酸塩は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
（４）のハロゲン化塩としては、塩素化塩（例えば、ジクロロイソシアヌル酸ナトリウムや塩素酸ナトリウム）、臭素化塩（例えば、臭素酸ナトリウム）や、沃素化塩（例えば、沃化カリウム）等が挙げられる。ハロゲン化塩は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
（４）のオキソハロゲン酸塩としては、オキソ塩素酸塩（例えば、次亜塩素酸ナトリウム）、オキソ臭素酸塩（例えば、亜臭素酸ナトリウム）やオキソ沃素酸塩（例えば、次亜沃素酸ナトリウムや過沃素酸カリウム）等が挙げられる。オキソハロゲン酸塩は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
（４）のオキソハロゲン酸塩としては、オキソ塩素酸塩（例えば、次亜塩素酸ナトリウム）、オキソ臭素酸塩（例えば、亜臭素酸ナトリウム）やオキソ沃素酸塩（例えば、次亜沃素酸ナトリウムや過沃素酸カリウム）等が挙げられる。オキソハロゲン酸塩は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
（５）の水溶性アゾ化合物としては、ジアゼン（ヒドラジン）、トリアゼンや、テトラアゼン等が挙げられる。水溶性アゾ化合物は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
（６）の有機過酸化物としては、メチルエチルケトンぺルオキシド、過酸化アセトンや、過酢酸等が挙げられる。有機過酸化物は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
上記（１）〜（６）のラジカル発生剤のうち（１）〜（３）は配合するのみで分解を起こしてラジカルを発生することができるが、（４）〜（６）ではラジカル発生のために熱又は光の補助が必要である。但し、一般的には、本発明のガラス用研磨剤組成物を用いた研磨時に生ずる研磨熱でラジカル発生に必要な熱を十分にまかなうことができる。
上記のラジカル発生剤は、それ自体公知物質であり、市場において容易に入手可能であるか、又は、製造可能である。
本発明では、上記（１）〜（６）のラジカル発生剤のうち１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
上記のラジカル発生剤の中では過酸塩の単独使用が好ましく、過硫酸アンモニウムの単独使用が特に好ましい。
上記のラジカル発生剤の中では過酸塩の単独使用が好ましく、過硫酸アンモニウムの単独使用が特に好ましい。
本発明のガラス用研磨剤組成物における（ｆ）成分のラジカル発生剤の含量は、ガラス用研磨剤組成物の総質量に対して０．１〜５．０質量％、好ましくは０．３〜３．０質量％、特に好ましくは０．５〜２．０質量％である。
上記の（ｄ）〜（ｆ）成分の他、本発明のガラス用研磨剤組成物には、当該技術分野で用いられている、防錆剤、防菌剤、洗浄剤、表面改質剤、粘度調整剤や界面活性剤等を必要に応じて配合することができる。
本発明のガラス用研磨剤組成物のｐＨは、好ましくは３〜１０、より好ましくは４〜１０である。ｐＨが３〜１０であると（ａ）成分の二酸化ジルコニウムのフロック化（凝集して多数の団子状粒子となり沈降すること）を抑制して、高い研磨速度を得ることができる。
なお、（ｆ）成分のラジカル発生剤を配合する場合には、本発明のガラス用研磨剤組成物のｐＨは、好ましくは３〜７、より好ましくは３〜６、特に好ましくは４〜６である。ｐＨが３〜７であると、ラジカル発生剤から持続的にラジカルを発生させ、かつ、生じたラジカルの分解を抑制して、ラジカル発生剤の効果をより向上させることができる。
なお、（ｆ）成分のラジカル発生剤を配合する場合には、本発明のガラス用研磨剤組成物のｐＨは、好ましくは３〜７、より好ましくは３〜６、特に好ましくは４〜６である。ｐＨが３〜７であると、ラジカル発生剤から持続的にラジカルを発生させ、かつ、生じたラジカルの分解を抑制して、ラジカル発生剤の効果をより向上させることができる。
ｐＨの調節には、ｐＨ調節作用を有する物質を特に制限なく用いることができる。具体例としては有機酸及びその塩（例えば、クエン酸、グリコール酸、グルコン酸や、クエン酸アンモニウム）、無機酸及びその塩（例えば、希硫酸、硝酸、リン酸や、硝酸アルミニウム）、有機塩基（例えば、ピリジンや、トリエチルアミン）、無機塩基（例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化テトラメチルアンモニウムや、水酸化ジルコニウム）等が挙げられる。これらの中で、グリコール酸や水酸化テトラメチルアンモニウムは、研磨促進剤（ケミカルな研磨力を向上）としての作用も有する。
有機酸としては、上述の物質の他に、有機酸系キレート化合物である有機ホスホン酸系キレート化合物（例えば、ヒドロキシジホスホン酸（ＨＥＤＰ）やその塩）、有機カルボン酸キレート化合物（例えば、エチレンジアミンテトラ酢酸（ＥＤＴＡ）やその塩）や、アミン系キレート化合物（例えば、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンの混合品）等が挙げられる。
有機酸系キレート化合物は、ｐＨ調節作用に加えて、研磨時にガラス内に発生する金属イオンや、研磨屑や研磨砥粒等の研磨表面の付着物を補足する作用を有し、これら付着物のガラス基板への付着を防止し、洗浄を容易にするので好ましい。
また、有機酸及びその塩並びに無機酸及びその塩には、ｐＨ調整作用のほかにケミカル研磨作用もある。
有機酸としては、上述の物質の他に、有機酸系キレート化合物である有機ホスホン酸系キレート化合物（例えば、ヒドロキシジホスホン酸（ＨＥＤＰ）やその塩）、有機カルボン酸キレート化合物（例えば、エチレンジアミンテトラ酢酸（ＥＤＴＡ）やその塩）や、アミン系キレート化合物（例えば、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンの混合品）等が挙げられる。
有機酸系キレート化合物は、ｐＨ調節作用に加えて、研磨時にガラス内に発生する金属イオンや、研磨屑や研磨砥粒等の研磨表面の付着物を補足する作用を有し、これら付着物のガラス基板への付着を防止し、洗浄を容易にするので好ましい。
また、有機酸及びその塩並びに無機酸及びその塩には、ｐＨ調整作用のほかにケミカル研磨作用もある。
本発明のガラス用研磨剤組成物は、例えば、以下の工程により製造することができる。 主材の（ａ）成分（及び任意に（ｅ）成分）を、（ｃ）成分中で混合及び分散させる。これに、（ｂ）成分（及び任意に（ｄ）成分）を添加し、混合する。更に任意の（ｆ）成分を添加し、必要に応じてｐＨ調節剤によりｐＨを調節し、撹拌及び混合する。
本発明のガラス用研磨剤組成物はガラス基板の研磨に使用することができる。
ガラス基板を構成するガラスに特に制限なく、研磨が必要なあらゆるガラスに本発明のガラス用研磨剤組成物を適用することができる。
特に、本発明のガラス用研磨剤組成物は、ハードディスクに使用される磁気ディスク用ガラス基板、ＬＣＤや太陽電池等に使用されるフラットパネルガラス基板、電子部品の製造工程で用いられるフォトマスク用ガラス基板や、光学レンズ用ガラス基板の研磨に好適に使用することができる。
本発明のガラス用研磨剤組成物は、当該技術分野で一般的に用いられている研磨方法に適用してガラス基板を研磨することができる。
