JP5963903B2

JP5963903B2 - 光配向膜の製造方法及び位相差膜の製造方法

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Publication number: JP5963903B2
Application number: JP2015079033A
Authority: JP
Inventors: 幸樹椿; 茂樹阿波; 小林　武史; 武史小林; 剛知松山; 喜弘川月
Original assignee: Osaka Organic Chemicals Ind.,Ltd.; Hyogo Prefectural Government
Current assignee: Osaka Organic Chemicals Ind.,Ltd.; Hyogo Prefectural Government
Priority date: 2010-07-28
Filing date: 2015-04-08
Publication date: 2016-08-03
Anticipated expiration: 2031-07-27
Also published as: KR20170120721A; KR20130096249A; WO2012014915A1; JPWO2012014915A1; JP5843772B2; TWI495648B; KR101861502B1; KR101833572B1; TW201206964A; JP2015172751A

Description

本発明は、共重合性（メタ）アクリル酸ポリマー、光配向膜及び位相差膜に関し、より詳しくは、末端にカルボキシル基を有する側鎖と末端にアクリル酸エステル部分を有する側鎖とを併せもつ共重合性（メタ）アクリル酸ポリマー、それを含んでなる光配向膜用組成物、該組成物からなる膜に液晶配向能を生じさせた光配向膜及び該光配向膜上に液晶性化合物を配向させた位相差膜に関する。

近年、ディスプレー（液晶ディスプレーの他、フレキシブルディスプレーなども含む）分野では、位相差膜（光学異方性膜）が様々な形で利用されている。かかる位相差膜は、液晶配向能を有する膜（又は基板）上に液晶性化合物を塗布して製造されるが、従来、該膜（又は基板）に液晶配向能を付与する方法として、その表面を化学的あるいは物理的に処理する方法が知られている。かかる方法として、例えば、基板表面に被覆したポリイミドなどの高分子樹脂膜を一方向に布などで擦るラビング処理が知られており、液晶表示装置用配向膜等の形成に用いられている。しかしながら、かかる方法においては、微細な埃の発生による液晶製造ラインの汚染や、静電気によるＴＦＴ（薄膜トランジスタ）素子の破壊などが、液晶パネルの製造工程における歩留まりの低下を引き起こす原因となったり、定量的な配向制御が困難であることなどの問題があった。

そこで、ラビング処理に代わり、光照射により、液晶配向能を付与する光配向膜が種々提案されている（特許文献１〜３）。特に、特許文献２には、光反応性側鎖末端にカルボキシル基を有するモノマーを重合させた光配向材が良好な光反応効率を示すものとして記載されている。しかし、かかる光配向材は、原料であるモノマーが高価なため、製造コストを抑えることが難しいという問題があった。そこで、特許文献３には、前記モノマーの一部をより安価な別のモノマーに置き換えることにより、上記問題を解決した共重合性ポリマーが記載されている。かかる別のモノマーは、末端にカルボキシル基を有する点は共通するものの、光反応性を示す構造を含まないものである。

一般に、このようなポリマーを用いて位相差フィルムを製造するには、ポリマーを、まず溶媒に溶解し、かかる溶液を基板上に塗布し、乾燥し、直線偏光等を照射し、必要に応じ加熱して光配向膜とする。そして、該光配向膜上に液晶性化合物を塗布し、これを加温して該液晶性化合物を配向させ、さらにＵＶ硬化した後、加熱することにより配向性を向上させ、位相差フィルムとする。かかるプロセスにおいて、最初にポリマーを溶解させる溶媒としては、できるだけ毒性や環境負荷の低いものが望まれるが、上記特許文献２及び特許文献３記載のポリマーは溶解性が悪く、毒性や環境負荷の比較的高い溶媒を使用せざるを得ないという問題があった。

また、基板上に塗布したポリマーに直線偏光を照射する際の露光量には、光配向膜を製造する上で最適な範囲（最適偏光露光量。本明細書においては、単に、最適露光量ともいう。）がある一方、ある露光量を超えると膜が劣化してしまうという限界値（限界偏光露光量。本明細書においては、単に、限界露光量ともいう。）も存在するため、好適な光配向膜を製造するにはその露光量を適確に調整する必要がある。かかる調整は、偏光を照射する機械により、その露光強度及び露光時間を調整することにより行われるが、最適露光量の値が小さく（光感受性高く）かつ限界露光量との差が小さいと、かかる調整を行うことが極めて困難になるという問題があった。

さらに、光配向膜に液晶性化合物を配向させ位相差膜を製造する際には、液晶性化合物をＵＶ硬化させた後、２００℃を超える高温に加熱する必要があるが、かかる加熱の過程の前後で、膜の複屈折率が減少する（耐熱性が低い）という問題があった。

特開平０８−０１５６８１号特開２００７−３０４２１５号特開２００８−２７６１４９号

上記背景において、本発明は、毒性及び環境負荷の低い溶媒に溶解することができる、共重合性（メタ）アクリル酸ポリマー、それを含んでなる光配向膜用組成物、該組成物からなる膜に液晶配向能を生じさせた光配向膜、及び該光配向膜上に液晶性化合物を配向させた位相差膜を提供することを目的とする。

また、本発明は、液晶膜の製膜プロセス、すなわち膜の加熱（焼成）工程において、複屈折率の減少を抑えることのできる（耐熱性が高い）共重合性（メタ）アクリル酸ポリマー、それを含んでなる光配向膜用組成物、該組成物からなる膜に液晶配向能を生じさせた光配向膜、及び該光配向膜上に液晶性化合物を配向させた位相差膜を提供することを目的とする。

さらに、本発明は、光配向膜を製造する際に照射する偏光の最適露光量の値が比較的大きく（光感受性が低く）及び／又は該最適露光量と限界露光量の差が大きく、露光量の調節が容易である共重合性（メタ）アクリル酸ポリマー、それを含んでなる光配向膜用組成物、該組成物からなる膜に液晶配向能を生じさせた光配向膜、及び該光配向膜上に液晶性化合物を配向させた位相差膜を提供することを目的とする。

