JP5985245B2 - チップ間隔維持装置 - Google Patents
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- 238000012423 maintenance Methods 0.000 title description 10
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 59
- 238000002788 crimping Methods 0.000 claims description 51
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 13
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 12
- 239000012809 cooling fluid Substances 0.000 claims description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 9
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 6
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 5
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 4
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 3
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- -1 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- 230000011218 segmentation Effects 0.000 description 1
- 239000011343 solid material Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
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Description
図1の符号1は一実施形態で分割加工が施されるデバイス用ウェーハ(被加工物)を示しており、図2はウェーハ1に分割加工を施すとともに分割後のチップ間の間隔を維持する一実施形態のチップ間隔維持装置20を示している。
図1に示すウェーハ1は、厚さが例えば数百μm程度の円板状の半導体ウェーハ等である。ウェーハ1には格子状の分割予定ライン2によって複数の矩形領域3が設定されており、これら矩形領域3の表面1a側に、例えばICやLSIからなる電子回路が形成されている。
(1)構成
図2に示すチップ間隔維持装置20は、円形状の水平な上面である支持面331を有し、この支持面331にウェーハ1を吸引保持するテーブル31と、このテーブル31の外周で上記環状フレーム10を水平状態に固定するフレーム固定手段40と、エキスパンドシート11を拡張してウェーハ1に外力を付与してウェーハ1を各矩形領域3に分割して複数のチップに個片化するとともにチップ間に間隔を形成する拡張手段30と、拡張したエキスパンドシート11の余剰分が隆起した隆起部を挟持して圧着する圧着手段70とを備えている。
上記テーブル31および外周テーブル37が拡張手段30を構成している。
なお、上記各シリンダ35,38,46は、空気圧や油圧等用いた流体圧シリンダが用いられる。
押さえプレート41の下面の固定面412が環状フレーム10の上面に当接し、これらプレート41,45で環状フレーム10が挟持されて固定される。
以上が一実施形態のチップ間隔維持装置20の構成であり、次いで該装置20によるウェーハ1の分割加工および分割後のチップ間の間隔維持のための動作を順に説明する。
はじめに、図6に示すようにテーブル31、外周テーブル37および載置プレート45を、上面が同一水平面で一致する高さに位置付ける。そして、環状フレーム10を、エキスパンドシート11が貼着されている面を下に向けて載置プレート45の上面に載置するとともに、ウェーハ1を、エキスパンドシート11を介してテーブル31の支持面331に載置し、ウェーハ1、エキスパンドシート11および環状フレーム10を同一水平面に位置付ける。
図7に示すように、載置プレート45を上昇させ、上下のプレート41,45間に環状フレーム10を挟持して固定する。
図8に示すように、テーブル31と外周テーブル37を同期して上昇させてウェーハ1を押し上げる。これにより、エキスパンドシート11は径方向外側に拡張される。エキスパンドシート11の拡張に伴い、ウェーハ1には径方向外側に引っ張られる外力が付与され、改質層4を起点としてウェーハ1は分割予定ライン2に沿って割断される。すなわちウェーハ1は、各矩形領域3に分割されて複数のチップ3Aに個片化される。各チップ3Aの間には、エキスパンドシート11の拡張により間隔が形成される。エキスパンドシート11の環状領域11aは、外周テーブル37の外周縁に強く当接して摺動するが、外周縁を面取り加工あるいはR形状に加工していることによりエキスパンドシート11は切れず、円滑に拡張される。
ウェーハ1が複数のチップ3Aに分割されたら、吸引源34を運転して各チップ3Aをエキスパンドシート11ごとテーブル31の支持面331に吸引保持する。これにより、チップ3Aは支持面331にチップ3A間の間隔が保持された状態で固定された状態となる。この状態から、テーブル31と外周テーブル37を同期して下降させ、元の高さ、すなわち載置プレート45と同じ高さに位置付ける。
予め各圧着手段70の第一挟持部71側の圧着用ヒータ77を余熱(例えば50℃程度)しておき、また、各圧着手段70の第一挟持部71と第二挟持部72を離間させて挟持部73を開いた状態としておく。この状態から回転軸51を下降させることで支持体50とともに圧着手段70を下降させ、隆起部11bを第一挟持部71と第二挟持部72の間に位置付ける。
加熱による圧着を終えたら、図11に示すように挟持部73を開き、続いて第二挟持部72側の噴出口723から冷却された空気を噴出させ、加熱状態の隆起部11bを冷却して硬化させる。これにより圧着手段70による隆起部11bの圧着が完了する。
上記実施形態によれば、ウェーハ1を複数のチップ3Aに分割した後、ウェーハ1をテーブル31に吸引保持した状態で、テーブル31と外周テーブル37を下降させてエキスパンドシート11の拡張を解除すると、ウェーハ1の外周縁1cと環状フレーム10の内周縁10aとの間の環状領域11aでエキスパンドシート11の余剰分が隆起した隆起部11bが形成される。そして、隆起部11bの複数箇所を圧着することにより、余剰分が除去され、環状フレーム10内のエキスパンドシート11のテンションが維持される。これによりチップ3A間の間隔を維持することが可能となり、その結果、ハンドリング時においてチップ3Aどうしの接触が起こらず、チップ3Aが損傷するおそれが低減する。
上記一実施形態のチップ間隔維持装置20によれば、次のようにステップの追加や構成の追加を実施することができる。
上記のように圧着手段70が設けられている支持体50には、収縮用ヒータ60が設けられている。そこで、上記硬化ステップ後に、支持体50を90°回転させ、図12に示すように圧着されて硬化した隆起部11bの上方に収縮用ヒータ60を位置付け、収縮用ヒータ60により、圧着して硬化させた隆起部11bを所定温度に加熱して収縮させる。必要に応じてこの加熱収縮ステップを追加することにより、隆起部11bの圧着状態がさらに強化され、エキスパンドシート11に弛みが生じることを確実に抑えることが可能となる。
図13および図14に示すように、外周テーブル37の上面に、上方に延びるピン状の押圧手段80を圧着手段70の周方向両側に対応する位置に一対の状態で上下動可能に設ける。押圧手段80は圧着手段70の回転停止位置に対応する位置に配設され、径方向位置は、開いている挟持部73の間(第一挟持部71と第二挟持部72との間)に位置付けられる。
図15に示すように、圧着手段70の両側に隣接して一対の状態で配設されたピン状の当接部材90によって、エキスパンドシート11の隆起部11bを外周側から内周側あるいはその逆に内周側から外周側、すなわち径方向に移動させることで、隆起部11bの径方向位置を圧着手段70に対応した適確な位置に位置付けることを可能とする。当接部材90は、上記支持体50に、当接部材移動手段91および当接部材位置付手段92を介して、径方向に移動自在、かつ、下方に向かって伸縮自在に設けられている。
本発明の実施可能な形態は上記一実施形態に限定されず、例えば被加工物は半導体ウェーハの他に、セラミックやガラス系あるいはサファイア系の無機材料基板などの板状物が挙げられ、さらに板状物の裏面にチップ実装用のDAF(Die Attach Film)等の粘着部材が配設されたものも適用される。DAFが裏面に配設されている被加工物にあっては、上記の一実施形態のように圧着手段70における第二挟持部72を内周側に配設し、冷却した空気を外周側に向かって噴出させる形態により、分割によってDAFの分割面に生じるヒゲと呼ばれる糸状片が冷却風によってチップの上面に付着することが防止される。
Claims (3)
- エキスパンドシートに貼着され環状フレームに装着された被加工物が分割されて形成された複数のチップの間隔を拡張した状態に維持するチップ間隔維持装置であって、
被加工物を支持する支持面を有し、エキスパンドシートを介して被加工物が分割されて形成された複数のチップを吸引保持可能に支持するテーブルと、
該テーブルの外周で環状フレームを固定する固定面を有したフレーム固定手段と、
前記エキスパンドシートを拡張することで複数の前記チップ間に間隔を形成する拡張手段と、
該拡張手段で前記エキスパンドシートが拡張されて前記チップ間に間隔が形成された複数の該チップを該エキスパンドシートを介して前記テーブルで吸引保持するとともに該拡張手段による拡張を解除することで被加工物の外周と前記環状フレームの内周との間で該エキスパンドシートの余剰分が隆起した隆起部を挟持して圧着する圧着手段と、を備え、
前記圧着手段は、
第一挟持面を含む第一挟持部と第二挟持面を含む第二挟持部とを有し、前記隆起部を挟持する一対の挟持部と、
前記第一挟持面と前記第二挟持面とが当接する当接位置と該当接位置から退避する退避位置とに前記第一挟持部と前記第二挟持部とを移動させる移動手段と、
前記第一挟持部を加熱する加熱手段と、を有し、
前記第二挟持部は、前記第二挟持面に、前記挟持部で挟持して加熱し圧着した前記隆起部に冷却流体を噴出する噴出口が形成されていることを特徴とするチップ間隔維持装置。 - 前記圧着手段の両側で前記エキスパンドシートの下方から鉛直方向上方に該エキスパンドシートを押圧する一対の押圧手段をさらに備えることを特徴とする請求項1に記載のチップ間隔維持装置。
- 前記圧着手段に隣接して配設され、
前記被加工物の外周と前記環状フレームの内周との間で前記エキスパンドシートに当接する当接部材と、
該当接部材が前記エキスパンドシートに当接する当接位置と該当接位置から退避する退避位置とに該当接部材を位置付ける当接部材位置付手段と、
該当接部材が前記エキスパンドシートに当接した状態で該当接部材を前記被加工物の外周側に移動させる当接部材移動手段と、を備え、
前記当接部材が前記エキスパンドシートに当接した状態で前記被加工物の外周側に移動することで前記隆起部を前記圧着手段に対応した位置へと移動させることを特徴とする請求項1または2に記載のチップ間隔維持装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012111314A JP5985245B2 (ja) | 2012-05-15 | 2012-05-15 | チップ間隔維持装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012111314A JP5985245B2 (ja) | 2012-05-15 | 2012-05-15 | チップ間隔維持装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013239557A JP2013239557A (ja) | 2013-11-28 |
JP5985245B2 true JP5985245B2 (ja) | 2016-09-06 |
Family
ID=49764348
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012111314A Active JP5985245B2 (ja) | 2012-05-15 | 2012-05-15 | チップ間隔維持装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5985245B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6266429B2 (ja) * | 2014-05-08 | 2018-01-24 | 株式会社ディスコ | チップ間隔維持装置及びチップ間隔維持方法 |
JP6934327B2 (ja) | 2017-06-07 | 2021-09-15 | 株式会社ディスコ | ウエーハの分割方法及び分割装置 |
JP7284439B2 (ja) * | 2018-01-11 | 2023-05-31 | 株式会社東京精密 | ワーク分割装置及びワーク分割方法 |
JP7115862B2 (ja) | 2018-02-13 | 2022-08-09 | 株式会社ディスコ | 分割装置及び分割方法 |
JP7112205B2 (ja) * | 2018-02-13 | 2022-08-03 | 株式会社ディスコ | 分割装置 |
JP7313219B2 (ja) * | 2019-07-22 | 2023-07-24 | 株式会社ディスコ | エキスパンド方法及びエキスパンド装置 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4238669B2 (ja) * | 2003-08-07 | 2009-03-18 | 株式会社東京精密 | エキスパンド方法及びエキスパンド装置 |
-
2012
- 2012-05-15 JP JP2012111314A patent/JP5985245B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2013239557A (ja) | 2013-11-28 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150407 |
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|
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