ガラス基板を構成するガラスに特に制限なく、研磨が必要なあらゆるガラスに本発明のガラス用研磨剤組成物を適用することができる。
特に、本発明のガラス用研磨剤組成物は、ハードディスクに使用される磁気ディスク用ガラス基板、ＬＣＤや太陽電池等に使用されるフラットパネルガラス基板、電子部品の製造工程で用いられるフォトマスク用ガラス基板や、光学レンズ用ガラス基板の研磨に好適に使用することができる。
本発明のガラス用研磨剤組成物は、当該技術分野で一般的に用いられている研磨方法に適用してガラス基板を研磨することができる。
次に、実施例を挙げて本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれによって限定されるものではない。
実施例１
（ａ）成分（二酸化ジルコニウムの粒子）として、バデライト系二酸化ジルコニウム原材料ＺＢ３５０（美濃顔料化学株式会社製）を湿式処理して得た湿式ジルコニアであるＺＢ４８０（美濃顔料化学株式会社製）を更に所定の粒度まで媒体攪拌ミルで処理した粉砕品を用いた。ＺＢ４８０の粉砕品は、１２．７ｍ2／ｇの比表面積（測定法：ＢＥＴ法）と、０．３６０質量％の二酸化ケイ素含量（測定法：蛍光Ｘ線分析法）と、０．６μｍの平均粒径（測定法：島津製作所製のSALD2000Jを用いたレーザー回折散乱法）とを有していた。
（ｂ）成分として、特開２００２−２０７３２号公報に記載の方法に従い、硫酸アルミニウムとアンモニアとを反応させて得た非晶質の水酸化アルミニウムのゾル（アルミナゾル）を用いた。
（ｃ）成分（水）として、イオン交換水を用いた。
（ｄ）成分（分散剤）として、ヘキサメタリン酸塩であるヘキサメタリン酸ナトリウム（米山化学）を用いた。
（ｅ）成分（研磨補助材）として、酸化希土セリウム（昭和電工）を用いた。酸化セリウムの平均粒径は１．７μｍ（測定法：レーザー回折散乱法）であった。
（ａ）成分（二酸化ジルコニウムの粒子）として、バデライト系二酸化ジルコニウム原材料ＺＢ３５０（美濃顔料化学株式会社製）を湿式処理して得た湿式ジルコニアであるＺＢ４８０（美濃顔料化学株式会社製）を更に所定の粒度まで媒体攪拌ミルで処理した粉砕品を用いた。ＺＢ４８０の粉砕品は、１２．７ｍ2／ｇの比表面積（測定法：ＢＥＴ法）と、０．３６０質量％の二酸化ケイ素含量（測定法：蛍光Ｘ線分析法）と、０．６μｍの平均粒径（測定法：島津製作所製のSALD2000Jを用いたレーザー回折散乱法）とを有していた。
（ｂ）成分として、特開２００２−２０７３２号公報に記載の方法に従い、硫酸アルミニウムとアンモニアとを反応させて得た非晶質の水酸化アルミニウムのゾル（アルミナゾル）を用いた。
（ｃ）成分（水）として、イオン交換水を用いた。
（ｄ）成分（分散剤）として、ヘキサメタリン酸塩であるヘキサメタリン酸ナトリウム（米山化学）を用いた。
（ｅ）成分（研磨補助材）として、酸化希土セリウム（昭和電工）を用いた。酸化セリウムの平均粒径は１．７μｍ（測定法：レーザー回折散乱法）であった。
（ａ）成分及び（ｅ）成分を（ｃ）成分中で混合し、角もぎ用攪拌機（装置名：ホモミキサー）を用いて処理（撹拌条件：1200rpm）して混合し、得られた混合物へ、別に高剪断攪拌機（同ホモミキサー）で調製した（ｂ）成分及び（ｄ）成分を更に添加し、混合攪拌(装置名：スリーワンモーター)して、ガラス用研磨剤組成物を得た。得られた研磨剤組成物のｐＨは６．４であった。
実施例１のガラス用研磨剤組成物の組成は以下の通りであった。
実施例１のガラス用研磨剤組成物の組成は以下の通りであった。
実施例２
（ａ）成分（二酸化ジルコニウムの粒子）として、バデライト系二酸化ジルコニウム原材料ＺＢ３５０（美濃顔料化学株式会社製）を湿式処理して得た湿式ジルコニアであるＺＢ４８０（美濃顔料化学株式会社製）を用いた。ＺＢ４８０は、９．６ｍ2／ｇの比表面積（測定法：ＢＥＴ法）と、０．３８０質量％の二酸化ケイ素含量（測定法：蛍光Ｘ線分析法）と、１．２μｍの平均粒径（測定法：島津製作所製のSALD2000Jを用いたレーザー回折散乱法）とを有していた。
（ｂ）成分として、特開２００２−２０７３２号公報に記載の方法に従い、硫酸アルミニウムとアンモニアとを反応させて得た非晶質の水酸化アルミニウムのゾル（アルミナゾル）を用いた。
（ｃ）成分（水）としてイオン交換水を用いた。
（ｄ）成分（分散剤）として、ヘキサメタリン酸塩であるヘキサメタリン酸ナトリウム（米山化学）を用いた。
（ｅ）成分（研磨補助材）として、酸化希土セリウム（昭和電工）を用いた。酸化セリウムの平均粒径は１．７μｍ（測定法：レーザー回折散乱法）であった。
（ａ）成分（二酸化ジルコニウムの粒子）として、バデライト系二酸化ジルコニウム原材料ＺＢ３５０（美濃顔料化学株式会社製）を湿式処理して得た湿式ジルコニアであるＺＢ４８０（美濃顔料化学株式会社製）を用いた。ＺＢ４８０は、９．６ｍ2／ｇの比表面積（測定法：ＢＥＴ法）と、０．３８０質量％の二酸化ケイ素含量（測定法：蛍光Ｘ線分析法）と、１．２μｍの平均粒径（測定法：島津製作所製のSALD2000Jを用いたレーザー回折散乱法）とを有していた。
（ｂ）成分として、特開２００２−２０７３２号公報に記載の方法に従い、硫酸アルミニウムとアンモニアとを反応させて得た非晶質の水酸化アルミニウムのゾル（アルミナゾル）を用いた。
（ｃ）成分（水）としてイオン交換水を用いた。
（ｄ）成分（分散剤）として、ヘキサメタリン酸塩であるヘキサメタリン酸ナトリウム（米山化学）を用いた。
（ｅ）成分（研磨補助材）として、酸化希土セリウム（昭和電工）を用いた。酸化セリウムの平均粒径は１．７μｍ（測定法：レーザー回折散乱法）であった。
（ａ）成分及び（ｅ）成分を（ｃ）成分中で混合し、角もぎ用攪拌機（装置名：ホモミキサー）を用いて処理（撹拌条件：1200rpm）して混合し、得られた混合物へ、別に高剪断攪拌機（同ホモミキサー）で調製した（ｂ）成分及び（ｄ）成分を更に添加し、混合攪拌(装置名：スリーワンモーター)してガラス用研磨剤組成物を得た。得られた研磨剤組成物のｐＨは６．４であった。
実施例２のガラス用研磨剤組成物の組成は以下の通りであった。
実施例２のガラス用研磨剤組成物の組成は以下の通りであった。
実施例３
（ａ）成分（二酸化ジルコニウムの粒子）として、湿式処理により製造された二酸化ジルコニウムであるＹＮＤ−ＺＲ（永大化学株式会社製）を用いた。ＹＮＤ−ＺＲは、６．９ｍ2／ｇの比表面積（測定法：ＢＥＴ法）と、０．００８質量％の二酸化ケイ素含量（測定法：蛍光Ｘ線分析法）と、０．６μｍの平均粒径（測定法：島津製作所製のSALD2000Jを用いたレーザー回折散乱法）とを有していた。
（ｂ）成分として、ベーマイト（サソール製ベーマイト（ＣＡアルミナ））と硝酸とを反応させて得た硝酸ベーマイトゾル（アルミナゾル）を用いた。
更に（ｂ）成分として、ジルコニアゾル（ＺＳＬ−１０Ａ（第一稀元素化学工業株式会社））を用いた。このジルコニアゾルは、結晶性ゾル（平均粒子径：７０〜９０ｎｍ。マイクロトラック社製ＵＰＡを用いた動的光散乱法（レーザードプラー式動的光散乱法）により測定）であった。
（ｃ）成分（水）として、イオン交換水を用いた。
（ｄ）成分（分散剤）として、ポリカルボン酸塩であるポリアクリル酸アンモニウム（東亜合成）を用いた。