本発明者らは、鋭意検討を行った結果、末端にカルボキシル基を有する側鎖と末端にアリールアクリル酸エステル（好ましくは、桂皮酸エステル）部分を有する側鎖とを併せもつ、新規な共重合性（メタ）アクリル酸ポリマーを用いれば、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成させた。すなわち、本発明は、

〔１〕一般式（Ｉ）

〔式中、Ｒ¹は水素原子又はメチル基であり、Ｒ²はアルキル基、又はアルキル基、アルコキシ基、シアノ基及びハロゲン原子から選ばれる基で置換されたフェニル基であり、環Ａ及び環Ｂはそれぞれ独立して、

〔但し、Ｘ¹〜Ｘ³⁸の各々はそれぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子又はシアノ基である。〕
で示される基であり、Ｚは−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−（トランス体）又は−Ｎ＝Ｎ−で示される基であり、ｐ及びｑはそれぞれ独立して、１〜１２のいずれかの整数であり、ｍ及びｎは、０．６５≦ｍ≦０．９５、０．０５≦ｎ≦０．３５、ｍ＋ｎ＝１の関係を満たす共重合体に占める各モノマーのモル分率である。〕
で示される繰り返し単位を有する共重合性（メタ）アクリル酸ポリマー、

〔２〕一般式（Ｉ−Ａ）

〔式中、Ｒ¹は水素原子又はメチル基であり、Ｒ²はアルキル基、又はアルキル基、アルコキシ基、シアノ基及びハロゲン原子から選ばれる基で置換されたフェニル基であり、Ｘ^1A〜Ｘ^4Aの各々はそれぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子又はシアノ基であり、環Ｂは、

〔但し、Ｘ^1B〜Ｘ^4B及びＸ^31B〜Ｘ^38Bの各々はそれぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子又はシアノ基である。〕
で示される基であり、Ｚは−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−（トランス体）又は−Ｎ＝Ｎ−で示される基であり、ｐ及びｑはそれぞれ独立して、１〜１２のいずれかの整数であり、ｍ及びｎは、０．６５≦ｍ≦０．９５、０．０５≦ｎ≦０．３５、ｍ＋ｎ＝１の関係を満たす共重合体に占める各モノマーのモル分率である。〕
で示される繰り返し単位を有する共重合性（メタ）アクリル酸ポリマー、

〔３〕一般式（Ｉ−ａ）

〔但し、Ｘ^1B〜Ｘ^4B及びＸ^31B〜Ｘ^38Bの各々はそれぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子又はシアノ基である。〕
で示される基であり、ｐ及びｑはそれぞれ独立して、１〜１２のいずれかの整数であり、ｍ及びｎは、０．６５≦ｍ≦０．９５、０．０５≦ｎ≦０．３５、ｍ＋ｎ＝１の関係を満たす共重合体に占める各モノマーのモル分率である。〕
で示される繰り返し単位を有する共重合性（メタ）アクリル酸ポリマー、

〔４〕一般式（Ｉ−ｂ）

〔式中、Ｒ¹は水素原子又はメチル基であり、Ｒ²はアルキル基、又はアルキル基、アルコキシ基、シアノ基及びハロゲン原子から選ばれる基で置換されたフェニル基であり、Ｘ^1A〜Ｘ^4A及びＸ^31B〜Ｘ^38Bの各々はそれぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子又はシアノ基であり、ｐ及びｑはそれぞれ独立して、１〜１２のいずれかの整数であり、ｍ及びｎは、０．６５≦ｍ≦０．９５、０．０５≦ｎ≦０．３５、ｍ＋ｎ＝１の関係を満たす共重合体に占める各モノマーのモル分率である。〕
で示される繰り返し単位を有する共重合性（メタ）アクリル酸ポリマー、

〔５〕一般式（Ｉ−ｃ）

〔式中、Ｒ¹は水素原子又はメチル基であり、Ｒ²はアルキル基、又はアルキル基、アルコキシ基、シアノ基及びハロゲン原子から選ばれる基で置換されたフェニル基であり、Ｘ^1A〜Ｘ^4A及びＸ^1B〜Ｘ^4Bの各々はそれぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子又はシアノ基であり、Ｚは−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−（トランス体）又は−Ｎ＝Ｎ−で示される基であり、ｐ及びｑはそれぞれ独立して、１〜１２のいずれかの整数であり、ｍ及びｎは、０．６５≦ｍ≦０．９５、０．０５≦ｎ≦０．３５、ｍ＋ｎ＝１の関係を満たす共重合体に占める各モノマーのモル分率である。〕
で示される繰り返し単位を有する共重合性（メタ）アクリル酸ポリマー、

〔６〕上記〔１〕〜〔５〕のいずれか１項に記載の共重合性（メタ）アクリル酸ポリマーを含んでなる、光配向膜用組成物、

〔７〕上記〔６〕の光配向膜用組成物からなる膜に、異方性を有する光を照射し、更にこれを加熱して液晶配向能を生じさせた、光配向膜、

〔８〕上記〔７〕の光配向膜上に液晶性化合物を配向させた位相差膜、
に関する。

上記本発明の共重合性（メタ）アクリル酸ポリマー（Ｉ）は、毒性が低く環境負荷が低い溶媒であるメチルエチルケトン及び／又はシクロヘキサノン及び／又は１−メトキシ−２−プロパノールに可溶という優れた特長を有する。また、メチルエチルケトンとシクロヘキサノンと１−メトキシ−２−プロパノールは、沸点がそれぞれ約８０℃、約１５５℃、約１２０℃と低いため、その分、溶媒を留去するための乾燥工程が容易となるという利点を有する。

あるいは、本発明のポリマーは、これを配向膜として使用して、更に液晶性化合物を配向させて位相差膜を作製すれば、該位相差膜の製膜プロセスにおける加熱工程での膜の複屈折率の減少を抑えることができる（すなわち、膜の耐熱性が高くなる）、並びに／又は、光配向膜を製造する際に照射する偏光の最適露光量の値が比較的大きくなる及び／若しくは該最適露光量と限界露光量の差が大きくなる（すなわち、露光量の調節が容易となる）という優れた特長を有する。

