JP5966321B2 - メタロセン錯体およびオレフィンの重合方法 - Google Patents
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- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 title claims description 84
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 75
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 title claims description 41
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 39
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 143
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 claims description 143
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 104
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 100
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 96
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 claims description 96
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 71
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 45
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 43
- 239000004711 α-olefin Substances 0.000 claims description 40
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 36
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 35
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 33
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 claims description 28
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 28
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 28
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 28
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 claims description 26
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 25
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 claims description 24
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 24
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 22
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 21
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 claims description 21
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 claims description 16
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 claims description 15
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 14
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 11
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 claims description 10
- 238000012685 gas phase polymerization Methods 0.000 claims description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 9
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 8
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 claims description 7
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 claims description 6
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 6
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims description 6
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 claims description 2
- -1 polypropylene Polymers 0.000 description 179
- 239000013256 coordination polymer Substances 0.000 description 105
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 80
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 80
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 78
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 78
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 77
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 61
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 54
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 53
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 48
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 45
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 38
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 35
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 33
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 31
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 30
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 29
- YBYIRNPNPLQARY-UHFFFAOYSA-N 1H-indene Natural products C1=CC=C2CC=CC2=C1 YBYIRNPNPLQARY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 28
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 28
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 28
- 125000003454 indenyl group Chemical group C1(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 28
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 27
- 238000005469 granulation Methods 0.000 description 25
- 230000003179 granulation Effects 0.000 description 25
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 22
- HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M sodium;chloride;hydrate Chemical class O.[Na+].[Cl-] HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 21
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 21
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 20
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 20
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 19
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 19
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 19
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000011949 solid catalyst Substances 0.000 description 18
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 17
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 15
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 15
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 15
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 15
- 230000037048 polymerization activity Effects 0.000 description 15
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 15
- PCLIMKBDDGJMGD-UHFFFAOYSA-N N-bromosuccinimide Chemical compound BrN1C(=O)CCC1=O PCLIMKBDDGJMGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 238000012661 block copolymerization Methods 0.000 description 14
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 14
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 14
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 13
- 229920005629 polypropylene homopolymer Polymers 0.000 description 13
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 13
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 12
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 12
- KJIFKLIQANRMOU-UHFFFAOYSA-N oxidanium;4-methylbenzenesulfonate Chemical compound O.CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 KJIFKLIQANRMOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229920001384 propylene homopolymer Polymers 0.000 description 12
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 11
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 11
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- XLRLOXABKGQENP-UHFFFAOYSA-N ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC2=C(C=3CCCC=3C=C12)C1=CC=CC=C1)C=1OC(=CC=1)C)C1C(=CC2=C(C=3CCCC=3C=C12)C1=CC=CC=C1)C=1OC(=CC=1)C)C)Cl Chemical compound ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC2=C(C=3CCCC=3C=C12)C1=CC=CC=C1)C=1OC(=CC=1)C)C1C(=CC2=C(C=3CCCC=3C=C12)C1=CC=CC=C1)C=1OC(=CC=1)C)C)Cl XLRLOXABKGQENP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 9
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 9
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 9
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 9
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 8
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 8
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 8
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 8
- 150000003623 transition metal compounds Chemical class 0.000 description 8
- 125000001622 2-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C(*)C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 7
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 7
- 238000012662 bulk polymerization Methods 0.000 description 7
- 238000011088 calibration curve Methods 0.000 description 7
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 7
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 7
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 7
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 7
- DUNKXUFBGCUVQW-UHFFFAOYSA-J zirconium tetrachloride Chemical compound Cl[Zr](Cl)(Cl)Cl DUNKXUFBGCUVQW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 7
- RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1Cl RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 1-Butene Chemical compound CCC=C VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 1-hexene Chemical compound CCCCC=C LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VQKFNUFAXTZWDK-UHFFFAOYSA-N 2-Methylfuran Chemical compound CC1=CC=CO1 VQKFNUFAXTZWDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WSSSPWUEQFSQQG-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1-pentene Chemical compound CC(C)CC=C WSSSPWUEQFSQQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L Magnesium chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].[Cl-] TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 6
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- GUJOJGAPFQRJSV-UHFFFAOYSA-N dialuminum;dioxosilane;oxygen(2-);hydrate Chemical compound O.[O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3].O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O GUJOJGAPFQRJSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005194 fractionation Methods 0.000 description 6
- 239000012968 metallocene catalyst Substances 0.000 description 6
- 229910052901 montmorillonite Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 6
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 6
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010703 silicon Chemical group 0.000 description 6
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 1-octene Chemical compound CCCCCCC=C KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- SWZSHAZKJXYVQX-UHFFFAOYSA-N CC(C)(C)C(C=C1)=CC=C1C1=C(C=C(C2[Zr](C3C4=CC(CCC5)=C5C(C5=CC=C(C(C)(C)C)C=C5)=C4C=C3C3=CC=C(C)O3)=[Si](C)C(Cl)Cl)C3=CC=C(C)O3)C2=CC2=C1CCC2 Chemical compound CC(C)(C)C(C=C1)=CC=C1C1=C(C=C(C2[Zr](C3C4=CC(CCC5)=C5C(C5=CC=C(C(C)(C)C)C=C5)=C4C=C3C3=CC=C(C)O3)=[Si](C)C(Cl)Cl)C3=CC=C(C)O3)C2=CC2=C1CCC2 SWZSHAZKJXYVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- SSVCBUNYUIWWQJ-UHFFFAOYSA-N CC1=CC=C(C(C(C2=CC3=C4CCC3)[Zr](C3C5=CC(CCC6)=C6C(C6=CC(C)=CC(C)=C6)=C5C=C3C3=CC=C(C)O3)=[Si](C)C(Cl)Cl)=CC2=C4C2=CC(C)=CC(C)=C2)O1 Chemical compound CC1=CC=C(C(C(C2=CC3=C4CCC3)[Zr](C3C5=CC(CCC6)=C6C(C6=CC(C)=CC(C)=C6)=C5C=C3C3=CC=C(C)O3)=[Si](C)C(Cl)Cl)=CC2=C4C2=CC(C)=CC(C)=C2)O1 SSVCBUNYUIWWQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 5
- FJDQFPXHSGXQBY-UHFFFAOYSA-L caesium carbonate Chemical compound [Cs+].[Cs+].[O-]C([O-])=O FJDQFPXHSGXQBY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 5
- 229910000024 caesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 5
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 5
- 229940052810 complex b Drugs 0.000 description 5
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 5
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 5
- 239000005457 ice water Substances 0.000 description 5
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 5
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 5
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- MCULRUJILOGHCJ-UHFFFAOYSA-N triisobutylaluminium Chemical compound CC(C)C[Al](CC(C)C)CC(C)C MCULRUJILOGHCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- ZGEGCLOFRBLKSE-UHFFFAOYSA-N 1-Heptene Chemical compound CCCCCC=C ZGEGCLOFRBLKSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- AFFLGGQVNFXPEV-UHFFFAOYSA-N 1-decene Chemical compound CCCCCCCCC=C AFFLGGQVNFXPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CRSBERNSMYQZNG-UHFFFAOYSA-N 1-dodecene Chemical compound CCCCCCCCCCC=C CRSBERNSMYQZNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GQEZCXVZFLOKMC-UHFFFAOYSA-N 1-hexadecene Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCC=C GQEZCXVZFLOKMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MCTWTZJPVLRJOU-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-1H-imidazole Chemical compound CN1C=CN=C1 MCTWTZJPVLRJOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical group [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LTYIKGJWINVFOK-UHFFFAOYSA-N BrC1=C2CCCC2=CC=2C=CCC1=2 Chemical compound BrC1=C2CCCC2=CC=2C=CCC1=2 LTYIKGJWINVFOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KKBDLAYNGPZNIM-UHFFFAOYSA-N CC(C)C1=CC(C2=C(C=C(C3[Zr](C4C5=CC(CCC6)=C6C(C6=CC(C(C)C)=CC(C(C)C)=C6)=C5C=C4C4=CC=C(C)O4)=[Si](C)C(Cl)Cl)C4=CC=C(C)O4)C3=CC3=C2CCC3)=CC(C(C)C)=C1 Chemical compound CC(C)C1=CC(C2=C(C=C(C3[Zr](C4C5=CC(CCC6)=C6C(C6=CC(C(C)C)=CC(C(C)C)=C6)=C5C=C4C4=CC=C(C)O4)=[Si](C)C(Cl)Cl)C4=CC=C(C)O4)C3=CC3=C2CCC3)=CC(C(C)C)=C1 KKBDLAYNGPZNIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 4
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 4
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 4
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 4
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 4
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 4
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 4
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 4
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 4
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N pentene Chemical compound CCCC=C YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 4
- HXITXNWTGFUOAU-UHFFFAOYSA-N phenylboronic acid Chemical compound OB(O)C1=CC=CC=C1 HXITXNWTGFUOAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000001637 1-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C(*)=C([H])C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MQKNVCMTTWTYIT-UHFFFAOYSA-N BrC=1CC=2C(=C3CCCC3=CC2C1)C1=CC2=CC=CC=C2C=C1 Chemical compound BrC=1CC=2C(=C3CCCC3=CC2C1)C1=CC2=CC=CC=C2C=C1 MQKNVCMTTWTYIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PAEQWZXITADHCJ-UHFFFAOYSA-N CC(C)(C)C(C=C1)=CC=C1C1=C(CCC2)C2=CC2=C1CC(Br)=C2 Chemical compound CC(C)(C)C(C=C1)=CC=C1C1=C(CCC2)C2=CC2=C1CC(Br)=C2 PAEQWZXITADHCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GAEUEBUYDPCFCS-UHFFFAOYSA-N CC(C)(C)C1=CC=CC(C2=C(C=C(C3[Zr](C4C5=CC(CCC6)=C6C(C6=CC(C(C)(C)C)=CC=C6)=C5C=C4C4=CC=C(C)O4)=[Si](C)C(Cl)Cl)C4=CC=C(C)O4)C3=CC3=C2CCC3)=C1 Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC(C2=C(C=C(C3[Zr](C4C5=CC(CCC6)=C6C(C6=CC(C(C)(C)C)=CC=C6)=C5C=C4C4=CC=C(C)O4)=[Si](C)C(Cl)Cl)C4=CC=C(C)O4)C3=CC3=C2CCC3)=C1 GAEUEBUYDPCFCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PIAJZTCVZNDLQC-UHFFFAOYSA-N CC(C)C1=CC(C2=C(C=C(C3[Si](C)(C)C4C5=CC(CCC6)=C6C(C6=CC(C(C)C)=CC(C(C)C)=C6)=C5C=C4C4=CC=C(C)O4)C4=CC=C(C)O4)C3=CC3=C2CCC3)=CC(C(C)C)=C1 Chemical compound CC(C)C1=CC(C2=C(C=C(C3[Si](C)(C)C4C5=CC(CCC6)=C6C(C6=CC(C(C)C)=CC(C(C)C)=C6)=C5C=C4C4=CC=C(C)O4)C4=CC=C(C)O4)C3=CC3=C2CCC3)=CC(C(C)C)=C1 PIAJZTCVZNDLQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GNHFQHHKYXTVII-UHFFFAOYSA-N CC(C)C1=CC(C2=C(CCC3)C3=CC3=C2CC(C2=CC=C(C)O2)=C3)=CC(C(C)C)=C1 Chemical compound CC(C)C1=CC(C2=C(CCC3)C3=CC3=C2CC(C2=CC=C(C)O2)=C3)=CC(C(C)C)=C1 GNHFQHHKYXTVII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VDWRKLYFDVDJKA-UHFFFAOYSA-N CC1=CC=C(C(C(C2=CC3=C4CCC3)[Si](C)(C)C3C5=CC(CCC6)=C6C(C6=CC=CC=C6)=C5C=C3C3=CC=C(C)O3)=CC2=C4C2=CC=CC=C2)O1 Chemical compound CC1=CC=C(C(C(C2=CC3=C4CCC3)[Si](C)(C)C3C5=CC(CCC6)=C6C(C6=CC=CC=C6)=C5C=C3C3=CC=C(C)O3)=CC2=C4C2=CC=CC=C2)O1 VDWRKLYFDVDJKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SGMSMCPPJWIANS-UHFFFAOYSA-N CC1=CC=C(C(C(C2=CC3=C4CCC3)[Zr](C3C5=CC(CCC6)=C6C(C6=CC7=CC=CC=C7C=C6)=C5C=C3C3=CC=C(C)O3)=[Si](C)C(Cl)Cl)=CC2=C4C2=CC3=CC=CC=C3C=C2)O1 Chemical compound CC1=CC=C(C(C(C2=CC3=C4CCC3)[Zr](C3C5=CC(CCC6)=C6C(C6=CC7=CC=CC=C7C=C6)=C5C=C3C3=CC=C(C)O3)=[Si](C)C(Cl)Cl)=CC2=C4C2=CC3=CC=CC=C3C=C2)O1 SGMSMCPPJWIANS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WUCBAHJWUASLJY-UHFFFAOYSA-N CC1=CC=C(O1)C=1CC=2C(=C3CCCC3=CC=2C=1)C1=CC=CC=C1 Chemical compound CC1=CC=C(O1)C=1CC=2C(=C3CCCC3=CC=2C=1)C1=CC=CC=C1 WUCBAHJWUASLJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KGTPPXGNKWOOEV-UHFFFAOYSA-N ClC([SiH](C)[Zr](C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC=CC=C1)C=1OC(=CC1)CC)C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC=CC=C1)C=1OC(=CC1)C)Cl Chemical compound ClC([SiH](C)[Zr](C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC=CC=C1)C=1OC(=CC1)CC)C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC=CC=C1)C=1OC(=CC1)C)Cl KGTPPXGNKWOOEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VURJFUICFSMHLP-UHFFFAOYSA-N ClC([Si](=[Zr](C1=C(CC=2C(=C3C(=CC12)CCCC3)C3=CC=C(C=C3)C3=CC=CC=C3)C=3OC(=CC3)C)C3=C(CC=1C(=C2C(=CC31)CCCC2)C2=CC=C(C=C2)C2=CC=CC=C2)C=2OC(=CC2)C)C)Cl Chemical compound ClC([Si](=[Zr](C1=C(CC=2C(=C3C(=CC12)CCCC3)C3=CC=C(C=C3)C3=CC=CC=C3)C=3OC(=CC3)C)C3=C(CC=1C(=C2C(=CC31)CCCC2)C2=CC=C(C=C2)C2=CC=CC=C2)C=2OC(=CC2)C)C)Cl VURJFUICFSMHLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ICCIUTKBJXDLGW-UHFFFAOYSA-N ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=C(C=CC=C1)OC)C=1OC(=CC1)C)C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=C(C=CC=C1)OC)C=1OC(=CC1)C)C)Cl Chemical compound ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=C(C=CC=C1)OC)C=1OC(=CC1)C)C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=C(C=CC=C1)OC)C=1OC(=CC1)C)C)Cl ICCIUTKBJXDLGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 3