（ａ）成分（二酸化ジルコニウムの粒子）として、湿式処理により製造された二酸化ジルコニウムであるＹＮＤ−ＺＲ（永大化学株式会社製）を用いた。ＹＮＤ−ＺＲは、６．９ｍ2／ｇの比表面積（測定法：ＢＥＴ法）と、０．００８質量％の二酸化ケイ素含量（測定法：蛍光Ｘ線分析法）と、０．６μｍの平均粒径（測定法：島津製作所製のSALD2000Jを用いたレーザー回折散乱法）とを有していた。
（ｂ）成分として、ベーマイト（サソール製ベーマイト（ＣＡアルミナ））と硝酸とを反応させて得た硝酸ベーマイトゾル（アルミナゾル）を用いた。
更に（ｂ）成分として、ジルコニアゾル（ＺＳＬ−１０Ａ（第一稀元素化学工業株式会社））を用いた。このジルコニアゾルは、結晶性ゾル（平均粒子径：７０〜９０ｎｍ。マイクロトラック社製ＵＰＡを用いた動的光散乱法（レーザードプラー式動的光散乱法）により測定）であった。
（ｃ）成分（水）として、イオン交換水を用いた。
（ｄ）成分（分散剤）として、ポリカルボン酸塩であるポリアクリル酸アンモニウム（東亜合成）を用いた。
（ａ）成分を（ｃ）成分中で混合し、角もぎ用攪拌機（装置名：ホモミキサー）を用いて処理（撹拌条件：1200rpm）して混合し、得られた混合物へ、別に高剪断攪拌機（同ホモミキサー）で調製した（ｂ）成分（硝酸ベーマイトゾル）ともう１つの（ｂ）成分と（ｄ）成分を更に添加し、混合攪拌(装置名：スリーワンモーター)してガラス用研磨剤組成物を得た。得られた研磨剤組成物のｐＨは８．６であった。
実施例３のガラス用研磨剤組成物の組成は以下の通りであった。
実施例３のガラス用研磨剤組成物の組成は以下の通りであった。
実施例４
（ａ）成分（二酸化ジルコニウムの粒子）として、湿式処理により製造された二酸化ジルコニウムであるＹＮＤ−ＺＲ（永大化学株式会社製）を用いた。ＹＮＤ−ＺＲは、５．１ｍ2／ｇの比表面積（測定法：ＢＥＴ法）と、０．００８質量％の二酸化ケイ素含量（測定法：蛍光Ｘ線分析法）と、１．２μｍの平均粒径（測定法：島津製作所製のSALD2000Jを用いたレーザー回折散乱法）とを有していた。
（ｂ）成分として、ベーマイト（サソール製ベーマイト（ＣＡアルミナ））と硝酸とを反応させて得た硝酸ベーマイトゾルを用いた。
更に（ｂ）成分として、ジルコニアゾル（ＺＳＬ−１０Ａ（第一稀元素化学工業株式会社））を用いた。このジルコニアゾルは、結晶性ゾル（平均粒子径：７０〜９０ｎｍ。動的光散乱法により測定）であった。
（ｃ）成分（水）として、蒸留水を用いた。
（ｄ）成分（分散剤）として、ポリカルボン酸塩であるポリアクリル酸アンモニウム（東亜合成）を用いた。
（ａ）成分（二酸化ジルコニウムの粒子）として、湿式処理により製造された二酸化ジルコニウムであるＹＮＤ−ＺＲ（永大化学株式会社製）を用いた。ＹＮＤ−ＺＲは、５．１ｍ2／ｇの比表面積（測定法：ＢＥＴ法）と、０．００８質量％の二酸化ケイ素含量（測定法：蛍光Ｘ線分析法）と、１．２μｍの平均粒径（測定法：島津製作所製のSALD2000Jを用いたレーザー回折散乱法）とを有していた。
（ｂ）成分として、ベーマイト（サソール製ベーマイト（ＣＡアルミナ））と硝酸とを反応させて得た硝酸ベーマイトゾルを用いた。
更に（ｂ）成分として、ジルコニアゾル（ＺＳＬ−１０Ａ（第一稀元素化学工業株式会社））を用いた。このジルコニアゾルは、結晶性ゾル（平均粒子径：７０〜９０ｎｍ。動的光散乱法により測定）であった。
（ｃ）成分（水）として、蒸留水を用いた。
（ｄ）成分（分散剤）として、ポリカルボン酸塩であるポリアクリル酸アンモニウム（東亜合成）を用いた。
（ａ）成分を（ｃ）成分中で混合し、角もぎ用攪拌機（装置名：ホモミキサー）を用いて処理（撹拌条件：1200rpm）して混合し、得られた混合物へ、別に高剪断攪拌機（同ホモミキサー）で調製した（ｂ）成分（硝酸ベーマイトゾル）ともう１つの（ｂ）成分及び（ｄ）成分を更に添加し、混合攪拌(装置名：スリーワンモーター)してガラス用研磨剤組成物を得た。得られた研磨剤組成物のｐＨは８．５であった。
実施例４のガラス用研磨剤組成物の組成は以下の通りであった。
実施例４のガラス用研磨剤組成物の組成は以下の通りであった。
実施例５
（ａ）成分（二酸化ジルコニウムの粒子）として、バデライト系二酸化ジルコニウム原材料ＺＢ３５０（美濃顔料化学株式会社製）を湿式処理して得た湿式ジルコニアであるＺＢ４８０（美濃顔料化学株式会社製）を用いた。ＺＢ４８０は、１２．７ｍ2／ｇの比表面積（測定法：ＢＥＴ法）と、０．３４０質量％の二酸化ケイ素含量（測定法：蛍光Ｘ線分析法）と、０．６μｍの平均粒径（測定法：島津製作所製のSALD200Jを用いたレーザー回折散乱法）とを有していた。
（ｂ）成分として、特開２００２−２０７３２号公報に記載の方法に従い、硫酸アルミニウムとアンモニアとを反応させて得た非晶質の水酸化アルミニウムのゾル（アルミナゾル）を用いた。
（ｃ）成分（水）としてイオン交換水を用いた。
（ａ）成分（二酸化ジルコニウムの粒子）として、バデライト系二酸化ジルコニウム原材料ＺＢ３５０（美濃顔料化学株式会社製）を湿式処理して得た湿式ジルコニアであるＺＢ４８０（美濃顔料化学株式会社製）を用いた。ＺＢ４８０は、１２．７ｍ2／ｇの比表面積（測定法：ＢＥＴ法）と、０．３４０質量％の二酸化ケイ素含量（測定法：蛍光Ｘ線分析法）と、０．６μｍの平均粒径（測定法：島津製作所製のSALD200Jを用いたレーザー回折散乱法）とを有していた。
（ｂ）成分として、特開２００２−２０７３２号公報に記載の方法に従い、硫酸アルミニウムとアンモニアとを反応させて得た非晶質の水酸化アルミニウムのゾル（アルミナゾル）を用いた。
（ｃ）成分（水）としてイオン交換水を用いた。
（ａ）成分を（ｃ）成分中で混合し、角もぎ用攪拌機（装置名：ホモミキサー）を用いて処理（撹拌条件：1200rpm）して混合し、得られた混合物へ、別に高剪断攪拌機（同ホモミキサー）で調製した（ｂ）成分を更に添加し、混合攪拌(装置名：スリーワンモーター)してガラス用研磨剤組成物を得た。得られた研磨剤組成物のｐＨは３．７であった。
実施例５のガラス用研磨剤組成物の組成は以下の通りであった。
実施例５のガラス用研磨剤組成物の組成は以下の通りであった。
実施例６
（ａ）成分（二酸化ジルコニウムの粒子）として、湿式処理により製造された二酸化ジルコニウムであるＹＮＤ−ＺＲ（永大化学株式会社製）を用いた。ＹＮＤ−ＺＲは、５．１ｍ2／ｇの比表面積（測定法：ＢＥＴ法）と、０．００９質量％の二酸化ケイ素含量（測定法：蛍光Ｘ線分析法）と、１．２μｍの平均粒径（測定法：島津製作所製のSALD2000Jを用いたレーザー回折散乱法）とを有していた。
（ｂ）成分として、特開２００２−２０７３２号公報に記載の方法に従い、硫酸アルミニウムとアンモニアとを反応させて得た非晶質の水酸化アルミニウムのゾル（アルミナゾル）を用いた。
更に（ｂ）成分として、ジルコニアゾルＺＳＬ−２０Ｎ（第一稀元素化学工業株式会社）を用いた。このジルコニアゾルは、結晶性ゾル（平均粒子径：６０〜８０ｎｍ。動的光散乱法により測定）であった。
（ｃ）成分（水）として蒸留水を用いた。
（ａ）成分（二酸化ジルコニウムの粒子）として、湿式処理により製造された二酸化ジルコニウムであるＹＮＤ−ＺＲ（永大化学株式会社製）を用いた。ＹＮＤ−ＺＲは、５．１ｍ2／ｇの比表面積（測定法：ＢＥＴ法）と、０．００９質量％の二酸化ケイ素含量（測定法：蛍光Ｘ線分析法）と、１．２μｍの平均粒径（測定法：島津製作所製のSALD2000Jを用いたレーザー回折散乱法）とを有していた。
（ｂ）成分として、特開２００２−２０７３２号公報に記載の方法に従い、硫酸アルミニウムとアンモニアとを反応させて得た非晶質の水酸化アルミニウムのゾル（アルミナゾル）を用いた。