本発明のポリマー（１）において、好ましい具体例を以下に示す。

一般式（Ｉ−Ａ）

〔式中記号は前記と同一意味を有する。〕
で示される繰り返し単位を有する共重合性（メタ）アクリル酸ポリマー。

一般式（Ｉ−Ｂ）

〔但し、Ｘ¹〜Ｘ³⁸の各々はそれぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子又はシアノ基である。〕
で示される基であり、ｐ及びｑはそれぞれ独立して、１〜１２のいずれかの整数であり、ｍ及びｎは、０．６５≦ｍ≦０．９５、０．０５≦ｎ≦０．３５、ｍ＋ｎ＝１の関係を満たす共重合体に占める各モノマーのモル分率である。〕
で示される繰り返し単位を有する共重合性（メタ）アクリル酸ポリマー。

一般式（Ｉ−ａ）

〔式中、記号は前記と同一意味を有する。〕
で示される繰り返し単位を有する共重合性（メタ）アクリル酸ポリマー。

一般式（Ｉ−ｂ）

一般式（Ｉ−ｃ）

〔式中、記号は前記と同一意味を有する。〕

本発明の一般式（Ｉ）（一般式（Ｉ−Ａ）及び（Ｉ−Ｂ）並びに一般式（Ｉ−ａ）〜（Ｉ−ｃ）を含む。以下同様。）において、Ｒ¹としては、メチル基が好ましい。Ｒ²としては、アルキル基、又はアルキル基、アルコキシ基、シアノ基及びハロゲン原子から選ばれる１の基で置換されたフェニル基が好ましく、このうちアルキル基、又はシアノ基で置換されたフェニル基が好ましく、更に、アルキル基が最も好ましい。Ｒ²の他の好ましい例としては、アルキル基、又はアルコキシ基若しくはシアノ基で置換されたフェニル基が挙げられ、このうち、アルキル基、又はアルコキシ基で置換されたフェニル基が好ましい。Ｒ²の他の好ましい例としては、アルコキシ基若しくはシアノ基で置換されたフェニル基が挙げられ、このうち、アルコキシ基で置換されたフェニル基が更に好ましい。Ｒ²の他の好ましい例は、アルキル基である。Ｘ¹〜Ｘ³⁸としては、いずれも水素原子又はハロゲン原子が好ましい。ｐ及びｑとしては、いずれも、３〜９のいずれかの整数が好ましく、このうち５〜７のいずれかの整数が好ましく、６が最も好ましい。ｍについては、好ましくは約０．７５≦ｍ≦約０．８５の範囲であり、最も好ましいのは約０．８である。対応するｎの好ましい範囲は、ｍ＋ｎ＝１から自ずと定まる範囲である。すなわち、好ましくは約０．１５≦ｎ≦約０．２５の範囲であり、最も好ましいのは約０．２である。

本発明の一般式（Ｉ）において、Ｘ^1A〜Ｘ^4Aとしては、水素原子又はハロゲン原子が好ましく、特に、Ｘ^1A〜Ｘ^4Aのいずれか一つがハロゲン原子であって、その他が水素原子である場合が好ましく、更に全てが水素原子である場合が最も好ましい。また、Ｘ^31B〜Ｘ^38Bとしては、水素原子又はハロゲン原子が好ましく、全てが水素原子である場合が最も好ましい。

Ｒ²のアルキル基又はＲ²のフェニル基の置換基のアルキル基としては、炭素数１〜１２のアルキル基が挙げられ、そのうち、好ましくは炭素数１〜６のものが、更に好ましくは炭素数１〜４のものが、最も好ましくはメチル基が挙げられる。Ｒ²のフェニル基の置換基のアルコキシ基としては、炭素数１〜１２のアルコキシ基が挙げられ、そのうち、好ましくは炭素数１〜６のものが、更に好ましくは炭素数１〜４のものが、最も好ましくはメトキシ基が挙げられる。Ｒ²のフェニル基の置換基のハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ、このうち、フッ素原子が好ましい。Ｘ¹〜Ｘ³⁸において、アルキル基としては、炭素数１〜４のものが挙げられ、そのうちメチル基が最も好ましく、アルコキシ基としては、炭素数１〜４のものが挙げられ、そのうちメトキシ基が最も好ましく、ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ、このうち、フッ素原子が好ましい。

なお、本明細書において、Ｘ^1A〜Ｘ^38Aは、環Ａ又は環Ｂ上の置換基であるＸ¹〜Ｘ³⁸について、それらが環Ａ上の置換基である場合を表し、Ｘ^1B〜Ｘ^38Bは、それらが環Ｂ上の置換基である場合を表すものである。したがって、Ｘ¹〜Ｘ³⁸についての説明は、そのままＸ^1A〜Ｘ^38A及びＸ^1B〜Ｘ^38Bに対しても適用し得るものである。

本発明のポリマー（Ｉ）は、一般式（ＩＩ）

〔式中、記号は前記と同一意味を有する。〕
で示される（メタ）アクリル酸モノマー（Ｍ１）の所定量と、一般式（ＩＩＩ）

〔式中、記号は前記と同一意味を有する。〕
で示される（メタ）アクリル酸モノマー（Ｍ２）の所定量とを、無溶媒又は溶媒中混合して、重合させることにより、製造することができる。重合は光又は熱を用いて実施することができる。重合工程において、材料や溶媒等を仕込む方法は特に限定されず、重合前に反応容器へ予め全材料を投入した後に重合を開始してもよいし、Ｍ１とＭ２を混合したのち、かかる混合物や溶媒等の一部について重合開始した後に、残りを滴下又は分割投入などの方法により段階的に追加してもよい。

また、Ｍ１及びＭ２の重合に際して、必須ではないが、他のモノマーを、含有させてもよく、そのようなモノマーは、重合性のエチレン性不飽和結合を有する化合物である限り、それ以外の点では特に限定されず、液晶性を有するものでなくてもよい。

そのようなモノマーとしては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、Ｎ、Ｎ−ジメチルアクリルアミドなどの（メタ）アクリルモノマー、スチレン、α−メチルスチレン、ｐ−スチレンスルホン酸、エチルビニルエーテル、Ｎ−ビニルイミダゾール、ビニルアセテート、ビニルピリジン、２−ビニルナフタレン、塩化ビニル、フッ化ビニル、Ｎ−ビニルカルバゾール、ビニルアミン、ビニルフェノール、Ｎ−ビニル−２−ピロリドンなどのビニル系モノマー、４−アリル−１，２−ジメトキシベンゼン、４−アリルフェノール、４−メトキシアリルベンゼンなどのアリル系モノマー、フェニルマレイミド、シクロヘキシルマレイミド等のマレイミド類が挙げられる。

