JP5981167B2 - 感光性樹脂組成物 - Google Patents
感光性樹脂組成物 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5981167B2 JP5981167B2 JP2012049027A JP2012049027A JP5981167B2 JP 5981167 B2 JP5981167 B2 JP 5981167B2 JP 2012049027 A JP2012049027 A JP 2012049027A JP 2012049027 A JP2012049027 A JP 2012049027A JP 5981167 B2 JP5981167 B2 JP 5981167B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ether
- meth
- group
- photosensitive resin
- resin composition
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0045—Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
- G03F7/2014—Contact or film exposure of light sensitive plates such as lithographic plates or circuit boards, e.g. in a vacuum frame
- G03F7/2016—Contact mask being integral part of the photosensitive element and subject to destructive removal during post-exposure processing
- G03F7/202—Masking pattern being obtained by thermal means, e.g. laser ablation
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Description
本発明に係る感光性樹脂組成物は、アルカリ可溶性樹脂(A)、光重合性モノマー(B)、光重合開始剤(C)、及び溶剤(S)を少なくとも含有している。以下、本発明に係る感光性樹脂組成物に含有される各成分について説明する。
アルカリ可溶性樹脂とは、樹脂濃度20質量%の樹脂溶液(溶媒:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート)により、膜厚1μmの樹脂膜を基板上に形成し、2.38質量%のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド(TMAH)水溶液に1分間浸漬した際に、膜厚0.01μm以上溶解するものをいう。
脂環式基含有不飽和化合物(a3)としては、脂環式基を有する不飽和化合物であれば特に限定されない。脂環式基は、単環であっても多環であってもよい。単環の脂環式基としては、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。また、多環の脂環式基としては、アダマンチル基、ノルボルニル基、イソボルニル基、トリシクロノニル基、トリシクロデシル基、テトラシクロドデシル基等が挙げられる。これらの脂環式基含有不飽和化合物(a3)は、単独又は2種以上組み合わせて用いることができる。
エポキシ基含有不飽和化合物(a4)としては、グリシジル(メタ)アクリレート、2−メチルグリシジル(メタ)アクリレート、3,4−エポキシブチル(メタ)アクリレート、6,7−エポキシヘプチル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸エポキシアルキルエステル類;α−エチルアクリル酸グリシジル、α−n−プロピルアクリル酸グリシジル、α−n−ブチルアクリル酸グリシジル、α−エチルアクリル酸6,7−エポキシヘプチル等のα−アルキルアクリル酸エポキシアルキルエステル類;等が挙げられる。これらの中でも、共重合反応性、硬化後の樹脂の強度等の点から、グリシジル(メタ)アクリレート、2−メチルグリシジル(メタ)アクリレート、及び6,7−エポキシヘプチル(メタ)アクリレートが好ましい。これらのエポキシ基含有不飽和化合物(a4)は、単独又は2種以上組み合わせて用いることができる。
また、共重合体(A1)に占める上記脂環式エポキシ基含有不飽和化合物(a2)由来の構成単位の割合と上記エポキシ基含有不飽和化合物(a4)由来の構成単位の割合との合計は、71質量%以上であることが好ましく、71〜95質量%であることがより好ましく、75〜90質量%であることがさらに好ましい。特に、共重合体(A1)に占める上記脂環式エポキシ基含有不飽和化合物(a2)由来の構成単位の割合が単独で71質量%以上であることが好ましく、71〜80質量%であることがより好ましい。上記脂環式エポキシ基含有不飽和化合物(a2)由来の構成単位の割合を上記の範囲にすることにより、感光性樹脂組成物の経時安定性をより向上させることができる。
また、共重合体(A1)に占める上記脂環式基含有不飽和化合物(a3)由来の構成単位の割合は、1〜30質量%であることが好ましく、5〜20質量%であることがより好ましい。
そこで、このような場合には、まず、不飽和カルボン酸と特定の反応性化合物とを反応させて反応混合物を得て(反応工程)、次いで、この反応混合物と脂環式エポキシ基含有不飽和化合物やエポキシ基含有不飽和化合物とを共重合させる(重合工程)ことにより共重合体(A1)を製造する。必要に応じて最後に精製・洗浄を行ってもよい(精製工程)。
また、アルカリ可溶性樹脂(A)の含有量は、感光性樹脂組成物の固形分に対して40〜85質量%であることが好ましく、45〜75質量%であることがより好ましい。上記の範囲とすることにより、現像性のバランスがとりやすい傾向がある。
本発明に係る感光性樹脂組成物に含有される光重合性モノマー(B)としては、エチレン性不飽和基を有するモノマーを好ましく用いることができる。このエチレン性不飽和基を有するモノマーには、単官能モノマーと多官能モノマーとがある。