更に（ｂ）成分として、ジルコニアゾルＺＳＬ−２０Ｎ（第一稀元素化学工業株式会社）を用いた。このジルコニアゾルは、結晶性ゾル（平均粒子径：６０〜８０ｎｍ。動的光散乱法により測定）であった。
（ｃ）成分（水）として蒸留水を用いた。
（ａ）成分を（ｃ）成分中で混合し、角もぎ用攪拌機（装置名：ホモミキサー）を用いて処理（撹拌条件：1200rpm）して混合し、得られた混合物へ、別に高剪断攪拌機（同ホモミキサー）で調製した（ｂ）成分（アルミナゾル）ともう１つの（ｂ）成分を更に添加し、混合攪拌(装置名：スリーワンモーター)してガラス用研磨剤組成物を得た。得られた研磨剤組成物のｐＨは８．５であった。
実施例６のガラス用研磨剤組成物の組成は以下の通りであった。
実施例６のガラス用研磨剤組成物の組成は以下の通りであった。
実施例７
（ａ）成分（二酸化ジルコニウムの粒子）として、湿式処理により製造された二酸化ジルコニウムであるＹＮＤ−ＺＲ（永大化学株式会社製）を用いた。ＹＮＤ−ＺＲは、６．９ｍ2／ｇの比表面積（測定法：ＢＥＴ法）と、０．００８質量％の二酸化ケイ素含量（測定法：蛍光Ｘ線分析法）と、０．６μｍの平均粒径（測定法：島津製作所製のSALD2000Jを用いたレーザー回折散乱法）とを有していた。
（ｂ）成分として、ベーマイト（サソール製ベーマイト（ＣＡアルミナ））と硝酸とを反応させて得た硝酸ベーマイトゾルを用いた。
更に（ｂ）成分として、ジルコニアゾル（ＺＳＬ−１０Ａ（第一稀元素化学工業株式会社））を用いた。このジルコニアゾルは、結晶性ゾル（平均粒子径：７０〜９０ｎｍ。動的光散乱法により測定）であった。
（ｃ）成分（水）として、蒸留水を用いた。
（ｄ）成分（分散剤）として、ヘキサメタリン酸塩であるヘキサメタリン酸ナトリウム（米山化学）を用いた。
（ｅ）成分（研磨補助材）として、ヒュームドシリカ・アエロジル５０（日本アエロジル）を用いた。アエロジルの凝結状態における平均粒径は０．１８μｍ（測定法：マイクロトラック社製ＵＰＡを用いた動的光散乱法（レーザードプラー式動的光散乱法））であり、比表面積は50ｍ2／ｇ（測定法：ＢＥＴ法）であった。
（ａ）成分（二酸化ジルコニウムの粒子）として、湿式処理により製造された二酸化ジルコニウムであるＹＮＤ−ＺＲ（永大化学株式会社製）を用いた。ＹＮＤ−ＺＲは、６．９ｍ2／ｇの比表面積（測定法：ＢＥＴ法）と、０．００８質量％の二酸化ケイ素含量（測定法：蛍光Ｘ線分析法）と、０．６μｍの平均粒径（測定法：島津製作所製のSALD2000Jを用いたレーザー回折散乱法）とを有していた。
（ｂ）成分として、ベーマイト（サソール製ベーマイト（ＣＡアルミナ））と硝酸とを反応させて得た硝酸ベーマイトゾルを用いた。
更に（ｂ）成分として、ジルコニアゾル（ＺＳＬ−１０Ａ（第一稀元素化学工業株式会社））を用いた。このジルコニアゾルは、結晶性ゾル（平均粒子径：７０〜９０ｎｍ。動的光散乱法により測定）であった。
（ｃ）成分（水）として、蒸留水を用いた。
（ｄ）成分（分散剤）として、ヘキサメタリン酸塩であるヘキサメタリン酸ナトリウム（米山化学）を用いた。
（ｅ）成分（研磨補助材）として、ヒュームドシリカ・アエロジル５０（日本アエロジル）を用いた。アエロジルの凝結状態における平均粒径は０．１８μｍ（測定法：マイクロトラック社製ＵＰＡを用いた動的光散乱法（レーザードプラー式動的光散乱法））であり、比表面積は50ｍ2／ｇ（測定法：ＢＥＴ法）であった。
（ａ）成分及び（ｅ）成分を（ｃ）成分中で混合し、角もぎ用攪拌機（装置名：ホモミキサー）を用いて処理（撹拌条件：1200rpm）して混合し、得られた混合物へ、別に高剪断攪拌機（同ホモミキサー）で調製した（ｂ）成分（硝酸ベーマイトゾル）ともう１つの（ｂ）成分及び（ｄ）成分を更に添加し、混合攪拌(装置名：スリーワンモーター)してガラス用研磨剤組成物を得た。得られた研磨剤組成物のｐＨは８．４であった。
実施例７のガラス用研磨剤組成物の組成は以下の通りであった。
実施例７のガラス用研磨剤組成物の組成は以下の通りであった。
実施例８
（ａ）成分（二酸化ジルコニウムの粒子）として、バデライト系二酸化ジルコニウム原材料ＺＢ３５０（美濃顔料化学株式会社製）を湿式処理して得た湿式ジルコニアであるＺＢ４８０（美濃顔料化学株式会社製）を用いた。ＺＢ４８０は、１２．７ｍ2／ｇの比表面積（測定法：ＢＥＴ法）と、０．３６０質量％の二酸化ケイ素含量（測定法：蛍光Ｘ線分析法）と、０．６μｍの平均粒径（測定法：島津製作所製のSALD2000Jを用いたレーザー回折散乱法）とを有していた。
（ｂ）成分として、特開２００２−２０７３２号公報に記載の方法に従い、硫酸アルミニウムとアンモニアとを反応させて得た非晶質の水酸化アルミニウムのゾル（アルミナゾル）を用いた。
（ｃ）成分（水）として、イオン交換水を用いた。
（ｄ）成分（分散剤）として、ヘキサメタリン酸塩であるヘキサメタリン酸ナトリウム（米山化学）を用いた。
（ｅ）成分（研磨補助材）として、二酸化マンガン（ＭｎＯ2）を用いた。二酸化マンガンの平均粒径は１．２μm（測定法：レーザー回折散乱法）であった。
（ａ）成分（二酸化ジルコニウムの粒子）として、バデライト系二酸化ジルコニウム原材料ＺＢ３５０（美濃顔料化学株式会社製）を湿式処理して得た湿式ジルコニアであるＺＢ４８０（美濃顔料化学株式会社製）を用いた。ＺＢ４８０は、１２．７ｍ2／ｇの比表面積（測定法：ＢＥＴ法）と、０．３６０質量％の二酸化ケイ素含量（測定法：蛍光Ｘ線分析法）と、０．６μｍの平均粒径（測定法：島津製作所製のSALD2000Jを用いたレーザー回折散乱法）とを有していた。
（ｂ）成分として、特開２００２−２０７３２号公報に記載の方法に従い、硫酸アルミニウムとアンモニアとを反応させて得た非晶質の水酸化アルミニウムのゾル（アルミナゾル）を用いた。
（ｃ）成分（水）として、イオン交換水を用いた。
（ｄ）成分（分散剤）として、ヘキサメタリン酸塩であるヘキサメタリン酸ナトリウム（米山化学）を用いた。
（ｅ）成分（研磨補助材）として、二酸化マンガン（ＭｎＯ2）を用いた。二酸化マンガンの平均粒径は１．２μm（測定法：レーザー回折散乱法）であった。
（ａ）成分及び（ｅ）成分を（ｃ）成分中で混合し、角もぎ用攪拌機（装置名：ホモミキサー）を用いて処理（撹拌条件：1200rpm）して混合し、得られた混合物へ、別に高剪断攪拌機（同ホモミキサー）で調製した（ｂ）成分及び（ｄ）成分を更に添加し、混合攪拌(スリーワンモーター)してガラス用研磨剤組成物を得た。得られた研磨剤組成物のｐＨは６．０であった。
実施例８のガラス用研磨剤組成物の組成は以下の通りであった。
実施例８のガラス用研磨剤組成物の組成は以下の通りであった。
実施例９
（ａ）成分（二酸化ジルコニウムの粒子）として、湿式処理により製造された二酸化ジルコニウムであるＹＮＤ−ＺＲ（永大化学株式会社製）を用いた。ＹＮＤ−ＺＲは、６．９ｍ2／ｇの比表面積（測定法：ＢＥＴ法）と、０．００９質量％の二酸化ケイ素含量（測定法：蛍光Ｘ線分析法）と、０．６μｍの平均粒径（測定法：島津製作所製のSALD2000Jを用いたレーザー回折散乱法）とを有していた。
（ｂ）成分として、ベーマイト（サソール製ベーマイト（ＣＡアルミナ））と硝酸とを反応させて得た硝酸ベーマイトゾルを用いた。
更に（ｂ）成分として、ジルコニアゾル（ＺＳＬ−１０Ａ（第一稀元素化学工業株式会社））を用いた。このジルコニアゾルは、結晶性ゾル（平均粒子径：７０〜９０ｎｍ。動的光散乱法により測定）であった。