溶液中で重合する場合には、汎用の有機溶媒を特に限定なく用いることができる。溶媒の具体例としては、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン等のケトン系溶媒、酢酸エチル、ブチルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジグリム等のエーテル系溶媒、ヘキサン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒等が挙げられる。これら溶媒は、いずれかを単独で用いてもよく、２種以上を併せて用いてもよい。

上記の重合に際しては、重合開始剤を用いることができる。重合開始剤は、一般的に使用されているものでよく、具体例としては、アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）、ジエチル−２，２’−アゾビスイソブチレート（Ｖ−６０１）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、ジメチルアゾビスメチルプロビオネート等のアゾ系重合開始剤、過酸化ベンゾイル、過酸化水素、過酸化ラウロイル等の過酸化物系重合開始剤、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウムなどの過硫酸塩系重合開始剤などが挙げられる。これらの重合開始剤は、いずれかを単独で用いてもよく、また２種以上を併用することもできる。

上記重合の際の温度は、モノマーであるＭ１及びＭ２の種類、重合溶媒種、開始剤種などにより異なるが、好ましくは４０〜１５０℃、より好ましくは５０〜１２０℃の範囲である。

このようにして得られた本発明のポリマー（１）は、光重合開始剤、界面活性剤、溶媒等の他、光及び熱により重合を起こさせる重合性組成物に通常含まれる成分を適宜添加し、光配向膜用組成物とすることができる。これら任意成分の含有量は特に限定されないが、通常、ポリマー（Ｉ）の総重量に対し、光重合開始剤は約１〜約１０重量％、界面活性剤は約０．１〜約５重量％、溶媒は約７０〜約９９重量％含まれていることが好ましい。

光重合開始剤としては、少量の光照射により均一な膜を形成させるために一般に知られている汎用の光重合剤をいずれも用いることができる。具体例としては、例えば、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）等のアゾニトリル系光重合開始剤、イルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）、イルガキュア３６９（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）等のα−アミノケトン系光重合開始剤、４−フェノキシジクロロアセトフェノン、４−ｔ−ブチル−ジクロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン等のアセトフェノン系光重合開始剤、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルジメチルケタール等のベンゾイン系光重合開始剤、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、アクリル化ベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド等のベンゾフェノン系光重合開始剤、２−クロルチオキサンソン、２−メチルチオキサンソン、イソプロピルチオキサンソン、２，４−ジイソプロピルチオキサンソン等のチオキサンソン系光重合開始剤、２，４，６−トリクロロ−ｓ−トリアジン、２−フェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−トリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−ピペロニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−スチリル−ｓ−トリアジン、２−（ナフト−１−イル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４−トリクロロメチル−（ピペロニル）−６−トリアジン、２，４−トリクロロメチル（４’−メトキシスチリル）−６−トリアジン等のトリアジン系光重合開始剤、カルバゾール系光重合開始剤、イミダゾール系光重合開始剤等；更には、α−アシロキシエステル、アシルフォスフィンオキサイド、メチルフェニルグリオキシレート、ベンジル、９，１０−フェナンスレンキノン、カンファーキノン、エチルアンスラキノン、４，４’−ジエチルイソフタロフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、４，４’−ジエチルアミノベンゾフェノン、チオキサンソン等の光重合開始剤が挙げられる。光重合開始剤は、いずれかを単独で用いてもよいし、２種以上を併せて用いてもよい。

界面活性剤としては、均一な膜を形成させるために一般に用いられている界面活性剤をいずれも用いることができる。具体例としては、例えば、ラウリル硫酸ソーダ、ラウリル硫酸アンモニウム、ラウリル硫酸トリエタノールアミン、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩、アルキルエーテルホスフェート、ナトリウムオレイルスクシネート、ミリスチン酸カリウム、ヤシ油脂肪酸カリウム、ナトリウムラウロイルサルコシネート等のアニオン性界面活性剤；ポリエチレングリコールモノラウレート、ステアリン酸ソルビタン、ミリスチン酸グリセリル、ジオレイン酸グリセリル、ソルビタンステアレート、ソルビタンオレエート等のノニオン性界面活性剤；ステアリルトリメチルアンモニウムクロリド、塩化ベヘニルトリメチルアンモニウム、塩化ステアリルジメチルベンジルアンモニウム、セチルトリメチルアンモニウムクロリド等のカオチン性界面活性剤；ラウリルベタイン、アルキルスルホベタイン、コカミドプロピルベタイン、アルキルジメチルアミノ酢酸ベタイン等のアルキルベタイン、アルキルイミダゾリン、ラウロイルサルコシンナトリウム、ココアンホ酢酸ナトリウム等の両性界面活性剤；更には、ＢＹＫ−３６１、ＢＹＫ−３０６、ＢＹＫ−３０７（ビックケミージャパン社製）、フロラードＦＣ４３０（住友スリーエム社製）、メガファックＦ１７１、Ｒ０８（大日本インキ化学工業社製）等の界面活性剤が挙げられる。これらの界面活性剤は、いずれかを単独で用いてもよいし、２種以上を併用することもできる。

溶媒としては、トルエン、エチルベンゼン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル、ジブチルエーテル、アセトン、メチルエチルケトン、エタノール、プロパノール、シクロヘキサン、シクロペンタノン、メチルシクロヘキサン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、シクロヘキサノン、ｎ−ヘキサン、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、メトキシブチルアセテート、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルアセトアミドなどが挙げられるが、このうち、毒性や環境負荷の観点及び／又は樹脂基材（例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）など）に対する耐溶解性の観点から、メチルエチルケトン、シクロヘキサノンが好ましい。これらはいずれかを単独で用いることもでき、２種以上を併用することもできる。特に、本発明のポリマー（Ｉ）は、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、１−メトキシ−２−プロパノールにも溶解するという優れた特長を有する。

