JP5974621B2 - 圧力センサ - Google Patents

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Description

本発明は、差圧を検出する圧力センサに関し、特に圧力媒体に含まれる汚染物質からゲージ抵抗を保護できる圧力センサに関する。
従来、例えば特許文献1に記載のように、差圧を検出するとともに、圧力媒体に含まれる汚染物質(例えば排気ガス中の酸成分)からゲージ抵抗を保護できる圧力センサが知られている。
この圧力センサでは、2個の感圧ダイアフラムチップ(センサチップ)が、それぞれに対応する2個の貫通孔を有した1個の台座に気密に装着されている。各感圧ダイアフラムチップにおいて、歪みゲージ(ゲージ抵抗)は、台座と反対の面側に形成されている。また、2個の貫通孔に対応した2本の導圧管を有する気密容器内に、2個の感圧ダイアフラムチップ及び台座が収容されている。そして、気密容器が2個の感圧ダイアフラムチップとの間に共通の圧力基準室を形成している。
特開平5−52691号公報
上記したように、特許文献1によれば、各感圧ダイアフラムチップにおいて、歪みゲージの形成された面は、圧力基準室側となっているので、歪みゲージを汚染物質から保護することができる。
しかしながら、共通の台座に対し、2個の感圧ダイアフラムチップが横並びで配置されている。このため、感圧ダイアフラムチップの厚み方向に直交する方向において、圧力センサの体格を小型化することが困難である。
本発明は上記問題点に鑑み、ゲージ抵抗を保護することができ、センサチップの厚み方向に直交する方向の体格を小型化できる圧力センサを提供することを目的とする。
上記目的を達成するために本発明は、一面(21,31)に開口する凹部(22,32)の底をなすダイアフラム(23,33)と、一面と反対の面(20,30)側に形成され、ダイアフラムに形成されたゲージ抵抗(24,34)を少なくとも含む圧力検出回路(25,35)と、をそれぞれ有し、ゲージ抵抗の形成面(20,30)が互いに対向するように配置された2つのセンサチップ(11,12)と、2つのセンサチップのゲージ抵抗形成面間に介在され、ダイアフラムに対応して形成された貫通孔(40)を有するスペーサ(13)と、一部が2つのセンサチップ及びスペーサの少なくとも1つに固定され、圧力検出回路と電気的に接続された外部接続端子(14)と、圧力検出回路と外部接続端子との電気的な接続部を被覆するとともに、凹部に連通し、凹部に圧力媒体を導入するための導入路(61,62)を有するモールド樹脂(15)と、を備え、2つのセンサチップとスペーサとは、貫通孔の周辺部分においてそれぞれ気密に接合され、2つのセンサチップのゲージ抵抗形成面と、スペーサにおける貫通孔の壁面とを有して、圧力基準室(50)が形成されており、2つのセンサチップは、ダイアフラムとして、同一の貫通孔を挟んで対向配置された差圧用ダイアフラム(23a,33a)を有し、圧力基準室として、対向配置された一組の差圧用ダイアフラムに共通の差圧用圧力基準室(50a)を有し、スペーサは、2つのセンサチップの少なくとも一方の圧力検出回路と電気的に接続された貫通電極(41,42)を有し、貫通電極と接続されたセンサチップとは別のセンサチップは、貫通電極における圧力検出回路との接続端と反対の端部が露出するように開口部(26,36)を有し、貫通電極と接続されたセンサチップの圧力検出回路は、貫通電極を介して、外部接続端子と電気的に接続されていることを特徴とする。
これによれば、ゲージ抵抗形成面が向きあうように、2つのセンサチップが配置され、ダイアフラムにおけるゲージ抵抗形成面と反対の面が圧力媒体に晒されるようになっている。したがって、圧力媒体中の汚染物質からゲージ抵抗(圧力検出回路)を保護することができる。
また、2つのセンサチップの間に、貫通孔を有するスペーサが介在され、各センサチップの差圧用ダイアフラムは、同一の貫通孔を挟んで対向配置されている。そして、この貫通孔の壁面と2つのセンサチップのゲージ抵抗形成面とを有して、対向配置された一組の差圧用ダイアフラムに共通の差圧用圧力基準室が形成されている。このように、センサチップの厚み方向において、2つのセンサチップとスペーサが積層配置されている。したがって、従来に較べて、センサチップの厚み方向に直交する方向の体格を小型化することができる。
また、上記目的を達成するために本発明は、一面(21,31)に開口する凹部(22,32)の底をなすダイアフラム(23,33)と、一面と反対の面(20,30)側に形成され、ダイアフラムに形成されたゲージ抵抗(24,34)を少なくとも含む圧力検出回路(25,35)と、をそれぞれ有し、ゲージ抵抗の形成面(20,30)が互いに対向するように配置された2つのセンサチップ(11,12)と、2つのセンサチップのゲージ抵抗形成面間に介在され、ダイアフラムに対応して形成された貫通孔(40)を有するスペーサ(13)と、一部が2つのセンサチップ及びスペーサの少なくとも1つに固定され、圧力検出回路と電気的に接続された外部接続端子(14)と、圧力検出回路と外部接続端子との電気的な接続部を被覆するとともに、凹部に連通し、凹部に圧力媒体を導入するための導入路(61,62)を有するモールド樹脂(15)と、を備え、2つのセンサチップとスペーサとは、貫通孔の周辺部分においてそれぞれ気密に接合され、2つのセンサチップのゲージ抵抗形成面と、スペーサにおける貫通孔の壁面とを有して、圧力基準室(50)が形成されており、2つのセンサチップは、ダイアフラムとして、同一の貫通孔を挟んで対向配置された差圧用ダイアフラム(23a,33a)を有し、圧力基準室として、対向配置された一組の差圧用ダイアフラムに共通の差圧用圧力基準室(50a)を有し、2つのセンサチップの一方は、ダイアフラムとして、差圧用ダイアフラムとは別に絶対圧用ダイアフラム(33b)を有するとともに、ゲージ抵抗形成面側に形成されたゲージ抵抗を少なくとも含む圧力検出回路を有し、圧力基準室として、絶対圧用ダイアフラムに対応し、真空とされた絶対圧用圧力基準室(50b)を有することを特徴とする
また、上記目的を達成するために本発明は、一面(21,31)に開口する凹部(22,32)の底をなすダイアフラム(23,33)と、一面と反対の面(20,30)側に形成され、ダイアフラムに形成されたゲージ抵抗(24,34)を少なくとも含む圧力検出回路(25,35)と、をそれぞれ有し、ゲージ抵抗の形成面(20,30)が互いに対向するように配置された2つのセンサチップ(11,12)と、2つのセンサチップのゲージ抵抗形成面間に介在され、ダイアフラムに対応して形成された貫通孔(40)を有するスペーサ(13)と、一部が2つのセンサチップ及びスペーサの少なくとも1つに固定され、圧力検出回路と電気的に接続された外部接続端子(14)と、圧力検出回路と外部接続端子との電気的な接続部を被覆するとともに、凹部に連通し、凹部に圧力媒体を導入するための導入路(61,62)を有するモールド樹脂(15)と、を備え、2つのセンサチップとスペーサとは、貫通孔の周辺部分においてそれぞれ気密に接合され、2つのセンサチップのゲージ抵抗形成面と、スペーサにおける貫通孔の壁面とを有して、圧力基準室(50)が形成されており、2つのセンサチップは、ダイアフラムとして、同一の貫通孔を挟んで対向配置された差圧用ダイアフラム(23a,33a)を有し、圧力基準室として、対向配置された一組の差圧用ダイアフラムに共通の差圧用圧力基準室(50a)を有し、差圧用ダイアフラムを複数組有し、差圧用圧力基準室を、差圧用ダイアフラムの組数と同数有することを特徴とする。
第1実施形態に係る圧力センサの概略構成を示す断面図である。 厚み方向において、第1センサチップ側から見た圧力センサの平面図であり、便宜上モールド樹脂を省略して図示している。 厚み方向において、第2センサチップ側から見た圧力センサの平面図であり、便宜上モールド樹脂を省略して図示している。 図1に示す圧力センサの製造方法を示す工程別の断面図である。 第2実施形態に係る圧力センサの概略構成を示す断面図である。 第3実施形態に係る圧力センサの概略構成を示す断面図である。 第4実施形態に係る圧力センサの概略構成を示す断面図である。 変形例を示す断面図である。 第5実施形態に係る圧力センサの概略構成を示す断面図である。 第6実施形態に係る圧力センサの概略構成を示す断面図である。
以下、本発明の実施の形態を、図面を参照して説明する。なお、以下の各図相互において互いに同一もしくは均等である部分に、同一符号を付与する。なお、図2,3では、便宜上、モールド樹脂を省略して図示している。また、センサチップ、スペーサの厚み方向、換言すれば、センサチップとスペーサの積層方向を、単に厚み方向と示す。
(第1実施形態)
本実施形態に係る圧力センサは、例えば腐食性を有する圧力媒体(液体、ガスなど)の圧力測定に用いられる。具体的には、ディーゼルエンジン車両の排気管内に設けられた排気清浄フィルタ(DPF)の前後の差圧の検出に用いられる。
先ず、図1〜図3を用いて、圧力センサ10の概略構成について説明する。
図1に示すように、圧力センサ10は、要部として、2つのセンサチップ11,12と、2つのセンサチップ11,12の間に介在されるスペーサ13と、外部接続端子14と、モールド樹脂15を備えている。
第1センサチップ11は、半導体基板などからなるものであり、表面20及び裏面21のうち、裏面21に開口する凹部22を有している。なお、裏面21が、特許請求の範囲に記載の一面に相当する。この凹部22は、半導体基板を裏面21側からエッチングすることで形成されている。そして、凹部22の底をなす部分、すなわち凹部22に対応する表面20側の薄肉部分がダイアフラム23となっている。本実施形態では、半導体基板としてシリコン基板を採用しており、結晶面によるエッチング速度の差を利用して、凹部22が形成されている。また、凹部22を1つのみ有しており、ダイアフラム23として、差圧用ダイアフラム23aを有している。
また、第1センサチップ11の表面20側には、ゲージ抵抗24を少なくとも含む圧力検出回路25が形成されている。ゲージ抵抗24は、ダイアフラム23の部分に例えば不純物を拡散して形成されている。本実施形態では、感度を大きくするために、ダイアフラム23における歪みの大きい部分、例えばダイアフラム23の周辺部に、ゲージ抵抗24が形成されている。このゲージ抵抗24は、少なくとも4個設けられており、図示しないブリッジ回路を構成している。そして、ゲージ抵抗24によるブリッジ回路を少なくとも有して圧力検出回路25が構成されている。本実施形態では、ゲージ抵抗24によるブリッジ回路とともに、図示しない増幅回路などによって、周知構成の圧力検出回路25となっている。
このように、第1センサチップ11は、半導体式のセンサチップとして構成され、ゲージ抵抗効果によって、印加された圧力に応じた信号が出力されるようになっている。具体的には、圧力媒体の圧力P1が、凹部22を通じてダイアフラム23に伝達される。すると、ダイアフラム23は、その圧力によって歪み(変形し)、ピエゾ抵抗効果によりゲージ抵抗24の抵抗値が変化する。そして、ゲージ抵抗24からなるブリッジ回路によって、ダイアフラム23の歪に応じた信号、すなわち、印加された圧力値に応じたレベルの信号が出力されるようになっている。
また、第1センサチップ11は、スペーサ13に形成された後述する貫通電極42の一端を露出させるための開口部26を有している。本実施形態では、図2に示すように、開口部26として、3つの貫通電極42を内包するように、平面矩形状の貫通孔が形成されている。なお、符号21aは、ダイアフラム23を除く部分において、他の部分よりも裏面21がスペーサ13に近い位置とされ、厚さが薄くされた薄肉部である。これにより、貫通電極42と外部接続端子14とを、後述するボンディングワイヤ44によって接続しやすくなっている。
一方、第2センサチップ12も、第1センサチップ11同様の構成となっている。この第2センサチップ12も、半導体基板などからなるものであり、表面30及び裏面31のうち、裏面31に開口する凹部32を有している。なお、裏面31が、特許請求の範囲に記載の一面に相当する。この凹部32は、半導体基板を裏面31側からエッチングすることで形成されている。そして、凹部32の底をなす部分、すなわち凹部32に対応する表面30側の薄肉部分がダイアフラム33となっている。本実施形態では、半導体基板としてシリコン基板を採用しており、結晶面によるエッチング速度の差を利用して、凹部32が形成されている。また、凹部32を1つのみ有しており、ダイアフラム33として、差圧用ダイアフラム33aを有している。
また、第2センサチップ12の表面30側には、ゲージ抵抗34を少なくとも含む圧力検出回路35が形成されている。ゲージ抵抗34は、ダイアフラム33の部分に例えば不純物を拡散して形成されている。本実施形態では、感度を大きくするために、ダイアフラム33における歪みの大きい部分、例えばダイアフラム33の周辺部に、ゲージ抵抗34が形成されている。このゲージ抵抗34は、少なくとも4個設けられており、図示しないブリッジ回路を構成している。そして、ゲージ抵抗34によるブリッジ回路を少なくとも有して圧力検出回路35が構成されている。本実施形態では、ゲージ抵抗34によるブリッジ回路とともに、図示しない増幅回路などによって、周知構成の圧力検出回路35となっている。
このように、第2センサチップ12も、半導体式のセンサチップとして構成され、ゲージ抵抗効果によって、印加された圧力に応じた信号が出力されるようになっている。具体的には、圧力媒体の圧力P2が、凹部32を通じてダイアフラム33に伝達される。すると、ダイアフラム33は、その圧力によって歪み(変形し)、ピエゾ抵抗効果によりゲージ抵抗34の抵抗値が変化する。そして、ゲージ抵抗34からなるブリッジ回路によって、ダイアフラム33の歪に応じた信号、すなわち、印加された圧力値に応じたレベルの信号が出力されるようになっている。
また、第2センサチップ12は、スペーサ13に形成された後述する貫通電極41の一端を露出させるための開口部36を有している。本実施形態では、図3に示すように、開口部36として、3つの貫通電極41を内包するように、平面矩形状の貫通孔が形成されている。なお、符号31aは、ダイアフラム33を除く部分において、他の部分よりも裏面31がスペーサ13に近い位置とされ、厚さが薄くされた薄肉部である。これにより、貫通電極41と外部接続端子14とを、後述するボンディングワイヤ43によって接続しやすくなっている。
これらセンサチップ11,12は、図1に示すように、表面20,30、すなわちゲージ抵抗24,34の形成面が互いに対向するように配置されている。また、差圧用ダイアフラム23a,33aが互いに対向するように配置されている。本実施形態では、差圧用ダイアフラム23a,33aの形状及び厚み方向に直交する大きさが互いにほぼ等しくされ、差圧用ダイアフラム23a,33aは、ほぼ全域で互いに対向している。そして、2つのセンサチップ11,12の間にはスペーサ13が介在され、2つのセンサチップ11,12は、共通のスペーサ13に固定されている。
このスペーサ13は、ノンドープ(真性)や低濃度のシリコン、又は、ガラスを用いて平板状に形成されている。また、スペーサ13は、各センサチップのダイアフラム23,33に対応して形成された貫通孔40を有している。この貫通孔40は、厚み方向において、スペーサ13を貫通している。本実施形態では、貫通孔40が、対向配置された一対の差圧用ダイアフラム23a,33aに対応し、厚み方向に直交する面内において、差圧用ダイアフラム23a,33aの各ゲージ抵抗24,34が内包されるように形成された差圧用貫通孔40aを有している。
上記した第1センサチップ11の表面20と、スペーサ13における第1センサチップ11との対向面とは、気密に接合されている。また、第2センサチップ12の表面30と、スペーサ13における第2センサチップ12との対向面も、気密に接合されている。すなわち、2つのセンサチップ11,12とスペーサ13とは、貫通孔40の周辺部分においてそれぞれ気密に接合されている。そして、2つのセンサチップ11,12の表面20,30と、スペーサ13における少なくとも貫通孔40の壁面とを有して、圧力基準室50が形成されている。
本実施形態では、シリコンからなるセンサチップ11,12と、シリコンからなるスペーサ13とが、直接接合されている。また、圧力基準室50として、差圧用貫通孔40aの壁面により形成され、一対の差圧用ダイアフラム23a,33aに共通の差圧用圧力基準室50aを有している。この差圧用圧力基準室50aは真空となっている。
また、スペーサ13には、貫通電極41,42が形成されている。これら貫通電極41,42は、スペーサ13に形成された貫通孔内に、アルミニウム系材料、ドープされたポリシリコンなどの導電材料が埋め込まれてなる。貫通電極41は、第1センサチップ11の圧力検出回路25と電気的に接続されている。一方、貫通電極42は、第2センサチップ12の圧力検出回路35と電気的に接続されている。
外部接続端子14は、一部が2つのセンサチップ11,12及びスペーサ13の少なくとも1つに固定されており、圧力検出回路25,35と電気的に接続されている。この外部接続端子14は、所謂リードであり、圧力検出回路25,35と外部機器とを電気的に接続する中継機能を果たすものである。
貫通電極41における圧力検出回路25との接続端と反対の端部は、上記したように、第2センサチップ12に設けられた開口部36により、外部に露出されている。そして、ボンディングワイヤ43を介して、対応する外部接続端子14と電気的に接続されている。詳しくは、図3に示すように、電源(Vcc)、グランド(GND)、出力(Vout1)の3つの外部接続端子14に接続されている。一方、貫通電極42における圧力検出回路35との接続端と反対の端部は、上記したように、第1センサチップ11に設けられた開口部26により、外部に露出されている。そして、ボンディングワイヤ44を介して、対応する外部接続端子14と電気的に接続されている。詳しくは、図2に示すように、電源(Vcc)、グランド(GND)、出力(Vout2)の3つの外部接続端子14に接続されている。したがって、出力(Vout1)と出力(Vout2)の差分により差圧が検出される。なお、圧力検出回路25,35において、電源とグランドの外部接続端子14は共通となっている。すなわち、本実施形態の圧力センサ10は、4本の外部接続端子14を有している。
モールド樹脂15は、2つのセンサチップ11,12の凹部22,32、換言すればダイアフラム23,33を露出させつつ、圧力検出回路25,35と外部接続端子14との電気的な接続部を被覆するものである。このモールド樹脂15は、例えばエポキシ系樹脂を用いてトランスファー成形により形成されている。本実施形態では、モールド樹脂15が、上記接続部を被覆する被覆部60と、各センサチップ11,12の凹部22,32に圧力媒体を導入するために、凹部22,32ごとに設けられた導入路61,62を有している。この導入路61,62はそれぞれ筒状をなしており、対応する凹部22,32にそれぞれ連通している。これにより、導入路61及び凹部22を介して、第1センサチップ11の差圧用ダイアフラム23aに、圧力媒体の圧力P1が伝達されるようになっている。また、導入路62及び凹部32を介して、第2センサチップ12の差圧用ダイアフラム33aに、圧力媒体の圧力P2が伝達されるようになっている。
次に、図4(a)〜(e)を用いて、上記した圧力センサ10の製造方法を説明する。
先ず、図4(a)に示すように、凹部22、ダイアフラム23(差圧用ダイアフラム23a)、ゲージ抵抗24を含む圧力検出回路25、開口部26、及び薄肉部21aを有するウェハ11wを準備する。このウェハ11wは、ダイシングによりチップ化されて第1センサチップ11となる。また、凹部32、ダイアフラム33(差圧用ダイアフラム33a)、ゲージ抵抗34を含む圧力検出回路35、開口部36、及び薄肉部31aを有するウェハ12wを準備する。このウェハ12wは、ダイシングによりチップ化されて第2センサチップ12となる。また、貫通孔40(差圧用貫通孔40a)を有するウェハ13wを準備する。このウェハ13wは、ダイシングによりチップ化されてスペーサ13となる。本実施形態では、ウェハ11w,12w,13wがいずれもシリコンからなる。例えば凹部22,32は、アルカリ系溶液を用いたウェットエッチングによって形成する。また、開口部26,36、薄肉部21a,31a、及び貫通孔40は、異方性のドライエッチングにより形成する。
次に、準備したウェハ11w,12w,13wを積層する。このとき、ウェハ11wとウェハ12wとの間に、後にスペーサ13となるウェハ13wを配置する。また、ウェハ11w,12wは、ゲージ抵抗24,34の形成面である表面20,30が、互いに対向するように配置する。さらには、差圧用ダイアフラム23a,33aが互いに対向するとともに、厚み方向に直交する面内において、差圧用ダイアフラム23a,33aの各ゲージ抵抗24,34が内包されるように差圧用貫通孔40aを位置決めする。そして、図4(b)に示すように、ウェハ12wとウェハ13wとを直接接合する。また、ウェハ13wとウェハ11wとを直接接合する。ウェハ11w,12w,13wの接合手順は特に限定されない。例えば、ウェハ12wとウェハ13wとを直接接合した後、ウェハ13wにウェハ11wを直接接合すれば良い。これにより、圧力基準室50(差圧用圧力基準室50a)が形成される。本実施形態では、この工程を真空中で行うため、圧力基準室50(差圧用圧力基準室50a)が真空となる。
次に、図4(c)に示すように、ウェハ13wに貫通電極41,42を形成する。これら貫通電極41,42は、ウェハ13wに貫通孔を形成し、アルミニウム系材料やドープされたポリシリコンを埋め込んで形成される。例えば、開口部36において、ウェハ13wにおけるウェハ12w側の表面から、ウェハ11wを底部としてウェハ13wに貫通電極41を形成する。次いで、開口部26において、ウェハ13wにおけるウェハ11w側の表面から、ウェハ12wを底部としてウェハ13wに貫通電極42を形成する。これにより、ウェハ11wに形成された圧力検出回路25が貫通電極41と電気的に接続され、ウェハ12wに形成された圧力検出回路35が貫通電極42と電気的に接続される。
次に、ウェハ11w,12w,13wの接合体をダイシングして、図4(d)に示すようにチップ化する。また、外部接続端子14を所定の位置、例えば第1センサチップ11における薄肉部21aの裏面21に、銀ペーストやはんだで固定する。そして、開口部36に露出する貫通電極41の一端と、対応する外部接続端子14とを、ボンディングワイヤ43により電気的に接続する。同じく、開口部26に露出する貫通電極42の一端と、対応する外部接続端子14とを、ボンディングワイヤ44により電気的に接続する。
次に、2つのセンサチップ11,12の凹部22,32、換言すればダイアフラム23,33を露出させつつ、圧力検出回路25,35と外部接続端子14との電気的な接続部を被覆するように、モールド樹脂15を成形する。以上により、図1〜3に示した圧力センサ10を得ることができる。
次に、本実施形態に係る圧力センサ10の特徴部分の効果について説明する。
本実施形態では、ゲージ抵抗24,34が形成された表面20,30が向きあうように、2つのセンサチップ11,12が配置され、ダイアフラム23,33における表面20,30と反対の裏面21,31が圧力媒体に晒されるようになっている。したがって、圧力媒体中の汚染物質からゲージ抵抗24,34(圧力検出回路25,35)を保護することができる。
また、2つのセンサチップ11,12の間に、貫通孔40を有するスペーサ13が介在され、各センサチップ11,12の差圧用ダイアフラム23a,33aは、共通の差圧用貫通孔40aを挟んで対向配置されている。そして、この差圧用貫通孔40aの壁面と2つのセンサチップ11,12の表面20,30とを有して、対向配置された一組の差圧用ダイアフラム23a,33aに共通の差圧用圧力基準室50aが形成されている。このように、厚み方向において、2つのセンサチップ11,12とスペーサ13が積層配置されているため、従来に較べて、厚み方向に直交する方向における圧力センサ10の体格を小型化することができる。
また、差圧用圧力基準室50aが真空とされ、ゲージ抵抗24,34を含む圧力検出回路25,35が外部に対して完全に遮断された状態となっているため、ゲージ抵抗24,34(圧力検出回路25,35)を確実に保護することができる。換言すれば、センサ特性の変動を効果的に抑制することができる。
また、各センサチップ11,12の圧力検出回路25,35が、スペーサ13に形成された対応する貫通電極41,42と接続されているため、スペーサ13に配置された配線と圧力検出回路25,35とが接触導通される構成に較べて、圧力検出回路25,35と外部接続端子14との電気的な接続信頼性を向上することができる。
(第2実施形態)
本実施形態において、上記実施形態に示した圧力センサ10と共通する部分についての説明は割愛する。
本実施形態の特徴は、2つのセンサチップ11,12の少なくとも一方とスペーサ13とにより形成された連結路51と、モールド樹脂15に形成された貫通孔63とにより、差圧用圧力基準室50aと外部雰囲気とが連通されていることにある。すなわち、差圧用圧力基準室50aは、大気圧とされていることにある。それ以外の構成は、第1実施形態に示した圧力センサ10と同じとなっている。
一例として図5に示す圧力センサ10において、連結路51は、第2センサチップ12の表面30と、スペーサ13に形成された溝とにより構成されている。この溝は、スペーサ13における第2センサチップ12との対向面に対して形成されており、一端が貫通孔40(差圧用貫通孔40a)に連結され、他端がスペーサ13の端面に開口している。また、貫通孔63は、厚み方向に直交する一方向に沿って延びており、一端がスペーサ13の端面に開口する連結路51に接続され、他端がモールド樹脂15の外面に開口している。詳しくは、導入路61,62とは異なる位置に開口している。
このように構成される圧力センサ10は、第1実施形態に示した圧力センサ10の効果のうち、差圧用圧力基準室50aが真空とされた効果を除く効果を奏することができる。
また、上記したように、差圧用圧力基準室50aが大気圧とされるため、真空とされる構成に較べて製造工程を簡素化することができる。
(第3実施形態)
本実施形態において、上記実施形態に示した圧力センサ10と共通する部分についての説明は割愛する。
本実施形態の特徴は、図6に例示するように、第1センサチップ11が、圧力検出回路25と電気的に接続された貫通電極27を有し、第2センサチップ12が、圧力検出回路35と電気的に接続された貫通電極37を有する。そして、2つのセンサチップ11,12の圧力検出回路25,35は、第1実施形態に示したスペーサ13の貫通電極41,42に代えて、貫通電極27,37により外部接続端子14とそれぞれ電気的に接続されていることにある。それ以外の構成は、第1実施形態に示した圧力センサ10と同じとなっている。なお、符号45は、圧力検出回路25に接続された貫通電極27と外部接続端子14とを接続するボンディングワイヤ、符号46は、圧力検出回路35に接続された貫通電極37と外部接続端子14とを接続するボンディングワイヤである。
このように構成される圧力センサ10は、第1実施形態に示した圧力センサ10の効果を奏することができる。なお、各圧力検出回路25,35は、センサチップ11,12に形成された貫通電極27,37と接続されているため、スペーサ13に貫通電極41,42を形成する場合同様、圧力検出回路25,35と外部接続端子14との電気的な接続信頼性を向上することができる。
また、スペーサ13に形成された貫通電極41,42ではなく、センサチップ11,12に形成された貫通電極27,37を用いる。貫通電極27,37は、厚み方向に並ぶこととなるが、元来あるセンサチップ11,12の部分に貫通電極27,37を形成するため、貫通電極27,37の形成により厚み方向の体格は増大しない。一方、スペーサ13の貫通電極41,42の場合、貫通電極41,42の個数等によっては、貫通電極41,42を、厚み方向に直交する方向(直交方向)に並んで配置しなければならない。これに対し、貫通電極27,37の場合、図6に示すように、直交方向において互いに重なる位置に形成することもできる。したがって、直交方向の体格を、より小型化することができる。
(第4実施形態)
本実施形態において、上記実施形態に示した圧力センサ10と共通する部分についての説明は割愛する。
本実施形態の特徴は、図7、図8に例示するように、圧力検出回路25,35が、同一面側で外部接続端子14に電気的に接続されていることにある。それ以外の構成は、第1実施形態に示した圧力センサ10とほぼ同じとなっている。
図7に示す圧力センサ10は、第1実施形態に示した圧力センサ10と第3実施形態に示した圧力センサ10を組み合わせた構成となっている。具体的には、圧力検出回路25は、第1センサチップ11に形成された貫通電極27及びボンディングワイヤ45を介して、外部接続端子14と電気的に接続されている。一方、圧力検出回路35は、スペーサ13に形成された貫通電極42及びボンディングワイヤ44を介して、外部接続端子14と電気的に接続されている。このように、外部接続端子14の上面のみに、ボンディングワイヤ44、45が接続されている。このような構成を採用すると、圧力検出回路25,35と外部接続端子14との接続工程を簡素化することができる。
なお、貫通電極27と貫通電極42、ボンディングワイヤ45とボンディングワイヤ44は、同一断面に存在しない(図7の紙面に直交する方向にずれて設けられている)が、説明の便宜上、貫通電極42及びボンディングワイヤ44を破線で図示している。
図8に示す圧力センサ10において、外部接続端子14は、第2センサチップ12の表面30に固定されている。圧力検出回路25は、第1センサチップ11に形成された貫通電極27及びボンディングワイヤ45を介して、外部接続端子14と電気的に接続されている。一方、圧力検出回路35には、ボンディングワイヤ46の一端が接続され、他端が外部接続端子14と電気的に接続されている。このように外部接続端子14の上面のみに、ボンディングワイヤ44、45が接続されている。このような構成を採用すると、圧力検出回路25,35と外部接続端子14との接続工程を簡素化することができる。
なお、ボンディングワイヤ45とボンディングワイヤ46は、同一断面に存在しない(図7の紙面に直交する方向にずれて設けられている)が、説明の便宜上、ボンディングワイヤ44を破線で図示している。
(第5実施形態)
本実施形態において、上記実施形態に示した圧力センサ10と共通する部分についての説明は割愛する。
本実施形態の特徴は、図9に例示するように、第2センサチップ12が、ダイアフラム33として、差圧用ダイアフラム33aとは別に絶対圧用ダイアフラム33bを有し、この絶対圧用ダイアフラム33bの表面30にもゲージ抵抗34が形成されている。また、スペーサ13には、差圧用貫通孔40aとは別に、絶対圧用ダイアフラム33bに対応して絶対圧用貫通孔40bが形成されている。そして、圧力基準室50として、絶対圧用ダイアフラム33bに対応し、真空とされた絶対圧用圧力基準室50bを有することにある。それ以外の構成は、第1実施形態に示した圧力センサ10とほぼ同じとなっている。なお、符号64は、絶対圧用ダイアフラム33bが底をなす凹部32に連通する導入路であり、この導入路64及び凹部32を通じて、圧力媒体の圧力P3が、絶対圧用ダイアフラム33bに作用するようになっている。
このように構成される圧力センサ10は、第1実施形態に示した圧力センサ10の効果を奏することができる。さらに、絶対圧用ダイアフラム33bに形成されたゲージ抵抗24により、絶対圧も検出することができる。
(第6実施形態)
本実施形態において、上記実施形態に示した圧力センサ10と共通する部分についての説明は割愛する。
本実施形態の特徴は、図10に例示するように、差圧用ダイアフラム23a,33aを複数組有し、差圧用圧力基準室50aを、差圧用ダイアフラム23a,33aの組数と同数有することにある。図10では、差圧用ダイアフラム23a,33aを2組有し、差圧用圧力基準室50aを、差圧用ダイアフラム23a,33aの組数と同数の2つ有している。なお、図10に示す符号65は、紙面右側の差圧用ダイアフラム23aが底をなす凹部22に連通する導入路であり、この導入路65及び凹部22を通じて、圧力媒体の圧力P4が、差圧用ダイアフラム23aに作用するようになっている。また、符号66は、紙面右側の差圧用ダイアフラム33aが底をなす凹部22に連通する導入路であり、この導入路66及び凹部32を通じて、圧力媒体の圧力P5が、差圧用ダイアフラム33aに作用するようになっている。
このように構成される圧力センサ10は、第1実施形態に示した圧力センサ10の効果を奏することができる。さらに、複数の差圧を検出することができる。図10に示す例では、(P1−P2)と(P4−P5)をそれぞれ検出することができる。
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明は上記した実施形態になんら制限されることなく、本発明の主旨を逸脱しない範囲において、種々変形して実施することが可能である。
本実施形態では、圧力検出回路25,35が、スペーサ13に形成された対応する貫通電極41,42、センサチップ11,12に形成された対応する貫通電極27,37と電気的に接続される例を示した。また、圧力検出回路35にボンディングワイヤ46を直接接続する例を示した。しかしながら、ウェハ11w,12w,13wを直接接合するのにともなって、圧力検出回路25,35が、スペーサ13の表面に形成された図示しない配線に接触導通されるようにしても良い。
外部接続端子14の固定位置は、上記実施形態に示す例に限定されるものではない。一部が2つのセンサチップ11,12及びスペーサ13の少なくとも1つに固定されれば良い。
また、外部接続端子14と圧力検出回路25,35との接続方法は、ワイヤボンディングに限定されるものではない。例えば銀ペースト等、モールド樹脂15の成形時に溶融しない導電性接着剤による接続も可能である。
10・・・圧力センサ、11・・・第1センサチップ、11w・・・ウェハ、12・・・第2センサチップ、12w・・・ウェハ、13・・・スペーサ、13w・・・ウェハ、14・・・外部接続端子、15・・・モールド樹脂、20,30・・・表面(ゲージ抵抗形成面)、21,31・・・裏面(一面)、21a,31a・・・薄肉部、22,32・・・凹部、23,33・・・ダイアフラム、23a,33a・・・差圧用ダイアフラム、33b・・・絶対圧用ダイアフラム、24,34・・・ゲージ抵抗、25,35・・・圧力検出回路、26,36・・・開口部、27,37・・・貫通電極、40・・・貫通孔、40a・・・差圧用貫通孔、40b・・・絶対圧用貫通孔、41,42・・・貫通電極、43,44,45,46・・・ボンディングワイヤ、50・・・圧力基準室、50a・・・差圧用圧力基準室、50b・・・絶対圧用圧力基準室、51・・・連結路、60・・・被覆部、61,62・・・導入路、63・・・貫通孔

Claims (12)

  1. 一面(21,31)に開口する凹部(22,32)の底をなすダイアフラム(23,33)と、前記一面と反対の面(20,30)側に形成され、前記ダイアフラムに形成されたゲージ抵抗(24,34)を少なくとも含む圧力検出回路(25,35)と、をそれぞれ有し、前記ゲージ抵抗の形成面(20,30)が互いに対向するように配置された2つのセンサチップ(11,12)と、
    2つの前記センサチップのゲージ抵抗形成面間に介在され、前記ダイアフラムに対応して形成された貫通孔(40)を有するスペーサ(13)と、
    一部が2つの前記センサチップ及び前記スペーサの少なくとも1つに固定され、前記圧力検出回路と電気的に接続された外部接続端子(14)と、
    前記圧力検出回路と前記外部接続端子との電気的な接続部を被覆するとともに、前記凹部に連通し、前記凹部に圧力媒体を導入するための導入路(61,62)を有するモールド樹脂(15)と、を備え、
    2つの前記センサチップと前記スペーサとは、前記貫通孔の周辺部分においてそれぞれ気密に接合され、2つの前記センサチップのゲージ抵抗形成面と、前記スペーサにおける前記貫通孔の壁面とを有して、圧力基準室(50)が形成されており、
    2つの前記センサチップは、前記ダイアフラムとして、同一の前記貫通孔を挟んで対向配置された差圧用ダイアフラム(23a,33a)を有し、
    前記圧力基準室として、対向配置された一組の前記差圧用ダイアフラムに共通の差圧用圧力基準室(50a)を有し、
    前記スペーサは、2つの前記センサチップの少なくとも一方の前記圧力検出回路と電気的に接続された貫通電極(41,42)を有し、
    前記貫通電極と接続された前記センサチップとは別の前記センサチップは、前記貫通電極における前記圧力検出回路との接続端と反対の端部が露出するように開口部(26,36)を有し、
    前記貫通電極と接続された前記センサチップの前記圧力検出回路は、前記貫通電極を介して、前記外部接続端子と電気的に接続されていることを特徴とする圧力センサ。
  2. 前記スペーサは、2つの前記センサチップの前記圧力検出回路それぞれに対応して形成され、対応する前記圧力検出回路と電気的に接続された貫通電極を有し、
    2つの前記センサチップの前記圧力検出回路は、前記貫通電極を介して、前記外部接続端子とそれぞれ電気的に接続されていることを特徴とする請求項1に記載の圧力センサ。
  3. 2つの前記センサチップの一方は、前記ダイアフラムとして、前記差圧用ダイアフラムとは別に絶対圧用ダイアフラム(33b)を有するとともに、前記ゲージ抵抗形成面側に形成されたゲージ抵抗を少なくとも含む圧力検出回路を有し、
    前記圧力基準室として、前記絶対圧用ダイアフラムに対応し、真空とされた絶対圧用圧力基準室(50b)を有することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の圧力センサ。
  4. 前記差圧用ダイアフラムを複数組有し、
    前記差圧用圧力基準室を、前記差圧用ダイアフラムの組数と同数有することを特徴とする請求項1〜3いずれか1項に記載の圧力センサ。
  5. 一面(21,31)に開口する凹部(22,32)の底をなすダイアフラム(23,33)と、前記一面と反対の面(20,30)側に形成され、前記ダイアフラムに形成されたゲージ抵抗(24,34)を少なくとも含む圧力検出回路(25,35)と、をそれぞれ有し、前記ゲージ抵抗の形成面(20,30)が互いに対向するように配置された2つのセンサチップ(11,12)と、
    2つの前記センサチップのゲージ抵抗形成面間に介在され、前記ダイアフラムに対応して形成された貫通孔(40)を有するスペーサ(13)と、
    一部が2つの前記センサチップ及び前記スペーサの少なくとも1つに固定され、前記圧力検出回路と電気的に接続された外部接続端子(14)と、
    前記圧力検出回路と前記外部接続端子との電気的な接続部を被覆するとともに、前記凹部に連通し、前記凹部に圧力媒体を導入するための導入路(61,62)を有するモールド樹脂(15)と、を備え、
    2つの前記センサチップと前記スペーサとは、前記貫通孔の周辺部分においてそれぞれ気密に接合され、2つの前記センサチップのゲージ抵抗形成面と、前記スペーサにおける前記貫通孔の壁面とを有して、圧力基準室(50)が形成されており、
    2つの前記センサチップは、前記ダイアフラムとして、同一の前記貫通孔を挟んで対向配置された差圧用ダイアフラム(23a,33a)を有し、
    前記圧力基準室として、対向配置された一組の前記差圧用ダイアフラムに共通の差圧用圧力基準室(50a)を有し、
    2つの前記センサチップの一方は、前記ダイアフラムとして、前記差圧用ダイアフラムとは別に絶対圧用ダイアフラム(33b)を有するとともに、前記ゲージ抵抗形成面側に形成されたゲージ抵抗を少なくとも含む圧力検出回路を有し、
    前記圧力基準室として、前記絶対圧用ダイアフラムに対応し、真空とされた絶対圧用圧力基準室(50b)を有することを特徴とする圧力センサ。
  6. 前記差圧用ダイアフラムを複数組有し、
    前記差圧用圧力基準室を、前記差圧用ダイアフラムの組数と同数有することを特徴とする請求項5に記載の圧力センサ。
  7. 一面(21,31)に開口する凹部(22,32)の底をなすダイアフラム(23,33)と、前記一面と反対の面(20,30)側に形成され、前記ダイアフラムに形成されたゲージ抵抗(24,34)を少なくとも含む圧力検出回路(25,35)と、をそれぞれ有し、前記ゲージ抵抗の形成面(20,30)が互いに対向するように配置された2つのセンサチップ(11,12)と、
    2つの前記センサチップのゲージ抵抗形成面間に介在され、前記ダイアフラムに対応して形成された貫通孔(40)を有するスペーサ(13)と、
    一部が2つの前記センサチップ及び前記スペーサの少なくとも1つに固定され、前記圧力検出回路と電気的に接続された外部接続端子(14)と、
    前記圧力検出回路と前記外部接続端子との電気的な接続部を被覆するとともに、前記凹部に連通し、前記凹部に圧力媒体を導入するための導入路(61,62)を有するモールド樹脂(15)と、を備え、
    2つの前記センサチップと前記スペーサとは、前記貫通孔の周辺部分においてそれぞれ気密に接合され、2つの前記センサチップのゲージ抵抗形成面と、前記スペーサにおける前記貫通孔の壁面とを有して、圧力基準室(50)が形成されており、
    2つの前記センサチップは、前記ダイアフラムとして、同一の前記貫通孔を挟んで対向配置された差圧用ダイアフラム(23a,33a)を有し、
    前記圧力基準室として、対向配置された一組の前記差圧用ダイアフラムに共通の差圧用圧力基準室(50a)を有し、
    前記差圧用ダイアフラムを複数組有し、
    前記差圧用圧力基準室を、前記差圧用ダイアフラムの組数と同数有することを特徴とする圧力センサ。
  8. 2つの前記センサチップの少なくとも一方は、前記圧力検出回路と電気的に接続された貫通電極(27,37)を有し、
    前記貫通電極を有する前記センサチップの前記圧力検出回路は、前記貫通電極を介して、前記外部接続端子と電気的に接続されていることを特徴とする請求項5〜7いずれか1項に記載の圧力センサ。
  9. 2つの前記センサチップは、前記圧力検出回路と電気的に接続された貫通電極(27,37)をそれぞれ有し、
    2つの前記センサチップの前記圧力検出回路は、前記貫通電極を介して、前記外部接続端子と電気的に接続されていることを特徴とする請求項8に記載の圧力センサ。
  10. 前記差圧用圧力基準室は、真空とされていることを特徴とする請求項1〜9いずれか1項に記載の圧力センサ。
  11. 2つの前記センサチップの少なくとも一方と前記スペーサとにより形成された連結路(51)と、前記モールド樹脂に形成された貫通孔(63)とにより、前記差圧用圧力基準室と外部雰囲気とが連通され、
    前記差圧用圧力基準室は、大気圧とされていることを特徴とする請求項1〜9いずれか1項に記載の圧力センサ。
  12. 2つの前記センサチップと前記スペーサは、いずれもシリコン基板からなり、
    各センサチップと前記スペーサとは、直接接合されていることを特徴とする請求項1〜11いずれか1項に記載の圧力センサ。
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