（ｃ）成分（水）として、蒸留水を用いた。
（ｄ）成分（分散剤）として、ヘキサメタリン酸塩であるヘキサメタリン酸ナトリウム（米山化学）を用いた。
（ｅ）成分（研磨補助材）として、酸化希土セリウム（昭和電工）を用いた。酸化セリウムの平均粒径は１．７μｍ（測定法：レーザー回折散乱法）であった。
（ａ）成分（二酸化ジルコニウムの粒子）として、湿式処理により製造された二酸化ジルコニウムであるＹＮＤ−ＺＲ（永大化学株式会社製）を用いた。ＹＮＤ−ＺＲは、６．９ｍ2／ｇの比表面積（測定法：ＢＥＴ法）と、０．００９質量％の二酸化ケイ素含量（測定法：蛍光Ｘ線分析法）と、０．６μｍの平均粒径（測定法：島津製作所製のSALD2000Jを用いたレーザー回折散乱法）とを有していた。
（ｂ）成分として、ベーマイト（サソール製ベーマイト（ＣＡアルミナ））と硝酸とを反応させて得た硝酸ベーマイトゾルを用いた。
更に（ｂ）成分として、ジルコニアゾル（ＺＳＬ−１０Ａ（第一稀元素化学工業株式会社））を用いた。このジルコニアゾルは、結晶性ゾル（平均粒子径：７０〜９０ｎｍ。動的光散乱法により測定）であった。
（ｃ）成分（水）として、蒸留水を用いた。
（ｄ）成分（分散剤）として、ヘキサメタリン酸塩であるヘキサメタリン酸ナトリウム（米山化学）を用いた。
（ｅ）成分（研磨補助材）として、酸化希土セリウム（昭和電工）を用いた。酸化セリウムの平均粒径は１．７μｍ（測定法：レーザー回折散乱法）であった。
（ａ）成分及び（ｅ）成分を（ｃ）成分中で混合し、角もぎ用攪拌機（装置名：ホモミキサー）を用いて処理（撹拌条件：1200rpm）して混合し、得られた混合物へ、別に高剪断攪拌機（同ホモミキサー）で調製した（ｂ）成分（硝酸ベーマイトゾル）と、もう１つの（ｂ）成分及び（ｄ）成分を更に添加後、混合攪拌(装置名：スリーワンモーター)してガラス用研磨剤組成物を得た。得られた研磨剤組成物のｐＨは８．８であった。
実施例９のガラス用研磨剤組成物の組成は以下の通りであった。
実施例９のガラス用研磨剤組成物の組成は以下の通りであった。
実施例１０
（ａ）成分（二酸化ジルコニウムの粒子）として、バデライト系二酸化ジルコニウム原材料ＺＢ３５０（美濃顔料化学株式会社製）を湿式処理して得た湿式ジルコニアであるＺＢ４８０（美濃顔料化学株式会社製）を用いた。ＺＢ４８０は、１２．７ｍ2／ｇの比表面積（測定法：ＢＥＴ法）と、０．３６０質量％の二酸化ケイ素含量（測定法：蛍光Ｘ線分析法）と、０．６μｍの平均粒径（測定法：島津製作所製のSALD2000Jを用いたレーザー回折散乱法）とを有していた。
（ｂ）成分として、特開２００２−２０７３２号公報に記載の方法に従い、硫酸アルミニウムとアンモニアとを反応させて得た非晶質の水酸化アルミニウムのゾル（アルミナゾル）を用いた。
（ｃ）成分（水）として、イオン交換水を用いた。
（ｄ）成分（分散剤）として、ヘキサメタリン酸塩であるヘキサメタリン酸ナトリウム（米山化学）を用いた。
（ｅ）成分（研磨補助材）として、酸化希土セリウム（昭和電工）を用いた。酸化セリウムの平均粒径は１．７μｍ（測定法：レーザー回折散乱法）であった。
（ａ）成分（二酸化ジルコニウムの粒子）として、バデライト系二酸化ジルコニウム原材料ＺＢ３５０（美濃顔料化学株式会社製）を湿式処理して得た湿式ジルコニアであるＺＢ４８０（美濃顔料化学株式会社製）を用いた。ＺＢ４８０は、１２．７ｍ2／ｇの比表面積（測定法：ＢＥＴ法）と、０．３６０質量％の二酸化ケイ素含量（測定法：蛍光Ｘ線分析法）と、０．６μｍの平均粒径（測定法：島津製作所製のSALD2000Jを用いたレーザー回折散乱法）とを有していた。
（ｂ）成分として、特開２００２−２０７３２号公報に記載の方法に従い、硫酸アルミニウムとアンモニアとを反応させて得た非晶質の水酸化アルミニウムのゾル（アルミナゾル）を用いた。
（ｃ）成分（水）として、イオン交換水を用いた。
（ｄ）成分（分散剤）として、ヘキサメタリン酸塩であるヘキサメタリン酸ナトリウム（米山化学）を用いた。
（ｅ）成分（研磨補助材）として、酸化希土セリウム（昭和電工）を用いた。酸化セリウムの平均粒径は１．７μｍ（測定法：レーザー回折散乱法）であった。
（ａ）成分及び（ｅ）成分を（ｃ）成分中で、角もぎ用攪拌機（装置名：ホモミキサー）を用いて処理（撹拌条件：1200rpm）して混合し、得られた混合物へ、別に高剪断攪拌機（同ホモミキサー）で調製した（ｂ）成分及び（ｄ）成分を更に添加し、更にｐＨ調節剤（２５％水酸化ナトリウム）を添加してｐＨを調節後、混合攪拌(装置名：スリーワンモーター)してガラス用研磨剤組成物を得た。得られた研磨剤組成物のｐＨは９．６であった。
実施例１０のガラス用研磨剤組成物の組成は以下の通りであった。
実施例１０のガラス用研磨剤組成物の組成は以下の通りであった。
実施例１１
（ａ）成分（二酸化ジルコニウムの粒子）として、バデライト系二酸化ジルコニウム原材料ＺＢ３５０（美濃顔料化学株式会社製）を湿式処理して得た湿式ジルコニアであるＺＢ４８０（美濃顔料化学株式会社製）を用いた。ＺＢ４８０は、９．６ｍ2／ｇの比表面積（測定法：ＢＥＴ法）と、０．３８０質量％の二酸化ケイ素含量（測定法：蛍光Ｘ線分析法）と、１．２μｍの平均粒径（測定法：島津製作所製のSALD2000Jを用いたレーザー回折散乱法）とを有していた。
（ｂ）成分として、特開２００２−２０７３２号公報に記載の方法に従い、硫酸アルミニウムとアンモニアとを反応させて得た非晶質の水酸化アルミニウムのゾル（アルミナゾル）を用いた。
（ｃ）成分（水）として、イオン交換水を用いた。
（ｄ）成分（分散剤）として、ヘキサメタリン酸塩であるヘキサメタリン酸ナトリウム（米山化学）を用いた。
（ｆ）成分（ラジカル発生剤）として、過硫酸アンモニウム（別名ペルオキソ硫酸アンモニウム）（試薬1級）を用いた。
（ａ）成分（二酸化ジルコニウムの粒子）として、バデライト系二酸化ジルコニウム原材料ＺＢ３５０（美濃顔料化学株式会社製）を湿式処理して得た湿式ジルコニアであるＺＢ４８０（美濃顔料化学株式会社製）を用いた。ＺＢ４８０は、９．６ｍ2／ｇの比表面積（測定法：ＢＥＴ法）と、０．３８０質量％の二酸化ケイ素含量（測定法：蛍光Ｘ線分析法）と、１．２μｍの平均粒径（測定法：島津製作所製のSALD2000Jを用いたレーザー回折散乱法）とを有していた。
（ｂ）成分として、特開２００２−２０７３２号公報に記載の方法に従い、硫酸アルミニウムとアンモニアとを反応させて得た非晶質の水酸化アルミニウムのゾル（アルミナゾル）を用いた。
（ｃ）成分（水）として、イオン交換水を用いた。
（ｄ）成分（分散剤）として、ヘキサメタリン酸塩であるヘキサメタリン酸ナトリウム（米山化学）を用いた。
（ｆ）成分（ラジカル発生剤）として、過硫酸アンモニウム（別名ペルオキソ硫酸アンモニウム）（試薬1級）を用いた。
（ａ）成分を（ｃ）成分中で角もぎ用攪拌機（装置名：ホモミキサー）を用いて処理（撹拌条件：1200rpm）して混合し、得られた混合物へ、別に高剪断攪拌機（同ホモミキサー）で調製した（ｂ）成分、（ｄ）成分及び（ｆ）成分を更に添加し、混合攪拌(装置名：スリーワンモーター)してガラス用研磨剤組成物を得た。得られた研磨剤組成物のｐＨは４．１であった。
実施例１１のガラス用研磨剤組成物の組成は以下の通りであった。
実施例１１のガラス用研磨剤組成物の組成は以下の通りであった。
実施例１２
（ａ）成分（二酸化ジルコニウムの粒子）として、湿式処理により製造された二酸化ジルコニウムであるＹＮＤ−ＺＲ（永大化学株式会社製）を用いた。ＹＮＤ−ＺＲは、５．１ｍ2／ｇの比表面積（測定法：ＢＥＴ法）と、０．００８質量％の二酸化ケイ素含量（測定法：蛍光Ｘ線分析法）と、０．６μｍの平均粒径（測定法：島津製作所製のSALD2000Jを用いたレーザー回折散乱法）とを有していた。
（ｂ）成分として、結晶セルロースをCMC-Naでゾル化した結晶セルロースゾルを用いた。
（ｃ）成分（水）として、イオン交換水を用いた。
（ｄ）成分（分散剤）として、ポリカルボン酸塩であるポリアクリル酸アンモニウム（東亜合成）を用いた。
（ａ）成分（二酸化ジルコニウムの粒子）として、湿式処理により製造された二酸化ジルコニウムであるＹＮＤ−ＺＲ（永大化学株式会社製）を用いた。ＹＮＤ−ＺＲは、５．１ｍ2／ｇの比表面積（測定法：ＢＥＴ法）と、０．００８質量％の二酸化ケイ素含量（測定法：蛍光Ｘ線分析法）と、０．６μｍの平均粒径（測定法：島津製作所製のSALD2000Jを用いたレーザー回折散乱法）とを有していた。
（ｂ）成分として、結晶セルロースをCMC-Naでゾル化した結晶セルロースゾルを用いた。
（ｃ）成分（水）として、イオン交換水を用いた。
（ｄ）成分（分散剤）として、ポリカルボン酸塩であるポリアクリル酸アンモニウム（東亜合成）を用いた。
（ａ）成分を（ｃ）成分中で混合し、角もぎ用攪拌機（装置名：ホモミキサー）を用いて処理（撹拌条件：1200rpm）して混合し、得られた混合物へ、別にあらかじめCMC-Naが含有されているゾル用結晶セルロース粉末と水を高剪断攪拌機（同ホモミキサー）で調製しゾル化して得られた（ｂ）成分及び（ｄ）成分を更に添加し、混合攪拌(装置名：スリーワンモーター)してガラス用研磨剤組成物を得た。得られた研磨剤組成物のｐＨは８．８であった。
実施例１２のガラス用研磨剤組成物の組成は以下の通りであった。
実施例１２のガラス用研磨剤組成物の組成は以下の通りであった。
実施例１３
（ａ）成分（二酸化ジルコニウムの粒子）として、バデライト系二酸化ジルコニウム原材料ＺＢ３５０（美濃顔料化学株式会社製）を湿式処理して得た湿式ジルコニアであるＺＢ４８０（美濃顔料化学株式会社製）を更に所定の粒度まで媒体攪拌ミルで処理した粉砕品を用いた。ＺＢ４８０の粉砕品は、１２．７ｍ2／ｇの比表面積（測定法：ＢＥＴ法）と、０．３６０質量％の二酸化ケイ素含量（測定法：蛍光Ｘ線分析法）と、０．６μｍの平均粒径（測定法：島津製作所製のSALD2000Jを用いたレーザー回折散乱法）とを有していた。
（ｂ）成分として、ジルコニアゾル（ＺＳＬ−２０Ｎ（第一稀元素化学工業株式会社））を用いた。このジルコニアゾルは、結晶性ゾル（平均粒径：６０〜８０ｎｍ。動的光散乱法により測定）であった。
（ｃ）成分（水）として、イオン交換水を用いた。
（ｄ）成分（分散剤）として、ヘキサメタリン酸塩であるヘキサメタリン酸ナトリウム（米山化学）を用いた。
（ａ）成分（二酸化ジルコニウムの粒子）として、バデライト系二酸化ジルコニウム原材料ＺＢ３５０（美濃顔料化学株式会社製）を湿式処理して得た湿式ジルコニアであるＺＢ４８０（美濃顔料化学株式会社製）を更に所定の粒度まで媒体攪拌ミルで処理した粉砕品を用いた。ＺＢ４８０の粉砕品は、１２．７ｍ2／ｇの比表面積（測定法：ＢＥＴ法）と、０．３６０質量％の二酸化ケイ素含量（測定法：蛍光Ｘ線分析法）と、０．６μｍの平均粒径（測定法：島津製作所製のSALD2000Jを用いたレーザー回折散乱法）とを有していた。
（ｂ）成分として、ジルコニアゾル（ＺＳＬ−２０Ｎ（第一稀元素化学工業株式会社））を用いた。このジルコニアゾルは、結晶性ゾル（平均粒径：６０〜８０ｎｍ。動的光散乱法により測定）であった。
（ｃ）成分（水）として、イオン交換水を用いた。
（ｄ）成分（分散剤）として、ヘキサメタリン酸塩であるヘキサメタリン酸ナトリウム（米山化学）を用いた。
（ａ）成分を（ｃ）成分中で混合し、角もぎ用攪拌機（装置名：ホモミキサー）を用いて処理（撹拌条件：1200rpm）して混合し、得られた混合物へ、別に高剪断攪拌機（同ホモミキサー）で調製した（ｂ）成分及び（ｄ）成分を更に添加し、混合攪拌(装置名：スリーワンモーター)して、ガラス用研磨剤組成物を得た。得られた研磨剤組成物のｐＨは５．４であった。
実施例１３のガラス用研磨剤組成物の組成は以下の通りであった。
実施例１３のガラス用研磨剤組成物の組成は以下の通りであった。
比較例１
（ａ）成分（二酸化ジルコニウムの粒子）として、バデライト系二酸化ジルコニウム原材料ＺＢ３５０（美濃顔料化学株式会社製）の焼成品（電気炉（１２００℃）での焼成）を所定の粒度までポットミルと媒体攪拌ミルで処理した粉砕品を用いた。ＺＢ３５０の焼成・粉砕品は、２．６ｍ2／ｇの比表面積（測定法：ＢＥＴ法）と、０．３５０質量％の二酸化ケイ素含量（測定法：蛍光Ｘ線分析法）と、１．２μｍの平均粒径（測定法：レーザー回折散乱法）とを有していた。
（ｂ）成分として、特開２００２−２０７３２号公報に記載の方法に従い、硫酸アルミニウムとアンモニアとを反応させて得た非晶質の水酸化アルミニウムのゾル（アルミナゾル）を用いた。
（ｃ）成分（水）として、イオン交換水を用いた。
（ａ）成分（二酸化ジルコニウムの粒子）として、バデライト系二酸化ジルコニウム原材料ＺＢ３５０（美濃顔料化学株式会社製）の焼成品（電気炉（１２００℃）での焼成）を所定の粒度までポットミルと媒体攪拌ミルで処理した粉砕品を用いた。ＺＢ３５０の焼成・粉砕品は、２．６ｍ2／ｇの比表面積（測定法：ＢＥＴ法）と、０．３５０質量％の二酸化ケイ素含量（測定法：蛍光Ｘ線分析法）と、１．２μｍの平均粒径（測定法：レーザー回折散乱法）とを有していた。
（ｂ）成分として、特開２００２−２０７３２号公報に記載の方法に従い、硫酸アルミニウムとアンモニアとを反応させて得た非晶質の水酸化アルミニウムのゾル（アルミナゾル）を用いた。
（ｃ）成分（水）として、イオン交換水を用いた。
（ａ）成分を（ｃ）成分中で角もぎ用攪拌機（装置名：ホモミキサー）を用いて処理（撹拌条件：1200rpm）して混合し、得られた混合物へ、別に高剪断攪拌機（同ホモミキサー）で調製した（ｂ）成分を添加し、混合攪拌(装置名：スリーワンモーター)してガラス用研磨剤組成物を得た。得られた研磨剤組成物のｐＨは９．０であった。
比較例１のガラス用研磨剤組成物の組成は以下の通りであった。
比較例１のガラス用研磨剤組成物の組成は以下の通りであった。
比較例２
（ａ）成分（二酸化ジルコニウムの粒子）として、乾式ジルコニアＣＣ−１０（永大化学製、非晶質、未安定化）を更に所定の粒度まで媒体攪拌ミルで処理した粉砕品を用いた。ＣＣ−１０粉砕品は、１．８ｍ2／ｇの比表面積（測定法：ＢＥＴ法）と、０．６００質量％の二酸化ケイ素含量（測定法：蛍光Ｘ線分析法）と、１．２μｍの平均粒径（測定法：レーザー回折散乱法）とを有していた。
（ｂ）成分として、特開２００２−２０７３２号公報に記載の方法に従い、硫酸アルミニウムとアンモニアとを反応させて得た非晶質の水酸化アルミニウムのゾル（アルミナゾル）を用いた。
（ｃ）成分（水）として、イオン交換水を用いた。
（ａ）成分（二酸化ジルコニウムの粒子）として、乾式ジルコニアＣＣ−１０（永大化学製、非晶質、未安定化）を更に所定の粒度まで媒体攪拌ミルで処理した粉砕品を用いた。ＣＣ−１０粉砕品は、１．８ｍ2／ｇの比表面積（測定法：ＢＥＴ法）と、０．６００質量％の二酸化ケイ素含量（測定法：蛍光Ｘ線分析法）と、１．２μｍの平均粒径（測定法：レーザー回折散乱法）とを有していた。