このようにして得られる本発明の光配向膜用組成物を、基材に塗布し、溶媒を留去して膜とした後、該膜に異方性を有する光を照射し、更にこれを加熱して液晶配向能を生じさせることにより、光配向膜とすることができる。

光配向膜用組成物の塗布方法としては、当該分野において一般的に知られているいずれの方法でもよく、例えば、スピンコート法、バーコート法、ダイコーター法、スクリーン印刷法、スプレーコーター法などがある。組成物の塗布後、乾燥して溶剤を留去することにより、組成物の層を形成させる。乾燥工程はこの分野で通常用いられているいずれの方法でもよく、樹脂層が一定の形態で固定化し、膜を形成するまで行う。

使用できる基材としては、例えば、アルカリガラス、無アルカリガラスなどのガラス基材、ポリイミド、ポリアミド、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール、トリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、シクロオレフィンポリマー、ポリエチレン、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリ三フッ化塩化エチレンなどの樹脂基材、鉄、アルミニウム、銅などの金属基材などが挙げられ、ガラス基材がより好ましい。

異方性を有する光としては、直線偏光の他、例えば、部分偏光などが挙げられる。ここで、直線偏光とは、電場（又は磁場）の振動方向を含む面が一つに特定される光であり、部分偏光とは、電場（又は磁場）の振動の強度が特定方向において他の方向より強いものをいう。直線偏光は、光源からの光に、偏光フィルタや偏光プリズムを用いることで得るこができる。部分偏光は、部分偏光フィルタを使用して得ることができる。本発明においては、異方性を有する光であれば、いずれも用いることができるが、効率よく光配向を行うためには、直線偏光を用いることが好ましい。照射する光は、赤外線、可視光線、紫外線（近紫外線、遠紫外線など）、Ｘ線、荷電粒子線（例えば、電子電など）など、照射により化学反応を生じさせることができる照射線であれば、特に限定されないが、通常、照射線は２００ｎｍ〜５００ｎｍの波長を有する場合が多く、光架橋を有効に発生させる点から、３５０ｎｍから４５０ｎｍの近紫外線が好ましい。光源としては例えば、キセノンランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプなどが挙げられる。このような光源から得た紫外光や可視光は干渉フィルタや色フィルタなどを用いて、照射する波長範囲を制限してもよい。照射エネルギー（最適露光量）は、ポリマー（Ｉ）の種類に応じて異なるが、通常は、約５ｍＪ／ｃｍ²〜５０ｍＪ／ｃｍ²である。

また、偏光を照射する際に、フォトマスクを使用すれば、光配向膜に、２以上の異なった方向にパターン状に、液晶配向能を生じさせることができる。具体的には、本発明の光配向膜用組成物を塗布、乾燥した後に、その上にフォトマスクを被せて異方性を有する光を照射し、露光部分にのみ液晶配向能を与え、必要に応じて、方向を変えてこれを複数回繰り返すことにより、複数方向にパターン状に液晶配向能を生じさせることができる。

前記光照射の後に、加熱を施すと、加熱重合が進行し、光、熱等に対してより高い耐久性の光配向膜が得られるので好ましい。加熱温度は、重合が進行するのに十分であれば特に制限されないが、一般的には、８０〜２５０℃程度であり、１００〜２００℃程度が好ましく、１２０〜１７０℃程度であることがさらに好ましい。加熱重合を行う場合は、組成物中に一般に用いられる重合開始剤を添加してもよいし、添加しなくてもよい。上記により形成される光配向膜の膜厚は、約１０〜約５００ｎｍであることが好ましく、より好ましくは、約１００〜約５００ｎｍ、更に好ましくは約１００〜約２００ｎｍの範囲である。

上記で得られる光配向膜上に、液晶性化合物を塗布して加温し、ＵＶ光を照射し、さらに加熱焼成を行うことで、位相差膜を形成させる。

液晶性化合物としては、分子中に重合性基を有する多官能液晶性（メタ）アクリレート、液晶性エポキシ化合物、液晶性オキセタン化合物が挙げられる。このうち、多官能液晶性（メタ）アクリレートが好ましい。

多官能液晶性（メタ）アクリレートとしては、例えば、下式（ＩＶ）〜（ＶＩ）で示される化合物等が挙げられる。

〔式中、ｎは１〜１８の整数、Ｒは水素原子又はメチル基である。〕

〔式中、ｎは１〜１８の整数、Ｒは水素原子又はメチル基、Ｚは水素原子、ハロゲン原子又は炭素数１〜８のアルキル基である。〕

液晶性エポキシ化合物としては、例えば、下式（ＶＩＩ）で示される化合物等があげられる。

（式中、ｎは、１〜２０の整数を表し、ｍは、２〜１５の整数を表す。）

液晶性オキセタン化合物としては、例えば、下式（ＶＩＩＩ）で示される化合物等が挙げられる。

〔式中、ｎは１〜１８の整数、Ｚは水素原子、ハロゲン原子又は炭素数１〜８のアルキル基である。〕

液晶性化合物を塗布した後、加温する際の温度としては、通常、５０〜１００℃程度であり、６０〜９０℃程度が好ましく、６５〜８５℃程度であることが更に好ましい。

ＵＶ光の照射は、上記の光配向膜への照射と同様に実施することができる。加熱焼成も常法により実施することができ、その温度は、通常、１５０〜３００℃程度であり、２００〜２５０℃程度が好ましく、２１０〜２３０℃程度であることがさらに好ましい。加熱焼成時間は、０．５〜３時間程度であり、０．６〜２時間程度が好ましく、０．６〜１．５時間程度が最も好ましい。

このようにして得られる本発明の位相差膜について、その膜厚は用途などに応じて異なるが、一般には、０．１〜２０．０μｍの範囲が好ましく、１．０〜５．０μｍの範囲が更に好ましい。

本明細書の一般式（Ｉ）は、原料モノマーであるＭ１とＭ２がｍ：ｎのモル比で含まれていることを模式的に表したものであり、Ｍ１とＭ２が必ずしも交互に結合してコポリマーを構成しているわけではない。したがって、一般式（１）は、Ｍ１とＭ２をｍ：ｎのモル比で重合させたコポリマー、例えば、交互型、ランダム型、グラフト型などのいずれをも含むものである。また、一般式（Ｉ）において、モノマー同士を繋ぐ破線は、通常は単結合手であるが、Ｍ１とＭ２の重合に際して、他のモノマーも含有させる場合には、そのようなモノマーが該波線部分に取り込まれて、存在し得る。

以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はもとより下記実施例に限定されるものではない。

１．共重合性（メタ）アクリル酸ポリマーの合成
［実施例１］

ポリ［１−［６−［４−［４−［（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル］フェノキシカルボニル］フェノキシ］ヘキシルオキシカルボニル］−１−メチルエチレン−ＣＯ−１−［６−［４−カルボキシフェノキシ］ヘキシルオキシカルボニル］−１−メチルエチレン］（Ｍ１：Ｍ２＝９０：１０）（重合体１）
４−［６−（２−メチルアクリロイルオキシ）ヘキシルオキシ］安息香酸４−［（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル］フェニルエステル５ｇ（１１ミリモル）、４−［６−（２−メチルアクリロイルオキシ）ヘキシルオキシ］安息香酸２９．６ｇ（９６ミリモル）及び２，２’−アゾ−ビス−イソブチロニトリル０．３５ｇ（２．１ミリモル）をシクロヘキサノン１９６ｇに溶解した。この溶液に窒素を１時間通気した。次いで、８０℃に加熱した。１０時間後反応液を冷却し、激しく攪拌しつつ、ノルマルヘキサン３４６ｇに室温で滴下した。分離した重合体を濾取し、減圧下、５０℃での乾燥により、重合体１を２６ｇ得た。

＜重量平均分子量（ＭＷ）の測定＞
上記で得られたポリマーの重量平均分子量（ＭＷ）を、ゲル濾過クロマトグラフィー（ＧＰＣ）を用いて測定した。得られた重量平均分子量（ＭＷ）は３０７００であった。

＜酸価の測定＞
測定方法は以下の通りである。すなわち、１００ｍＬ三角フラスコにＴＨＦ約６０ｍＬを採り、フェノールフタレインを指示薬として、０．１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液で中和した。ポリマー約１．５ｇを精秤し、上記溶液に均一に溶解、攪拌し、０．１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液で滴定を行い、微赤色が約３０秒間消えない点を滴定終点とした。

次式に従い、酸価を算出した。
酸価＝（０．１×ｆ×Ａ×５６．１／Ｂ）／（Ｃ／１００）
Ａ：滴定量（ｍＬ）
ｆ：水酸化ナトリウム水溶液の力価
Ｂ：ポリマー組成物量（ｇ）（ポリマーを含む、滴定終了後の溶液の量）
Ｃ：ポリマー濃度（％）（ポリマー量／ポリマー組成物量×１００）
上記で得られたポリマーの酸価は、１５６ｍｇＫＯＨ／ｇであった。

＜相転移温度の測定＞
上記で得られたポリマーの相転移温度を、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）を用いて測定したところ、１６０〜１８０℃であった。

［実施例２］

ポリ［１−［６−［４−［４−［（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル］フェノキシカルボニル］フェノキシ］ヘキシルオキシカルボニル］−１−メチルエチレン−ＣＯ−１−［６−［４−カルボキシフェノキシ］ヘキシルオキシカルボニル］−１−メチルエチレン］（Ｍ１：Ｍ２＝８０：２０）（重合体２）
４−［６−（２−メチルアクリロイルオキシ）ヘキシルオキシ］安息香酸４−［（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル］フェニルエステルの使用量を８ｇ（１７ミリモル）、４−［６−（２−メチルアクリロイルオキシ）ヘキシルオキシ］安息香酸の使用量を２１ｇ（６９ミリモル）、２，２’−アゾ−ビス−イソブチロニトリルの使用量を０．２８ｇ（１．７ミリモル）、シクロヘキサノンの使用量を１１６ｇとする以外は、実施例１と同様に処理して、重合体２を２４ｇ得た。

得られたポリマーは、重量平均分子量（ＭＷ）３１７００、酸価１３０ｍｇＫＯＨ／ｇ、相転移温度１４８〜１７３℃を有していた。

［実施例３］

ポリ［１−［６−［４−［４−［（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル］フェノキシカルボニル］フェノキシ］ヘキシルオキシカルボニル］−１−メチルエチレン−ＣＯ−１−［６−［４−カルボキシフェノキシ］ヘキシルオキシカルボニル］−１−メチルエチレン］（Ｍ１：Ｍ２＝７０：３０）（重合体３）
４−［６−（２−メチルアクリロイルオキシ）ヘキシルオキシ］安息香酸４−［（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル］フェニルエステルの使用量を１０ｇ（２１ミリモル）、４−［６−（２−メチルアクリロイルオキシ）ヘキシルオキシ］安息香酸の使用量を１５．３ｇ（５０ミリモル）、２，２’−アゾ−ビス−イソブチロニトリルの使用量を０．２３ｇ（１．４ミリモル）、シクロヘキサノンの使用量を１０１．２ｇ及びノルマルヘキサンの使用量を２５３ｇとする以外は、実施例１と同様に処理して、重合体３を２４ｇ得た。

得られたポリマーは、重量平均分子量（ＭＷ）３３３００、酸価は１１０ｍｇＫＯＨ／ｇ相転移温度１５５〜１６６℃を有していた。

［実施例４］

ポリ［１−［６−［４−［４−［（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル］フェノキシカルボニル］フェノキシ］ヘキシルオキシカルボニル］−１−メチルエチレン−ＣＯ−１−［６−［３−フルオロ−４−カルボキシフェノキシ］ヘキシルオキシカルボニル］−１−メチルエチレン］（Ｍ１：Ｍ２＝８１：１９）（重合体４）
４−［６−（２−メチルアクリロイルオキシ）ヘキシルオキシ］安息香酸４−［（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル］フェニルエステル２ｇ（４ミリモル）、２−フルオロ−４−［６−（２−メチルアクリロイルオキシ）ヘキシルオキシ］安息香酸５．６ｇ（１７ミリモル）、２，２’−アゾ−ビス−イソブチロニトリル０．１１ｇ（０．６ミリモル）、シクロヘキサノン１１６ｇ及びノルマルヘキサン７６ｇを用いて、実施例１と同様に処理して、重合体４を５ｇ得た。

得られたポリマーは、重量平均分子量（ＭＷ）４８２００、酸価は１３２ｍｇＫＯＨ／ｇ、相転移温度８５〜１２０℃を有していた。

［実施例５］

ポリ［１−［６−［４−［（Ｅ）−２−[４−シアノ−フェノキシ]カルボニルビニル］フェノキシ］ヘキシルオキシカルボニル］−１−メチルエチレン−ＣＯ−１−［６−［４−カルボキシフェノキシ］ヘキシルオキシカルボニル］−１−メチルエチレン］（Ｍ１：Ｍ２＝８０：２０）（重合体５）
４−［６−（２−メチルアクリロイルオキシ）ヘキシルオキシ］−（Ｅ）−桂皮酸４−シアノフェニルエステル１０ｇ（２３ミリモル）、４−［６−（２−メチルアクリロイルオキシ）ヘキシルオキシ］安息香酸２８ｇ（９２ミリモル）を用いて、２，２’−アゾ−ビス−イソブチロニトリルの使用量を０．３８ｇ（２．３ミリモル）、シクロヘキサノンの使用量を１５３ｇとする以外は、実施例１と同様に処理して、重合体５を２２ｇ得た。

得られたポリマーは、重量平均分子量（ＭＷ）２４８００、酸価１３５ｍｇＫＯＨ／ｇ、相転移温度１６０〜１８０℃を有していた。

［比較例１］
ポリ［１−［６−［４−［（Ｅ）−２−ヒドロキシカルボニルビニル］フェノキシ］ヘキシルオキシカルボニル］−１−メチルエチレン］（重合体６）
４−［６−（２−メチルアクリロイルオキシ）ヘキシルオキシ］−（Ｅ）−桂皮酸２０ｇ（２３ミリモル）を用いて、２，２’−アゾ−ビス−イソブチロニトリルの使用量を０．２ｇ（１．２ミリモル）、シクロヘキサノンの使用量を８０ｇとする以外は、実施例１と同様に処理して、重合体６を１７ｇ得た。

得られたポリマーは、重量平均分子量（ＭＷ）３５０００、酸価１６９ｍｇＫＯＨ／ｇ、相転移温度１６２〜１９７℃を有していた。

［比較例２］
ポリ［１−［６−［４−［（Ｅ）−２−ヒドロキシカルボニルビニル］フェノキシ］ヘキシルオキシカルボニル］−１−メチルエチレン−ＣＯ−１−［６−［４−カルボキシフェノキシ］ヘキシルオキシカルボニル］−１−メチルエチレン］（重合体７）
４−［６−（２−メチルアクリロイルオキシ）ヘキシルオキシ］−（Ｅ）−桂皮酸１０ｇ（３０ミリモル）、４−［６−（２−メチルアクリロイルオキシ）ヘキシルオキシ］安息香酸３７ｇ（１２０ミリモル）を用いて、２，２’−アゾ−ビス−イソブチロニトリルの使用量を０．５ｇ（３．０ミリモル）、シクロヘキサノンの使用量を１８７ｇとする以外は、実施例１と同様に処理して、重合体７を４０ｇ得た。

得られたポリマーは、重量平均分子量（ＭＷ）３１０００、酸価１７８ｍｇＫＯＨ／ｇ相転移温度１５５〜１８２℃を有していた。

［実施例６］

ポリ［１−［６−［４−［（Ｅ）−２−[４−メトキシフェノキシ]カルボニルビニル］フェノキシ］ヘキシルオキシカルボニル］−１−メチルエチレン−ＣＯ−１−［６−［４−カルボキシフェノキシ］ヘキシルオキシカルボニル］−１−メチルエチレン］（Ｍ１：Ｍ２＝８０：２０）（重合体８）
４−［６−（２−メチルアクリロイルオキシ）ヘキシルオキシ］−（Ｅ）−桂皮酸４−メトキシフェニルエステル１０．０ｇ（２３ミリモル）、４−［６−（２−メチルアクリロイルオキシ）ヘキシルオキシ］安息香酸２７．９ｇ（９１ミリモル）を用いて、２，２’−アゾ−ビス−イソブチロニトリルの使用量を０．５ｇ（３ミリモル）、シクロヘキサノンの使用量を１５２ｇとする以外は、実施例１と同様に処理して、重合体８を２５ｇ得た。

得られたポリマーは、重量平均分子量（ＭＷ）４６０００、酸価１３５ｍｇＫＯＨ／ｇ、相転移温度７０〜１４６℃を有していた。

［実施例７］

ポリ［１−［６−［４−[４−メトキシフェニルアゾ]フェノキシ］ヘキシルオキシカルボニル］−１−メチルエチレン−ＣＯ−１−［６−［４−カルボキシフェノキシ］ヘキシルオキシカルボニル］−１−メチルエチレン］（Ｍ１：Ｍ２＝８０：２０）（重合体９）
１−（４−メトキシフェニルアゾ）−４−［６−（２−メチルアクリロイルオキシ）ヘキシルオキシ］ベンゼン１０．０ｇ（２５ミリモル）、４−［６−（２−メチルアクリロイルオキシ）ヘキシルオキシ］安息香酸３０．９ｇ（１００ミリモル）を用いて、２，２’−アゾ−ビス−イソブチロニトリルの使用量を０．４ｇ（３ミリモル）、シクロヘキサノンの使用量を１２３ｇとする以外は、実施例１と同様に処理して、重合体９を３３ｇ得た。

得られたポリマーは、重量平均分子量（ＭＷ）４８０００、酸価１３８ｍｇＫＯＨ／ｇ、相転移温度７２〜１４８℃を有していた。

２．光配向膜用組成物の調製
重合体１〜９を、それぞれシクロヘキサノンに５重量％の濃度で溶解させ、光配向膜用組成物１〜９とした。

３．光配向膜の製造
光配向膜用組成物１をガラス基板上にスピンコーターを用いて、約１００ｎｍの厚みになるように塗布した。その後、８０℃で乾燥させ、続いて直線偏光ＵＶ光線を４０ｍＪ／ｃｍ²照射した。次いで、１５０℃で１０分間加熱処理を行い、配向を誘起し光配向膜１を作製した。

光配向膜用組成物２を用いて、直線偏光ＵＶ光線の照射量を３０ｍＪ／ｃｍ²、その後の加熱処理温度を１４０℃とする以外は光配向膜１の製造と同様に処理して、光配向膜２を作製した。

光配向膜用組成物３を用いて、直線偏光ＵＶ光線の照射量を２０ｍＪ／ｃｍ²、その後の加熱処理温度を１４０℃とする以外は光配向膜１の製造と同様に処理して、光配向膜３を作製した。

光配向膜用組成物４を用いて、直線偏光ＵＶ光線の照射量を３０ｍＪ／ｃｍ²、その後の加熱処理温度を１１０℃とする以外は光配向膜１の製造と同様に処理して、光配向膜４を作製した。

光配向膜用組成物５を用いて、直線偏光ＵＶ光線の照射量を５ｍＪ／ｃｍ²、その後の加熱処理温度を１４０℃とする以外は光配向膜１の製造と同様に処理して、光配向膜５を作製した。

光配向膜用組成物６をガラス基板上にスピンコーターを用いて、約１００ｎｍの厚みになるように塗布した。その後、１２０℃で乾燥させ、続いて直線偏光ＵＶ光線を５ｍＪ／ｃｍ²照射した。次いで、１６０℃で１０分間加熱処理を行い、配向を誘起し光配向膜６を作製した。

光配向膜用組成物７を用いて、直線偏光ＵＶ光線の照射量を１５ｍＪ／ｃｍ²、その後の加熱処理温度を１５０℃とする以外は光配向膜６の製造と同様に処理して、光配向膜７を作製した。

光配向膜用組成物８を用いて、直線偏光ＵＶ光線の照射量を２０ｍＪ／ｃｍ²、その後の加熱処理温度を１３０℃とする以外は光配向膜１の製造と同様に処理して、光配向膜８を作製した。

光配向膜用組成物９を用いて、直線偏光ＵＶ光線の照射量を１０ｍＪ／ｃｍ²、その後の加熱処理温度を１３０℃とする以外は光配向膜１の製造と同様に処理して、光配向膜９を作製した。

４．位相差膜の製造
下記式（ＶＩ−ａ）で示される二官能液晶性アクリレート

１９重量％、光重合開始剤（イルガキュア９０７チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）１重量％、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート８０重量％で位相差膜用組成物を調製した。

調製した位相差膜用組成物を、光配向膜上１に、スピンコーターを用いて、約２μｍの厚みになるように塗布した。その後、７０℃で配向させ、続いて無偏光ＵＶ光線を１００ｍＪ／ｃｍ²照射した。次いで、２３０℃で１時間、加熱焼成を行い、位相差膜１を作製した。

同様にして、光配向膜２〜９の上に、それぞれ位相差膜２〜９を作製した。

５．性能評価
＜ポリマーの溶解性＞
重合体１〜７の１、５、１０、２０％における各種溶剤に対する溶解性を目視にて評価し、完全に溶解したものを○、溶け残りがあるものを△、不溶なものが×として記録した。結果を表１に示す（○、△、×の意味するところは、以後の表において同じ）。

重合体８及び９の１、５、１０、２０％における、各種溶剤に対する溶解性を目視にて評価した。結果を表２に示す。

重合体１〜９の１、５、１０、２０％における、１−メトキシ−２−プロパノールに対する溶解性を目視にて評価した。結果を表３に示す。

＜ポリマーの光感受性（偏光露光量）＞
重合体１〜７を用いて作製した光配向膜の最適偏光露光量と限界偏光露光量について、作製した光配向膜上に位相差膜を作製し、その配向性から評価を行った。最も配向性の高い偏光露光量を最適偏光露光量とし、配向性が低下し始める露光量を限界偏光露光量とし、結果を表４に示す。

重合体８及び９を用いて作製した光配向膜の最適偏光露光量と限界偏光露光量について、作製した光配向膜上に位相差膜を作製し、その配向性から評価した。結果を表５に示す。

＜複屈折率の保持率＞
重合体１〜７を用いて作製した光配向膜上への位相差膜の作製に際し、その焼成工程の前後における複屈折率の保持率を評価した。複屈折率の測定は、偏光解析装置ＯＰＴＩＰＲＯ（シンテック株式会社製）を用いて行った（以後の実験において同じ）。結果を表６に示す。

重合体８及び９用いて作製した光配向膜上への位相差膜の作製に際し、その焼成工程の前後における複屈折率の保持率を評価した。結果を表７に示す。

本発明の共重合性（メタ）アクリル酸ポリマーは、これを使用する光配向膜及び位相差膜の原料として有用であり、またかかる本発明の光配向膜及び位相差膜は、各種光学部材として、特に、コンピュータやファクシミリなどのＯＡ機器、携帯電話、電子手帳、液晶テレビ、ビデオカメラなどの液晶表示装置の光学素子として有用である。

Claims

一般式（Ｉ−ｃ）

〔式中、Ｒ¹は水素原子又はメチル基であり、Ｒ²はアルキル基、又はアルキル基、アルコキシ基、シアノ基及びハロゲン原子から選ばれる基で置換されたフェニル基であり、Ｘ^1A〜Ｘ^4A及びＸ^1B〜Ｘ^4Bの各々はそれぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子又はシアノ基であり、Ｚは−Ｎ＝Ｎ−で示される基であり、ｐ及びｑはそれぞれ独立して、１〜１２のいずれかの整数であり、ｍ及びｎは、０．６５≦ｍ≦０．９５、０．０５≦ｎ≦０．３５、ｍ＋ｎ＝１の関係を満たす共重合体に占める各モノマーのモル分率である。〕
で示される繰り返し単位を有する共重合性（メタ）アクリル酸ポリマーを含んでなる光配向膜用組成物を基材に塗布して膜を形成する工程、
該膜に異方性を有する光を照射する工程、及び、
該膜を加熱処理する工程
を含んでなる光配向膜の製造方法。
加熱処理の温度が、１２０℃〜１７０℃の温度である、請求項１記載の製造方法。
請求項１または２の製造方法により得られる光配向膜上に液晶性化合物を配向させる工程をさらに含んでなる位相差膜の製造方法。