JP6021365B2 - インプリント装置、それを用いた物品の製造方法 - Google Patents

インプリント装置、それを用いた物品の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP6021365B2
JP6021365B2 JP2012054892A JP2012054892A JP6021365B2 JP 6021365 B2 JP6021365 B2 JP 6021365B2 JP 2012054892 A JP2012054892 A JP 2012054892A JP 2012054892 A JP2012054892 A JP 2012054892A JP 6021365 B2 JP6021365 B2 JP 6021365B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mold
light
substrate
imprint apparatus
resin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2012054892A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2013191628A (ja
JP2013191628A5 (https=
Inventor
山口 直樹
直樹 山口
藤本 正敬
正敬 藤本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP2012054892A priority Critical patent/JP6021365B2/ja
Priority to US13/789,834 priority patent/US20130234371A1/en
Publication of JP2013191628A publication Critical patent/JP2013191628A/ja
Publication of JP2013191628A5 publication Critical patent/JP2013191628A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6021365B2 publication Critical patent/JP6021365B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C59/00Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
    • B29C59/16Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by wave energy or particle radiation, e.g. infrared heating
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0002Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
JP2012054892A 2012-03-12 2012-03-12 インプリント装置、それを用いた物品の製造方法 Active JP6021365B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012054892A JP6021365B2 (ja) 2012-03-12 2012-03-12 インプリント装置、それを用いた物品の製造方法
US13/789,834 US20130234371A1 (en) 2012-03-12 2013-03-08 Imprint apparatus, and article manufacturing method using same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012054892A JP6021365B2 (ja) 2012-03-12 2012-03-12 インプリント装置、それを用いた物品の製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2013191628A JP2013191628A (ja) 2013-09-26
JP2013191628A5 JP2013191628A5 (https=) 2015-04-30
JP6021365B2 true JP6021365B2 (ja) 2016-11-09

Family

ID=49113387

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012054892A Active JP6021365B2 (ja) 2012-03-12 2012-03-12 インプリント装置、それを用いた物品の製造方法

Country Status (2)

Country Link
US (1) US20130234371A1 (https=)
JP (1) JP6021365B2 (https=)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20160257117A1 (en) * 2013-10-28 2016-09-08 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Encapsulating a Bonded Wire with Low Profile Encapsulation
JP6541328B2 (ja) * 2013-11-26 2019-07-10 キヤノン株式会社 検出装置、インプリント装置、および物品の製造方法
JP2019009146A (ja) * 2015-11-04 2019-01-17 綜研化学株式会社 微細構造体の製造方法
KR102426957B1 (ko) * 2017-10-17 2022-08-01 캐논 가부시끼가이샤 임프린트 장치, 및 물품의 제조 방법
US11281095B2 (en) 2018-12-05 2022-03-22 Canon Kabushiki Kaisha Frame curing template and system and method of using the frame curing template
US11747731B2 (en) 2020-11-20 2023-09-05 Canon Kabishiki Kaisha Curing a shaped film using multiple images of a spatial light modulator

Family Cites Families (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001350003A (ja) * 2000-06-09 2001-12-21 Nikon Corp 黒色反射防止膜およびそれを用いた光学装置。
JP2006267771A (ja) * 2005-03-25 2006-10-05 Dainippon Printing Co Ltd 露光装置
US8011916B2 (en) * 2005-09-06 2011-09-06 Canon Kabushiki Kaisha Mold, imprint apparatus, and process for producing structure
KR20080037702A (ko) * 2005-09-21 2008-04-30 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 계조를 갖는 포토마스크 및 그 제조 방법
JP5268239B2 (ja) * 2005-10-18 2013-08-21 キヤノン株式会社 パターン形成装置、パターン形成方法
US7517211B2 (en) * 2005-12-21 2009-04-14 Asml Netherlands B.V. Imprint lithography
JPWO2007094213A1 (ja) * 2006-02-14 2009-07-02 パイオニア株式会社 インプリント装置及びインプリント方法
JP5182470B2 (ja) * 2007-07-17 2013-04-17 大日本印刷株式会社 インプリントモールド
US20110215504A1 (en) * 2008-11-27 2011-09-08 Pioneer Corporation Transfer method and transfer apparatus
JP4892026B2 (ja) * 2009-03-19 2012-03-07 株式会社東芝 パターン形成方法
KR101274716B1 (ko) * 2009-12-23 2013-06-12 엘지디스플레이 주식회사 평판 표시 소자의 제조 장치 및 방법
US8747092B2 (en) * 2010-01-22 2014-06-10 Nanonex Corporation Fast nanoimprinting apparatus using deformale mold
US8366431B2 (en) * 2010-04-13 2013-02-05 Sematech, Inc. Partial die process for uniform etch loading of imprint wafers
JP5833636B2 (ja) * 2010-04-27 2015-12-16 モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド ナノインプリント・リソグラフィのテンプレート製作方法およびそのシステム
JP5669466B2 (ja) * 2010-07-12 2015-02-12 キヤノン株式会社 保持装置、インプリント装置及び物品の製造方法
WO2012088315A1 (en) * 2010-12-21 2012-06-28 Flex Lighting Ii, Llc Packaging comprising a lightguide
JP5679850B2 (ja) * 2011-02-07 2015-03-04 キヤノン株式会社 インプリント装置、および、物品の製造方法
WO2012149029A2 (en) * 2011-04-25 2012-11-01 Molecular Imprints, Inc. Optically absorptive material for alignment marks
JP5875250B2 (ja) * 2011-04-28 2016-03-02 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法及びデバイス製造方法
KR20140033201A (ko) * 2011-07-08 2014-03-17 도요세이칸 그룹 홀딩스 가부시키가이샤 열 가소성 수지 제품의 성형 방법 및 그 성형 장치
JP5759303B2 (ja) * 2011-08-11 2015-08-05 キヤノン株式会社 インプリント装置、それを用いた物品の製造方法
JP5687640B2 (ja) * 2012-02-15 2015-03-18 株式会社東芝 インプリント装置およびインプリント方法
KR20130123760A (ko) * 2012-05-03 2013-11-13 삼성전자주식회사 탬플릿 시스템 및 그 나노 임프린트 방법
JP6039917B2 (ja) * 2012-05-22 2016-12-07 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法及び物品の製造方法
JP5865340B2 (ja) * 2013-12-10 2016-02-17 キヤノン株式会社 インプリント装置及び物品の製造方法
JP6313591B2 (ja) * 2013-12-20 2018-04-18 キヤノン株式会社 インプリント装置、異物除去方法及び物品の製造方法
JP2015170815A (ja) * 2014-03-10 2015-09-28 キヤノン株式会社 インプリント装置、アライメント方法及び物品の製造方法
JP6497849B2 (ja) * 2014-04-15 2019-04-10 キヤノン株式会社 インプリント装置、および物品の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2013191628A (ja) 2013-09-26
US20130234371A1 (en) 2013-09-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US12468221B2 (en) Imprint apparatus for forming a pattern of an imprint material on a substrate-side pattern region of a substrate by using a mold, and related device manufacturing methods
JP6818859B2 (ja) インプリント装置、インプリント方法および物品の製造方法
JP5932286B2 (ja) インプリント装置、それを用いた物品の製造方法
JP5868215B2 (ja) インプリント装置およびインプリント方法、それを用いた物品の製造方法
JP6021365B2 (ja) インプリント装置、それを用いた物品の製造方法
JP6230041B2 (ja) インプリント装置、それを用いた物品の製造方法
TWI720301B (zh) 壓印裝置及製造物品的方法
JP6300459B2 (ja) インプリント装置およびインプリント方法、それを用いた物品の製造方法
JP5637785B2 (ja) 原版、及びそれを用いた物品の製造方法
TWI709161B (zh) 壓印裝置及物品的製造方法
JP2013008911A (ja) クリーニング方法、それを用いたインプリント装置および物品の製造方法
JP2014120604A (ja) インプリント装置、デバイス製造方法及びインプリント装置に用いられる型
TW202105470A (zh) 壓印裝置及物品的製造方法
JP2018110239A (ja) インプリント装置、インプリント方法、および物品の製造方法
KR20150030654A (ko) 인프린트 장치 및 템플릿
JP2019021762A (ja) インプリント装置、インプリント方法および、物品製造方法
JP2013191628A5 (https=)
TW201817569A (zh) 壓印裝置、壓印方法及物品製造方法
WO2017047073A1 (en) Imprint apparatus and method of manufacturing article
JP6995530B2 (ja) 型を用いて基板上の組成物を成形する成形装置及び物品の製造方法
JP2021068846A (ja) インプリント装置、インプリント方法及び物品の製造方法
JP5865528B2 (ja) インプリント装置、インプリント方法、及びデバイス製造方法
JP2021090020A (ja) インプリント用のテンプレート、テンプレートを用いたインプリント方法
JP7263152B2 (ja) 成形装置、成形装置を用いた物品製造方法
JP7337682B2 (ja) インプリント装置、インプリント方法、及び物品の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20150309

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20150309

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20160129

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20160209

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20160411

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20160906

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20161004

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 6021365

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151