（ｂ）成分として、特開２００２−２０７３２号公報に記載の方法に従い、硫酸アルミニウムとアンモニアとを反応させて得た非晶質の水酸化アルミニウムのゾル（アルミナゾル）を用いた。
（ｃ）成分（水）として、イオン交換水を用いた。
（ａ）成分を（ｃ）成分中で角もぎ用攪拌機（装置名：ホモミキサー）を用いて処理（撹拌条件：1200rpm）して混合し、得られた混合物へ、別に高剪断攪拌機（同ホモミキサー）で調製した（ｂ）成分を添加し、混合攪拌(装置名：スリーワンモーター)してガラス用研磨剤組成物を得た。得られた研磨剤組成物のｐＨは９．５であった。
比較例２のガラス用研磨剤組成物の組成は以下の通りであった。
比較例２のガラス用研磨剤組成物の組成は以下の通りであった。
比較例３
（ａ）成分（二酸化ジルコニウムの粒子）として、バデライト系二酸化ジルコニウム原材料ＺＢ３５０（美濃顔料化学株式会社製）を湿式処理して得た湿式ジルコニアであるＺＢ４８０（美濃顔料化学株式会社製）を用いた。ＺＢ４８０は、１２．７ｍ2／ｇの比表面積（測定法：ＢＥＴ法）と、０．３８０質量％の二酸化ケイ素含量（測定法：蛍光Ｘ線分析法）と、０．６μｍの平均粒径（測定法：島津製作所製のSALD2000Jを用いたレーザー回折散乱法）とを有していた。
（ｃ）成分（水）として、イオン交換水を用いた。
（ａ）成分（二酸化ジルコニウムの粒子）として、バデライト系二酸化ジルコニウム原材料ＺＢ３５０（美濃顔料化学株式会社製）を湿式処理して得た湿式ジルコニアであるＺＢ４８０（美濃顔料化学株式会社製）を用いた。ＺＢ４８０は、１２．７ｍ2／ｇの比表面積（測定法：ＢＥＴ法）と、０．３８０質量％の二酸化ケイ素含量（測定法：蛍光Ｘ線分析法）と、０．６μｍの平均粒径（測定法：島津製作所製のSALD2000Jを用いたレーザー回折散乱法）とを有していた。
（ｃ）成分（水）として、イオン交換水を用いた。
（ａ）成分を（ｃ）成分中で角もぎ用攪拌機（装置名：ホモミキサー）を用いて処理（撹拌条件：1200rpm）して混合して、ガラス用研磨剤組成物を得た。得られた研磨剤組成物のｐＨは３．３であった。
比較例３のガラス用研磨剤組成物の組成は以下の通りであった。
比較例３のガラス用研磨剤組成物の組成は以下の通りであった。
比較例４
（ａ）成分（二酸化ジルコニウムの粒子）として、湿式処理により製造された二酸化ジルコニウムであるＹＮＤ−ＺＲ（永大化学株式会社製）を用いた。ＹＮＤ−ＺＲは、６．９ｍ2／ｇの比表面積（測定法：ＢＥＴ法）と、０．００９質量％の二酸化ケイ素含量（測定法：蛍光Ｘ線分析法）と、０．６μｍの平均粒径（測定法：島津製作所製のSALD2000Jを用いたレーザー回折散乱法）とを有していた。
（ｃ）成分（水）として、イオン交換水を用いた。
（ａ）成分（二酸化ジルコニウムの粒子）として、湿式処理により製造された二酸化ジルコニウムであるＹＮＤ−ＺＲ（永大化学株式会社製）を用いた。ＹＮＤ−ＺＲは、６．９ｍ2／ｇの比表面積（測定法：ＢＥＴ法）と、０．００９質量％の二酸化ケイ素含量（測定法：蛍光Ｘ線分析法）と、０．６μｍの平均粒径（測定法：島津製作所製のSALD2000Jを用いたレーザー回折散乱法）とを有していた。
（ｃ）成分（水）として、イオン交換水を用いた。
（ａ）成分を（ｃ）成分中で角もぎ用攪拌機（装置名：ホモミキサー）を用いて処理（撹拌条件：1200rpm）して混合して、ガラス用研磨剤組成物を得た。得られた研磨剤組成物のｐＨは９．５であった。
比較例４のガラス用研磨剤組成物の組成は以下の通りであった。
比較例４のガラス用研磨剤組成物の組成は以下の通りであった。
比較例５
（ａ）成分（二酸化ジルコニウムの粒子）として、乾式ジルコニアＣＣ−１０（永大化学製、非晶質、未安定化）を更に所定の粒度まで媒体攪拌ミルで処理した粉砕品を用いた。ＣＣ−１０粉砕品は、１．８ｍ2／ｇの比表面積（測定法：ＢＥＴ法）と、０．６００質量％の二酸化ケイ素含量（測定法：蛍光Ｘ線分析法）と、１．２μｍの平均粒径（測定法：レーザー回折散乱法）とを有していた。
（ｃ）成分（水）として、イオン交換水を用いた。
（ａ）成分（二酸化ジルコニウムの粒子）として、乾式ジルコニアＣＣ−１０（永大化学製、非晶質、未安定化）を更に所定の粒度まで媒体攪拌ミルで処理した粉砕品を用いた。ＣＣ−１０粉砕品は、１．８ｍ2／ｇの比表面積（測定法：ＢＥＴ法）と、０．６００質量％の二酸化ケイ素含量（測定法：蛍光Ｘ線分析法）と、１．２μｍの平均粒径（測定法：レーザー回折散乱法）とを有していた。
（ｃ）成分（水）として、イオン交換水を用いた。
（ａ）成分を（ｃ）成分中で角もぎ用攪拌機（装置名：ホモミキサー）を用いて処理（撹拌条件：1200rpm）して混合して、ガラス用研磨剤組成物を得た。得られた研磨剤組成物のｐＨは９．５であった。
比較例５のガラス用研磨剤組成物の組成は以下の通りであった。
比較例５のガラス用研磨剤組成物の組成は以下の通りであった。
得られたガラス用研磨剤組成物を下記の研磨条件で用いてガラス基板を研磨した。
研磨条件
研磨機：スピ−ドファム製6Ｂ両面研磨機
研磨パッド：セリア含浸タイプ
定盤回転数：下45rpm、上15rpm
荷重：150g/cm2
研磨時間：30min
研磨液供給量：30ml/min循環
研磨ワーク：φ2.5in磁気ディスク用ガラス基板（強化ガラス）×3Ｐ
研磨条件
研磨機：スピ−ドファム製6Ｂ両面研磨機
研磨パッド：セリア含浸タイプ
定盤回転数：下45rpm、上15rpm
荷重：150g/cm2
研磨時間：30min
研磨液供給量：30ml/min循環
研磨ワーク：φ2.5in磁気ディスク用ガラス基板（強化ガラス）×3Ｐ
ガラス用研磨剤組成物の研磨性能の評価
ガラス基板を研磨し、洗浄し、乾燥した後、下記の評価を行った。
ガラス基板を研磨し、洗浄し、乾燥した後、下記の評価を行った。
ガラス基板の研磨速度
研磨速度を下記の計算式に基づいて算出した。
研磨速度[μm/Hr]＝（ガラス基板の研磨前重量−同研磨後重量）[g]÷ガラス基板の研磨面積[31.65cm2]÷ガラス基板の密度[2.46g/cm3]÷研磨時間[15min]×10000×60
研磨速度の評価は、酸化セリウム10質量％液を上記の研磨条件で用いて得られた研磨速度（0.605μm/Hr）を基準（100％）とする相対評価であった。
評価点
５点：対照の８５％以上
４点：対照の８０％以上〜８５％未満
３点：対照の７０％以上〜８０％未満
２点：対照の６０％以上〜７０％未満
１点：対照の６０％未満
４点以上を、研磨速度が優れていると判断した。
研磨速度を下記の計算式に基づいて算出した。
研磨速度[μm/Hr]＝（ガラス基板の研磨前重量−同研磨後重量）[g]÷ガラス基板の研磨面積[31.65cm2]÷ガラス基板の密度[2.46g/cm3]÷研磨時間[15min]×10000×60
研磨速度の評価は、酸化セリウム10質量％液を上記の研磨条件で用いて得られた研磨速度（0.605μm/Hr）を基準（100％）とする相対評価であった。
評価点
５点：対照の８５％以上
４点：対照の８０％以上〜８５％未満
３点：対照の７０％以上〜８０％未満
２点：対照の６０％以上〜７０％未満
１点：対照の６０％未満
４点以上を、研磨速度が優れていると判断した。
ガラス基板の平滑性
原子間力顕微鏡ＡＦＭ（SIIテクノロジー製SPA-500型）を用いてのガラス基板の表面粗度Raを指標として、平滑性を測定した。測定条件は、非接触モード、スキャンレート：1.0Hz、及び、視野：１０μmであった。平滑性の評価は、下記の基準に従って行った。
評価点
５点：Ra値が2.5Å未満
４点：Ra値が2.5Å以上〜3.Å未満
３点：Ra値が3.0Å以上〜4.0Å未満
２点：Ra値が4.0Å以上〜5.0Å未満
１点：Ra値が5.0Å以上
４点以上を、平滑性が優れていると判断した。
原子間力顕微鏡ＡＦＭ（SIIテクノロジー製SPA-500型）を用いてのガラス基板の表面粗度Raを指標として、平滑性を測定した。測定条件は、非接触モード、スキャンレート：1.0Hz、及び、視野：１０μmであった。平滑性の評価は、下記の基準に従って行った。
評価点
５点：Ra値が2.5Å未満
４点：Ra値が2.5Å以上〜3.Å未満
３点：Ra値が3.0Å以上〜4.0Å未満
２点：Ra値が4.0Å以上〜5.0Å未満
１点：Ra値が5.0Å以上
４点以上を、平滑性が優れていると判断した。
ガラス基板の平坦性（研磨面のウネリ）
Ｚｙｇｏ製ＮｅｗＶｉｅｗ２０００Ｗを用いて、ガラス基板の平坦度（Wa）をカットオフ値0.08〜0.45Åで測定した。平坦性の評価は、下記の基準に従って行った。
評価点
５点：Wa値が1.5Å未満
４点：Wa値が1.5Å以上〜1.7Å未満
３点：Wa値が1.7Å以上〜1.9Å未満
２点：Wa値が1.9Å以上〜2.0Å未満
１点：Wa値が2.0Å以上
４点以上を、平坦性が優れていると判断した。
Ｚｙｇｏ製ＮｅｗＶｉｅｗ２０００Ｗを用いて、ガラス基板の平坦度（Wa）をカットオフ値0.08〜0.45Åで測定した。平坦性の評価は、下記の基準に従って行った。
評価点
５点：Wa値が1.5Å未満
４点：Wa値が1.5Å以上〜1.7Å未満
３点：Wa値が1.7Å以上〜1.9Å未満
２点：Wa値が1.9Å以上〜2.0Å未満
１点：Wa値が2.0Å以上
４点以上を、平坦性が優れていると判断した。
ガラス基板表面における付着物及びスクラッチ
付着物の数は、田中機販製MICRO-MAX4100の輝点の数として評価した。
スクラッチの数は、光学微分干渉顕微鏡（ニコン製）を用い、倍率×２００倍で調査した。
付着物の評価点
５点：付着物数が5以下
４点：付着物数が６〜10
３点：付着物数が11〜15
２点：付着物数が15〜20
１点：付着物数が20以上
スクラッチの評価点
５点：スクラッチ数が１以下
４点：スクラッチ数が２〜３
３点：スクラッチ数が４〜５
２点：スクラッチ数が６〜９
１点：スクラッチ数が１０以上
付着物の数は、田中機販製MICRO-MAX4100の輝点の数として評価した。
スクラッチの数は、光学微分干渉顕微鏡（ニコン製）を用い、倍率×２００倍で調査した。
付着物の評価点
５点：付着物数が5以下
４点：付着物数が６〜10
３点：付着物数が11〜15
２点：付着物数が15〜20
１点：付着物数が20以上
スクラッチの評価点
５点：スクラッチ数が１以下
４点：スクラッチ数が２〜３
３点：スクラッチ数が４〜５
２点：スクラッチ数が６〜９
１点：スクラッチ数が１０以上
ガラス用研磨剤組成物の分散性
各研磨組成物を100ｍＬ比色管に入れて２時間、1昼夜（24時間）、２昼夜（48時間）静置した後、その性状を下記の基準に従い目視評価した。
評価基準
○：２昼夜静置後でも底面に沈降物はあるものの、上層表面まで濁って透明層がない
△：１昼夜経過すると底面に沈降し、沈降層上面は透明部分と濁った不透明部分に分かれる。
×：静置後２時間以内に底面に沈降し、沈降層上面はすべて透明になる。
○又は△を、分散性が優れていると判断した。
各研磨組成物を100ｍＬ比色管に入れて２時間、1昼夜（24時間）、２昼夜（48時間）静置した後、その性状を下記の基準に従い目視評価した。
評価基準
○：２昼夜静置後でも底面に沈降物はあるものの、上層表面まで濁って透明層がない
△：１昼夜経過すると底面に沈降し、沈降層上面は透明部分と濁った不透明部分に分かれる。
×：静置後２時間以内に底面に沈降し、沈降層上面はすべて透明になる。
○又は△を、分散性が優れていると判断した。
ガラス用研磨剤組成物の再分散性
各研磨剤組成物を２００ｍＬの蓋付沈降管に入れ、管底部に沈降物が生じるまで静置した。沈降物が生じている管を、上下逆さまに１０回転倒を繰り返した後に、管底部における沈降物の有無を目視評価した。評価した各研磨剤組成物を１週間静置した後、同様の目視評価手順を行った。
評価基準
○：静置直後及び１週間静置後のいずれでも沈降物がみられなかった。
×：静置直後又は１週間静置後のいずれかにおいて沈降物がみられた。
○を、再分散性が優れていると判断した。
各研磨剤組成物を２００ｍＬの蓋付沈降管に入れ、管底部に沈降物が生じるまで静置した。沈降物が生じている管を、上下逆さまに１０回転倒を繰り返した後に、管底部における沈降物の有無を目視評価した。評価した各研磨剤組成物を１週間静置した後、同様の目視評価手順を行った。
評価基準
○：静置直後及び１週間静置後のいずれでも沈降物がみられなかった。
×：静置直後又は１週間静置後のいずれかにおいて沈降物がみられた。
○を、再分散性が優れていると判断した。
各研磨剤組成物の評価結果を以下に示す。表中の数値は評価点である。
本発明のガラス用研磨剤組成物は、研磨剤や研磨屑のガラス基板への付着やスクラッチが少なく、かつ、高い研磨速度で、平滑性及び平坦性に優れたガラス基板を提供することができる。したがって、本発明はガラス用研磨剤組成物として利用することができる。
Claims (12)
- （ａ）比表面積が３．０〜１４．０ｍ2／ｇであり、かつ、二酸化ケイ素含量が０．００５〜０．４５０質量％である二酸化ジルコニウムの粒子、
（ｂ）アルミナゾル、ジルコニアゾル、チタニアゾル、酸化錫ゾル、酸化セリウムゾル及び結晶セルロースゾルからなる群より選ばれる少なくとも１種の物質、及び
（ｃ）水
を含むことを特徴とする、ガラス用研磨剤組成物。 - 更に、（ｄ）ポリカルボン酸塩及びその重合体、ナフタレンスルフォン酸塩及びその縮合体、ヘキサメタリン酸塩、ピロリン酸塩、トリポリリン酸塩、酸性メタリン酸塩、酸性ピロリン酸塩、第二リン酸塩並びに結晶セルロースからなる群より選ばれる少なくとも１種の分散剤を含む、請求項１に記載のガラス用研磨剤組成物。
- （ｄ）が、ポリカルボン酸塩及びヘキサメタリン酸塩からなる群より選ばれる少なくとも１種である、請求項２に記載のガラス用研磨剤組成物。
- 更に、（ｅ）研磨補助材を含む、請求項１〜３のいずれか１項に記載のガラス用研磨剤組成物。
- （ｅ）が、酸化セリウムである、請求項４に記載のガラス用研磨剤組成物。
- ガラス用研磨剤組成物のｐＨが３〜１０である、請求項１〜４のいずれか１項に記載のガラス用研磨剤組成物。
- ガラス用研磨剤組成物のｐＨが４〜１０である、請求項６に記載のガラス用研磨剤組成物。
- 更に、（ｆ）ラジカル発生剤を含む、請求項１〜５のいずれか１項に記載のガラス用研磨剤組成物。
- ガラス用研磨剤組成物のｐＨが３〜７である、請求項８に記載のガラス用研磨剤組成物。
- 磁気ディスク用ガラスの研磨剤組成物である、請求項１〜９のいずれか１項に記載のガラス用研磨剤組成物。
- 二酸化ジルコニウムの粒子の平均粒径が０．４〜１．３μｍである、請求項１〜１０のいずれか１項に記載のガラス用研磨剤組成物。
- 請求項１〜１１のいずれか１項に記載の研磨剤組成物を用いてガラスを研磨する工程を含む、ガラスの研磨方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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