本発明に係る感光性樹脂組成物に含有される光重合開始剤(C)としては、特に限定されず、従来公知の光重合開始剤を用いることができる。
本発明に係る感光性樹脂組成物に含有される溶剤(S)は、(ポリ)アルキレングリコールジアルキルエーテル系溶剤を含む。溶剤(S)としてこのような(ポリ)アルキレングリコールジアルキルエーテル系溶剤を含めることにより、感光性樹脂組成物の経時安定性を向上させることができる。
また、溶剤(S)成分の含有量は、特に限定されず、基板等に塗布可能な濃度で、塗布膜厚に応じて適宜設定される。感光性樹脂組成物の固形分濃度は5〜70質量%であることが好ましく、20〜50質量%であることがより好ましい。
本発明に係る感光性樹脂組成物には、必要に応じて、界面活性剤、密着性向上剤、熱重合禁止剤、消泡剤等の添加剤を含有させることができる。いずれの添加剤も、従来公知のものを用いることができる。界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系等の化合物が挙げられ、密着性向上剤としては、従来公知のシランカップリング剤が挙げられ、熱重合禁止剤としては、ヒドロキノン、ヒドロキノンモノエチルエーテル等が挙げられ、消泡剤としては、シリコーン系、フッ素系化合物等が挙げられる。
本発明に係る感光性樹脂組成物は、上記各成分を3本ロールミル、ボールミル、サンドミル等の撹拌機で混合(分散・混練)し、必要に応じて5μmメンブランフィルタ等のフィルタで濾過して調製することができる。
本発明に係る液晶パネルは、感光性樹脂組成物から形成されたスペーサを有するものである。スペーサ以外の点は、通常の液晶パネルと同様であるため、以下ではスペーサの形成方法についてのみ説明する。
以降、実施例1〜3、5〜7、10はそれぞれ参考例1〜3、5〜7、10に読み替えるものとする。後記の表1においても同様である。
[実施例1]
下記の各成分を混合し、溶剤に溶解して、固形分濃度35質量%の感光性樹脂組成物を調製した。
メタクリル酸/トリシクロデシルメタクリレート/3,4−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート/グリシジルメタクリレート=12/13/37.5/37.5(質量比)の共重合体(質量平均分子量12000)・・・100質量部
・光重合性モノマー(B)
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート・・・67質量部
・光重合開始剤(C)
2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン(チバスペシャルティケミカルズ社製「IRGACURE 907」)・・・3.0質量部
2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1(チバスペシャルティケミカルズ社製「IRGACURE 369」)・・・10.0質量部
・溶剤(S)
ジエチレングリコールメチルエチルエーテル
共重合体のモノマー組成及び溶剤組成を下記表1のように変更したほかは、実施例1と同様にして感光性樹脂組成物を調製した。表1中の各モノマーの欄の数値は、共重合体を構成するモノマーの質量比を表す。また、溶剤の欄の数値は、各溶剤の質量比を表す。なお、実施例2〜12、比較例1〜6で用いた共重合体の質量平均分子量は、いずれも12000である。
[経時安定性評価]
6インチのガラス基板(ダウ・コーニング社製、1737ガラス)上に、上記実施例及び比較例で調製した感光性樹脂組成物を塗布した後、100℃で2分間乾燥して、塗布膜を得た。この塗布膜の膜厚を初期膜厚とする。
また、上記各実施例及び比較例で調製した感光性樹脂組成物を40℃で5日間保管した後、上記と同様にして塗布膜を得た。この塗布膜の膜厚を経時膜厚とする。
そして、初期膜厚に対する経時膜厚の膜厚変動(%)を求め、経時安定性の指標とした。結果を下記表1に示す。なお、比較例1〜3の感光性樹脂組成物は、40℃で5日間保管することによってゲル化したため、塗布膜を得ることができなかった。
TCDMA:トリシクロデシルメタクリレート
M100:3,4−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート
VCMX:1,2−エポキシ−4−ビニルシクロヘキサン
GMA:グリシジルメタクリレート
PM:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
MEDG:ジエチレングリコールメチルエチルエーテル
MPPDG:ジプロピレングリコールメチルプロピルエーテル
DMM:ジプロピレングリコールジメチルエーテル
MBA:3−メトキシブチルアセテート
また、比較例2,3から分かるように、溶剤に占める(ポリ)アルキレングリコールジアルキルエーテル系溶剤の割合が56質量%以上である場合であっても、不飽和カルボン酸と脂環式エポキシ基含有不飽和化合物とを少なくとも重合させた共重合体を用いていない場合には、感光性樹脂組成物の経時安定性が悪いものになってしまう。
Claims (3)
- アルカリ可溶性樹脂(A)、光重合性モノマー(B)、光重合開始剤(C)、及び溶剤(S)を含有する感光性樹脂組成物であって、
前記アルカリ可溶性樹脂(A)は、不飽和カルボン酸(a1)と脂環式エポキシ基含有不飽和化合物(a2)とエポキシ基を有さない脂環式基含有不飽和化合物(a3)とを含むモノマーの共重合体(A1)を含み、
前記溶剤(S)は、(ポリ)アルキレングリコールジアルキルエーテル系溶剤および(ポリ)アルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート系溶剤を含み、前記溶剤(S)に占める前記(ポリ)アルキレングリコールジアルキルエーテル系溶剤の割合が80質量%以上である感光性樹脂組成物。 - 前記共重合体(A1)に占める前記脂環式エポキシ基含有不飽和化合物(a2)由来の構成単位の割合が71質量%以上である請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