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 3
- 150000001639 boron compounds Chemical class 0.000 description 3
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 3
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 3
- 150000002467 indacenes Chemical group 0.000 description 3
- 238000006713 insertion reaction Methods 0.000 description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 3
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000012798 spherical particle Substances 0.000 description 3
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 3
- WRECIMRULFAWHA-UHFFFAOYSA-N trimethyl borate Chemical compound COB(OC)OC WRECIMRULFAWHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 3
- 230000004580 weight loss Effects 0.000 description 3
- KXYGKDBONOVZOM-UHFFFAOYSA-N 1h-cyclopenta[a]naphthalene Chemical group C1=CC=CC2=C3CC=CC3=CC=C21 KXYGKDBONOVZOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001541 3-thienyl group Chemical group S1C([H])=C([*])C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZCSUUUITVUDMFS-UHFFFAOYSA-N BrC=1CC=2C(=C3CCCC3=CC2C1)C1=CC(=CC(=C1)C(C)C)C(C)C Chemical compound BrC=1CC=2C(=C3CCCC3=CC2C1)C1=CC(=CC(=C1)C(C)C)C(C)C ZCSUUUITVUDMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IPKLBKLIGKUCAD-UHFFFAOYSA-N BrC=1CC=2C(=C3CCCC3=CC=2C=1)C1=CC=CC=C1 Chemical compound BrC=1CC=2C(=C3CCCC3=CC=2C=1)C1=CC=CC=C1 IPKLBKLIGKUCAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MYDYSKNWFGEZDJ-UHFFFAOYSA-N C(C)(C)C=1C=C(C=C(C1)C(C)C)C1=C2CCCC2=CC=2C=CCC12 Chemical compound C(C)(C)C=1C=C(C=C(C1)C(C)C)C1=C2CCCC2=CC=2C=CCC12 MYDYSKNWFGEZDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZXKAAAKUDASJGV-UHFFFAOYSA-N CC(C)(C)C(C=C1)=CC=C1C1=C(C=C(C2[Si](C)(C)C3C4=CC(CCC5)=C5C(C5=CC=C(C(C)(C)C)C=C5)=C4C=C3C3=CC=C(C)O3)C3=CC=C(C)O3)C2=CC2=C1CCC2 Chemical compound CC(C)(C)C(C=C1)=CC=C1C1=C(C=C(C2[Si](C)(C)C3C4=CC(CCC5)=C5C(C5=CC=C(C(C)(C)C)C=C5)=C4C=C3C3=CC=C(C)O3)C3=CC=C(C)O3)C2=CC2=C1CCC2 ZXKAAAKUDASJGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZYELBTCDEAAUOU-UHFFFAOYSA-N CC(C)(C)C(C=C1)=CC=C1C1=C(CCC2)C2=CC2=C1CC=C2 Chemical compound CC(C)(C)C(C=C1)=CC=C1C1=C(CCC2)C2=CC2=C1CC=C2 ZYELBTCDEAAUOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ORMULXKFRLZVAA-UHFFFAOYSA-N CC(C)(C)C1=CC=CC(C2=C(CCC3)C3=CC3=C2CC(Br)=C3)=C1 Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC(C2=C(CCC3)C3=CC3=C2CC(Br)=C3)=C1 ORMULXKFRLZVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SAUAXTOTAGRFIJ-UHFFFAOYSA-N CC1=CC(C)=CC(C2=C(CCC3)C3=CC3=C2CC=C3)=C1 Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C2=C(CCC3)C3=CC3=C2CC=C3)=C1 SAUAXTOTAGRFIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- USTLNVWGOLPJAA-UHFFFAOYSA-N CC1=CC=C(C(C(C2=CC3=C4CCC3)[Si](C)(C)C3C5=CC(CCC6)=C6C(C6=CC(C)=CC(C)=C6)=C5C=C3C3=CC=C(C)O3)=CC2=C4C2=CC(C)=CC(C)=C2)O1 Chemical compound CC1=CC=C(C(C(C2=CC3=C4CCC3)[Si](C)(C)C3C5=CC(CCC6)=C6C(C6=CC(C)=CC(C)=C6)=C5C=C3C3=CC=C(C)O3)=CC2=C4C2=CC(C)=CC(C)=C2)O1 USTLNVWGOLPJAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MSDAQWJGCZAOPP-UHFFFAOYSA-N CC1=CC=C(C(C(C2=CC=C3)[Zr](C4C5=CC=CC(C6=CC=CC=C6)=C5C=C4C4=CC=C(C)O4)=[Si](C)C(Cl)Cl)=CC2=C3C2=CC=CC=C2)O1 Chemical compound CC1=CC=C(C(C(C2=CC=C3)[Zr](C4C5=CC=CC(C6=CC=CC=C6)=C5C=C4C4=CC=C(C)O4)=[Si](C)C(Cl)Cl)=CC2=C3C2=CC=CC=C2)O1 MSDAQWJGCZAOPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KYJWPJMGLAQETK-UHFFFAOYSA-N CC1=CC=C(C(C(C2=CC=C3C)[Zr](C4C5=CC=C(C)C(C6=CC(C)=CC(C)=C6)=C5C=C4C4=CC=C(C)O4)=[Si](C)C(Cl)Cl)=CC2=C3C2=CC(C)=CC(C)=C2)O1 Chemical compound CC1=CC=C(C(C(C2=CC=C3C)[Zr](C4C5=CC=C(C)C(C6=CC(C)=CC(C)=C6)=C5C=C4C4=CC=C(C)O4)=[Si](C)C(Cl)Cl)=CC2=C3C2=CC(C)=CC(C)=C2)O1 KYJWPJMGLAQETK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NHUDTJLYBYNLFK-UHFFFAOYSA-N CC1=CC=C(C(C2)=CC3=C2C(C2=CC(C)=CC(C)=C2)=C(CCC2)C2=C3)O1 Chemical compound CC1=CC=C(C(C2)=CC3=C2C(C2=CC(C)=CC(C)=C2)=C(CCC2)C2=C3)O1 NHUDTJLYBYNLFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CRBBMMJPJVIZTJ-UHFFFAOYSA-N CC1=CC=C(O1)C=1CC=2C(=C3C(=CC2C1[Zr])CCCC3)C3=CC=C(C=C3)CCC Chemical compound CC1=CC=C(O1)C=1CC=2C(=C3C(=CC2C1[Zr])CCCC3)C3=CC=C(C=C3)CCC CRBBMMJPJVIZTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XVACJRLDIBJFRR-UHFFFAOYSA-N CC1=CC=C(O1)C=1CC=2C(=C3C(=CC2C1[Zr])CCCC3)C3=CC=C(C=C3)[Si](C)(C)C Chemical compound CC1=CC=C(O1)C=1CC=2C(=C3C(=CC2C1[Zr])CCCC3)C3=CC=C(C=C3)[Si](C)(C)C XVACJRLDIBJFRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 2
- WDXSHLZNKPIGPF-UHFFFAOYSA-N ClC([Si](=[Zr](C1=C(CC=2C(=C3C(=CC12)CCCC3)C3=C(C=CC=C3)C)C=3OC(=CC3)C)C3=C(CC=1C(=C2C(=CC31)CCCC2)C2=C(C=CC=C2)C)C=2OC(=CC2)C)C)Cl Chemical compound ClC([Si](=[Zr](C1=C(CC=2C(=C3C(=CC12)CCCC3)C3=C(C=CC=C3)C)C=3OC(=CC3)C)C3=C(CC=1C(=C2C(=CC31)CCCC2)C2=C(C=CC=C2)C)C=2OC(=CC2)C)C)Cl WDXSHLZNKPIGPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JPWRBFMUDDJJQQ-UHFFFAOYSA-N ClC([Si](=[Zr](C1=C(CC=2C(=C3C(=CC12)CCCC3)C3=CC(=CC(=C3)C)C)C=3OC(=CC3)C)C3=C(CC=1C(=C2C(=CC31)CCCC2)C2=CC(=CC(=C2)C)C)C=2OC(=CC2)C)C)Cl Chemical compound ClC([Si](=[Zr](C1=C(CC=2C(=C3C(=CC12)CCCC3)C3=CC(=CC(=C3)C)C)C=3OC(=CC3)C)C3=C(CC=1C(=C2C(=CC31)CCCC2)C2=CC(=CC(=C2)C)C)C=2OC(=CC2)C)C)Cl JPWRBFMUDDJJQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GLNRQXNSADWNFU-UHFFFAOYSA-N ClC([Si](=[Zr](C1=C(CC=2C(=C3C(=CC12)CCCC3)C3=CC(=CC=C3)C)C=3OC(=CC3)C)C3=C(CC=1C(=C2C(=CC31)CCCC2)C2=CC(=CC=C2)C)C=2OC(=CC2)C)C)Cl Chemical compound ClC([Si](=[Zr](C1=C(CC=2C(=C3C(=CC12)CCCC3)C3=CC(=CC=C3)C)C=3OC(=CC3)C)C3=C(CC=1C(=C2C(=CC31)CCCC2)C2=CC(=CC=C2)C)C=2OC(=CC2)C)C)Cl GLNRQXNSADWNFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SVCHGXQNKLJZJD-UHFFFAOYSA-N ClC([Si](=[Zr](C1=C(CC=2C(=C3C(=CC12)CCCC3)C3=CC=C(C=C3)C(C)(C)C)C=3OC(=CC3)C)C3=C(CC=1C(=C2C(=CC31)CCCC2)C2=CC=C(C=C2)C(C)(C)C)C=2OC(=CC2)C)C)Cl Chemical compound ClC([Si](=[Zr](C1=C(CC=2C(=C3C(=CC12)CCCC3)C3=CC=C(C=C3)C(C)(C)C)C=3OC(=CC3)C)C3=C(CC=1C(=C2C(=CC31)CCCC2)C2=CC=C(C=C2)C(C)(C)C)C=2OC(=CC2)C)C)Cl SVCHGXQNKLJZJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HFJBAMPZZMWMQS-UHFFFAOYSA-N ClC([Si](=[Zr](C1=C(CC=2C(=C3C(=CC12)CCCC3)C3=CC=C(C=C3)C)C=3OC(=CC3)C)C3=C(CC=1C(=C2C(=CC31)CCCC2)C2=CC=C(C=C2)C)C=2OC(=CC2)C)C)Cl Chemical compound ClC([Si](=[Zr](C1=C(CC=2C(=C3C(=CC12)CCCC3)C3=CC=C(C=C3)C)C=3OC(=CC3)C)C3=C(CC=1C(=C2C(=CC31)CCCC2)C2=CC=C(C=C2)C)C=2OC(=CC2)C)C)Cl HFJBAMPZZMWMQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WSOUPOOXZMKRND-UHFFFAOYSA-N ClC([Si](=[Zr](C1=C(CC=2C(=C3C(=CC12)CCCC3)C3=CC=C(C=C3)Cl)C=3OC(=CC3)C)C3=C(CC=1C(=C2C(=CC31)CCCC2)C2=CC=C(C=C2)Cl)C=2OC(=CC2)C)C)Cl Chemical compound ClC([Si](=[Zr](C1=C(CC=2C(=C3C(=CC12)CCCC3)C3=CC=C(C=C3)Cl)C=3OC(=CC3)C)C3=C(CC=1C(=C2C(=CC31)CCCC2)C2=CC=C(C=C2)Cl)C=2OC(=CC2)C)C)Cl WSOUPOOXZMKRND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFKIJQZEYWXPEN-UHFFFAOYSA-N ClC([Si](=[Zr](C1=C(CC=2C(=C3C(=CC12)CCCC3)C3=CC=CC=C3)C=3OC(=CC3)C)C3=C(CC=1C(=C2C(=CC31)CCCC2)C2=CC=CC=C2)C=2OC(=CC2)C)C)Cl Chemical compound ClC([Si](=[Zr](C1=C(CC=2C(=C3C(=CC12)CCCC3)C3=CC=CC=C3)C=3OC(=CC3)C)C3=C(CC=1C(=C2C(=CC31)CCCC2)C2=CC=CC=C2)C=2OC(=CC2)C)C)Cl UFKIJQZEYWXPEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JZCMWJZMLYLINV-UHFFFAOYSA-N ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=C(C=CC=C1)C)C=1OC(=CC1)C)C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=C(C=CC=C1)C)C=1OC(=CC1)C)C)Cl Chemical compound ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=C(C=CC=C1)C)C=1OC(=CC1)C)C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=C(C=CC=C1)C)C=1OC(=CC1)C)C)Cl JZCMWJZMLYLINV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QHFPCVAJQODXKF-UHFFFAOYSA-N ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=C(C=CC=C1)CC)C=1OC(=CC1)C)C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=C(C=CC=C1)CC)C=1OC(=CC1)C)C)Cl Chemical compound ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=C(C=CC=C1)CC)C=1OC(=CC1)C)C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=C(C=CC=C1)CC)C=1OC(=CC1)C)C)Cl QHFPCVAJQODXKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WNAVHDBYMKKKTK-UHFFFAOYSA-N ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=C(C=CC=C1)Cl)C=1OC(=CC1)C)C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=C(C=CC=C1)Cl)C=1OC(=CC1)C)C)Cl Chemical compound ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=C(C=CC=C1)Cl)C=1OC(=CC1)C)C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=C(C=CC=C1)Cl)C=1OC(=CC1)C)C)Cl WNAVHDBYMKKKTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DMOFOARBMHQUIJ-UHFFFAOYSA-N ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC(=C(C(=C1)C)C)C)C=1OC(=CC1)C)C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC(=C(C(=C1)C)C)C)C=1OC(=CC1)C)C)Cl Chemical compound ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC(=C(C(=C1)C)C)C)C=1OC(=CC1)C)C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC(=C(C(=C1)C)C)C)C=1OC(=CC1)C)C)Cl DMOFOARBMHQUIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WNNQRBPTFRMVCL-UHFFFAOYSA-N ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC(=C(C(=C1)C)[Si](C)(C)C)C)C=1OC(=CC1)C)C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC(=C(C(=C1)C)[Si](C)(C)C)C)C=1OC(=CC1)C)C)Cl Chemical compound ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC(=C(C(=C1)C)[Si](C)(C)C)C)C=1OC(=CC1)C)C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC(=C(C(=C1)C)[Si](C)(C)C)C)C=1OC(=CC1)C)C)Cl WNNQRBPTFRMVCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BOOAJSVRNMMPRG-UHFFFAOYSA-N ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC(=C(C(=C1)Cl)[Si](C)(C)C)Cl)C=1OC(=CC1)C)C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC(=C(C(=C1)Cl)[Si](C)(C)C)Cl)C=1OC(=CC1)C)C)Cl Chemical compound ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC(=C(C(=C1)Cl)[Si](C)(C)C)Cl)C=1OC(=CC1)C)C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC(=C(C(=C1)Cl)[Si](C)(C)C)Cl)C=1OC(=CC1)C)C)Cl BOOAJSVRNMMPRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UGPPZHBYRANXFI-UHFFFAOYSA-N ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC(=CC(=C1)C(C)(C)C)C(C)(C)C)C=1OC(=CC1)C)C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC(=CC(=C1)C(C)(C)C)C(C)(C)C)C=1OC(=CC1)C)C)Cl Chemical compound ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC(=CC(=C1)C(C)(C)C)C(C)(C)C)C=1OC(=CC1)C)C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC(=CC(=C1)C(C)(C)C)C(C)(C)C)C=1OC(=CC1)C)C)Cl UGPPZHBYRANXFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CRPFHDBGYSLTIV-UHFFFAOYSA-N ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC(=CC(=C1)C)C)C=1OC(=C(C1)C)C)C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC(=CC(=C1)C)C)C=1OC(=C(C1)C)C)C)Cl Chemical compound ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC(=CC(=C1)C)C)C=1OC(=C(C1)C)C)C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC(=CC(=C1)C)C)C=1OC(=C(C1)C)C)C)Cl CRPFHDBGYSLTIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCXFEOXJNHYSNK-UHFFFAOYSA-N ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC(=CC(=C1)C)C)C=1OC(=CC1)C1=CC=CC=C1)C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC(=CC(=C1)C)C)C=1OC(=CC1)C1=CC=CC=C1)C)Cl Chemical compound ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC(=CC(=C1)C)C)C=1OC(=CC1)C1=CC=CC=C1)C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC(=CC(=C1)C)C)C=1OC(=CC1)C1=CC=CC=C1)C)Cl MCXFEOXJNHYSNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BCNSJNUXRUFRGD-UHFFFAOYSA-N ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC(=CC(=C1)CCC)CCC)C=1OC(=CC1)C)C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC(=CC(=C1)CCC)CCC)C=1OC(=CC1)C)C)Cl Chemical compound ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC(=CC(=C1)CCC)CCC)C=1OC(=CC1)C)C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC(=CC(=C1)CCC)CCC)C=1OC(=CC1)C)C)Cl BCNSJNUXRUFRGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FBABACWJPZDRHI-UHFFFAOYSA-N ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC(=CC=C1)C)C=1OC(=CC1)C)C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC(=CC=C1)C)C=1OC(=CC1)C)C)Cl Chemical compound ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC(=CC=C1)C)C=1OC(=CC1)C)C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC(=CC=C1)C)C=1OC(=CC1)C)C)Cl FBABACWJPZDRHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VJWAEMQMKBOMEJ-UHFFFAOYSA-N ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC(=CC=C1)Cl)C=1OC(=CC1)C)C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC(=CC=C1)Cl)C=1OC(=CC1)C)C)Cl Chemical compound ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC(=CC=C1)Cl)C=1OC(=CC1)C)C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC(=CC=C1)Cl)C=1OC(=CC1)C)C)Cl VJWAEMQMKBOMEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TZRRMGDRDTXAEP-UHFFFAOYSA-N ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC(=CC=C1)OC)C=1OC(=CC1)C)C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC(=CC=C1)OC)C=1OC(=CC1)C)C)Cl Chemical compound ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC(=CC=C1)OC)C=1OC(=CC1)C)C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC(=CC=C1)OC)C=1OC(=CC1)C)C)Cl TZRRMGDRDTXAEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAAOADVJFPFDAG-UHFFFAOYSA-N ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC=C(C=C1)C(F)(F)F)C=1OC(=CC1)C)C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC=C(C=C1)C(F)(F)F)C=1OC(=CC1)C)C)Cl Chemical compound ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC=C(C=C1)C(F)(F)F)C=1OC(=CC1)C)C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC=C(C=C1)C(F)(F)F)C=1OC(=CC1)C)C)Cl QAAOADVJFPFDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QHMFIMUYVADJLJ-UHFFFAOYSA-N ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC=C(C=C1)C)C=1OC(=CC1)C)C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC=C(C=C1)C)C=1OC(=CC1)C)C)Cl Chemical compound ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC=C(C=C1)C)C=1OC(=CC1)C)C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC=C(C=C1)C)C=1OC(=CC1)C)C)Cl QHMFIMUYVADJLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RSPBHZDKKLSLJZ-UHFFFAOYSA-N ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC=C(C=C1)CCC)C=1OC(=CC1)C)C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC=C(C=C1)CCC)C=1OC(=CC1)C)C)Cl Chemical compound ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC=C(C=C1)CCC)C=1OC(=CC1)C)C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC=C(C=C1)CCC)C=1OC(=CC1)C)C)Cl RSPBHZDKKLSLJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VCLOAGHIHXKGLD-UHFFFAOYSA-N ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC=C(C=C1)Cl)C=1OC(=CC1)C)C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC=C(C=C1)Cl)C=1OC(=CC1)C)C)Cl Chemical compound ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC=C(C=C1)Cl)C=1OC(=CC1)C)C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC=C(C=C1)Cl)C=1OC(=CC1)C)C)Cl VCLOAGHIHXKGLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WDAQNEXPUCDPCZ-UHFFFAOYSA-N ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC=C(C=C1)OC)C=1OC(=CC1)C)C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC=C(C=C1)OC)C=1OC(=CC1)C)C)Cl Chemical compound ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC=C(C=C1)OC)C=1OC(=CC1)C)C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC=C(C=C1)OC)C=1OC(=CC1)C)C)Cl WDAQNEXPUCDPCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FRLMSAPGJFPGTP-UHFFFAOYSA-N ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC=CC=C1)C=1OC(=CC1)C)C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC=CC=C1)C)C)Cl Chemical compound ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC=CC=C1)C=1OC(=CC1)C)C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC=CC=C1)C)C)Cl FRLMSAPGJFPGTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BTPVLWVTOQHYNU-UHFFFAOYSA-N ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC=CC=C1)C=1OC(=CC1)C)C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC=CC=C1)CC)C)Cl Chemical compound ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC=CC=C1)C=1OC(=CC1)C)C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC=CC=C1)CC)C)Cl BTPVLWVTOQHYNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PEQLQYZNIMRPSI-UHFFFAOYSA-N ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC=CC=C1)C=1OC(=CC1)C)C1C=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC=CC=C1)C)Cl Chemical compound ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC=CC=C1)C=1OC(=CC1)C)C1C=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC=CC=C1)C)Cl PEQLQYZNIMRPSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAWSGGFIOAWGEF-UHFFFAOYSA-N ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC=CC=C1)C=1OC(=CC1)[Si](C)(C)C)C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC=CC=C1)C=1OC(=CC1)C)C)Cl Chemical compound ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC=CC=C1)C=1OC(=CC1)[Si](C)(C)C)C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC=CC=C1)C=1OC(=CC1)C)C)Cl BAWSGGFIOAWGEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MECPKUWKWWOVLB-UHFFFAOYSA-N ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C=1C2=CC=CC=C2C=2C=CC=CC2C1)C=1OC(=CC1)C)C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C=1C2=CC=CC=C2C=2C=CC=CC2C1)C=1OC(=CC1)C)C)Cl Chemical compound ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C=1C2=CC=CC=C2C=2C=CC=CC2C1)C=1OC(=CC1)C)C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C=1C2=CC=CC=C2C=2C=CC=CC2C1)C=1OC(=CC1)C)C)Cl MECPKUWKWWOVLB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FCBIMWBUDMHKRC-UHFFFAOYSA-N ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC=2C(=C3C(=CC12)C=CC=C3)C3=C(C=CC=C3)C)C=3OC(=CC3)C)C3C(=CC=1C(=C2C(=CC31)C=CC=C2)C2=C(C=CC=C2)C)C=2OC(=CC2)C)C)Cl Chemical compound ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC=2C(=C3C(=CC12)C=CC=C3)C3=C(C=CC=C3)C)C=3OC(=CC3)C)C3C(=CC=1C(=C2C(=CC31)C=CC=C2)C2=C(C=CC=C2)C)C=2OC(=CC2)C)C)Cl FCBIMWBUDMHKRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IHHQNIFLIHMXIB-UHFFFAOYSA-N ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC=2C(=C3C(=CC12)C=CC=C3)C3=CC(=CC(=C3)C)C)C=3OC(=CC3)C)C3C(=CC=1C(=C2C(=CC31)C=CC=C2)C2=CC(=CC(=C2)C)C)C=2OC(=CC2)C)C)Cl Chemical compound ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC=2C(=C3C(=CC12)C=CC=C3)C3=CC(=CC(=C3)C)C)C=3OC(=CC3)C)C3C(=CC=1C(=C2C(=CC31)C=CC=C2)C2=CC(=CC(=C2)C)C)C=2OC(=CC2)C)C)Cl IHHQNIFLIHMXIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IHRUJAKXYDNANC-UHFFFAOYSA-N ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC=2C(=C3C(=CC12)C=CC=C3)C3=CC(=CC=C3)C)C=3OC(=CC3)C)C3C(=CC=1C(=C2C(=CC31)C=CC=C2)C2=CC(=CC=C2)C)C=2OC(=CC2)C)C)Cl Chemical compound ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC=2C(=C3C(=CC12)C=CC=C3)C3=CC(=CC=C3)C)C=3OC(=CC3)C)C3C(=CC=1C(=C2C(=CC31)C=CC=C2)C2=CC(=CC=C2)C)C=2OC(=CC2)C)C)Cl IHRUJAKXYDNANC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TUCJMXMHOVEOHO-UHFFFAOYSA-N ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC=2C(=C3C(=CC12)C=CC=C3)C3=CC=C(C=C3)C(C)(C)C)C=3OC(=CC3)C)C3C(=CC=1C(=C2C(=CC31)C=CC=C2)C2=CC=C(C=C2)C(C)(C)C)C=2OC(=CC2)C)C)Cl Chemical compound ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC=2C(=C3C(=CC12)C=CC=C3)C3=CC=C(C=C3)C(C)(C)C)C=3OC(=CC3)C)C3C(=CC=1C(=C2C(=CC31)C=CC=C2)C2=CC=C(C=C2)C(C)(C)C)C=2OC(=CC2)C)C)Cl TUCJMXMHOVEOHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CHWFCGHWVRISCG-UHFFFAOYSA-N ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC=2C(=C3C(=CC12)C=CC=C3)C3=CC=C(C=C3)C)C=3OC(=CC3)C)C3C(=CC=1C(=C2C(=CC31)C=CC=C2)C2=CC=C(C=C2)C)C=2OC(=CC2)C)C)Cl Chemical compound ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC=2C(=C3C(=CC12)C=CC=C3)C3=CC=C(C=C3)C)C=3OC(=CC3)C)C3C(=CC=1C(=C2C(=CC31)C=CC=C2)C2=CC=C(C=C2)C)C=2OC(=CC2)C)C)Cl CHWFCGHWVRISCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLCCVEKGFVNGEB-UHFFFAOYSA-N ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC=2C(=C3C(=CC12)C=CC=C3)C3=CC=C(C=C3)C3=CC=CC=C3)C=3OC(=CC3)C)C3C(=CC=1C(=C2C(=CC31)C=CC=C2)C2=CC=C(C=C2)C2=CC=CC=C2)C=2OC(=CC2)C)C)Cl Chemical compound ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC=2C(=C3C(=CC12)C=CC=C3)C3=CC=C(C=C3)C3=CC=CC=C3)C=3OC(=CC3)C)C3C(=CC=1C(=C2C(=CC31)C=CC=C2)C2=CC=C(C=C2)C2=CC=CC=C2)C=2OC(=CC2)C)C)Cl NLCCVEKGFVNGEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GKUWTTNZCIRCKN-UHFFFAOYSA-N ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC=2C(=C3C(=CC12)C=CC=C3)C3=CC=C(C=C3)Cl)C=3OC(=CC3)C)C3C(=CC=1C(=C2C(=CC31)C=CC=C2)C2=CC=C(C=C2)Cl)C=2OC(=CC2)C)C)Cl Chemical compound ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC=2C(=C3C(=CC12)C=CC=C3)C3=CC=C(C=C3)Cl)C=3OC(=CC3)C)C3C(=CC=1C(=C2C(=CC31)C=CC=C2)C2=CC=C(C=C2)Cl)C=2OC(=CC2)C)C)Cl GKUWTTNZCIRCKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MXEWWAGNSJGAQM-UHFFFAOYSA-N ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC=2C(=C3C(=CC12)C=CC=C3)C3=CC=C(C=C3)[Si](C)(C)C)C=3OC(=CC3)C)C3C(=CC=1C(=C2C(=CC31)C=CC=C2)C2=CC=C(C=C2)[Si](C)(C)C)C=2OC(=CC2)C)C)Cl Chemical compound ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC=2C(=C3C(=CC12)C=CC=C3)C3=CC=C(C=C3)[Si](C)(C)C)C=3OC(=CC3)C)C3C(=CC=1C(=C2C(=CC31)C=CC=C2)C2=CC=C(C=C2)[Si](C)(C)C)C=2OC(=CC2)C)C)Cl MXEWWAGNSJGAQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XGAPHQDFGMAZHH-UHFFFAOYSA-N ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC=2C(=C3C(=CC12)C=CC=C3)C3=CC=CC=C3)C=3OC(=CC3)C)C3C(=CC=1C(=C2C(=CC31)C=CC=C2)C2=CC=CC=C2)C=2OC(=CC2)C)C)Cl Chemical compound ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC=2C(=C3C(=CC12)C=CC=C3)C3=CC=CC=C3)C=3OC(=CC3)C)C3C(=CC=1C(=C2C(=CC31)C=CC=C2)C2=CC=CC=C2)C=2OC(=CC2)C)C)Cl XGAPHQDFGMAZHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910020366 ClO 4 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920000089 Cyclic olefin copolymer Polymers 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 150000001450 anions Chemical group 0.000 description 2
- 125000005428 anthryl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C3C(*)=C([H])C([H])=C([H])C3=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 2
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 2
- 125000000068 chlorophenyl group Chemical class 0.000 description 2
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 2
- 125000001664 diethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])N(*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- 229940069096 dodecene Drugs 0.000 description 2
- LDLDYFCCDKENPD-UHFFFAOYSA-N ethenylcyclohexane Chemical compound C=CC1CCCCC1 LDLDYFCCDKENPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 2
- 238000002523 gelfiltration Methods 0.000 description 2
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 2
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N n-Octanol Natural products CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001181 organosilyl group Chemical group [SiH3]* 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000005561 phenanthryl group Chemical group 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 2
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 2
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 2
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000269 smectite group Inorganic materials 0.000 description 2
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M sodium hydroxide Inorganic materials [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 230000003335 steric effect Effects 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004665 trialkylsilyl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000005671 trienes Chemical class 0.000 description 2
- LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K tripotassium phosphate Chemical compound [K+].[K+].[K+].[O-]P([O-])([O-])=O LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- OBAJXDYVZBHCGT-UHFFFAOYSA-N tris(pentafluorophenyl)borane Chemical compound FC1=C(F)C(F)=C(F)C(F)=C1B(C=1C(=C(F)C(F)=C(F)C=1F)F)C1=C(F)C(F)=C(F)C(F)=C1F OBAJXDYVZBHCGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930195735 unsaturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- CFJUXEAYSIGXTF-UHFFFAOYSA-N (2-methylpropan-2-yl)oxy-phenylborinic acid Chemical compound CC(C)(C)OB(O)C1=CC=CC=C1 CFJUXEAYSIGXTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMJIDBVSSSPRII-UHFFFAOYSA-N (5-methylfuran-2-yl)boronic acid Chemical compound CC1=CC=C(B(O)O)O1 LMJIDBVSSSPRII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004169 (C1-C6) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- DLPLSPFDCWVQHG-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,5-tetrahydro-s-indacene Chemical compound C1=C2CCCC2=CC2=C1C=CC2 DLPLSPFDCWVQHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OLUVNSGCKHZQJQ-UHFFFAOYSA-N 1-cyclohexyl-4-(4-cyclohexylphenyl)benzene Chemical group C1CCCCC1C1=CC=C(C=2C=CC(=CC=2)C2CCCCC2)C=C1 OLUVNSGCKHZQJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001644 13C nuclear magnetic resonance spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 125000004206 2,2,2-trifluoroethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C(F)(F)F 0.000 description 1
- HXHLQNRDRDXMIP-UHFFFAOYSA-N 2,5-dimethylsilolane Chemical compound CC1CCC(C)[SiH2]1 HXHLQNRDRDXMIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 2-Methylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002941 2-furyl group Chemical group O1C([*])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1h-imidazole Chemical compound CC1=NC=CN1 LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000175 2-thienyl group Chemical group S1C([*])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000003682 3-furyl group Chemical group O1C([H])=C([*])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- YHQXBTXEYZIYOV-UHFFFAOYSA-N 3-methylbut-1-ene Chemical compound CC(C)C=C YHQXBTXEYZIYOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGCRXHYTNRMHCF-UHFFFAOYSA-N 6-methyl-2-(2-methylpropyl)oxaluminane Chemical compound CC(C)C[Al]1CCCC(C)O1 KGCRXHYTNRMHCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- 208000010392 Bone Fractures Diseases 0.000 description 1
- LJJNSDMKESIYTA-UHFFFAOYSA-N BrC1=C2CCC(C2=CC=2CCCC12)=O.BrC1=C2CCCC2=CC=2C=CCC12 Chemical compound BrC1=C2CCC(C2=CC=2CCCC12)=O.BrC1=C2CCCC2=CC=2C=CCC12 LJJNSDMKESIYTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMDDDRPMMISOCV-UHFFFAOYSA-N BrC1=C2CCCC2=CC=2C=CCC12.C1(=CC=CC=C1)C1=C2CCCC2=CC=2C=CCC12 Chemical compound BrC1=C2CCCC2=CC=2C=CCC12.C1(=CC=CC=C1)C1=C2CCCC2=CC=2C=CCC12 BMDDDRPMMISOCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFCGTMWYRFLUJO-UHFFFAOYSA-N BrC=1CC=2C=C3CCCC3=CC=2C=1 Chemical compound BrC=1CC=2C=C3CCCC3=CC=2C=1 BFCGTMWYRFLUJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIJUYXHAUCMENQ-UHFFFAOYSA-N C(C)(C)(C)C=1C=C(C=CC1)B(O)O.C(C)(C)(C)C=1C=C(C=CC1)C1=C2CCCC2=CC=2C=CCC12 Chemical compound C(C)(C)(C)C=1C=C(C=CC1)B(O)O.C(C)(C)(C)C=1C=C(C=CC1)C1=C2CCCC2=CC=2C=CCC12 YIJUYXHAUCMENQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJSVCSHOEQNRSQ-UHFFFAOYSA-N C(C)(C)(C)C=1C=C(C=CC1)C1=C2CCCC2=CC=2C=CCC12 Chemical compound C(C)(C)(C)C=1C=C(C=CC1)C1=C2CCCC2=CC=2C=CCC12 XJSVCSHOEQNRSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VQNQKZMTEKCPCN-UHFFFAOYSA-N C1=C(C=CC2=CC=CC=C12)B(O)O.C1=C(C=CC2=CC=CC=C12)C1=C2CCCC2=CC=2C=CCC12 Chemical compound C1=C(C=CC2=CC=CC=C12)B(O)O.C1=C(C=CC2=CC=CC=C12)C1=C2CCCC2=CC=2C=CCC12 VQNQKZMTEKCPCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PUFKFMXOANLTJU-UHFFFAOYSA-N C1=C(C=CC2=CC=CC=C12)C1=C2CCCC2=CC=2C=CCC12 Chemical compound C1=C(C=CC2=CC=CC=C12)C1=C2CCCC2=CC=2C=CCC12 PUFKFMXOANLTJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IIMIASQIOFBBPR-UHFFFAOYSA-N CC1=CC=C(O1)C1CCC2=C(C=3CC=CC3C=C12)C1=CC(=CC(=C1)C)C Chemical compound CC1=CC=C(O1)C1CCC2=C(C=3CC=CC3C=C12)C1=CC(=CC(=C1)C)C IIMIASQIOFBBPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MDAUNBRQZDOLMH-UHFFFAOYSA-N CC1=CC=C(O1)C1CCC2=C(C=3CC=CC3C=C12)C1=CC=C(C=C1)C(C)(C)C Chemical compound CC1=CC=C(O1)C1CCC2=C(C=3CC=CC3C=C12)C1=CC=C(C=C1)C(C)(C)C MDAUNBRQZDOLMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XCSNCOIYRBCIKX-UHFFFAOYSA-N CC1=CC=C(O1)C=1CC=2C(=C3CCCC3=CC2C1)C1=CC(=CC=C1)C(C)(C)C Chemical compound CC1=CC=C(O1)C=1CC=2C(=C3CCCC3=CC2C1)C1=CC(=CC=C1)C(C)(C)C XCSNCOIYRBCIKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IQQGHLGHUUNEII-UHFFFAOYSA-N CC1=CC=C(O1)C=1CC=2C(=C3CCCC3=CC2C1)C1=CC(=CC=C1)C(C)(C)C.C[Si](C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC(=CC=C1)C(C)(C)C)C=1OC(=CC1)C)(C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC(=CC=C1)C(C)(C)C)C=1OC(=CC1)C)C Chemical compound CC1=CC=C(O1)C=1CC=2C(=C3CCCC3=CC2C1)C1=CC(=CC=C1)C(C)(C)C.C[Si](C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC(=CC=C1)C(C)(C)C)C=1OC(=CC1)C)(C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC(=CC=C1)C(C)(C)C)C=1OC(=CC1)C)C IQQGHLGHUUNEII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNZBDDOYABDYAK-UHFFFAOYSA-N CC1=CC=C(O1)C=1CC=2C(=C3CCCC3=CC2C1)C1=CC2=CC=CC=C2C=C1.C[Si](C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC2=CC=CC=C2C=C1)C=1OC(=CC1)C)(C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC2=CC=CC=C2C=C1)C=1OC(=CC1)C)C Chemical compound CC1=CC=C(O1)C=1CC=2C(=C3CCCC3=CC2C1)C1=CC2=CC=CC=C2C=C1.C[Si](C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC2=CC=CC=C2C=C1)C=1OC(=CC1)C)(C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC2=CC=CC=C2C=C1)C=1OC(=CC1)C)C MNZBDDOYABDYAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMBYUUPRLOGAEP-UHFFFAOYSA-N CC1=CC=C(O1)C=1CC=2C(=C3CCCC3=CC2C1)C1=CC=C(C=C1)C(C)(C)C Chemical compound CC1=CC=C(O1)C=1CC=2C(=C3CCCC3=CC2C1)C1=CC=C(C=C1)C(C)(C)C BMBYUUPRLOGAEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSZQYEXXRQLKJI-UHFFFAOYSA-N CC1=Cc2c(cccc2-c2ccccc2)C1[Zr] Chemical compound CC1=Cc2c(cccc2-c2ccccc2)C1[Zr] YSZQYEXXRQLKJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIHFSKNUINCHLK-UHFFFAOYSA-N CC=1C=C(C=C(C1)C)B(O)O.CC=1C=C(C=C(C1)C)C1=C2CCCC2=CC=2C=CCC12 Chemical compound CC=1C=C(C=C(C1)C)B(O)O.CC=1C=C(C=C(C1)C)C1=C2CCCC2=CC=2C=CCC12 LIHFSKNUINCHLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRUQONIANCBQOF-UHFFFAOYSA-N CC=1OC=CC1.CC1=CC=C(O1)C=1CC=2C(=C3CCCC3=CC2C1)C1=CC(=CC=C1)C(C)(C)C Chemical compound CC=1OC=CC1.CC1=CC=C(O1)C=1CC=2C(=C3CCCC3=CC2C1)C1=CC(=CC=C1)C(C)(C)C LRUQONIANCBQOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JMKLPRWYAXGANL-UHFFFAOYSA-N CC=1OC=CC1.CC1=CC=C(O1)C=1CC=2C(=C3CCCC3=CC2C1)C1=CC2=CC=CC=C2C=C1 Chemical compound CC=1OC=CC1.CC1=CC=C(O1)C=1CC=2C(=C3CCCC3=CC2C1)C1=CC2=CC=CC=C2C=C1 JMKLPRWYAXGANL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NAFFLCJQTWWPPG-UHFFFAOYSA-N CC=1OC=CC1.CC1=CC=C(O1)C=1CC=2C(=C3CCCC3=CC2C1)C1=CC=C(C=C1)C(C)(C)C Chemical compound CC=1OC=CC1.CC1=CC=C(O1)C=1CC=2C(=C3CCCC3=CC2C1)C1=CC=C(C=C1)C(C)(C)C NAFFLCJQTWWPPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZLJBQFXTIJKLR-UHFFFAOYSA-N C[Si](C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC(=CC=C1)C(C)(C)C)C=1OC(=CC1)C)(C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC(=CC=C1)C(C)(C)C)C=1OC(=CC1)C)C Chemical compound C[Si](C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC(=CC=C1)C(C)(C)C)C=1OC(=CC1)C)(C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC(=CC=C1)C(C)(C)C)C=1OC(=CC1)C)C ZZLJBQFXTIJKLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMCGJJNESYRTJY-UHFFFAOYSA-N ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC(=CC(=C1)C)C)C=1SC(=CC1)C)C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC(=CC(=C1)C)C)C=1SC(=CC1)C)C)Cl Chemical compound ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC(=CC(=C1)C)C)C=1SC(=CC1)C)C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC(=CC(=C1)C)C)C=1SC(=CC1)C)C)Cl ZMCGJJNESYRTJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VWZZWGFBCIASDV-UHFFFAOYSA-N ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC(=CC(=C1)CC)CC)C=1OC(=CC1)C)C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC(=CC(=C1)CC)CC)C=1OC(=CC1)C)C)Cl Chemical compound ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC(=CC(=C1)CC)CC)C=1OC(=CC1)C)C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC(=CC(=C1)CC)CC)C=1OC(=CC1)C)C)Cl VWZZWGFBCIASDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNVVUEBRDYALSX-UHFFFAOYSA-N ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC(=CC(=C1)OC)OC)C=1OC(=CC1)C)C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC(=CC(=C1)OC)OC)C=1OC(=CC1)C)C)Cl Chemical compound ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC(=CC(=C1)OC)OC)C=1OC(=CC1)C)C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC(=CC(=C1)OC)OC)C=1OC(=CC1)C)C)Cl GNVVUEBRDYALSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZILJTWBSWIIXSE-UHFFFAOYSA-N ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC=C(C=C1)CC)C=1OC(=CC1)C)C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC=C(C=C1)CC)C=1OC(=CC1)C)C)Cl Chemical compound ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC=C(C=C1)CC)C=1OC(=CC1)C)C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC=C(C=C1)CC)C=1OC(=CC1)C)C)Cl ZILJTWBSWIIXSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQTCXHKPAYDMHB-UHFFFAOYSA-N ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC2=C(C=CC=C12)C1=CC=CC=C1)C)C1C(=CC2=C(C=CC=C12)C1=CC=CC=C1)C)C)Cl Chemical compound ClC([Si](=[Zr](C1C(=CC2=C(C=CC=C12)C1=CC=CC=C1)C)C1C(=CC2=C(C=CC=C12)C1=CC=CC=C1)C)C)Cl BQTCXHKPAYDMHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010010214 Compression fracture Diseases 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010017076 Fracture Diseases 0.000 description 1
- 239000007818 Grignard reagent Substances 0.000 description 1
- 238000004566 IR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021293 PO 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000002597 Solanum melongena Nutrition 0.000 description 1
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- LHMPHKBDIKUKRC-UHFFFAOYSA-N [3,5-di(propan-2-yl)phenyl]boronic acid Chemical compound CC(C)C1=CC(B(O)O)=CC(C(C)C)=C1 LHMPHKBDIKUKRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZEUVGNDNUNZSRE-UHFFFAOYSA-N [SiH2]=[Zr](C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC=2C=CC3=CC=CC=C3C2C=C1)C=1OC(=CC1)C)C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC=2C=CC3=CC=CC=C3C2C=C1)C=1OC(=CC1)C Chemical compound [SiH2]=[Zr](C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC=2C=CC3=CC=CC=C3C2C=C1)C=1OC(=CC1)C)C1C(=CC2=C(C=3CCCC3C=C12)C1=CC=2C=CC3=CC=CC=C3C2C=C1)C=1OC(=CC1)C ZEUVGNDNUNZSRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000011054 acetic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000005234 alkyl aluminium group Chemical group 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H aluminium sulfate (anhydrous) Chemical compound [Al+3].[Al+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000010533 azeotropic distillation Methods 0.000 description 1
- SVPXDRXYRYOSEX-UHFFFAOYSA-N bentoquatam Chemical compound O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O SVPXDRXYRYOSEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000004196 benzothienyl group Chemical group S1C(=CC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- YNHIGQDRGKUECZ-UHFFFAOYSA-L bis(triphenylphosphine)palladium(ii) dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Pd+2].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 YNHIGQDRGKUECZ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- ZADPBFCGQRWHPN-UHFFFAOYSA-N boronic acid Chemical compound OBO ZADPBFCGQRWHPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000031709 bromination Effects 0.000 description 1
- 238000005893 bromination reaction Methods 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005997 bromomethyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004799 bromophenyl group Chemical class 0.000 description 1
- 125000004369 butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 1
- VNSBYDPZHCQWNB-UHFFFAOYSA-N calcium;aluminum;dioxido(oxo)silane;sodium;hydrate Chemical compound O.[Na].[Al].[Ca+2].[O-][Si]([O-])=O VNSBYDPZHCQWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000609 carbazolyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000009614 chemical analysis method Methods 0.000 description 1
- 125000004218 chloromethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)* 0.000 description 1
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 1
- 239000002734 clay mineral Substances 0.000 description 1
- 239000011362 coarse particle Substances 0.000 description 1
- 238000000748 compression moulding Methods 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 125000000596 cyclohexenyl group Chemical group C1(=CCCCC1)* 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 125000004772 dichloromethyl group Chemical group [H]C(Cl)(Cl)* 0.000 description 1
- 125000004188 dichlorophenyl group Chemical class 0.000 description 1
- LDYLHMQUPCBROZ-UHFFFAOYSA-N diethyl(methoxy)alumane Chemical compound [O-]C.CC[Al+]CC LDYLHMQUPCBROZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNLAOSYQHBDIKW-UHFFFAOYSA-M diethylaluminium chloride Chemical compound CC[Al](Cl)CC YNLAOSYQHBDIKW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000001028 difluoromethyl group Chemical group [H]C(F)(F)* 0.000 description 1
- 125000004212 difluorophenyl group Chemical class 0.000 description 1
- RKGLUDFWIKNKMX-UHFFFAOYSA-L dilithium;sulfate;hydrate Chemical compound [Li+].[Li+].O.[O-]S([O-])(=O)=O RKGLUDFWIKNKMX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000001891 dimethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- JZZIHCLFHIXETF-UHFFFAOYSA-N dimethylsilicon Chemical group C[Si]C JZZIHCLFHIXETF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- HQQADJVZYDDRJT-UHFFFAOYSA-N ethene;prop-1-ene Chemical group C=C.CC=C HQQADJVZYDDRJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 238000005243 fluidization Methods 0.000 description 1
- 125000004216 fluoromethyl group Chemical group [H]C([H])(F)* 0.000 description 1
- 125000001207 fluorophenyl group Chemical class 0.000 description 1
- 238000010571 fourier transform-infrared absorption spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- 150000004795 grignard reagents Chemical class 0.000 description 1
- 239000012760 heat stabilizer Substances 0.000 description 1
- 229910000271 hectorite Inorganic materials 0.000 description 1
- KWLMIXQRALPRBC-UHFFFAOYSA-L hectorite Chemical compound [Li+].[OH-].[OH-].[Na+].[Mg+2].O1[Si]2([O-])O[Si]1([O-])O[Si]([O-])(O1)O[Si]1([O-])O2 KWLMIXQRALPRBC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- RBBOWEDMXHTEPA-UHFFFAOYSA-N hexane;toluene Chemical compound CCCCCC.CC1=CC=CC=C1 RBBOWEDMXHTEPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002469 indenes Chemical class 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 229910017053 inorganic salt Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001867 inorganic solvent Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003049 inorganic solvent Substances 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005956 isoquinolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001786 isothiazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000842 isoxazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001629 magnesium chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- CPOFMOWDMVWCLF-UHFFFAOYSA-N methyl(oxo)alumane Chemical compound C[Al]=O CPOFMOWDMVWCLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLSZMDLNRCVEIJ-UHFFFAOYSA-N methylimidazole Natural products CC1=CNC=N1 XLSZMDLNRCVEIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 125000005246 nonafluorobutyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 1
- 229910000273 nontronite Inorganic materials 0.000 description 1
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000002971 oxazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- YJVFFLUZDVXJQI-UHFFFAOYSA-L palladium(ii) acetate Chemical compound [Pd+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O YJVFFLUZDVXJQI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000006340 pentafluoro ethyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 1
- 125000000538 pentafluorophenyl group Chemical group FC1=C(F)C(F)=C(*)C(F)=C1F 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 235000011007 phosphoric acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920005606 polypropylene copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 229910000160 potassium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011009 potassium phosphates Nutrition 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 125000004368 propenyl group Chemical group C(=CC)* 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 125000003226 pyrazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000714 pyrimidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000168 pyrrolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 1
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 1
- 125000005493 quinolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 239000012488 sample solution Substances 0.000 description 1
- 229910000275 saponite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000276 sauconite Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- UTUZBCDXWYMYGA-UHFFFAOYSA-N silafluorene Chemical compound C12=CC=CC=C2CC2=C1C=CC=[Si]2 UTUZBCDXWYMYGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004469 siloxy group Chemical group [SiH3]O* 0.000 description 1
- 238000001542 size-exclusion chromatography Methods 0.000 description 1
- 238000007613 slurry method Methods 0.000 description 1
- 229910021647 smectite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000779 smoke Substances 0.000 description 1
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 239000012279 sodium borohydride Substances 0.000 description 1
- 229910000033 sodium borohydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 1
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- ILMRJRBKQSSXGY-UHFFFAOYSA-N tert-butyl(dimethyl)silicon Chemical group C[Si](C)C(C)(C)C ILMRJRBKQSSXGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N tetrahydropyridine hydrochloride Natural products C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000335 thiazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- ARYHTUPFQTUBBG-UHFFFAOYSA-N thiophen-2-ylboronic acid Chemical compound OB(O)C1=CC=CS1 ARYHTUPFQTUBBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 125000002306 tributylsilyl group Chemical group C(CCC)[Si](CCCC)(CCCC)* 0.000 description 1
- 125000003866 trichloromethyl group Chemical group ClC(Cl)(Cl)* 0.000 description 1
- VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N triethylaluminium Chemical compound CC[Al](CC)CC VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 1
- 125000004360 trifluorophenyl group Chemical class 0.000 description 1
- JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N trimethylaluminium Chemical compound C[Al](C)C JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- MXSVLWZRHLXFKH-UHFFFAOYSA-N triphenylborane Chemical compound C1=CC=CC=C1B(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 MXSVLWZRHLXFKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHDIQVFFNDKAQU-UHFFFAOYSA-N tripropan-2-yl borate Chemical compound CC(C)OB(OC(C)C)OC(C)C NHDIQVFFNDKAQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNWZYDSEVLFSMS-UHFFFAOYSA-N tripropylalumane Chemical compound CCC[Al](CCC)CCC CNWZYDSEVLFSMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AGOOAFIKKUZTEB-UHFFFAOYSA-N tris(3,5-difluorophenyl)borane Chemical compound FC1=CC(F)=CC(B(C=2C=C(F)C=C(F)C=2)C=2C=C(F)C=C(F)C=2)=C1 AGOOAFIKKUZTEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000010792 warming Methods 0.000 description 1
Description
そのため、プロピレン単独重合体に、エチレン−プロピレン共重合体(EPR)等のゴム成分を添加する方法や、プロピレンの単独重合後に、引き続いてプロピレンとエチレンあるいはα−オレフィンを共重合させゴム成分を含有させた、いわゆるインパクトコポリマーを製造することにより、耐衝撃性を改良することが行われてきた。さらに、このインパクトコポリマーのゴム成分の量を増加させることにより、柔軟性や耐衝撃性を向上させることができる。
しかしながら、ゴム部分について、あまり流動性を上げると、それに伴って低分子量成分の生成割合も増加し、この低分子量成分は、加工時の発煙、異臭等の発生原因となるばかりか、加工後でも、臭気や味に悪影響を与えたり、べたつきによるブロッキング性の悪化など、様々な問題の原因となることが知られている。重合ポリマーの粉体性状が悪化すると、安定した生産ができなくなり、問題である。一方で、結晶性ポリプロピレンとゴム部分の平均分子量の差が大きくなると、成形品中のゲルが多くなる、成形品の線膨張率が高くなる、といった問題が発生する。
特に、インパクトコポリマーにおいては、高い耐衝撃性を発現するためには、例えば、より低いガラス転移温度を示すことが必要であり、これを満足するには、プロピレンとエチレンあるいはα−オレフィンとの共重合を、それぞれの含量がある範囲を満たすように行うことが好ましいとされている(例えば、非特許文献1参照。)。
そして、上記のメタロセン系の触媒を構成する遷移金属化合物は、既に多くの例が知られている。特にインパクトコポリマーの剛性を向上させるために、高い融点を有するホモポリプロピレンを与える遷移金属化合物も既に知られている(例えば、特許文献4参照。)。
すなわち、メタロセン系の触媒を用い、従来の製造法により、プロピレン単独重合の後、プロピレンとエチレンあるいはα−オレフィンの共重合を行うと、重合雰囲気中プロピレン/(エチレンまたはα−オレフィン)のガス組成比と、その雰囲気下で重合されたプロピレン量/(エチレン量またはα−オレフィン量)の重合量比が大きく異なり、重合体の(エチレンまたはα−オレフィン)の重合量が少なくなる場合が発生する。つまり、所望のエチレンあるいはα−オレフィンの含量を有する共重合体を得るためには、共重合体中の含量から大きく異なるモノマー比のガスを供給して重合することが必要となり、製造上問題があった。さらに、極端な場合には、重合装置の制約上、所望の含量を有する共重合体が製造できないこともあった。
加えて、これまで知られているメタロセン触媒を用いた場合には、プロピレンとエチレンあるいはα−オレフィンの共重合を気相で行う場合、得られる共重合体の分子量が低いという問題があった。プロピレン−エチレンブロック共重合体において、高い耐衝撃性を発現するためには、共重合体の分子量がある一定以上の値を有することも必要であり、高い分子量の共重合体を製造できる製造法も望まれている。また、単位ポリマーあたりの触媒単価を低下させるためや、ゴム部の含量を高くするため、ゴム活性の高い触媒の開発も望まれている。
さらに、既に上述した通り、インパクトコポリマーの剛性を向上させるために、高い融点を有するホモポリプロピレンが必要とされる。ところが、メタロセン錯体を用いた触媒において、既に述べたエチレンおよびα−オレフィンの取り込み効率を向上させ、かつ、高い分子量の共重合体を製造できる触媒においては、未だ高い融点を有するホモポリプロピレンを製造できる触媒として、十分な性能を発現する触媒は知られていない。
しかし、ホモポリプロピレンの融点は、十分に高いものとはなっておらず、満足できるものとはいえず、さらに高性能のメタロセン錯体の創出が望まれている。
また、特許文献6には、インデニル環の5位と6位の間に環状構造を有し、インデニル環の2位にアルキル基などの置換基を有するメタロセン錯体が開示されており、高い活性で、高い分子量の共重合体を提供し得るメタロセン錯体を開示している。
しかし、ホモポリプロピレンの融点は、十分に高いものとはなっておらず、また、高いエチレンの取り込み効率も満足できるものとはいえず、さらに高性能のメタロセン錯体の創出が望まれている。
つまり、本発明者は、上記課題を解決するため、特定の置換基を有するメタロセン錯体、特にインデニル環の5位と6位の間に環状構造を有し、インデニル環の2位に置換基を有していてもよいフリル基または置換基を有していてもよいチエニル基を有するメタロセン錯体を見出し、これらの知見に基づき、本発明を完成するに至った。
R1とR11は、互いに同じでも異なっていてもよく、フリル基、チエニル基、置換基を有するフリル基または置換基を有するチエニル基のいずれかである。R30は、水素である。R2、R3、R4、R5、R6、R9、R12、R13、R14、R15、R16及びR19は、互いに同じでも異なっていてもよく、水素、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素数2〜6のアルケニル基、炭素数1〜6のハロゲン含有アルキル基、炭素数1〜6の炭化水素基を有するシリル基、炭素数6〜18のアリール基、炭素数6〜18のハロゲン含有アリール基、又は置換基を有していてもよい5員環若しくは6員環を構成する複素環基であり、また、R2、R3、R4、R5、R6、R12、R13、R14、R15及びR16は、隣接する置換基双方で6〜7員環を構成してもよく、6〜7員環が不飽和結合を含んでいてもよい(但し、R4およびR14が炭素数6〜18のアリール基である場合、またはR4およびR14が炭素数6〜18のハロゲン含有アリール基である場合を除く)。R10とR20は、互いに同じでも異なっていてもよく、炭素数1〜6のアルキル基であり、R10とR20で4〜7員環を構成していてもよい。)
また、本発明の第3の発明によれば、第2の発明において、下記の(A)、(B)及び(C)の各成分を含むことを特徴とするオレフィン重合用触媒が提供される。
成分(A):第1の発明に係るメタロセン錯体
成分(B):成分(A)と反応してイオン対を形成する化合物又はイオン交換性層状珪酸塩
成分(C):有機アルミニウム化合物
さらに、本発明の第4の発明によれば、第3の発明において、成分(B)がイオン交換性層状珪酸塩であることを特徴とするオレフィン重合用触媒が提供される。
また、本発明の第6の発明によれば、プロピレン系重合体を製造する方法であって、第2〜4のいずれかの発明に係るオレフィン重合用触媒を用いて、
(i)全モノマー成分に対して、プロピレンを90〜100重量%、エチレン又はα−オレフィンを0〜10重量%で重合させる工程、及び
(ii)全モノマー成分に対して、プロピレンを10〜90重量%、エチレン及び/又は炭素数4以上のα−オレフィンを10〜90重量%で重合させる工程、
を含むことを特徴とするプロピレン系重合体の二段重合方法が提供される。
さらに、本発明の第7の発明によれば、第6の発明において、第1工程は、
(i)全モノマー成分に対して、プロピレンを100〜90重量%、エチレン又はα−オレフィンを0〜10重量%で、プロピレンを溶媒として用いるバルク重合又はモノマーをガス状に保つ気相重合であり、及び
第2工程は
(i)全モノマー成分に対して、プロピレンを10〜90重量%、エチレン又はα−オレフィンを10〜90重量%で、気相重合させることを特徴とするプロピレン系重合体の二段重合方法が提供される。
これにより、柔軟性や耐衝撃性に優れ、かつ高い剛性を有するプロピレン系重合体を効率的に製造することができ、本発明の新規メタロセン錯体およびオレフィンの重合方法は、工業的な観点から、非常に有用である。例えば、ポリプロピレン成分とプロピレン・α−オレフィン共重合体成分とを多段重合して製造されるプロピレン・α−オレフィンブロック共重合体において、剛性の高いポリプロピレン成分とα−オレフィンの取り込み効率がよく高分子量のプロピレン・α−オレフィン共重合体成分とが同時に達成できるため、剛性と耐衝撃性とがバランスよく向上したプロピレン・α−オレフィンブロック共重合体が得られる。
すなわち、本発明の基本的構成を成すメタロセン錯体は、新規な遷移金属化合物であり、その配位子の電子的かつ立体的な構造に特徴を有し、それによって、エチレンおよびα−オレフィンの取り込み効率がよく、高分子量のゴム成分を重合することができ、さらに、プロピレンの単独重合において高い融点を有するホモポリプロピレンをもたらす触媒機能が顕現される。
そのメタロセン錯体は、構造が上記の一般式[I]で表される遷移金属化合物からなるものであって、本発明においてオレフィン重合用触媒の触媒成分として使用され、助触媒などと組み合わされてα−オレフィン重合用触媒を形成する。
その理由は、必ずしも明らかではないが、本発明における一般式[I]で示される遷移金属化合物は、インデニル環の2位に置換基を有していてもよいフリル基または置換基を有していてもよいチエニル基を有し、また、インデニル環の5位と6位の間に環状構造を配置した、立体的に特異な構造であることを基本的な特徴としており、こうした特徴が本発明の特異性をもたらすものと、推察することができる。
特に、インデニル環の5位と6位の間に環状構造を配置したことで、インデニル環の4位に位置する置換フェニル基とインデニル環との二面角が適度に調節され、該置換フェニル基が配位場に対して、最適な立体効果を発現できると考えられる。この結果、インデニル環の4位置換基の立体効果が、ポリマー脱離反応を抑制することで、生成するポリマーの分子量を高める働きをし、さらに、プロピレンの挿入反応に対しては、選択的なプロピレン配位を可能にし、高い立体規則性重合を発現する優れた効果を奏していると、考えられる。
これらの結果に対して、本発明で見出したインデニル環の5位と6位の間に環状構造を配置した構造では、インデニル環の4位置換基の配置が、以上述べたポリマー脱離反応の抑制とプロピレンの選択的な挿入反応を両立できると、考えられ、また、インデニル環の2位に置換基を有していてもよいフリル基または置換基を有していてもよいチエニル基を有する特異な構造と併せることにより、エチレンおよびα−オレフィンの取り込み効率をも高めることができると、考えられる。
本発明のメタロセン錯体は、一般式[I]で表される特定の置換基を有するメタロセン錯体である。
また、炭素数1〜6のアルコキシ基の具体例としては、メトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、i−プロポキシ、n−ブトキシ、i−ブトキシ、tert−ブトキシ、フェノキシなどを挙げることができる。
また、炭素数1〜6のハロゲン含有アルキル基のハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ、炭素数1〜6のハロゲン含有アルキル基は、炭素数1〜6のアルキル基の骨格上の水素に、ハロゲンが置換されたものである。具体例としては、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、ブロモメチル、ジブロモメチル、トリブロモメチル、ヨードメチル、2,2,2−トリフルオロエチル、2,2,1,1−テトラフルオロエチル、ペンタフルオロエチル、ペンタクロロエチル、ペンタフルオロプロピル、ノナフルオロブチル、5−クロロペンチル、5,5,5−トリクロロペンチル、5−フルオロペンチル、5,5,5−トリフルオロペンチル、6−クロロヘキシル、6,6,6−トリクロロヘキシル、6−フルオロヘキシル、6,6,6−トリフルオロヘキシルを挙げることができる。
また、炭素数6〜18のハロゲン含有アリール基の具体例とは、前期炭素数6〜18のアリール基の水素原子をハロゲンに置換させたものであり、具体的には、2−,3−,4−置換の各フルオロフェニル、2−,3−,4−置換の各クロロフェニル、2−,3−,4−置換の各ブロモフェニル、2,4−、2,5−、2,6−、3,5−置換の各ジフルオロフェニル、2,4−、2,5−、2,6−、3,5−置換の各ジクロロフェニル、2,4,6−、2,3,4−、2,4,5−、3,4,5−置換の各トリフルオロフェニル、2,4,6−、2,3,4−、2,4,5−、3,4,5−置換の各トリクロロフェニル、ペンタフルオロフェニル、ペンタクロロフェニル、3,5−ジメチル−4−クロロフェニル、3,5−ジクロロ−4−ビフェニルなどが挙げられる。
これらの中でも、ハロゲン原子、炭素数1〜7の炭化水素基が好ましく。具体的には、塩素原子、メチル基、i−ブチル基、フェニル基、ベンジル基が特に好ましい。
縮環する員数は、好ましくは5〜6であり、さらに好ましくは5員環である。
また、縮環上のアルキル基としては、メチル基が好ましく、さらに好ましくは縮環上には水素原子のみを有する場合である。
なお、一般にメタロセン化合物の合成時には、ラセミ体、メソ体のように異性体がほぼ1:1で生成する。通常、プロピレン重合触媒としては、ラセミ体が用いられており、ラセミ体/メソ体混合物からラセミ体を分離することが必要である。
しかし、本発明に係るメタロセン化合物で、インデニル環の2−位の置換基(R1とR11)を同時にフリル基、チエニル基、置換基を有するフリル基または置換基を有するチエニル基にしたものは、錯体化したときに、ラセミ体を80%以上の選択性で生成し、分離も容易であるために、高収率でラセミ体を得ることができ、このような構造は、合成上も有用である。
好ましい置換基としては、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素数1〜6のハロゲン含有アルキル基、炭素数1〜6の炭化水素基を有するシリル基、炭素数6〜18のアリール基、炭素数6〜18のハロゲン含有アリール基である。
本発明のメタロセン錯体の具体例を以下に示す。
・インダセン骨格で4位置換基の変化したもの:
(2)ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−フェニル−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]ジルコニウム
(3)ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(2−メチルフェニル)−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]ジルコニウム
(4)ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(2−エチルフェニル)−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]ジルコニウム
(5)ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(2−メトキシフェニル)−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]ジルコニウム
(6)ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(2−クロロフェニル)−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]ジルコニウム
(7)ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(3−メチルフェニル)−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]ジルコニウム
(8)ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(3−メトキシフェニル)−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]ジルコニウム
(9)ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(3−クロロフェニル)−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]ジルコニウム
(10)ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(4−メチルフェニル)−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]ジルコニウム
(11)ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(4−エチルフェニル)−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]ジルコニウム
(12ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(4−i−プロピルフェニル)−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]ジルコニウム
(13)ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(4−t−ブチルフェニル)−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]ジルコニウム
(14)ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(4−ビフェニリル)−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]ジルコニウム
(15)ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(4−クロロフェニル)−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]ジルコニウム
(16)ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(4−メトキシフェニル)−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]ジルコニウム
(17)ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(4−トリフルオロメチルフェニル)−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]ジルコニウム
(18)ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(4−トリメチルシリルフェニル)−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]ジルコニウム
(19)ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(3,5−ジメチルフェニル)−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]ジルコニウム
(20)ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(3,5−ジエチルフェニル)−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]ジルコニウム
(22)ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(3,5−ジ−t−ブチルフェニル)−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]ジルコニウム
(23)ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(3,5−ジ−メトキシフェニル)−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]ジルコニウム
(24)ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(3,5−ジ−トリフルオロメチルフェニル)−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]ジルコニウム
(25)ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(3,4,5−トリメチルフェニル)−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]ジルコニウム
(26)ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(3,5−ジメチル−4−トリメチルシリルフェニル)−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]ジルコニウム
(27)ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(3,5−ジクロロ−4−トリメチルシリルフェニル)−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]ジルコニウム
(28)ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(1−ナフチル)−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]ジルコニウム
(29)ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(2−ナフチル)−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]ジルコニウム
(30)ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(9−フェナンスリル)−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]ジルコニウム
(31)ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(2−フェナンスリル)−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]ジルコニウム
(32)ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−トリメチルシリル−2−フリル)−4−フェニル−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]ジルコニウム
(33)ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−フェニル−2−フリル)−4−フェニル−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]ジルコニウム
(34)ジクロロジメチルシリレンビス[2−(4,5−ジメチル−2−フリル)−4−フェニル−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]ジルコニウム
(35)ジクロロジメチルシリレンビス[2−(4,5−ベンゾフリル−2−フリル)−4−フェニル−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]ジルコニウム
(36)ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−チエニル)−4−フェニル−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]ジルコニウム
(37)ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−トリメチルシリル−2−フリル)−4−(3,5−ジメチルフェニル)−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]ジルコニウム
(38)ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−フェニル−2−フリル)−4−(3,5−ジメチルフェニル)−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]ジルコニウム
(39)ジクロロジメチルシリレンビス[2−(4,5−ジメチル−2−フリル)−4−(3,5−ジメチルフェニル)−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]ジルコニウム
(40)ジクロロジメチルシリレンビス[2−(4,5−ベンゾフリル−2−フリル)−4−(3,5−ジメチルフェニル)−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]ジルコニウム
(41)ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−チエニル)−4−(3,5−ジメチルフェニル)−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]ジルコニウム
(42)ジクロロジメチルシリレン[4−フェニル−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル][2−(5−メチル−2−フリル)−4−フェニル−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]ジルコニウム
(43)ジクロロジメチルシリレン[2−メチル−4−フェニル−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル][2−(5−メチル−2−フリル)−4−フェニル−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]ジルコニウム
(44)ジクロロジメチルシリレン[2−エチル−4−フェニル−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル][2−(5−メチル−2−フリル)−4−フェニル−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]ジルコニウム
(45)ジクロロジメチルシリレン[2−(5−メチル−2−フリル)−4−フェニル−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル][2−(5−エチル−2−フリル)−4−フェニル−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]ジルコニウム
(50)ジクロロジメチルシリレン[2−(5−メチル−2−フリル)−4−フェニル−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル][2−(5−トリメチルシリル−2−フリル)−4−フェニル−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]ジルコニウム
(51)ジクロロジメチルシリレン[2−(5−メチル−2−フリル)−4−フェニル−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル][2−(5−メチル−2−チエニル)−4−フェニル−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]ジルコニウム
(52)ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−フェニル−1H−ベンズ[f]インデニル]ジルコニウム
(53)ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(2−メチルフェニル)−1H−ベンズ[f]インデニル]ジルコニウム
(54)ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(3−メチルフェニル)−1H−ベンズ[f]インデニル]ジルコニウム
(55)ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(4−メチルフェニル)−1H−ベンズ[f]インデニル]ジルコニウム
(56)ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(4−i−プロピルフェニル)−1H−ベンズ[f]インデニル]ジルコニウム
(57)ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(4−t−ブチルフェニル)−1H−ベンズ[f]インデニル]ジルコニウム
(58)ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(4−ビフェニリル)−1H−ベンズ[f]インデニル]ジルコニウム
(59)ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(4−クロロフェニル)−1H−ベンズ[f]インデニル]ジルコニウム
(60)ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(4−トリメチルシリルフェニル)−1H−ベンズ[f]インデニル]ジルコニウム
(61)ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(3,5−ジメチルフェニル)−1H−ベンズ[f]インデニル]ジルコニウム
(62)ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−4−(2−ナフチル)−1H−ベンズ[f]インデニル]ジルコニウム
(63)ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−フェニル−5,6,7,8−テトラヒドロ−ベンズ[f]インデニル]ジルコニウム
(64)ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(2−メチルフェニル)−5,6,7,8−テトラヒドロ−ベンズ[f]インデニル]ジルコニウム
(65)ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(3−メチルフェニル)−5,6,7,8−テトラヒドロ−ベンズ[f]インデニル]ジルコニウム
(66)ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(4−メチルフェニル)−5,6,7,8−テトラヒドロ−ベンズ[f]インデニル]ジルコニウム
(67)ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(4−i−プロピルフェニル)−5,6,7,8−テトラヒドロ−ベンズ[f]インデニル]ジルコニウム
(68)ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(4−t−ブチルフェニル)−5,6,7,8−テトラヒドロ−ベンズ[f]インデニル]ジルコニウム
(69)ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(4−ビフェニリル)−5,6,7,8−テトラヒドロ−ベンズ[f]インデニル]ジルコニウム
(70)ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(4−クロロフェニル)−5,6,7,8−テトラヒドロ−ベンズ[f]インデニル]ジルコニウム
(71)ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(4−トリメチルシリルフェニル)−5,6,7,8−テトラヒドロ−ベンズ[f]インデニル]ジルコニウム
(72)ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(3,5−ジメチルフェニル)−5,6,7,8−テトラヒドロ−ベンズ[f]インデニル]ジルコニウム
(73)ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−4−(2−ナフチル)−5,6,7,8−テトラヒドロ−ベンズ[f]インデニル]ジルコニウム
本発明のメタロセン錯体(化合物)は、置換基ないし結合の様式によって、任意の方法によって合成することができる。代表的な合成経路の一例を下記に示す。
置換基を導入したメタロセン化合物の合成は、対応した置換原料を使用することにより合成することができ、5−メチルフリル−2−ボロン酸のかわりに、対応するボロン酸、たとえば4,5−ジメチルフリル−2−ボロン酸、2−チエニルボロン酸などを用いることにより、対応する2位置換基(R1、R11)を導入することができ、2位置換基(R1、R11)にアルキル基を導入する場合は、文献(J.Org.Chem.1984,49,4226)のように、3にグリニャール試薬をNi触媒下で反応させることにより、導入することができる。
2つのインデニル環上の置換基が異なるメタロセン化合物の合成は、異なる置換インデンを、順にMe2YCl2と反応させることにより、架橋することができる。また、架橋時にアミン化合物(例えばメチルイミダゾール)など架橋助剤を存在させておいてもよい。
本発明のメタロセン錯体は、オレフィン重合用触媒成分を形成し、該触媒成分は、オレフィン重合用触媒に用いることができる。例えば、該メタロセン錯体を成分(A)として含む、次に説明するオレフィン重合用触媒として、用いることが好ましい。
本発明のオレフィン重合用触媒としては、下記(A)、(B)及び(C)成分を含むものである。
成分(A):一般式[I]、[II]又は[III]で示されるメタロセン錯体
成分(B):成分(A)と反応してイオン対を形成する化合物又はイオン交換性層状珪酸塩、好ましくはイオン交換性層状珪酸塩
成分(C):有機アルミニウム化合物
成分(A)の一般式[I]、[II]又は[III]で示されるメタロセン錯体は、同一又は異なる一般式[I]、[II]又は[III]で示される化合物の二種以上を用いてもよい。
また、一般式[V]、[VI]で表される化合物は、アルミノキサンとも称される化合物であって、これらの中では、メチルアルミノキサン又はメチルイソブチルアルミノキサンが好ましい。上記のアルミノキサンは、各群内及び各群間で複数種併用することも可能である。そして、上記のアルミノキサンは、公知の様々な条件下に調製することができる。
さらに、一般式[VII]で表される化合物は、一種類のトリアルキルアルミニウム又は二種類以上のトリアルキルアルミニウムと、一般式RbB(OH)2で表されるアルキルボロン酸との10:1〜1:1(モル比)の反応により得ることができる。一般式中、Rbは、炭素数1〜10、好ましくは炭素数1〜6の炭化水素基を示す。
本発明において、成分(B)として好ましく用いられるものは、スメクタイト族に属するもので、具体的にはモンモリロナイト、ザウコナイト、バイデライト、ノントロナイト、サポナイト、ヘクトライト、スチーブンサイトなどを挙げることができる。中でも、ゴム成分の活性、分子量の点でモンモリロナイトが好ましい。
大部分の珪酸塩は、天然には主に粘土鉱物の主成分として産出されるため、イオン交換性層状珪酸塩以外の夾雑物(石英やクリストバライトなど)が含まれることが多く、本発明で用いられるスメクタイト族の珪酸塩に交雑物が含まれていてもよい。
珪酸塩は、乾燥状態で用いてもよく、液体にスラリー化した状態で用いてもよい。また、イオン交換性層状珪酸塩の形状については、特に制限はなく、天然に産出する形状、人工的に合成した時点の形状でもよいし、また、粉砕、造粒、分級などの操作によって形状を加工したイオン交換性層状珪酸塩を用いてもよい。このうち造粒された珪酸塩を用いると、良好なポリマー粒子性状を与えるため、特に好ましい。
造粒、粉砕、分級などのイオン交換性層状珪酸塩の形状加工は、酸処理の前に行ってもよいし、酸処理を行った後に形状を加工してもよい。
本発明で用いられる珪酸塩は、酸処理をして用いるが、その他の化学処理を組み合わせて、処理を行っても良い。その他の化学処理としては、アルカリ処理、塩類処理、有機物処理などが挙げられる。
珪酸塩の酸処理により、固体の酸強度を変えることができる。また、酸処理は、イオン交換や表面の不純物を取り除く効果の他、結晶構造のAl、Fe、Mg、Liなどの陽イオンの一部を溶出させる効果もある。
酸処理で用いられる酸としては、塩酸、硝酸、硫酸、リン酸、酢酸、シュウ酸、安息香酸、ステアリン酸、プロピオン酸、アクリル酸、マレイン酸、フマル酸、フタル酸などが挙げられる。これらは、2種以上を同時に使用してもよい。中でも無機酸が好ましく、硫酸、塩酸、硝酸が好ましく、さらに好ましくは硫酸である。
また、酸処理と塩類処理を組み合わせる方法が特に好ましく、塩類処理を行った後に酸処理を行う方法、酸処理を行った後に塩類処理を行う方法、塩類処理と酸処理を同時に行う方法、塩類処理を行った後に塩類処理と酸処理を同時に行う方法などがある。
塩類処理を同時に行うことにより、イオン複合体、分子複合体、有機誘導体などを形成することにより、表面積や層間距離を変えることができる。例えば、イオン交換性を利用し、層間の交換性イオンを別の大きな嵩高いイオンと置換することにより、層間が拡大した状態の層状物質を得ることができる。
上記の酸処理を行う場合、処理前、処理の間、処理後に粉砕や造粒などで形状制御を行ってもよい。また、アルカリ処理、有機化合物処理、有機金属処理などの他の化学処理を併用してもよい。
珪酸塩は、上記の様な吸着水及び層間水を除去してから、使用することが好ましい。脱水方法は、特に制限されないが、加熱脱水、気体流通下の加熱脱水、減圧下の加熱脱水及び有機溶媒との共沸脱水などの方法が使用される。加熱温度は、吸着水及び層間水が残存しない様な温度範囲とされ、通常100℃以上、好ましくは150℃以上とされるが、構造破壊を生じる様な高温条件は好ましくない。加熱時間は、0.5時間以上、好ましくは1時間以上である。その際、脱水乾燥した後の珪酸塩の重量減量は、温度200℃・圧力1mmHgの条件下で2時間吸引した場合の値として、3重量%以下であることが好ましい。本発明においては、重量減量が3重量%以下に調整された珪酸塩を使用する場合、成分(A)及び成分(C)と接触する際にも、同様の重量減量の状態が保持される様に取り扱うことが好ましい。
本発明に係る成分(B)である酸処理された珪酸塩は、Al/Siの原子比として、0.01〜0.29のものであり、好ましくは0.03〜0.25、さらに好ましくは0.05〜0.23の範囲のものが、重合触媒の活性、ゴム成分の分子量の点で好ましい。
Al/Si原子比は、粘土部分の酸処理強度の指標となり、Al/Si原子比を制御する方法としては、酸処理を行う酸種、酸濃度、酸処理時間、温度を調整することにより制御することができる。
珪酸塩中のアルミニウム及びケイ素は、JIS法による化学分析による方法で検量線を作成し、蛍光X線で定量するという方法で測定される。
有機アルミニウム化合物の一例は、次の一般式で表される。
AlRaX3−a
一般式中、Rは、炭素数1〜20の炭化水素基、Xは、水素、ハロゲン、アルコキシ基又はシロキシ基を示し、aは0より大きく3以下の数を示す。
一般式で表される有機アルミニウム化合物の具体例としては、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリプロピルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウムなどのトリアルキルアルミニウム、ジエチルアルミニウムモノクロライド、ジエチルアルミニウムモノメトキシドなどのハロゲン又はアルコキシ含有アルキルアルミニウムが挙げられる。これらの中では、トリアルキルアルミニウムが好ましい。また、上記の有機アルミニウム化合物を2種以上併用してもよい。
本発明に係るオレフィン重合用触媒の調製法においては、成分(A)、成分(B)および成分(C)の接触方法は、特に限定されないが、次の様な方法を例示することができる。(i)成分(A)と成分(B)とを接触させた後に、成分(C)を添加する方法
(ii)成分(A)と成分(C)とを接触させた後に、成分(B)を添加する方法
(iii)成分(B)と成分(C)とを接触させた後に、成分(A)を添加する方法
(iv)各成分(A)、(B)、(C)を同時に接触させる。
また、成分(B)と成分(C)とを接触させた後、成分(A)と成分(C)の混合物を加えるというように、成分を分割して各成分に接触させても良い。
上記の各成分(A)(B)(C)の接触は、窒素などの不活性ガス中において、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、トルエン、キシレンなどの不活性炭化水素溶媒中で行うことが好ましい。接触は、−20℃から溶媒の沸点の間の温度で行うことができ、特に室温から溶媒の沸点の間での温度で行うのが好ましい。
本発明のオレフィン重合用触媒は、エチレン及びα−オレフィンから選ばれる一種の重合モノマーの単独重合、二種以上の重合モノマー間の共重合に供することができる。
α−オレフィンとは、例えば、炭素数3〜20のオレフィンを指し、具体的には、プロピレン、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、1−ヘプテン、1−オクテン、1−デセン、1−ドデセン、1−ヘキサデセン、4−メチル−1−ペンテン、スチレン、ビニルシクロヘキサン、ジエン、トリエン、環状オレフィンなどが挙げられる。
本発明において、重合形態は、前記一般式[I]、[II]又は[III]で示されるメタロセン錯体を含む重合用触媒とモノマーが効率よく接触し、オレフィンの重合または共重合を行うことができるならば、あらゆる様式を採用し得る。
具体的には、不活性溶媒を用いるスラリー法、不活性溶媒を実質的に用いずプロピレンを溶媒として用いるバルク重合法あるいは実質的に液体溶媒を用いず各モノマーをガス状に保つ気相重合法などが採用できる。
重合方式は、連続重合、回分式重合、又は予備重合を行う方法も適用される。
また、重合形式の組み合わせは、特に制限はなく、バルク重合2段、バルク重合後気相重合、気相重合2段といった様式も可能であり、さらには、それ以上の重合段数で製造することも可能である。
特に良好な粒子形状のポリマーを得るためには、第一工程をバルク重合で行い、第二工程を気相重合で行うか、もしくは、第一工程、第二工程共に、気相重合で行うことが好ましい。
工程1は、全モノマー成分に対して、プロピレンを90〜100重量%、エチレンまたはα−オレフィンを0〜10重量%で重合させる工程である。
スラリー重合の場合は、重合溶媒として、ヘキサン、ヘプタン、ペンタン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン等の飽和脂肪族又は芳香族炭化水素の単独又は混合物が用いられる。
重合温度は、0〜150℃であり、また、分子量調節剤として、補助的に水素を用いることができる。重合圧力は、0〜3MPaG、好ましくは0〜2MPaGが適当である。
バルク重合法の場合は、重合温度は、0〜90℃であり、好ましくは60〜80℃である。重合圧力は、0〜5MPaG、好ましくは0〜4MPaGが適当である。
気相重合の場合は、重合温度は、0〜200℃であり、好ましくは50〜120℃であり、さらに好ましくは60〜100℃である。重合圧力は、0〜4MPaG、好ましくは0〜3MPaGが適当である。
また、全モノマー成分に対して、ポリマーの形状を悪化させない0〜10%の範囲でエチレンまたはα−オレフィンを共存させることができ、分子量、活性、融点の調整を行うことができる。また、分子量調整剤として、水素を用いても良い。
工程2は、全モノマー成分に対して、プロピレンを10〜90重量%、エチレンまたはα−オレフィンを10〜90重量%で重合させる工程であり、好適な耐衝撃性を示すゴム成分を製造することができる。モノマー成分に対するプロピレン量は、好ましくは、高い耐衝撃性を有するプロピレン重合体を与える点で、20〜80重量%である。
第二工程の重合条件として、スラリー重合、バルク重合は、第一工程と同じであるが、気相重合の場合は、モノマー組成が第一工程と異なることから、重合温度は、0〜200℃であり、好ましくは20〜90℃であり、さらに好ましくは30〜80℃である。重合圧力は、0〜4MPaG、好ましくは1〜3MPaGが適当である。また、分子量調節剤として、水素を用いてもよい。
本発明において、「α−オレフィン」とは、前記のように、炭素数3〜20のオレフィンを指し、具体的には、プロピレン、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、1−ヘプテン、1−オクテン、1−デセン、1−ドデセン、1−ヘキサデセン、4−メチル−1−ペンテン、スチレン、ビニルシクロヘキサン、ジエン、トリエン、環状オレフィンなどが挙げられる。
プロピレンと共に用いられるモノマーとして、好ましくはエチレン、1−ブテンであり、さらに好ましくはエチレンである。また、これらモノマーを組み合わせて用いても良い。
本発明に係る触媒を用いて得られるプロピレン系重合体中の第二工程で得られた共重合体成分(ゴム成分であり、以下、「CP」と称す。)の含有量、CP中のエチレン、またはα−オレフィン重合割合は、以下の方法により求める。
なお、以下の例は、CP中のエチレンを用いた場合のものであるが、エチレン以外のα−オレフィンでも、以下の例に準じた方法を用いて求めるものとする。
(i)クロス分別装置:
・ダイヤインスツルメンツ社製CFC T−100
(ii)フーリエ変換型赤外線吸収スペクトル分析(FT−IR):
・パーキンエルマー社製1760X
CFC(クロス分別クロマトグラフィー)の検出器として取り付けられていた波長固定型の赤外分光光度計を取り外して、代わりにFT−IRを接続し、このFT−IRを検出器として使用する。
CFCから溶出した溶液の出口からFT−IRまでの間のトランスファーラインは、1mの長さとし、測定の間を通じて140℃に温度保持する。FT−IRに取り付けたフローセルは、光路長1mm、光路幅5mmφのものを用い、測定の間を通じて140℃に温度保持する。
(iii)ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC):
CFCの後段に、GPCカラム(昭和電工社製AD806MS)を3本直列に接続して使用する。
(i)溶媒:オルトジクロルベンゼン(ODCB)
(ii)サンプル濃度:4mg/mL
(iii)注入量:0.4mL
(iv)結晶化:140℃から40℃まで約40分かけて降温する。
(v)分別方法:
昇温溶出分別時の分別温度は、40、100、140℃とし、全部で3つのフラクションに分別する。
なお、40℃以下で溶出する成分(フラクション1)、40〜100℃で溶出する成分(フラクション2)、100〜140℃で溶出する成分(フラクション3)の溶出割合(単位:重量%)を各々W40、W100、W140と定義する。W40+W100+W140=100である。また、分別した各フラクションは、そのままFT−IR分析装置へ自動輸送される。
(vi)溶出時溶媒流速:1mL/分
CFC後段のGPCから試料溶液の溶出が開始した後、以下の条件でFT−IR測定を行い、上述した各フラクション1〜3について、GPC−IRデータを採取する。
(i)検出器:MCT
(ii)分解能:8cm−1
(iii)測定間隔:0.2分(12秒)
(iv)一測定当たりの積算回数:15回
各温度で溶出した成分の溶出量と分子量分布は、FT−IRによって得られる2945cm−1の吸光度をクロマトグラムとして使用して求める。溶出量は、各溶出成分の溶出量の合計が100%となるように規格化する。保持容量から分子量への換算は、予め作成しておいた標準ポリスチレンによる検量線を用いて行う。使用する標準ポリスチレンは、何れも東ソー(株)製の以下の銘柄である。
(F380、F288、F128、F80、F40、F20、F10、F4、F1、A5000、A2500、A1000)
(i)標準ポリスチレンを使用する較正曲線作成時:
K=0.000138、α=0.70
(ii)プロピレン系ブロック共重合体のサンプル測定時:
K=0.000103、α=0.78
各溶出成分のエチレン含有量分布(分子量軸に沿ったエチレン含有量の分布)は、GPC−IRによって得られる2956cm−1の吸光度と2927cm−1の吸光度との比を用い、ポリエチレンやポリプロピレンや13C−NMR測定などによりエチレン含有量が既知となっているエチレン−プロピレン−共重合体(EPR)及びそれらの混合物を使用して予め作成しておいた検量線により、エチレン重合割合(モル%)に換算して求める。
本発明におけるプロピレン系ブロック共重合体のCP含有量は、下記式(I)で定義され、以下のような手順で求められる。
CP含有量(重量%)=W40×A40/B40+W100×A100/B100 ・・・(I)
また、式(I)の意味は、以下の通りである。
すなわち、式(I)右辺の第一項は、フラクション1(40℃に可溶な部分)に含まれるCPの量を算出する項である。フラクション1がCPのみを含み、PPを含まない場合には、W40がそのまま全体の中に占めるフラクション1由来のCP含有量に寄与するが、フラクション1には、CP由来の成分のほかに少量のPP由来の成分(極端に分子量の低い成分及びアタクチックポリプロピレン)も含まれるため、その部分を補正する必要がある。そこで、W40に、A40/B40を乗ずることにより、フラクション1のうち、CP成分由来の量を算出する。例えば、フラクション1の平均エチレン含有量(A40)が30重量%であり、フラクション1に含まれるCPのエチレン含有量(B40)が40重量%である場合、フラクション1の30/40=3/4(即ち75重量%)はCP由来、1/4はPP由来ということになる。このように、右辺第一項でA40/B40を乗ずる操作は、フラクション1の重量%(W40)からCPの寄与を算出することを意味する。右辺第二項も同様であり、各々のフラクションについて、CPの寄与を算出して加え合わせたものがCP含有量となる。
フラクション1の微分分子量分布曲線におけるピーク位置に相当するエチレン含有量をB40とする(単位は重量%である)。
フラクション2については、ゴム部分が40℃ですべて溶出してしまうと考えられ、同様の定義で規定することができないので、本発明では、B100=100と定義する。B40、B100は、各フラクションに含まれるCPのエチレン含有量であるが、この値を分析的に求めることは実質的には不可能である。その理由は、フラクションに混在するPPとCPを完全に分離分取する手段がないからである。
種々のモデル試料を使用して検討を行った結果、B40は、フラクション1の微分分子量分布曲線のピーク位置に相当するエチレン含有量を使用すると、材料物性の改良効果を合理的に説明することができることが判った。また、B100は、エチレン連鎖由来の結晶性を持つこと、及び、これらのフラクションに含まれるCPの量がフラクション1に含まれるCPの量に比べて相対的に少ないことの2点の理由により、100と近似する方が、実態にも近く、計算上も殆ど誤差を生じない。そこで、B100=100として解析を行うこととしている。
したがって、下記式(II)に従い、CP含有量を求めることができる。
CP含有量(重量%)=W40×A40/B40+W100×A100/100 ・・・(II)
共重合体成分中のエチレン含量は、式(II)で求めた共重合体成分の含有量を用いて、下記の式(III)で求められる。
共重合体成分中のエチレン含量(重量%)=(W40×A40+W100×A100+W140×A140)/[共重合体成分含有量(重量%)] ・・・(III)
本発明に係るCFC分析においては、40℃とは、結晶性を持たないポリマー(例えば、CPの大部分、又はプロピレン重合体成分(PP)の中でも極端に分子量の低い成分及びアタクチックな成分)のみを分別するのに必要十分な温度条件である意義を有する。100℃とは、40℃では不溶であるが100℃では可溶となる成分(例えばCP中、エチレン及び/又はプロピレンの連鎖に起因して結晶性を有する成分、及び結晶性の低いPP)のみを溶出させるのに必要十分な温度である。140℃とは、100℃では不溶であるが140℃では可溶となる成分(例えば、PP中特に結晶性の高い成分、及びCP中の極端に分子量が高くかつ極めて高いエチレン結晶性を有する成分)のみを溶出させ、かつ分析に使用するプロピレン系ブロック共重合体の全量を回収するのに必要十分な温度である。
なお、W140には、CP成分は全く含まれないか、存在しても極めて少量であり実質的には無視できることから、CP含有量やエチレン含量の計算からは排除する。
CP中のエチレン含有量は、次式によって求める。
CP中のエチレン含有量(重量%)=(W40×A40+W100×A100)/[CP]
但し、[CP]は、先に求めたCP含有量(重量%)である。
ここで得られたCP中のエチレン含有量(重量%)の値から、エチレン及びプロピレンの分子量を使用して、最終的にモル%に換算する。
なお、以下の諸例において、錯体合成工程、触媒合成工程及び重合工程は、全て精製窒素雰囲気下で行い、溶媒は、脱水した後に精製窒素でバブリングして脱気して使用した。
また、実施例における物性測定、分析等は、前述した方法と下記の方法に従ったものである。
ポリマー6gに熱安定剤(BHT)のアセトン溶液(0.6重量%)6gを添加した。
次いで、上記のポリマーを乾燥した後、メルトインデクサー(230℃)に充填し、2.16Kg荷重の条件下に5分間放置した。その後、ポリマーの押し出し量を測定し、10分間当たりの量に換算し、MFRの値とした(単位はg/10分)。
DSC(デュポン社製のTA2000型、又はセイコー・インスツルメンツ社製のDSC6200型)を使用し、10℃/分で20〜200℃までの昇降温を1回行った後、10℃/分で2回目の昇温時の測定値により求めた。
上記明細書中に、詳述した方法による。
メタロセン錯体Aの合成:ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−フェニル−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]ジルコニウムの合成
4−ブロモ−3,5,6,7−テトラヒドロ−2H−s−インダセン−1−オン(45g)を塩化アルミニウム(81g)とクロロホルム(300mL)の懸濁溶液に加えた。室温で1時間攪拌後、氷浴冷却下で臭素(13mL)のクロロホルム溶液(40mL)を滴加し、室温で昼夜反応させた。反応終了後、1N塩酸−氷水に流し込み攪拌した。有機層を分液し、1N塩酸、水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、ジエチルエーテルで抽出して黄色固体(26g)を得た。続いて、得られた固体をエタノールに溶解させ、氷浴冷却下水素化ホウ素ナトリウム(4g)を加えて室温で昼夜攪拌した。反応後、減圧下溶媒を約半分留去し、1N塩酸を加えてクエンチ後エーテル抽出した。有機層を水、飽和食塩水と続けて洗浄し硫酸マグネシウム上で乾燥させ、減圧下溶媒を留去した。さらに得られた黄色固体(27g)とp−トルエンスルホン酸(0.5g)のトルエン(150mL)の懸濁液を加熱還流した。1時間後、水を加えて有機層を分取し、飽和食塩水で洗浄後硫酸マグネシウム上で乾燥した。溶媒を留去して、4−ブロモ−1,2,3,5−テトラヒドロ−s−インダセンの粗生成物24.3gを得た。
1H−NMR(400MHz,CDCl3)δ2.0−2.2(m,2H),2.9−3.1(m,4H),3.33(s,2H),6.52(d,1H),6.85(d,1H),7.51(s,1H).
500mL三口フラスコに4−ブロモ−1,2,3,5−テトラヒドロ−s−インダセン(5.01g,21.3mmol)、フェニルボロン酸(3.09g,25.3mmol)、りん酸カリウム・n水和物(10.6g,42.6mmol)、酢酸パラジウム(0.158g,0.704mmol)、ジシクロヘキシルビフェニリルホスフィン(0.456g,1.30mmol)およびトルエン(400mL)を加え、1時間加熱還流した。
得られた溶液を分液・溶媒留去すると、4−フェニル−1,2,3,5−テトラヒドロ−s−インダセン(5.03g,21.7mmol)の黄褐色油状物を定量的に得た。
300mLナスフラスコに4−フェニル−1,2,3,5−テトラヒドロ−s−インダセン(5.03g,21.7mmol)、ジメチルスルホキシド(50mL)および水(1.5mL)を入れ、氷冷しながらN−ブロモスクシンイミド(6.30g,35.4mmol)を徐々に加え、室温で3時間攪拌した。室温でトルエン(200mL)および水(100mL)を加え、トルエン抽出を行い、有機層を希塩酸、水および飽和食塩水で洗浄した後、一晩静置した。有機層にp−トルエンスルホン酸一水和物(0.558g,2.93mmol)を加え、30分間加熱還流した。
得られた溶液を炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、分液・溶媒留去した後、ヘキサン洗浄を行うことで、6−ブロモ−4−フェニル−1,2,3,5−テトラヒドロ−s−インダセン(5.76g,18.5mmol)を黄土色固体として、収率85%で得た。
一方、300mL三口フラスコに2−メチルフラン(2.28g,27.8mmol)およびジメトキシエタン(25mL)を入れ、氷冷しながらn−ブチルリチウムのn−ヘキサン溶液(19.0mL,30.8mmol,1.62M)を滴下した。2.5時間攪拌した後、ジメトキシエタン(25mL)を加え、氷冷しながらホウ酸トリメチル(3.40mL,30.5mmol)を滴下し、室温で一晩静置した。この溶液を氷冷し、炭酸ナトリウム(3.94g,37.2mmol)および水(30mL)を加え、室温で1時間攪拌した。減圧下で溶媒を半量まで濃縮し、別途合成した6−ブロモ−4−フェニル−1,2,3,5−テトラヒドロ−s−インダセン(5.76g,18.5mmol)、ビス(トリフェニルホスフィン)ジクロロパラジウム(0.135g,0.192mmol)、ジメトキシエタン(45mL)および水(6mL)を加え、1.5時間加熱還流した。
得られた溶液を分液・溶媒留去した後、ゲル濾過を行うことで、6−(5−メチル−2−フリル)−4−フェニル−1,2,3,5−テトラヒドロ−s−インダセン(4.95g,15.9mmol)を黄褐色油状物として、収率86%で得た。
100mLシュレンク管に6−(5−メチル−2−フリル)−4−フェニル−1,2,3,5−テトラヒドロ−s−インダセン(2.41g,7.72mmol)およびテトラヒドロフラン(38mL)を入れ、−70℃に冷却してn−ブチルリチウムのn−ヘキサン溶液(5.20mL,8.42mmol,1.62M)を滴下した。−70℃で30分間撹拌の後、室温で3時間攪拌した。その後、N−メチルイミダゾール(15.0μL,0.190mmol)およびテトラヒドロフラン(9mL)を加え、−30℃に冷却してジクロロジメチルシラン(0.460mL,3.85mmol)を加え、−30℃で15分間、室温で1時間攪拌した。
得られた溶液を分液・溶媒留去し、ゲル濾過を行なうことでジメチルビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−フェニル−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]シラン(2.38g,3.50mmol)を橙色固体として収率91%で得た。
300mL三口フラスコにジメチルビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−フェニル−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]シラン(2.38g,3.50mmol)、ジエチルエーテル(31mL)およびトルエン(7.7mL)を入れ、−30℃に冷却してn−ブチルリチウムのn−ヘキサン溶液(4.70mL,7.61mmol,1.62M)を滴下した。−30℃で30分間撹拌、次いで室温で3時間撹拌した後、トルエン(115mL)を加え−30℃に冷却して四塩化ジルコニウム(0.820g,3.52mmol)を加え、室温で1.5時間攪拌した後、一晩静置した。この溶液を減圧下で溶媒留去し、混合物を黄褐色油状物(ラセミ/メソ=59/41)として得た。
この混合物のn−へキサン洗浄、ジエチルエーテル洗浄し、トルエンに溶解させてセライト濾過を行った後、さらにジエチルエーテル洗浄を行うことで、目的のジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−フェニル−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]ジルコニウムのラセミ体を黄色固体(0.919g,1.09mmol,ラセミ/メソ=99/1)として、収率31%で得た。
1H−NMR(400MHz,CDCl3)δ1.11(s,6H,Me2Si),1.8−2.0(m,4H,Indacenyl−H),2.42(s,6H,furyl−Me),2.5−2.65(m,2H,Indacenyl−H),2.65−2.8(m,2H,Indacenyl−H),2.85−2.95(m,4H,Indacenyl−H),6.02(d,2H,J=3Hz,furyl−H),6.20(d,2H,J=3Hz,furyl−H),6.68(s,2H,Indacenyl−H),6.74(s,2H,Indacenyl−H),7.1−7.6(m,10H,Ar−H).
酸処理:
ゼパラブルフラスコに蒸留水(1130g)と96%硫酸(750g)を加え、内温を90℃に保ち、そこに造粒モンモリロナイトである水澤化学社製ベンクレイSL(平均粒径19μm、300g)を添加し2時間反応させた。懸濁液を1時間で室温まで冷却し、蒸留水でpH=4まで洗浄した。このときの洗浄倍率は1/10000以下であった。
ゼパラブルフラスコで硫酸リチウム1水和物(210g)を蒸留水(520g)に溶かし、そこに、濾過した酸処理粘土を加え室温で120分撹拌した。このスラリーを濾過し、得られた固体に蒸留水(3000mL)を加え5分間室温で撹拌した。このスラリーを濾過した。得られた固体に蒸留水(2500mL)を加え5分撹拌後再び濾過した。この操作をさらに4回繰り返し、得られた固体を窒素気流下130℃で2日間予備乾燥後、53μm以上の粗大粒子を除去し、さらに200℃で2時間減圧乾燥することにより、化学処理モンモリロナイトを得た。
内容積1Lのフラスコに、上記で得た化学処理モンモリロナイト(5.0g)を秤量し、ヘプタン32ml、トリイソブチルアルミニウムのヘプタン溶液(17mL,12.5mmol)を加え、室温で1時間撹拌した。その後、ヘプタンで残液率1/100まで洗浄し、最後にスラリー量を50mLに調製した。ここに、トリイソブチルアルミニウムのヘプタン溶液(1.0mL)を加えて10分間、室温で撹拌した。さらに、メタロセン錯体A(63mg,75μmol)のヘプタン(30mL)溶液を加えて室温で60分間撹拌した。
次に、上記ヘプタンスラリーにヘプタン(350mL)を加え、内容積1Lの撹拌式オートクレーブに導入し、40℃でプロピレンを5g/時の一定速度で120分間供給した。
プロピレン供給終了後、50℃に昇温して3時間そのまま維持した。その後、残存ガスをパージして予備重合触媒スラリーをオートクレーブより回収した。回収した予備重合触媒スラリーを静置し、上澄み液を抜き出した。残った固体にトリイソブチルアルミニウムのヘプタン溶液(4.3mL,3.0mmol)を室温にて加え、室温で10分間撹拌した後、減圧乾燥して固体触媒(触媒A)を7.3g回収した。予備重合倍率(予備重合ポリマー量を固体触媒量で除した値)は0.44であった。
第一工程:
内容積3Lの撹拌式オ−トクレ−ブ内をプロピレンで充分置換した後に、トリイソブチルアルミニウムのn−ヘプタン溶液(2.76mL,2.02mmol)を加え、水素(30mL)、続いて液体プロピレン(750g)を導入し、65℃に昇温し、その温度を維持した。触媒Aをn−ヘプタンにスラリー化し、触媒として(予備重合ポリマーの重量は除く)50mgを圧入し、重合を開始した。槽内温度を65℃に維持し、触媒投入1時間経過後に、残モノマーのパージを行い、アルゴンにて槽内を置換した。撹拌を停止させ、アルゴンをフローさせながら、テフロン(登録商標)管を槽内に差し込み、ポリプロピレンを少量抜き出した。
その後、内温を60℃でプロピレンとエチレンを、ガスmol組成で、プロピレン/エチレン=50/50となるように1.8MPaまで導入し、内温を80℃に昇温した。その後、予め調製しておいたプロピレンとエチレンの混合ガスを導入しながら、内圧を2.0MPaとなるように調整しながら、30分間重合反応を制御した。
その結果、粒子性状の良い156gのプロピレン−プロピレン・エチレンブロック共重合体が得られた。プロピレンとエチレン重合時の槽内の平均ガスmol組成は、プロピレン/エチレン=57/43であった。
上記で得られたブロック共重合体は、CFC−IRの結果から、ゴム含有量(CP含有量)は8wt%、ゴム(CP)中のエチレン含有量は32mol%であり、CP部の重量平均分子量(Mw)は321,000であった。また、ゴム重合活性(CP活性)は3000(g−CP/g−Cat/hr)であった。また、別途第1工程で採取したプロピレンホモポリマーのTmは160℃であった。
プロピレン/エチレン重合時の槽内の平均ガスmol組成をプロピレン/エチレン=41/59となるように調整した以外は、[実施例1](1−8)と同様に操作した。その結果、105gのプロピレン−プロピレン・エチレンブロック共重合体を得た。
上記で得られたブロック共重合体は、CFC−IRの結果から、ゴム含有量(CP含有量)は17wt%、ゴム(CP)中のエチレン含有量は52mol%であり、CP部の重量平均分子量(Mw)は513,000であった。また、ゴム重合活性(CP活性)は2100(g−CP/g−Cat/hr)であった。
メタロセン錯体Bの合成:ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(3,5−ジメチルフェニル)−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]ジルコニウムの合成
3,5−ジメチルフェニルボロン酸(5.0g,33.4mmol)をジメトキシエタン(100mL)に溶解させ、炭酸セシウム(14.5g,44.5mmol)の水溶液(50mL)、4−ブロモ−1,2,3,5−テトラヒドロ−s−インダセン(5.2g,22.2mmol)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(1.0g)を順に加えた。加熱還流下で12時間反応させた後、反応溶液を1N塩酸−氷水に流し込み、攪拌後ジエチルエーテルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去して粗生成物を得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、目的の4−(3,5−ジメチルフェニル)−1,2,3,5−テトラヒドロ−s−インダセン(5.0g,収率81%)を得た。
得られた4−(3,5−ジメチルフェニル)−1,2,3,5−テトラヒドロ−s−インダセン(5.0g,19.2mmol)をジメチルスルホキシド(70mL)に溶解させ、水(2mL)を加えた。0℃でN−ブロモスクシンイミド(4.4g,25mmol)を添加し、室温で2時間攪拌した。氷浴上で水を加えてクエンチし、トルエンを加えて有機層を抽出した。有機層にp−トルエンスルホン酸・一水和物(0.2g)を加え、加熱還流下で1時間反応させた後、反応溶液に水を加えて有機層を分取した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去して粗生成物を得た。
一方、2−メチルフラン(2.5ml,28mmol)をジメトキシエタン(50mL)に溶解させ、n−ブチルリチウムのn−ヘキサン溶液(1.65M,17mL)を氷浴下滴加し2.5時間攪拌した後、氷浴冷却したままホウ酸トリイソプロピル(7.1mL,31mmol)を滴加し室温で16時間攪拌した。水(5mL)を加え、1時間攪拌した。そこに、炭酸ナトリウム(4.0g,38mmol)の水溶液(50mL)、上記合成した粗生成物のジメトキシエタン(70mL)溶液、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0.5g)を順に加え、加熱還流下で3時間反応させた。反応溶液に水を加えて有機層を分取し、飽和食塩水で洗浄して硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。
得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、目的の6−(5−メチル−2−フリル)−4−(3,5−ジメチルフェニル)−1,2,3,5−テトラヒドロ−s−インダセン(2.7g,収率47%)を得た。
6−(5−メチル−2−フリル)−4−(3,5−ジメチルフェニル)−1,2,3,5−テトラヒドロ−s−インダセン(2.7g,7.9mmol)をテトラヒドロフラン(50mL)に溶解させ、n−ブチルリチウムのn−ヘキサン溶液(1.65M,4.8mL)を−72℃で滴加した。自然昇温の後に室温で3時間攪拌した後、ジクロロジメチルシラン(0.48mL,3.9mmol)を−72℃で滴加した。自然昇温の後に室温で2.5時間攪拌した。水を加えて有機層を分取し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、目的のジメチルビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(3,5−ジメチルフェニル)−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]シラン(2.4g,収率87%)を得た。
1H−NMR(400MHz,CDCl3)δ−0.56,−0.48(d,s,6H,SiMe2),2.27(s,6H,furyl−Me),2.38(s,12H,Me−Ph),2.8−3.1(m,12H,−CH2−),4.07,4.21(s,2H,CH2),5.9−6.2(m,4H,furyl),6.9−7.4(m,8H).
ジメチルビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(3,5−ジメチルフェニル)−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]シラン(2.4g,3.3mmol)をジエチルエーテル(60mL)に溶解させ、n−ブチルリチウムのn−ヘキサン溶液(1.57M,4.1mL)を−72℃で滴加した。室温で3時間攪拌した後、減圧下溶媒を留去した。ジエチルエーテル(5mL)、トルエン(100mL)を加え、−72℃に冷却し、四塩化ジルコニウム(0.76g,3.3mmol)を添加し、室温で2時間攪拌した。得られた反応溶液を一度濃縮し、n−へキサンで抽出して再び濃縮乾固した。再度n−ヘキサンで抽出を繰り返し溶解性の低い不純物を除いた。ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(3,5−ジメチルフェニル)−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]ジルコニウムをラセミ体とメソ体の混合物(ラセミ:メソ=1:1)として0.4g得た。
1H−NMR(400MHz,CDCl3、ラセミ体)δ1.08(s,6H,Si(CH3)2),1.8−3.0(m,30H,Furyl−CH3,Ph−CH3,−CH2−),6.03(s,2H,Furyl−H),6.23(s,2H,Furyl−H),6.6−6.7(10H).
メタロセン錯体Aの代わりに、メタロセン錯体Bを135mg用いた他は、[実施例1](1−7)記載の触媒調製と同様の操作により、固体触媒(触媒B)6.97gを得た。
そのときの予備重合倍率(予備重合ポリマー量を固体触媒量で除した値)は0.36であった。
触媒Aの代わりに、触媒Bを100mg使用し、[実施例1](1−8)と同様に操作した。
第二工程のプロピレン/エチレン重合時の槽内の平均ガスmol組成は、プロピレン/エチレン=57/43となった。その結果、208gのプロピレン−プロピレン・エチレンブロック共重合体を得た。
上記で得られたブロック共重合体は、CFC−IRの結果から、ゴム含有量(CP含有量)は55wt%、ゴム(CP)中のエチレン含有量は36mol%であり、CP部の重量平均分子量(Mw)は520,000であった。また、ゴム重合活性(CP活性)は2300(g−CP/g−Cat/hr)であった。別途採取したプロピレンホモポリマーのTmは160℃であった。
プロピレン/エチレン重合時の槽内の平均ガスmol組成をプロピレン/エチレン=42/58となるように調整した以外は、[実施例1](1−8)と同様に操作した。その結果、204gのプロピレン−プロピレン・エチレンブロック共重合体を得た。
上記で得られたブロック共重合体は、CFC−IRの結果から、ゴム含有量(CP含有量)は81wt%、ゴム(CP)中のエチレン含有量は51mol%であり、CP部の重量平均分子量(Mw)は450,000であった。また、ゴム重合活性(CP活性)は3300(g−CP/g−Cat/hr)であった。
メタロセン錯体Cの合成:ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(3,5−ジイソプロピルフェニル)−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]ジルコニウムの合成
300ml三つ口フラスコに還流冷却管を取り付け、4−ブロモ−1,2,3,5−テトラヒドロ−s−インダセン3.05g(13.0mmol)、3,5−ジイソプロピルフェニルボロン酸3.94g(19.1mmol)、炭酸セシウム14.55g(44.7mmol)、1,2−ジメトキシエタン 90ml、脱塩水25mlを入れ系内を窒素で置換した。テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム1.37g(1.2mmol)を加え、75℃で合計20時間加熱攪拌した。反応混合物に脱塩水を加えて分相し、水相をトルエンで抽出した。回収油相を1N−HCl、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で脱水後、ろ過、濃縮して粗体を得た。カラムクロマトグラフィー(シリカゲル、球状中性、ヘキサン)で精製し4−(3,5−ジイソプロピルフェニル)−1,2,3,5−テトラヒドロ−s−インダセンを淡黄色油状物として得た。収量2.88g、収率70.2%。
100mlナスフラスコに4−(3,5−ジイソプロピルフェニル)−1,2,3,5−テトラヒドロ−s−インダセン2.88g(9.1mmol)を入れ、ジメチルスルホキシド60mlに溶解させ脱塩水1mlを加えた。氷浴中で攪拌しながら、N−ブロモスクシンイミド2.13g(12.0mmol)を固体のまま15分かけて加えた後、氷浴を外して室温で3時間攪拌した。反応混合物に脱塩水とトルエンを加えて分相し、水相をトルエンで抽出した。回収油相を1N−HCl、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で脱水後、ろ過して抽出液を得た。200ml側管付きフラスコに抽出液とp−トルエンスルホン酸1水和物0.60g(3.2mmol)を入れ、Dean−Stark管を取り付けて110℃で1時間加熱攪拌し、系内の水を共沸除去した。反応混合物を脱塩水、1N−NaOH水溶液、脱塩水、飽和食塩水で順次洗浄し、油相を無水硫酸マグネシウム上で脱水した。
これをろ過、濃縮して6−ブロモ−4−(3,5−ジイソプロピルフェニル)−1,2,3,5−テトラヒドロ−s−インダセンを黄色油状物として得た。収量3.18g、収率88.4%。
1H−NMR(400MHz,CDCl3)δ1.27(d、J=6.8Hz、12H)、1.28(d、J=7.2Hz、12H)、2.05(m、4H)、2.79(t、J=7.2Hz、2H)、2.86(t、J=7.2Hz、2H)、3.01−2.88(m、8H)、3.48(s、br、2H)、3.63(s、br、2H)、6.86−6.84(m、1H)、7.04−7.01(m、4H)、6.91(t、J=1.6Hz、1H)、7.05−7.03(m、2H)、7.16(s、br、1H)、7.19(s、br、1H).
これをカラムクロマトグラフィー(シリカゲル、球状中性、ヘキサン:トルエン=10:1)で精製し、6−(5−メチル−2−フリル)−4−(3,5−ジイソプロピルフェニル)−1,2,3,5−テトラヒドロ−s−インダセンを淡黄色油状物として得た。収量1.62g、収率50.6%。
1H−NMR(400MHz,CDCl3)δ1.29(d、J=6.8Hz,12H)、1.30(d、J=6.8Hz、12H)、2.11−2.01(m、4H)、2.30(s、3H)、2.33(s、3H)、2.80(t、J=7.2Hz、2H)、2.86(t、J=7.2Hz、2H)、3.01−2.90(m、8H)、3.71(s、2H)、3.57(s、2H)、6.00−5.96(m、2H)、6.22(d、J=3.2Hz、1H)、6.28(d、J=3.6、1H)、6.95(s、br、1H)、6.99(s、br、1H)、7.07−7.04(m、2H)、7.11−7.09(m、2H)、7.19−7.15(m、2H)、7.28(s、br、2H).
乾燥した100ml三口フラスコに6−(5−メチル−2−フリル)−4−(3,5−ジイソプロピルフェニル)−1,2,3,5−テトラヒドロ−s−インダセン1.31g(3.3mmol)を入れ、ジエチルエーテル30mlを加えて溶液とした。−70℃に冷却した。n−ブチルリチウム(1.63M/ヘキサン溶液)2.1ml(3.3mmol)を加えて10分間攪拌した後、10℃に昇温した。再度−70℃まで冷却し、N−メチルイミダゾール5μl(0.06mmol)、ジクロロジメチルシラン0.20ml(1.6mmol)を加えて10分間攪拌後、室温に昇温した。反応混合物に脱塩水を加えて分相し、水相をジエチルエーテルで抽出した。回収油相を脱塩水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で脱水後、ろ過、濃縮してジメチルビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(3,5−ジイソプロピルフェニル)−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]シランを淡黄色油状物として得た。収量1.07g、収率77.8%。
1H−NMR(400MHz,CDCl3)δ−0.59、−0.55、−0.47(s、合計6H)、1.30(m、24H)、2.12−2.00(m、4H)、2.27(s、6H)、3.04−2.82(m、12H)、4.11(s、2H)、4.21(s,2H)、5.98−5.12(m、2H)、6.14(d、J=3.6Hz、1H)、6.22(d、J=3.2Hz、1H)、7.07−7.00(m、3H)、7.14−7.08(m、4H)、7.40(s、1H).
乾燥した100ml三口フラスコにジメチルビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(3,5−ジイソプロピルフェニル)−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]シラン1.07g(1.3mmol)、ジエチルエーテル30mlを入れて溶液とし、−72℃に冷却した。n−ブチルリチウム(1.65M/ヘキサン溶液)1.6ml(2.5mmol)を加えて2時間攪拌後、室温に昇温した。減圧下で溶媒を除去し、残渣に乾燥トルエン28ml、乾燥ジエチルエーテル2mlを加え、−70℃に冷却した。四塩化ジルコニウム0.30g(1.3mmol)を加え、すぐに冷却浴を外して昇温した。室温での1H−NMRから、生成したジルコニウム錯体の立体組成比はラセミ/メソ=60:40であった。反応混合物中の無機塩類をろ別し、ろ液を濃縮して粗錯体を得た。粗体にペンタンを加えて冷却し析出した固体を回収した。これをヘキサンで洗浄し、ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(3,5−ジイソプロピルフェニル)−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]ジルコニウムをオレンジ色固体として得た。ラセミ/メソ=63/37であった。収量0.08g、収率6.9%。
1H−NMR(400MHz,CDCl3)δ1.09(s、6H)、1.23(d、J=8.4Hz、12H)、1.25(d、J=8.4Hz、12H)、2.07−1.95(m、4H)、2.41(s、6H)、3.20−2.50(m、12H)、6.01(dd、J=3.2Hz、2H)、6.21(d、J=2.8Hz、2H)、6.68(s、br、2H)、6.81(s、2H)、7.00−6.97(s、br、4H)、7.53(s、br、2H).
メタロセン錯体Aの代わりに、メタロセン錯体Cを77mg用いた他は、[実施例1](1−7)記載の触媒調製と同様の操作により、固体触媒(触媒C)6.64gを得た。
そのときの予備重合倍率(予備重合ポリマー量を固体触媒量で除した値)は0.31であった。
触媒Aの代わりに、触媒Cを50mg使用し、[実施例1](1−8)と同様に操作した。
第二工程のプロピレン/エチレン重合時の槽内の平均ガスmol組成は、プロピレン/エチレン=53/47となった。その結果、94gのプロピレン−プロピレン・エチレンブロック共重合体を得た。
上記で得られたブロック共重合体は、CFC−IRの結果から、ゴム含有量(CP含有量)は3wt%、ゴム(CP)中のエチレン含有量は34mol%であり、CP部の重量平均分子量(Mw)は480,000であった。また、ゴム重合活性(CP活性)は120(g−CP/g−Cat/hr)であった。別途採取したプロピレンホモポリマーのTmは160℃であった。
触媒Cを100mg使用し、プロピレン/エチレン重合時の槽内の平均ガスmol組成をプロピレン/エチレン=40/60となるように調整した以外は、[実施例1](1−8)と同様に操作した。その結果、164gのプロピレン−プロピレン・エチレンブロック共重合体を得た。
上記で得られたブロック共重合体は、CFC−IRの結果から、ゴム含有量(CP含有量)は21wt%、ゴム(CP)中のエチレン含有量は48mol%であり、CP部の重量平均分子量(Mw)は480,000であった。また、ゴム重合活性(CP活性)は700(g−CP/g−Cat/hr)であった。
メタロセン錯体Dの合成:ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(4−t−ブチルフェニル)−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]ジルコニウムの合成
t−ブチルフェニルボロン酸(7.0g,39.3mmol)をジメトキシエタン(100mL)に溶解させ、炭酸セシウム(17.1g,52.4mmol)の水溶液(50mL)、6−ブロモ−1,2,3,5−テトラヒドロ−s−インダセン(6.1g,26.2mmol)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0.87g)を順に加えた。加熱還流下で12時間反応させた後、反応溶液を1N塩酸−氷水に流し込み、攪拌後ジエチルエーテルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去して粗生成物を得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、目的の4−(4−t−ブチルフェニル)−1,2,3,5−テトラヒドロ−s−インダセン(6.2g,収率82%)を得た。
得られた4−(4−t−ブチルフェニル)−1,2,3,5−テトラヒドロ−s−インダセン(6.2g,22mmol)をジメチルスルホキシド(100mL)に溶解させ、水(2mL)を加えた。0℃でN−ブロモスクシンイミド(5.0g,28mmol)を添加し、室温で16時間攪拌した。氷浴上で水を加えてクエンチし、トルエンを加えて有機層を抽出した。有機層にp−トルエンスルホン酸・一水和物(0.2g)を加え、加熱還流下で1時間反応させた後、反応溶液に水を加えて有機層を分取した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去して粗生成物を得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、目的の6−ブロモ−4−(4−t−ブチルフェニル)−1,2,3,5−テトラヒドロ−s−インダセン(4.5g,収率57%)を得た。
2−メチルフラン(2.0ml,22mmol)をジメトキシエタン(40mL)に溶解させ、n−ブチルリチウムのn−ヘキサン溶液(1.57M,14.1mL)を氷浴下滴加し2時間攪拌した後、氷浴冷却したままホウ酸トリイソプロピル(5.8mL,25mmol)を滴加し室温で16時間攪拌した。水(10mL)を加え、1時間攪拌した。そこに、炭酸ナトリウム(3.2g,30mmol)の水溶液(20mL)、上記合成した6−ブロモ−4−(4−t−ブチルフェニル)−1,2,3,5−テトラヒドロ−s−インダセン(5.6g,15mmol)のジメトキシエタン(50mL)溶液、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0.4g)を順に加え、加熱還流下で2時間反応させた。反応溶液に水を加えて有機層を分取し、飽和食塩水で洗浄して硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。
得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、目的の6−(5−メチル−2−フリル)−4−(4−t−ブチルフェニル)−1,2,3,5−テトラヒドロ−s−インダセン(4.1g,収率73%)を得た。
6−(5−メチル−2−フリル)−4−(4−t−ブチルフェニル)−1,2,3,5−テトラヒドロ−s−インダセン(4.1g,11.1mmol)をテトラヒドロフラン(80mL)に溶解させ、n−ブチルリチウムのn−ヘキサン溶液(1.57M,7.1mL)を−72℃で滴加した。自然昇温の後に室温で3時間攪拌した後、ジクロロジメチルシラン(0.68mL,5.6mmol)を−72℃で滴加した。自然昇温の後に室温で2.5時間攪拌した。水を加えて有機層を分取し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、目的のジメチルビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(4−t−ブチルフェニル)−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]シラン(1.6g,収率36%)を得た。
1H−NMR(400MHz,CDCl3)δ−0.57,−0.48(d,s,6H,SiMe2),1.39(s,18H,tBu),2.28(s,6H,furyl−Me),2.8−3.0(m,12H,−CH2−),4.08,4.22(s,2H,CH2),5.9−6.2(m,4H,furyl),7.0−7.5(m,10H).
ジメチルビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(4−t−ブチルフェニル)−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]シラン(1.6g,2.0mmol)をジエチルエーテル(50mL)に溶解させ、n−ブチルリチウムのn−ヘキサン溶液(1.57M,2.6mL)を−72℃で滴加した。室温で3時間攪拌した後、減圧下溶媒を留去した。ジエチルエーテル(4mL)、トルエン(80mL)を加え、−72℃に冷却し、四塩化ジルコニウム(0.47g,2.0mmol)を添加し室温で2時間攪拌した。得られた反応溶液を一度濃縮し、n−へキサンで抽出して再び濃縮乾固した。再度n−ヘキサンで抽出を繰り返し溶解性の低い不純物を除き、ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(4−t−ブチルフェニル)−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]ジルコニウムの粗精製物0.2gを得た。
1H−NMR(400MHz,CDCl3)δ1.09(s,6H,Si(CH3)2),1.32(s,18H,tBu),2.42(s,6H,Furyl−CH3),1.8−3.1(m,12H,−CH2−),6.04(s,2H,Furyl−H),6.24(s,2H,Furyl−H),6.6−7.5(12H).
メタロセン錯体Aの代わりに、メタロセン錯体Dを100mg用いた他は、[実施例1](1−7)記載の触媒調製と同様の操作により、固体触媒(触媒D)7.3gを得た。
そのときの予備重合倍率(予備重合ポリマー量を固体触媒量で除した値)は0.43であった。
触媒Aの代わりに、触媒Dを75mg使用し、[実施例1](1−8)と同様に操作した。
第二工程のプロピレン/エチレン重合時の槽内の平均ガスmol組成は、プロピレン/エチレン=45/55となった。その結果、39.2gのプロピレン−プロピレン・エチレンブロック共重合体を得た。
上記で得られたブロック共重合体は、CFC−IRの結果から、ゴム含有量(CP含有量)は3wt%、ゴム(CP)中のエチレン含有量は47mol%であり、CP部の重量平均分子量(Mw)は366,000であった。また、ゴム重合活性(CP活性)は520(g−CP/g−Cat/hr)であった。別途採取したプロピレンホモポリマーのTmは160℃であった。
触媒Dを100mg使用し、プロピレン/エチレン重合時の槽内の平均ガスmol組成をプロピレン/エチレン=40/60となるように調整した以外は、[実施例1](1−8)と同様に操作した。その結果、121gのプロピレン−プロピレン・エチレンブロック共重合体を得た。
上記で得られたブロック共重合体は、CFC−IRの結果から、ゴム含有量(CP含有量)は3wt%、ゴム(CP)中のエチレン含有量は56mol%であり、CP部の重量平均分子量(Mw)は444,000であった。また、ゴム重合活性(CP活性)は1200(g−CP/g−Cat/hr)であった。別途採取したプロピレンホモポリマーのTmは160℃であった。
メタロセン錯体Eの合成:ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(3−t−ブチルフェニル)−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]ジルコニウムの合成
3−t−ブチルフェニルボロン酸(5g,28.0mmol)をジメトキシエタン(70mL)に溶解させ、炭酸セシウム(14g,43mmol)の水溶液(60mL)、4−ブロモ−1,2,3,5−テトラハイドロ−s−インダセン(5.0g,21.2mmol)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(1.0g)を順に加えた。加熱還流下で8時間反応させた後、反応溶液を1N塩酸−氷水に流し込み、攪拌後ジエチルエーテルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去して粗生成物を得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、目的の4−(3−t−ブチルフェニル)−1,2,3,5−テトラハイドロ−s−インダセン(4.9g,収率79%)を得た。
得られた4−(3−t−ブチルフェニル)−1,2,3,5−テトラハイドロ−s−インダセン(4.1g,14.2mmol)をジメチルスルホキシド(80mL)に溶解させ、水(2mL)を加えた。0℃でN−ブロモスクシンイミド(3.3g,18.5mmol)を添加し、室温で4時間攪拌した。氷浴上で水を加えてクエンチし、トルエンを加えて有機層を抽出した。有機層にp−トルエンスルホン酸・一水和物(0.2g)を加え、加熱還流下で1時間反応させた後、反応溶液に水を加えて有機層を分取した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去して粗生成物を得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、目的の6−ブロモ−4−(3−t−ブチルフェニル)−1,2,3,5−テトラハイドロ−s−インダセン(3.7g,収率71%)を得た。
2−メチルフラン(1.3ml,14mmol)をジメトキシエタン(40mL)に溶解させ、n−ブチルリチウムのn−ヘキサン溶液(1.62M,8.8mL)を氷浴下滴加し1時間攪拌した後、氷浴冷却したままホウ酸トリメチル(1.8mL)を滴加し室温で16時間攪拌した。水(10mL)を加え、0.5時間攪拌した後減圧下溶媒を除去した。そこに、ジメトキシエタン(20mL)炭酸ナトリウム(2.1g,20mmol)の水溶液(30mL)、上記合成した6−ブロモ−4−(3−t−ブチルフェニル)−1,2,3,5−テトラハイドロ−s−インダセン(3.7g,10.1mmol)のジメトキシエタン(25mL)溶液、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0.3g)を順に加え、加熱還流下で1.5時間反応させた。反応溶液に水を加えて有機層を分取し、飽和食塩水で洗浄して硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。
得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、目的の6−(5−メチル−2−フリル)−4−(3−t−ブチルフェニル)−1,2,3,5−テトラヒドロ−s−インダセン(2.8g,収率75%)を得た。
6−(5−メチル−2−フリル)−4−(3−t−ブチルフェニル)−1,2,3,5−テトラヒドロ−s−インダセン(2.8g,7.6mmol)をジエチルエーテル(30mL)に溶解させ、n−ブチルリチウムのn−ヘキサン溶液(1.63M,4.7mL)を−40℃で滴加した。室温まで昇温し2時間攪拌した後、N−メチルイミダゾール(0.02mL)、ジクロロジメチルシラン(0.46mL,3.8mmol)を−72℃で滴加した。室温まで昇温し1時間攪拌した。水を加えて有機層を分取し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、目的のジメチルビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(3−t−ブチルフェニル)−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]シラン(1.9g,収率63%)を得た。
1H−NMR(400MHz,CDCl3)δ−0.56,−0.48(d,s,6H,SiMe2),1.37(s,18H,tBu),2.27(s,6H,furyl−Me),2.8−3.1(m,12H,−CH2−),4.10,4.24(s,s,2H,CH),5.9−6.2(m,4H),6.9−7.4(m,12H).
合成したジメチルビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(3−t−ブチルフェニル)−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]シラン(1.9g,2.4mmol)をジエチルエーテル(50mL)に溶解させ、n−ブチルリチウムのn−ヘキサン溶液(1.63M,2.9mL)を−72℃で滴加した。室温で3時間攪拌した後、減圧下溶媒を留去した。ジエチルエーテル(4mL)、トルエン(80mL)を加え、−72℃に冷却し、四塩化ジルコニウム(0.56g)を添加し室温で2時間攪拌した。得られた反応溶液を一度濃縮し、n−へキサン、ジイソプロピルエーテルで順に洗浄後、トルエンで抽出した。続けてトルエン−へキサン再結晶化を繰り返し、ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(3−t−ブチルフェニル)−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]ジルコニウムのラセミ体0.28gを得た。
1H−NMR(400MHz,CDCl3)δ1.11(s,6H,Si(CH3)2),1.31(s,18H,tBu),1.8−3.1(m,12H,−CH2−),2.41(s,6H,Furyl−CH3),6.02(d,J=2.3Hz,2H,Furyl−H),6.19(d,J=3.0Hz,2H,Furyl−H),6.69(s,2H,Cp),6.75(s,2H,arm.),7.2−6.7(8H).
メタロセン錯体Aの代わりに、メタロセン錯体Eを71mg用いた他は、[実施例1](1−7)記載の触媒調製と同様の操作により、固体触媒(触媒E)8.2gを得た。
そのときの予備重合倍率(予備重合ポリマー量を固体触媒量で除した値)は0.62であった。
触媒Aの代わりに、触媒Eを50mg使用し、[実施例1](1−8)と同様に操作した。
第二工程のプロピレン/エチレン重合時の槽内の平均ガスmol組成は、プロピレン/エチレン=58/42となった。その結果、152gのプロピレン−プロピレン・エチレンブロック共重合体を得た。
上記で得られたブロック共重合体は、CFC−IRの結果から、ゴム含有量(CP含有量)は5wt%、ゴム(CP)中のエチレン含有量は28mol%であり、CP部の重量平均分子量(Mw)は416,000であった。また、ゴム重合活性(CP活性)は300(g−CP/g−Cat/hr)であった。別途採取したプロピレンホモポリマーのTmは160℃であった。
触媒Eを50mg使用し、プロピレン/エチレン重合時の槽内の平均ガスmol組成をプロピレン/エチレン=40/60となるように調整した以外は、[実施例1](1−8)と同様に操作した。その結果、241gのプロピレン−プロピレン・エチレンブロック共重合体を得た。
上記で得られたブロック共重合体は、CFC−IRの結果から、ゴム含有量(CP含有量)は13wt%、ゴム(CP)中のエチレン含有量は44mol%であり、CP部の重量平均分子量(Mw)は443,000であった。また、ゴム重合活性(CP活性)は600(g−CP/g−Cat/hr)であった。
メタロセン錯体Fの合成:ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(2−ナフチル)−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]ジルコニウムの合成
2−ナフチルボロン酸(3.8g,21.4mmol)をジメトキシエタン(100mL)に溶解させ、炭酸セシウム(10.6g)の水溶液(50mL)、4−ブロモ−1,2,3,5−テトラハイドロ−s−インダセン(3.8g,16.2mmol)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0.75g)を順に加えた。加熱還流下で12時間反応させた後、反応溶液を1N塩酸−氷水に流し込み、攪拌後ジエチルエーテルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去して粗生成物を得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、目的の4−(2−ナフチル)−1,2,3,5−テトラハイドロ−s−インダセン(4.3g,収率94%)を得た。
得られた4−(2−ナフチル)−1,2,3,5−テトラハイドロ−s−インダセン(4.3g,15.2mmol)をジメチルスルホキシド(80mL)に溶解させ、水(2mL)を加えた。0℃でN−ブロモスクシンイミド(3.5g)を添加し、室温で16時間攪拌した。氷浴上で水を加えてクエンチし、トルエンを加えて有機層を抽出した。有機層にp−トルエンスルホン酸・一水和物(0.2g)を加え、加熱還流下で1時間反応させた後、反応溶液に水を加えて有機層を分取した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去して粗生成物を得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、目的の6−ブロモ−4−(2−ナフチル)−1,2,3,5−テトラハイドロ−s−インダセン(4.4g,収率80%)を得た。
2−メチルフラン(1.65ml,18.3mmol)をジメトキシエタン(40mL)に溶解させ、n−ブチルリチウムのn−ヘキサン溶液(1.63M,11.2mL)を氷浴下滴加し1.5時間攪拌した後、氷浴冷却したままホウ酸トリメチル(2.3mL)を滴加し室温で16時間攪拌した。水(10mL)を加え、1時間攪拌した後減圧下溶媒を除去した。そこに、炭酸ナトリウム(2.6g)の水溶液(30mL)、上記合成した6−ブロモ−4−(2−ナフチル)−1,2,3,5−テトラハイドロ−s−インダセン(4.4g,12mmol)のジメトキシエタン(20mL)溶液、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0.7g)を順に加え、加熱還流下で1.5時間反応させた。反応溶液に水を加えて有機層を分取し、飽和食塩水で洗浄して硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、目的の6−(5−メチル−2−フリル)−4−(2−ナフチル)−1,2,3,5−テトラヒドロ−s−インダセン(2.4g,収率54%)を得た。
6−(5−メチル−2−フリル)−4−(2−ナフチル)−1,2,3,5−テトラヒドロ−s−インダセン(2.4g,6.6mmol)をジエチルエーテル(50mL)に溶解させ、n−ブチルリチウムのn−ヘキサン溶液(1.63M,4.1mL)を−40℃で滴加した。自然昇温の後に室温で3時間攪拌したところ懸濁したのでジエチルエーテル(20mL)とトルエン(20mL)を加えて溶解させた。続いてN−メチルイミダゾール(0.02mL)とジクロロジメチルシラン(0.4mL,3.3mmol)を−72℃で滴加した。自然昇温の後に室温で1.5時間攪拌した。水を加えて有機層を分取し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、目的のジメチルビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(2−ナフチル)−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル](1.6g,収率62%)を得た。
1H−NMR(400MHz,CDCl3)δ−0.40,−0.39(d,s,6H,SiMe2),2.25(6H,furyl−Me),2.0−3.2(m,12H,−CH2−),4.11,4.25(s,s,2H,CH),5.8−6.2(m,4H,furyl),6.9−8.0(m,18H).
合成したジメチルビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(2−ナフチル)−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル](1.6g,2.1mmol)をジエチルエーテル(50mL)に溶解させ、n−ブチルリチウムのn−ヘキサン溶液(1.63M,2.5mL)を−72℃で滴加した。室温で3時間攪拌した後、減圧下溶媒を留去した。ジエチルエーテル(4mL)、トルエン(80mL)を加え、−72℃に冷却し、四塩化ジルコニウム(0.48g)を添加し室温で2時間攪拌した。得られた反応溶液を一度濃縮し、ジエチルエーテルで抽出した。続けてn−へキサン洗浄後、ジクロロメタンに溶解させ1時間攪拌した。再度濃縮後ジエチルエーテルで抽出し、n−へキサン、n−へキサンとジエチルエーテル混合溶液で洗浄して、ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(2−ナフチル)−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]ジルコニウムのラセミ−メソ(1:0.8)の混合物0.5gを得た。
1H−NMR(400MHz,CDCl3、ラセミ体)δ1.14(s,6H,Si(CH3)2),2.42(s,6H,Furyl−CH3),1.8−3.1(m,12H,−CH2−),6.02(dd,2H,Furyl−H),6.21(d,J=3.0Hz,2H,Furyl−H),6.72(s,2H,Cp),6.82(s,2H,arm),7.4−8.0(14H)
メタロセン錯体Aの代わりに、メタロセン錯体Fを70mg用いた他は、[実施例1](1−7)記載の触媒調製と同様の操作により、固体触媒(触媒F)5.9gを得た。
そのときの予備重合倍率(予備重合ポリマー量を固体触媒量で除した値)は0.16であった。
触媒Aの代わりに、触媒Fを150mg使用し、プロピレン/エチレン重合時の槽内の平均ガスmol組成をプロピレン/エチレン=43/57となるように調整した以外は、[実施例1](1−8)と同様に操作した。
その結果、62gのプロピレン−プロピレン・エチレンブロック共重合体を得た。
上記で得られたブロック共重合体は、CFC−IRの結果から、ゴム含有量(CP含有量)は2wt%、ゴム(CP)中のエチレン含有量は55mol%であり、CP部の重量平均分子量(Mw)は322,000であった。また、ゴム重合活性(CP活性)は20(g−CP/g−Cat/hr)であった。別途採取したプロピレンホモポリマーのTmは160℃であった。
メタロセン錯体Gの合成:ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(3,5−ジメチルフェニル)−5−メチルインデニル]ジルコニウムの合成
メタロセン錯体Gの合成は、特開2010−163423号公報、実施例6に記載の方法を参考に合成し、ラセミ体(純度99%以上)を得た。
メタロセン錯体Aの代わりに、メタロセン錯体Gを125mg(150μmol)用いた、他は、[実施例1](1−7)記載の触媒調製と同様の操作により固体触媒(触媒G)14.1gを得た。
そのときの予備重合倍率(予備重合ポリマー量を固体触媒量で除した値)は1.75であった。
触媒Aの代わりに、触媒Gを30mg使用し、[実施例1](1−8)と同様に操作した。
第二工程のプロピレン/エチレン重合時の槽内の平均ガスmol組成は、プロピレン/エチレン=41/59となった。その結果、245gのプロピレン−プロピレン・エチレンブロック共重合体を得た。
上記で得られたブロック共重合体は、CFC−IRの結果から、ゴム含有量(CP含有量)は39wt%、ゴム(CP)中のエチレン含有量は35mol%であり、CP部の重量平均分子量(Mw)は570,000であった。また、ゴム重合活性(CP活性)は3500(g−CP/g−Cat/hr)であった。別途採取したプロピレンホモポリマーのTmは156℃、MFRは2(dg/min)であった。
メタロセン錯体Hの合成:ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−フェニルインデニル]ジルコニウムの合成
メタロセン錯体Hの合成は、特開2002−128832号公報、実施例1に記載の方法を参考に合成し、ラセミ体(純度99%以上)を得た。
メタロセン錯体Aの代わりに、メタロセン錯体Hを111mg(147μmol)用いた他は、[実施例1](1−7)記載の触媒調製と同様の操作により固体触媒(触媒H)14.3gを得た。
そのときの予備重合倍率(予備重合ポリマー量を固体触媒量で除した値)は1.80であった。
触媒Aの代わりに、触媒Hを30mg使用し、[実施例1](1−8)と同様に操作した。
第二工程のプロピレン/エチレン重合時の槽内の平均ガスmol組成は、プロピレン/エチレン=43/57となった。その結果、173gのプロピレン−プロピレン・エチレンブロック共重合体を得た。
上記で得られたブロック共重合体は、CFC−IRの結果から、ゴム含有量(CP含有量)は9wt%、ゴム(CP)中のエチレン含有量は51mol%であり、CP部の重量平均分子量(Mw)は121,000であった。また、ゴム重合活性(CP活性)は1,200(g−CP/g−Cat/hr)であった。別途採取したプロピレンホモポリマーのTmは154℃、MFRは162(dg/min)であった。
メタロセン錯体Iの合成:ジクロロジメチルシリレンビス(2−メチル−4−フェニルインデニル)ジルコニウム
の合成
メタロセン錯体Iの合成は、Organometallics 1994年,13巻,954−963頁に記載の方法を参考に合成し、ラセミ体(純度99%以上)を得た。
メタロセン錯体Aの代わりに、メタロセン錯体Iを122mg(161μmol)用いた他は、[実施例1](1−7)記載の触媒調製と同様の操作により固体触媒(触媒I)15.9gを得た。
そのときの予備重合倍率(予備重合ポリマー量を固体触媒量で除した値)は2.11であった。
触媒Aの代わりに、触媒Iを20mg使用し、第二工程のプロピレン/エチレン重合時の槽内の平均ガスmol組成がプロピレン/エチレン=34/66となるように調節した以外は、[実施例1](1−8)と同様に操作した。
その結果、136gのプロピレン−プロピレン・エチレンブロック共重合体を得た。
上記で得られたブロック共重合体は、CFC−IRの結果から、ゴム含有量(CP含有量)は61wt%、ゴム(CP)中のエチレン含有量は49mol%であり、CP部の重量平均分子量(Mw)は63,000であった。また、ゴム重合活性(第2工程での活性)は10,200(g−CP/g−Cat/hr)であった。別途採取したプロピレンホモポリマーのTmは149℃、MFRは2(dg/min)であった。
・メタロセン錯体B:ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(3,5−ジメチルフェニル)−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]ジルコニウム
・メタロセン錯体C:ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(3,5−ジイソプロピルフェニル)−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]ジルコニウム
・メタロセン錯体D:ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(4−t−ブチルフェニル)−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]ジルコニウム
・メタロセン錯体E:ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(3−t−ブチルフェニル)−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]ジルコニウム
・メタロセン錯体F:ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(2−ナフチル)−1,5,6,7−テトラヒドロ−s−インダセニル]ジルコニウム
・メタロセン錯体G:ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−(3,5−ジメチルフェニル)−5−メチルインデニル]ジルコニウム
・メタロセン錯体H:ジクロロジメチルシリレンビス[2−(5−メチル−2−フリル)−4−フェニルインデニル]ジルコニウム
・メタロセン錯体I:ジクロロジメチルシリレンビス(2−メチル−4−フェニルインデニル)ジルコニウム
Claims (7)
- 下記の一般式[II]で表されるメタロセン錯体。
X1とX2は、それぞれ独立して、ハロゲン原子、又は炭素数1〜20の炭化水素基である。
R1とR11は、互いに同じでも異なっていてもよく、フリル基、チエニル基、置換基を有するフリル基または置換基を有するチエニル基のいずれかである。R30は、水素である。
R2、R3、R4、R5、R6、R9、R12、R13、R14、R15、R16及びR19は、互いに同じでも異なっていてもよく、水素、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素数2〜6のアルケニル基、炭素数1〜6のハロゲン含有アルキル基、炭素数1〜6の炭化水素基を有するシリル基、炭素数6〜18のアリール基、炭素数6〜18のハロゲン含有アリール基、又は置換基を有していてもよい5員環若しくは6員環を構成する複素環基であり、また、R2、R3、R4、R5、R6、R12、R13、R14、R15及びR16は、隣接する置換基双方で6〜7員環を構成してもよく、6〜7員環が不飽和結合を含んでいてもよい(但し、R4およびR14が炭素数6〜18のアリール基である場合、またはR4およびR14が炭素数6〜18のハロゲン含有アリール基である場合を除く)。
R10とR20は、互いに同じでも異なっていてもよく、炭素数1〜6のアルキル基であり、R10とR20で4〜7員環を構成していてもよい。) - 請求項1に記載のメタロセン錯体を含むことを特徴とするオレフィン重合用触媒。
- 下記の(A)、(B)及び(C)の各成分を含むことを特徴とする請求項2に記載のオレフィン重合用触媒。
成分(A):請求項1に記載のメタロセン錯体
成分(B):成分(A)と反応してイオン対を形成する化合物又はイオン交換性層状珪酸塩
成分(C):有機アルミニウム化合物 - 成分(B)がイオン交換性層状珪酸塩であることを特徴とする請求項3に記載のオレフィン重合用触媒。
- 請求項2〜4のいずれかに記載のオレフィン重合用触媒を使用して、オレフィンの重合または共重合を行うことを特徴とするオレフィンの重合方法。
- プロピレン系重合体を製造する方法であって、
請求項2〜4のいずれかに記載のオレフィン重合用触媒を用いて、
(i)全モノマー成分に対して、プロピレンを90〜100重量%、エチレン又はα−オレフィンを0〜10重量%で重合させる工程、及び
(ii)全モノマー成分に対して、プロピレンを10〜90重量%、エチレン及び/又は炭素数4以上のα−オレフィンを10〜90重量%で重合させる工程、
を含むことを特徴とするプロピレン系重合体の二段重合方法。 - 第1工程は、
(i)全モノマー成分に対して、プロピレンを90〜100重量%、エチレン又はα−オレフィンを0〜10重量%で、プロピレンを溶媒として用いるバルク重合又はモノマーをガス状に保つ気相重合であり、及び
第2工程は、
(i)全モノマー成分に対して、プロピレンを10〜90重量%、エチレン又はα−オレフィンを10〜90重量%で、気相重合させることを特徴とする請求項6に記載のプロピレン系重合体の二段重合方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011244146A JP5966321B2 (ja) | 2010-11-19 | 2011-11-08 | メタロセン錯体およびオレフィンの重合方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010258704 | 2010-11-19 | ||
JP2010258704 | 2010-11-19 | ||
JP2011244146A JP5966321B2 (ja) | 2010-11-19 | 2011-11-08 | メタロセン錯体およびオレフィンの重合方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012121882A JP2012121882A (ja) | 2012-06-28 |
JP5966321B2 true JP5966321B2 (ja) | 2016-08-10 |
Family
ID=46503725
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011244146A Active JP5966321B2 (ja) | 2010-11-19 | 2011-11-08 | メタロセン錯体およびオレフィンの重合方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5966321B2 (ja) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5880000B2 (ja) * | 2011-12-14 | 2016-03-08 | 日本ポリプロ株式会社 | メタロセン錯体およびオレフィンの重合方法 |
JP6176015B2 (ja) * | 2012-11-01 | 2017-08-09 | 日本ポリプロ株式会社 | メタロセン錯体およびオレフィンの重合方法 |
JP5710035B2 (ja) | 2013-02-27 | 2015-04-30 | 日本ポリエチレン株式会社 | メタロセン化合物およびオレフィン重合体の製造方法 |
JP6264808B2 (ja) * | 2013-09-26 | 2018-01-24 | 日本ポリプロ株式会社 | メタロセン化合物及びそれを使用する重合触媒によるオレフィン重合体の製造方法 |
JP6361524B2 (ja) * | 2014-02-19 | 2018-07-25 | 日本ポリエチレン株式会社 | メタロセン化合物、それを含むオレフィン重合用触媒成分およびオレフィン重合用触媒、並びにそのオレフィン重合用触媒を用いたオレフィン重合体の製造方法 |
WO2015141675A1 (ja) | 2014-03-20 | 2015-09-24 | 日本ポリプロ株式会社 | メタロセン錯体およびオレフィン重合体の製造方法 |
JP6201853B2 (ja) * | 2014-03-25 | 2017-09-27 | 日本ポリプロ株式会社 | メタロセン錯体及びオレフィン重合体の製造方法 |
EP4017887A4 (en) * | 2019-08-22 | 2023-01-18 | ExxonMobil Chemical Patents Inc. | ISOTACTIC PROPYLENE HOMOPOLYMERS AND COPOLYMERS MADE WITH C1-SYMMETRIC METALLOCENE CATALYSTS |
WO2022210845A1 (ja) | 2021-03-31 | 2022-10-06 | 三井化学株式会社 | エチレン系樹脂組成物および成形体 |
WO2022210844A1 (ja) | 2021-03-31 | 2022-10-06 | 三井化学株式会社 | エチレン-α-オレフィン共重合体、熱可塑性樹脂組成物、およびフィルム |
WO2022210843A1 (ja) | 2021-03-31 | 2022-10-06 | 三井化学株式会社 | エチレン-α-オレフィン共重合体、熱可塑性樹脂組成物、フィルムおよび積層体 |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1274701C (zh) * | 2000-06-30 | 2006-09-13 | 埃克森美孚化学专利公司 | 用于烯烃聚合的含有桥接4-苯基-茚基配体的金属茂 |
WO2003002583A2 (en) * | 2001-06-29 | 2003-01-09 | Exxonmobil Chemical Patents Inc. | Metallocenes and catalyst compositions derived therefrom |
JP4479177B2 (ja) * | 2002-08-02 | 2010-06-09 | チッソ株式会社 | メタロセン化合物、それを含む触媒を用いたオレフィン重合体の製造方法、および該製造方法により製造されたオレフィン重合体 |
AU2003276242A1 (en) * | 2002-12-04 | 2004-06-23 | Basell Polyolefine Gmbh | Process for preparing 1-butene polymers |
JP2004238494A (ja) * | 2003-02-06 | 2004-08-26 | Chisso Corp | オレフィン重合体の製造方法 |
DE10358082A1 (de) * | 2003-12-10 | 2005-07-14 | Basell Polyolefine Gmbh | Organübergangsmetallverbindung, Bscyclopentadienyligandsystem, Katalysatorsystem und Hertellung von Polyolefinen |
DE10360060A1 (de) * | 2003-12-19 | 2005-07-21 | Basell Polyolefine Gmbh | Verfahren zur meso-selektiven Synthese von anso-Metallocen |
US7285608B2 (en) * | 2004-04-21 | 2007-10-23 | Novolen Technology Holdings C.V. | Metallocene ligands, metallocene compounds and metallocene catalysts, their synthesis and their use for the polymerization of olefins |
JP4644445B2 (ja) * | 2004-06-08 | 2011-03-02 | 日本ポリプロ株式会社 | メタロセン化合物の精製方法 |
PL1858907T3 (pl) * | 2005-03-18 | 2009-04-30 | Basell Polyolefine Gmbh | Metalocenowe związki |
BRPI0613343A2 (pt) * | 2005-06-13 | 2011-01-04 | Basell Polyolefine Gmbh | processo para a copolimerização de propileno |
WO2007116034A1 (en) * | 2006-04-12 | 2007-10-18 | Basell Polyolefine Gmbh | Metallocene compounds |
JP5089922B2 (ja) * | 2006-06-14 | 2012-12-05 | 日本ポリプロ株式会社 | メタロセン化合物及びそれを使用したオレフィン重合用触媒 |
JP5271464B2 (ja) * | 2006-10-17 | 2013-08-21 | 日本ポリプロ株式会社 | メタロセン化合物及びそれを使用するオレフィン重合用触媒 |
JP5075563B2 (ja) * | 2007-10-11 | 2012-11-21 | 日本ポリプロ株式会社 | プロピレン/エチレン−αオレフィン系ブロック共重合体の製造方法 |
JP5201940B2 (ja) * | 2007-10-18 | 2013-06-05 | 日本ポリプロ株式会社 | プロピレン系重合体の製造方法 |
JP5409294B2 (ja) * | 2008-12-17 | 2014-02-05 | 日本ポリプロ株式会社 | メタロセン錯体およびオレフィンの重合方法 |
JP5456343B2 (ja) * | 2009-02-03 | 2014-03-26 | 日本ポリプロ株式会社 | メタロセン錯体およびそれを含むオレフィン重合用触媒 |
-
2011
- 2011-11-08 JP JP2011244146A patent/JP5966321B2/ja active Active
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2012121882A (ja) | 2012-06-28 |
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