- 液晶パネルのスペーサの形成に用いられる請求項1又は2に記載の感光性樹脂組成物。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012049027A JP5981167B2 (ja) | 2011-03-24 | 2012-03-06 | 感光性樹脂組成物 |
KR1020120029151A KR101840060B1 (ko) | 2011-03-24 | 2012-03-22 | 감광성 수지 조성물 및 액정 패널 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011066108 | 2011-03-24 | ||
JP2011066108 | 2011-03-24 | ||
JP2012049027A JP5981167B2 (ja) | 2011-03-24 | 2012-03-06 | 感光性樹脂組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012212118A JP2012212118A (ja) | 2012-11-01 |
JP5981167B2 true JP5981167B2 (ja) | 2016-08-31 |
Family
ID=46858377
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012049027A Active JP5981167B2 (ja) | 2011-03-24 | 2012-03-06 | 感光性樹脂組成物 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5981167B2 (ja) |
KR (1) | KR101840060B1 (ja) |
CN (1) | CN102692819B (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101840764B1 (ko) | 2013-12-27 | 2018-03-21 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | 감광성 수지 조성물 및 레지스트 패턴의 제조 방법 |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5762834B2 (ja) * | 2011-06-14 | 2015-08-12 | 株式会社ダイセル | 脂環式エポキシ基含有硬化性樹脂組成物、その製法及びその硬化物 |
JP5890337B2 (ja) * | 2013-02-13 | 2016-03-22 | 東京応化工業株式会社 | 感放射線性樹脂組成物、絶縁膜、及び表示装置 |
JP5945296B2 (ja) * | 2013-05-28 | 2016-07-05 | 東友ファインケム株式会社Dongwoo Fine−Chem Co., Ltd. | スペーサ形成用感光性樹脂組成物及びこれから製造されたスペーサ |
WO2014192671A1 (ja) * | 2013-05-30 | 2014-12-04 | 三洋化成工業株式会社 | 感光性樹脂組成物、フォトスペーサー、カラーフィルター用保護膜、及び、タッチパネルの保護膜もしくは絶縁膜 |
KR102360238B1 (ko) * | 2013-09-24 | 2022-02-09 | 롬엔드하스전자재료코리아유한회사 | 네거티브형 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 절연막 |
KR102235156B1 (ko) * | 2013-12-09 | 2021-04-05 | 롬엔드하스전자재료코리아유한회사 | 네거티브형 감광성 수지 조성물 |
CN109216701B (zh) * | 2017-06-30 | 2020-10-23 | 比亚迪股份有限公司 | 电池电极及其制备方法和全固态电池 |
CN113448164A (zh) * | 2020-03-26 | 2021-09-28 | 台湾永光化学工业股份有限公司 | 负型感旋光性树脂组成物及其用途 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4245740B2 (ja) * | 1999-07-29 | 2009-04-02 | 新日鐵化学株式会社 | 光重合性樹脂組成物並びにカラーフィルター |
KR101011656B1 (ko) * | 2003-03-07 | 2011-01-28 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | 감광성 수지 조성물 및 그 도막 경화물 |
KR100731325B1 (ko) * | 2005-06-23 | 2007-06-25 | 주식회사 삼양이엠에스 | 음성 레지스트 조성물 |
JP5021282B2 (ja) * | 2006-11-28 | 2012-09-05 | 株式会社ダイセル | 3,4−エポキシトリシクロ[5.2.1.02,6]デカン環を有する構造単位を含む共重合体とその製造法 |
JP4911304B2 (ja) * | 2007-03-20 | 2012-04-04 | Jsr株式会社 | 感放射線性樹脂組成物および液晶表示素子用スペーサー |
KR101099691B1 (ko) * | 2008-04-07 | 2011-12-28 | 주식회사 삼양이엠에스 | 음성 레지스트 조성물 |
TWI501027B (zh) * | 2008-11-18 | 2015-09-21 | Sumitomo Chemical Co | Photosensitive resin composition and display device |
TWI521300B (zh) * | 2008-11-18 | 2016-02-11 | Sumitomo Chemical Co | Photosensitive resin composition and display device |
JP5660774B2 (ja) * | 2009-11-04 | 2015-01-28 | 住友化学株式会社 | 着色感光性樹脂組成物、塗膜、パターン及び表示装置 |
JP2011185966A (ja) * | 2010-03-04 | 2011-09-22 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 硬化されたパターンの製造方法 |
TWI477904B (zh) * | 2010-03-26 | 2015-03-21 | Sumitomo Chemical Co | Photosensitive resin composition |
JP2011209594A (ja) * | 2010-03-30 | 2011-10-20 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
JP5697965B2 (ja) * | 2010-06-08 | 2015-04-08 | 住友化学株式会社 | 感光性樹脂組成物 |
-
2012
- 2012-03-06 JP JP2012049027A patent/JP5981167B2/ja active Active
- 2012-03-22 KR KR1020120029151A patent/KR101840060B1/ko active IP Right Grant
- 2012-03-26 CN CN201210083383.4A patent/CN102692819B/zh active Active
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101840764B1 (ko) | 2013-12-27 | 2018-03-21 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | 감광성 수지 조성물 및 레지스트 패턴의 제조 방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20120112053A (ko) | 2012-10-11 |
CN102692819A (zh) | 2012-09-26 |
JP2012212118A (ja) | 2012-11-01 |
CN102692819B (zh) | 2016-11-23 |
KR101840060B1 (ko) | 2018-03-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5981167B2 (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
JP4833040B2 (ja) | 感光性樹脂組成物及び液晶パネル用スペーサ | |
JP6309755B2 (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
JP5603634B2 (ja) | 樹脂パターンの製造方法 | |
JP5641791B2 (ja) | 樹脂パターンの製造方法 | |
JP6195456B2 (ja) | 感放射線性樹脂組成物 | |
JP2013134263A (ja) | ブラックカラムスペーサ用感光性樹脂組成物、ブラックカラムスペーサ、表示装置、及びブラックカラムスペーサの形成方法 | |
JP5890337B2 (ja) | 感放射線性樹脂組成物、絶縁膜、及び表示装置 | |
KR101717784B1 (ko) | 감광성 수지 조성물 및 액정 패널 | |
KR102007537B1 (ko) | 절연막 형성용 감광성 수지 조성물, 절연막 및 절연막의 형성 방법 | |
JP5437027B2 (ja) | 感光性樹脂組成物及び液晶パネル | |
JP6022847B2 (ja) | 絶縁膜形成用感光性樹脂組成物、絶縁膜、及び絶縁膜の形成方法 | |
JP5313740B2 (ja) | 感光性樹脂組成物及び液晶パネル | |
JP6109506B2 (ja) | 樹脂組成物、感光性樹脂組成物、スペーサ、及び表示装置 | |
JP6041571B2 (ja) | スペーサ形成用感光性樹脂組成物、スペーサ、表示装置、及びスペーサの形成方法 | |
JP5916939B2 (ja) | ブラックカラムスペーサの形成方法 | |
JP6460836B2 (ja) | 非回転式塗布用組成物及び樹脂組成物膜形成方法 | |
JP5394650B2 (ja) | 液晶パネルスペーサ形成用感光性樹脂組成物およびこれを用いて形成された液晶パネルスペーサ |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20141225 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150812 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150818 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20151019 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20151201 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160222 |
|
A911 | Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20160229 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160412 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160607 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160726 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160728 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5981167 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |