JP5937139B2 - 反対称最適制御を使用する流量比率制御装置を含むガス送出方法及びシステム - Google Patents
反対称最適制御を使用する流量比率制御装置を含むガス送出方法及びシステム Download PDFInfo
- Publication number
- JP5937139B2 JP5937139B2 JP2014101309A JP2014101309A JP5937139B2 JP 5937139 B2 JP5937139 B2 JP 5937139B2 JP 2014101309 A JP2014101309 A JP 2014101309A JP 2014101309 A JP2014101309 A JP 2014101309A JP 5937139 B2 JP5937139 B2 JP 5937139B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- valve
- flow
- control signal
- ratio
- control
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
- G05D11/00—Control of flow ratio
- G05D11/02—Controlling ratio of two or more flows of fluid or fluent material
- G05D11/13—Controlling ratio of two or more flows of fluid or fluent material characterised by the use of electric means
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
- G05D11/00—Control of flow ratio
- G05D11/02—Controlling ratio of two or more flows of fluid or fluent material
- G05D11/13—Controlling ratio of two or more flows of fluid or fluent material characterised by the use of electric means
- G05D11/131—Controlling ratio of two or more flows of fluid or fluent material characterised by the use of electric means by measuring the values related to the quantity of the individual components
- G05D11/132—Controlling ratio of two or more flows of fluid or fluent material characterised by the use of electric means by measuring the values related to the quantity of the individual components by controlling the flow of the individual components
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
- G05D7/00—Control of flow
- G05D7/06—Control of flow characterised by the use of electric means
- G05D7/0617—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials
- G05D7/0629—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means
- G05D7/0635—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means by action on throttling means
- G05D7/0641—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means by action on throttling means using a plurality of throttling means
- G05D7/0664—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means by action on throttling means using a plurality of throttling means the plurality of throttling means being arranged for the control of a plurality of diverging flows from a single flow
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T137/00—Fluid handling
- Y10T137/0318—Processes
- Y10T137/0324—With control of flow by a condition or characteristic of a fluid
- Y10T137/0363—For producing proportionate flow
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T137/00—Fluid handling
- Y10T137/7722—Line condition change responsive valves
- Y10T137/7758—Pilot or servo controlled
- Y10T137/7761—Electrically actuated valve
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Automation & Control Theory (AREA)
- Flow Control (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
Description
確に計量した量の処理ガスを、少なくとも二つの加工工具及び/又はチャンバに送出する
ための流量比率制御装置に関する。更に詳細には、本開示は、単一のガスボックスからの
流れを少なくとも二つの加工工具及び/又は真空チャンバに分割するシステム及び方法に
関する。
送出を、注意深く同期し且つ正確に計測することを必要とする。製造工程で様々な方法及
び多くの別個の加工工程が使用されてきた。例えば、半導体デバイスのクリーニング、研
磨、酸化、マスキング、エッチング、ドーピング、金属化を必要とする。使用された工程
は、それらの特定の順序及び使用される材料が、全て、特定のデバイスの製造に寄与する
。
ング、スパッタリング、及び他の同様のガス工程が行われる領域を含むように形成される
。加工工具は、化学蒸着反応器、真空スパッタリング機、プラズマエッチャー又はプラズ
マ支援化学蒸着チャンバ、等であり、様々な処理ガスを供給しなければならない。汚染物
を含有しない正確に計量した量の純粋なガスを工具に供給しなければならない。
配管又は導管でガス送出システムに連結されている。ガス送出システムは、汚染物を含有
しない正確に計量した量の純粋な不活性ガス又は反応ガスを、製造設備のタンクから加工
工具及び/又はチャンバに送出するためのガスボックスを含む。ガスボックスは、代表的
には、ガス計量ユニットを各々有する複数のガス流れラインを含む。ガス計量ユニットは
、バルブと、圧力調整器及び変換器と、質量流量制御装置と、フィルタ/清浄器を含んで
いてもよい。各ガスラインは、別々のガス源に連結するための各ライン自体の入口を備え
ているが、全てのガス経路は、加工工具に連結するための単一の出口に集められる。
割するのが望ましい。このような場合には、ガスボックスの単一のでを多数の加工工具及
び/又はチャンバに二次流れラインを通して連結する。安全上の理由により、又は他の理
由により、上流圧力を低く(例えば103.4205kPa(15psia))に保持す
る必要がある幾つかの用途では、流れ分割システムの例が、米国特許第4,369,03
1号、米国特許第5,453,124号、米国特許第6,333,272号、米国特許第
6,418,954号、及び米国特許第6,766,260号、及び公開された米国特許
出願第2002/0038669号に記載されている。米国特許第6,766,260号
の流量比率制御装置は、第二流れラインの各々が別々の流量計及び制御バルブで制御され
るため、特に興味深い。
時に所望の分割比率を迅速に安定させるが、流れを安定させるのに時間が掛かり、幾つか
の用途では満足のいくものでなかった。更に、流量比率制御装置の前後の圧力降下が高く
、二次流れ経路の一つの下流の閉塞を取り扱う上での制御装置の制御性能が低い。更に、
二次流れラインでのバルブの一定のバルブ位置を最初に決定するのが困難であるため、設
定が困難である。二つの二次流れラインを使用する実施例について、高流量バルブを一定
のバルブとし、低流量バルブを、流量比率を制御するための制御バルブにする必要がある
。
ための流量比率制御装置用の新規な制御アルゴリズムを提供する。システム及び方法は、
汚染物を含有しない正確に計量した量の処理ガス(プロセスガス)及び浄化ガス(パージ
ガス)を、半導体加工工具及び/又はチャンバに送出するため、ガス計量システムととも
に使用されるようになっている。システム及び方法は、ガスの単一の流れを、比較的高い
上流圧力を必要とせずに、予め選択した比の周知の正確な値で二つの二次流れに分割する
利点を提供する。図1で全体に参照番号106を付した、ガス送出システム102の一部
である流量比率制御装置は、例えば、ガス供給部(例えばガスタンク)104a、104
b、104c、及び104dからの多くの処理ガス及び浄化ガスを含む多数のガスを個々
に受け入れ、又はこれらのガスの混合物を選択的に受け入れる。ガスボックス112は、
ガスの混合物を流量比率制御装置106に供給し、この流量比率制御装置106は、2つ
の処理チャンバ108及び110に連結された状態で示してある(別の態様では、ガスを
、単一の処理チャンバ及び/又は他の加工工具の様々な噴射装置又は領域に計量分配して
もよい)。ガスボックス112は、複数のガス通路部(ガススティック)114a、11
4b、114c、及び114dを含み、これらのガス通路部の各々は、好ましくは、対応
するガス供給部104に流動学的に連結されており、対応するガス供給部104からのガ
スの流れを個々に制御する。図1には、四つのガス供給部104及び対応するガス通路部
114が示してあるが、供給部及びガス通路部の数は、任意の数(一個を含む)であって
もよい。ガス通路部114は、例えば、米国特許第6,418,954号に示すように、
質量流量制御装置(MFC)、このMFCの前方に位置したバルブ、及びMFCの後方に
位置したバルブを含む。ガス通路部114の各々は、汚染物を含有しない正確に計量した
量のガス又はガスの組み合わせを流量比率制御装置106に供給した後、処理チャンバ1
08、110に、予め選択した流量比で正確に分割できる、制御可能なガス通路を提供す
る。図示していないけれども、ガス通路部の各々には、ガスを監視し又は制御するための
、フィルタ、清浄器、及び圧力変換器及び制御装置等の他の構成要素が設けられていても
よい。スティック114は、例えば、各スティックからのガス流を、所望であれば、ガス
ボックスを離れる前に混合できるように、出口マニホールド116に互いに連結されてい
る。出口マニホールド116は、流量比率制御装置106に連結されている。
bを含む。各流路は、バルブ126を制御し、及び従って各流路を通る質量流量を制御す
る上で使用するための流量信号を発生するためのセンサ124を含む流量計を備えている
。センサ及びバルブは、かくして、出力質量流量Q1及びQ2、及びかくして流量比α=
Q2/Q1を制御するために互いに使用される。本明細書中に説明した実施例では、制御
バルブ126a及び126bは常開のバルブであるが、開示のシステムは、常閉のバルブ
を用いて設計することもできるということは理解されるべきである。各流路の出口130
a及び130bは、対応する加工工具及び/又はチャンバに連結されている。これは、図
1では、処理チャンバ108及び110の夫々である。これらのチャンバには、好ましく
はゲートバルブ132a及び132bの形態の制御バルブに連結された出口が設けられて
いる。これらのゲートバルブは、次いで、ガスをタンクからチャンバを通して引き出す上
で使用するための真空ポンプと流体連通している。制御装置136は、下文で更に明らか
になるように、とりわけ、入力αsp、即ち、予め選択した流量比の値、即ち設定点を流
れライン122a及び122bの各々を通して受け取る。制御装置は、とりわけ、流れラ
イン122a及び122bを通る質量流量の分割比を制御し且つ設定点に維持する。
れる流れについての整定時間を迅速にし、所与の流量比率設定点について、流量比率制御
装置の前後の圧力降下を最小にする。一般的には、各二次流れラインでの流れは、ライン
内の流れを制御するバルブに提供された上流圧力、下流圧力、及び電流の関数である。か
くして、
型関数であり、出力流量(Q1及びQ2)を、バルブ電流(I1及びI2)、上流圧力(
Pu)、及び下流圧力(Pd1及びPd2)と関連する。二つのラインが同じ上流圧力P
uを共有するが、下流圧力Pd1及びPd2が夫々異なるということに着目されたい。数
1及び数2は、下流圧力Pd1及びPd2の効果を無視することによって、Puに関して
線型化でき、
あり、C2(I2)は、バルブ電流I2の関数である、バルブ2のコンダクタンスである
。
量の保存についての方程式で開始できる。
Pstpは標準圧力であり、110132.5Pa即ち14.7psiaであり、
Tstpは、標準温度であり、273.2K又は0℃であり、
Tは、システムで送出されるべきガスの温度であり、
Puは、システムで送出されるべきガスの上流圧力であり、
Qtは、全入口流であり、
Q1及びQ2は、二次流路の夫々を通る流れである。
数3及び数4を数5に代入すると、
。従って、時定数τpを小さくすることによって、上流圧力Puの整定時間を小さくでき
る。流れについての整定時間が、数3及び数4が示す上流圧力についての整定時間と同じ
であるため、システムは、τpが小さい場合には、流れについての整定時間が速くなけれ
ばならない。
下のように表される。
るのが望ましい。数9から明らかなように、バルブの総コンダクタンスを大きくすること
によって上流圧力を小さくできる。
小さくするのが望ましい。これは、Vuを小さくするか或いはCtを大きくするかのいず
れか又は両方によって行われる。かくして、設計基準として、上流容積をできるだけ減少
するのが好ましい。流量比率制御装置とガスボックス112との間の上流容積を減少する
ため、流量比率制御装置をガスボックス112にできるだけ近付けて設置してもよい。し
かしながら、上流容積を制御することは不可能ではないにしろ比較的困難であり、及び制
御バルブのコンダクタンスCtを制御するのが容易である。バルブのコンダクタンスを増
大するためには、制御システムによりバルブがその最大開放状態にされるとき、バルブの
コンダクタンスが最大になるように、比較的大きなオリフィスを持つバルブを設計するの
が好ましい。バルブを開放すればする程、そのコンダクタンスが大きくなり、時定数τp
が短くなる。
二つの流れについての設定時間が最も速くなり、流量比率制御装置106の前後の圧力降
下が最小になる。従って、制御アルゴリズムにより、所与の流量比率についてバルブのコ
ンダクタンスを任意の時期に最大にできる場合には、流量比率制御装置は、比率及び流れ
についての最も速い整定時間に関して最適の制御性能が得られ、流量比率制御装置の前後
の圧力降下を最小になる。
常開のバルブについての、バルブ制御電流に対する流量を示すグラフである。66.66
12hPa、133.3224hPa、199.9836hPa、及び266.6448
hPa(50トル、100トル、150トル、及び200トル)の上流圧力についての四
組の曲線が示してある。下流圧力は0hPaに近い。図示のように、常開のバルブについ
てのバルブのコンダクタンスはバルブ電流の増大に従って減少する。
、以下の方程式が得られる。
プロットする。わかるように、これらの二つの曲線と任意の水平方向ラインとの交点が、
方程式10を満たすバルブ電流I1及びI2の一組の解を与える。換言すると、所与の流
量比率αについてのI1及びI2の解は多数存在する。
ブについて、バルブ電流が高ければ高い程、バルブのコンダクタンスが低くなる(即ちバ
ルブの開放が小さくなる)。従って、I1及びI2値の組が小さければ小さい程、バルブ
のコンダクタンスが、他の解の組よりも高くなり、これにより、比率、流れ、及び上流圧
力についての整定時間が速くなり、上文中に論じたように、制御装置の前後の圧力降下が
小さくなる。
)、即ち一方のバルブが完全に開放しているとき、最適解の唯一の組が存在するというこ
とを示す。この点で、バルブの総コンダクタンスCtが最大である。従って、流量比率制
御装置の前後の圧力降下が最小であり、デバイスは、比率、流れ、及び上流圧力について
、最速の応答及び整定時間を提供できる。更に、常開のバルブについて、バルブ電流に対
する流量の傾きは、図2に示すように、バルブ電流が小さい場合に小さい。傾きが小さけ
れば小さい程、所与の固定されたバルブ電流の変化に対する流量の変化が小さい。バルブ
電流に何らかのノイズが含まれている場合には、図4の傾きが小さい領域が流れに及ぼす
影響は小さく、従って、流量比率は更に安定する。換言すると、システムは、バルブ電流
のノイズの影響を受け難く、従って、作動領域で確固としている。
合には、上文中に説明したようにバルブのコンダクタンスが最大の最適の解からかけ離れ
た解を提供する。この制御システムの方法では、制御装置は、制御システム142の総和
接合部140の入力のところで比率設定点αspを受け取るように形成されている。総和
接合部の出力は、PI制御装置144の入力に接続されており、PI制御装置144は、
次いで、制御電流I1を低流れ制御バルブ46に提供する。バルブ146を通る流れは、
流れセンサ148によって感知され、このセンサは、流れラインを通る流れQ1を表す信
号を提供する。高流れ制御バルブ150には一定の電流I2が供給される。バルブ150
を通る流れは、流れセンサ152によって感知され、このセンサは、流れラインを通る流
れQ2を表す信号を提供する。二つの信号の比Q2/Q1が、計測された流量比率αmで
ある。この流量比率は、フィードバックループで総和接合部140に提供され、入力設定
点αspから差し引かれる。この設計の問題点は、バルブの総コンダクタンスが、所与の
流量比率αについて最大でないということである。一定のバルブは、通常は、高流れライ
ンで選択され、通常は、二つのバルブの不適合、これらのバルブのヒステリシス、及び他
方の流れラインの下流の閉塞に対処するため、非常に保存的位置、例えば半分開放した位
置に設定される。従って、バルブの総コンダクタンスは、図4に示す最適の解と比べて非
常に低い。上文中に論じたように、バルブの総コンダクタンスが低ければ低い程、流れに
ついての整定時間が緩慢になり、流量比率制御装置の前後の圧力降下が大きくなる。一定
バルブ流れラインの非常に保存的な一定のバルブ位置について、流量比率制御装置は、他
方の流れラインの非常に重大な下流の閉塞の問題を取り扱うことができない。例えば、他
方の流れラインの制御されたバルブを、重大な下流の閉塞のため、全開位置まで駆動して
もよい。しかしながら一定のバルブは、流量比率を維持するための調節を行わない。従っ
て、実際の流量比率は設定点からかけ離れてしまう。
えられる制限をなくすように、好ましい反対称最適フィードバック制御システム160を
使用して両バルブ126a及び126bを制御する。フィードバック制御システムは、好
ましくは、図1の制御装置136でソフトウェアを走らせることによって作動するが、こ
のシステムは、他の形態で実施してもよい。フィードバック制御システム160は、流量
比率αspについての設定点を表す信号を受け入れるための総和接合部162への入力と
、計測された流量比率αmを表す信号を受け入れるための別の入力とを含む。総和接合部
162は、αspとαmとの間のエラー信号を計算した後、このエラー信号を、例えばP
ID制御装置であってもよいSISO制御装置164に供給する。制御装置164の出力
即ちIcを線型飽和器(LSAT)166の入力に接続する。この飽和器166は、制御
電流I1を提供するため、バルブ126aに接続されている。バルブ126aを通る流れ
は、対応する流れセンサ124aの流れ及びかくして出力に直接的に影響を及ぼす。この
センサの出力は、流量Q1を表す。SISO制御装置の出力Icは、更に、インバーター
168に加えられ、このインバーターが入力を総和接合部170に加える。この総和接合
部は、更に、一定のバイアス電流入力2Ioを受け取り、これをインバーター168の出
力に加える。次いで、加算した信号を線型飽和器(LSAT)172に加え、この線型飽
和器が出力電流I2を提供する。制御電流I2は、バルブ126bを制御し、このバルブ
は、センサ124bを通る流れに影響を及ぼす。Kのセンサは、センサの流れラインを通
る流れを表す出力Q2を提供する。比Q2/Q1は、計測された比率αmを表す。この計
測された比率αmを、制御フィードバック構成である総和接合部162のところで設定点
から差し引く。
一般的には、常開のバルブについては、
な最大バルブ電流である。
のように決定する。即ち、
常開のバルブについては、
常閉のバルブについては、
−Io))は、最適バルブ電流Ioに関して反対称である。従って、線型飽和器の後の出
力バルブ制御コマンドは、実際上、最適バルブ電流Ioに関して反対称である。
、バルブ電流(I1又はI2)の一方が、常開のバルブについての[Io又はIm]又は
常閉のバルブについての[Im又はIo]の、許容可能な電流限度内の可能なバルブ電流
である。最適のバルブ電流Ioに関して反対称であるため、他方のバルブ電流(I2又は
I1))は、[Io、Im]又は[Im、Io]による許容可能な電流限度の外にあり、
Ioに関して外にある。線型飽和器のため、飽和限度外の任意のバルブ電流、即ちこの場
合にはIoの値を飽和限度値にする。従って、一方のバルブ電流が、常に、許容可能な最
大バルブ電流を与える最適のバルブ電流即ちIoに保持される。換言すると、反対称最適
制御アルゴリズムにより、常に、I1=Io又はI2=Ioが保証される。以下、常開の
バルブについての証明を記載するが、同じ原理が常閉のバルブにも適用されるということ
は理解されるべきである。
15]に記載してある。これらの二つのバルブ制御電流について、二つのケー
スがある。
ケース1.I1≧Ioである場合には、
があり、これは許容可能な最大バルブコンダクタンスを提供する。
制御装置によって、比率フィードバックループを通して制御される。SISO制御装置の
出力は、二つのバルブに加えられる前に、分割され且つ変更される。二つのバルブ制御コ
マンドは、実際上、許容可能な最大バルブコンダクタンス位置に関して反対称である。こ
れらの二つのバルブコマンドが、二つの飽和限度の一方である許容可能な最大バルブコン
ダクタンス位置で夫々の線型飽和器を通過するため、一方のバルブが、任意の時期に、許
容可能な最大バルブコンダクタンス位置に保持されると同時に、他方のバルブが、流量比
率を維持するように能動的に制御されるという正味の効果が得られる。従って、反対称最
適制御アルゴリズムは、任意の時期に、許容可能な最大総バルブコンダクタンスを提供す
る。上文中に論じたように、総バルブコンダクタンスが最大であるため、比率、流れ、及
び上流圧力についての整定時間が速くなり、流量比率制御装置の前後の圧力降下が低くな
る。かくして、反対称最適制御アルゴリズムは、流量比率制御装置の制御性能を大幅に向
上する。
常に許容可能な最大バルブコンダクタンスを提供する最適バルブ電流Ioで作動する。常
開のバルブについて、バルブ電流が減少するに従って、バルブコンダクタンスが増大する
か或いはバルブが更に大きく開放する。一般的には、最適バルブ電流Ioは、常開のバル
ブについての電流の下限であるか或いは許容可能な最小バルブ電流である。この流れライ
ンの下流での閉塞により、電流I1によって制御されるバルブが開放し始めたとき、バル
ブは、完全に開放されるまで、又は時間toで電流下限Ioに達するまで開放し続ける。
バルブ電流は、可能であれば、減少し続ける。その代わり、電流I2によって制御される
バルブが、流量比率を維持するため、反対称であることにより、toでのIoの値から最
適電流Ioまで増大し始める。
(a)二次流れの比率を維持するように、二次流れライン内の質量流量を反対称に最適制
御し、
(b)少なくとも一方のバルブが最適バルブ電流Ioにあり、許容可能な最大バルブコン
ダクタンス位置を任意の1つの作動時に提供し(線型飽和器を使用することによる)、こ
れと同時に他方のバルブを能動的に制御し、予め選択した流量比率の値を維持し、
(c)一方の流れライン内の流れが減少した場合、二次流れの比率が予め選択した設定点
からずれるように、二次流れの比率を、予め選択された設定点に維持するように、二次流
れラインの質量流量を制御する。制御装置は、二次流れラインを通る相対的二次流を、比
率が予め選択した設定点に戻るように調節する。一方のバルブが開放度を増大すると、最
適のバルブ電流に至り、許容可能な最大バルブコンダクタンスを提供する最適のバルブ電
流に保持する。最初はバルブ電流にあった他方のバルブは、予め選択した流量比率設定点
を維持するため、閉鎖を開始する。このようにして、二つのバルブは、いずれかの流れラ
インでの非常に重大な下流閉塞状態を取り扱うため、互いに対して能動的制御を自動的に
切り換える。
び方法を説明した。本明細書中に説明した例示の実施例は、限定でなく、例として提供し
たものであり、当業者は、特許請求の範囲に記載した本開示の精神及び範囲から逸脱する
ことなく、様々な変更、組み合わせ、及び交換を行ってもよい。例えば、バルブを常開の
バルブとして説明してきたが、常閉のバルブについても有効である。更に、流量比率制御
装置を二つの二次流れラインを持つものとして説明したが、制御装置を更に多くの二次流
れラインを持つように設計することができる。
(態様1)単一の質量流量を二つ又はそれ以上の二次流れに分割するためのシステムにおいて、(A)単一の質量流量を受け取るための入口と、(B)前記入口に連結されており、前記二次流れのうちの対応する一方の流れを搬送するように連結された少なくとも二つの二次流れラインであって、各二次流れラインは、(1)対応する流れラインを通る流れを計測するために連結され、該流れラインを通る計測された流れを表す信号を提供する流量計と、(2)前記対応する流れラインを通る流れを制御信号に基づいて制御するために連結されたバルブとを含む、前記二次流れラインと、(C)前記二次流れの比率を制御するため、前記流量計及び前記バルブに連結された制御装置とを含み、前記制御装置は、前記二次流れの比を予め選択された値に維持するように、前記二次流れライン内の質量流量を反対称最適制御するように形成されている、システム。
(態様2)態様1のシステムにおいて、更に、予め選択された比率と計測した比率との間の差の関数として第一制御信号を発生するように連結されたSISO制御装置と、前記二次流れラインの各々に一つづつ設けられた、前記バルブの各々を制御するように、前記第一制御信号に応じてバルブ制御信号を提供するように形成された一対の線型飽和器とを含む、システム。
(態様3)態様2のシステムにおいて、更に、前記第1制御信号を変換し、変換された制御信号を提供するように形成されたインバーターと、第2制御信号を提供するように、前記変換された制御信号及び一定のバイアス信号を組み合わせるための総和接合部とを含み、前記線型飽和器の一つによって提供された前記バルブ制御信号の一つは、前記第2制御信号の関数である、システム。
(態様4)第2流れラインを通る流量比率を制御するように、流量比率制御装置の二次流れラインの二つのバルブを制御する方法において、前記二次流れの比率を予め選択した値に維持するように、前記二次流れライン内の質量流量の反対称最適制御を使用する工程を含む、方法。
(態様5)単一の質量流量を二つ又はそれ以上の二次流れに分割するためのシステムにおいて、(A)単一の質量流量を受け取るための入口と、(B)前記入口に連結されており、前記二次流れのうちの対応する一方の流れを搬送するように連結された少なくとも二つの二次流れラインであって、各二次流れラインは、(1)対応する流れラインを通る流れを計測するために連結され、該流れラインを通る計測された流れを表す信号を提供する流量計と、(2)前記対応する流れラインを通る流れを制御信号に基づいて制御するために連結されたバルブとを含む、前記二次流れラインと、(C)前記二次流れの比率を予め選択した値に制御するため、前記流量計及び前記バルブに連結された制御装置とを含み、前記制御装置は、前記バルブの少なくとも一方を、作動中の任意の瞬間での許容可能な最大バルブコンダクタンス位置を提供する最適バルブ電流に保持し、他方のバルブを、前記流量比率の予め選択された値を維持するため、能動的に制御するように形成されている、システム。
(態様6)態様5のシステムにおいて、更に、予め選択された比率と計測した比率との間の差の関数として第一制御信号を発生するように連結されたSISO制御装置と、前記二次流れラインの各々に一つづつ設けられた、前記バルブの各々を制御するように、前記第一制御信号に応じてバルブ制御信号を提供するように形成された一対の線型飽和器とを含む、システム。
(態様7)態様6のシステムにおいて、更に、前記第1制御信号を変換し、変換された制御信号を提供するように形成されたインバーターと、第2制御信号を提供するように、前記変換された制御信号及び一定のバイアス信号を組み合わせるための総和接合部とを含み、前記線型飽和器の一つによって提供された前記バルブ制御信号の一つは、前記第2制御信号の関数である、システム。
(態様8)第2流れラインを通る流量比率を制御するように、流量比率制御装置の二次流れラインの二つのバルブを制御する方法において、少なくとも一方のバルブを、作動の任意の一つの瞬間に、許容可能な最大バルブコンダクタンス位置を提供する最適位置に維持すると同時に、他方のバルブを、前記流量比率の予め選択された値を維持するように能動的に制御する工程を含む、方法。
(態様9)単一の質量流量を二つ又はそれ以上の二次流れに分割するためのシステムにおいて、(A)単一の質量流量を受け取るための入口と、(B)前記入口に連結されており、前記二次流れのうちの対応する一方の流れを搬送するように連結された少なくとも二つの二次流れラインであって、各二次流れラインは、(1)対応する流れラインを通る流れを計測するために連結され、該流れラインを通る計測された流れを表す信号を提供する流量計と、(2)前記対応する流れラインを通る流れを制御信号に基づいて制御するために連結されたバルブとを含む、前記二次流れラインと、(C)前記二次流れの比率を予め選択した設定点で維持するために前記比率を制御するように、前記流量計及び前記バルブに連結された制御装置とを含み、前記制御装置は、前記二次流れの比率を前記予め選択した設定点に維持するように、前記二次流れライン内の質量流量を制御するように形成されており、前記制御は、一方の流れライン内の流れが減少し、前記二次流れの比率が前記予め選択した設定点から逸脱した場合、前記制御装置が、前記二次流れラインを通る相対的二次流れを調節し、前記比率を前記予め選択した設定点に戻すように行われる、システム。
(態様10)態様9のシステムにおいて、一方のバルブの開口度が増大し、最適バルブ電流に達すると、前記バルブは、許容可能な最大バルブコンダクタンスを提供する前記最適バルブ電流に保持され、最初は最適バルブ電流にある他方のバルブは、予め選択した流量比率設定点を維持するため、閉鎖し始め、その結果、二つのバルブは、能動的制御を互いに自動的に切り換える、システム。
(態様11)態様9のシステムにおいて、更に、予め選択された比率と計測した比率との間の差の関数として第一制御信号を発生するように連結されたSISO制御装置と、前記二次流れラインの各々に一つづつ設けられた、前記バルブの各々を制御するように、前記第一制御信号に応じてバルブ制御信号を提供するように形成された一対の線型飽和器とを含む、システム。
(態様12)態様11のシステムにおいて、更に、前記第1制御信号を変換し、変換された制御信号を提供するように形成されたインバーターと、第2制御信号を提供するように、前記変換された制御信号及び一定のバイアス信号を組み合わせるための総和接合部とを含み、前記線型飽和器の一つによって提供された前記バルブ制御信号の一つは、前記第2制御信号の関数である、システム。
(態様13)流量比率制御装置の対応する二次流れライン内の二次流れを制御し、前記二次流れの流量比率を制御するように二つのバルブを制御する方法において、一方の流れライン内の流れが減少し、前記二次流れの比率が前記予め選択した設定点から逸脱した場合、前記制御装置が、前記二次流れラインを通る相対的二次流れを調節し、前記比率を前記予め選択した設定点に戻すように、前記二次流れの流量比率を予め選択した設定点に維持する工程を含む、方法。
(態様14)態様13の方法において、一方のバルブの開口度が増大し、最適バルブ電流に達した場合、前記バルブは、許容可能な最大バルブコンダクタンスを提供する前記最適バルブ電流に保持され、最初は最適バルブ電流にある他方のバルブは、予め選択した流量比率設定点を維持するため、閉鎖し始め、その結果、二つのバルブは制御を互いに自動的に切り換える、方法。
(態様15)流量比率制御装置を備えたガス送出システムにおいて、一対の二次流れラインと、前記二次流れラインを通る流れを制御コマンド信号に応じて夫々制御するように形成された一対のバルブと、前記バルブの各々を通る流れを、予め選択した流量比率に従って制御するように形成された流れ制御装置であって、フィードバックループと、単一出力SISO制御装置と、前記バルブの各々で使用するための一対の線型飽和器とを含み、前記SISO制御装置は出力を有する、流れ制御装置とを含み、前記バルブに対する前記制御コマンドは、前記SISO制御装置及び夫々の線型飽和器の出力の関数であり、前記二つのバルブ制御コマンドは、前記バルブの許容可能な最大バルブコンダクタンス位置に対して実際上反対称である、ガス送出システム。
(態様16)態様15のガス送出システムにおいて、前記二つのバルブ制御コマンドは、前記バルブの許容可能な最大バルブコンダクタンス位置に対して実際上反対称である、ガス送出システム。
(態様17)態様16のガス送出システムにおいて、前記線型飽和器を使用することの正味の効果は、一方のバルブ制御装置のバルブコマンドを、許容可能な最大バルブコンダクタンスを提供する前記最適バルブ電流に保持すると同時に、他方を、予め選択した流量比率設定点に維持するため、能動的に制御することである、ガス送出システム。
(態様18)態様16のガス送出システムにおいて、二つの線型飽和器への入力を反対称に維持し、及び従って前記バルブ制御コマンドを前記許容可能な最大バルブコンダクタンスに対して実際上反対称であるように、一方の線型飽和器がバイアス電流及び変換した信号を受け取る、ガス送出システム。
104 ガス供給部
106 流量比率制御装置
108、110 処理チャンバ
112 ガスボックス
114 ガス通路部
116 出口マニホールド
122 流れライン
124 センサ
126 バルブ
130 出口
132 ゲートバルブ
136 制御装置
Claims (3)
- 単一の質量流量を、予め選択された値の設定比率に応じて二つの二次流れに分割するためのシステムにおいて、
(A)上記単一の質量流量を受け取るための入口と、
(B)前記入口に連結されており、前記二次流れのうちの対応する一方の流れをそれぞれ搬送するように連結された二つの二次流れラインであって、各二次流れラインは、
(1)対応する流れラインを通る流れを計測するために連結され、該流れラインを通る計測された流れを表す信号を提供する流量計、
(2)前記対応する流れラインを通る流れを制御信号に基づいて制御するために連結されたバルブ、および
(3)前記バルブの許容可能な最大バルブコンダクタンスを提供する最適のバルブ制御信号に飽和限界が設定された線形飽和器、を含み、
(C)前記二次流れの比率を前記予め選択された値に維持するように、前記予め選択された値の比率と計測した比率との間の差の関数として第1制御信号を発生するように構成された制御装置と、
前記第1制御信号を反転し、反転された第1制御信号を提供するように構成されたインバーターと、
前記反転された第1制御信号の値と前記最適のバルブ制御信号の値の2倍とを組み合わせ、第2制御信号を提供するように構成された総和接合部と、を備え、
前記線形飽和器のうちの一方が前記第1制御信号に応じて前記バルブの一方にバルブ制御信号を提供し、前記線形飽和器のうちの他方が前記第2制御信号に応じて他方のバルブにバルブ制御信号を提供するように構成された、システム。 - 前記制御装置はSISO制御装置である、請求項1に記載のシステム。
- 単一の質量流量を、予め選択された値の設定比率で二つの二次流れラインに分割するように、流量比率制御装置の前記二つの二次流れラインの二つのバルブを制御する方法において、
予め選択された比率と計測した比率との間の差の関数として第1制御信号を発生し、且つ、前記第1制御信号を反転させて、前記バルブの許容可能な最大バルブコンダクタンスを提供する最適のバルブ制御信号の値の2倍を前記反転された第1制御信号の値に加算することによって第2制御信号を生成し、
前記第1制御信号または前記第2制御信号のいずれか一方を前記最適のバルブ制御信号に飽和させて前記バルブの各々のバルブ制御信号を発生し、
前記バルブの一方が許容可能な最大バルブコンダクタンス位置で作動するように前記バルブの各々を制御しながら、他方のバルブが前記二次流れの比率を前記予め選択した値に維持するように制御する方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US11/111,646 US7621290B2 (en) | 2005-04-21 | 2005-04-21 | Gas delivery method and system including a flow ratio controller using antisymmetric optimal control |
US11/111,646 | 2005-04-21 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008507828A Division JP2008538656A (ja) | 2005-04-21 | 2006-04-20 | 反対称最適制御を使用する流量比率制御装置を含むガス送出方法及びシステム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014206985A JP2014206985A (ja) | 2014-10-30 |
JP5937139B2 true JP5937139B2 (ja) | 2016-06-22 |
Family
ID=37055957
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008507828A Withdrawn JP2008538656A (ja) | 2005-04-21 | 2006-04-20 | 反対称最適制御を使用する流量比率制御装置を含むガス送出方法及びシステム |
JP2014101309A Active JP5937139B2 (ja) | 2005-04-21 | 2014-05-15 | 反対称最適制御を使用する流量比率制御装置を含むガス送出方法及びシステム |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008507828A Withdrawn JP2008538656A (ja) | 2005-04-21 | 2006-04-20 | 反対称最適制御を使用する流量比率制御装置を含むガス送出方法及びシステム |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7621290B2 (ja) |
JP (2) | JP2008538656A (ja) |
KR (1) | KR101111401B1 (ja) |
CN (1) | CN101164029B (ja) |
DE (1) | DE112006000836B4 (ja) |
GB (1) | GB2438997B8 (ja) |
TW (1) | TWI430065B (ja) |
WO (1) | WO2006115926A2 (ja) |
Families Citing this family (35)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005060602A2 (en) * | 2003-12-12 | 2005-07-07 | Semequip, Inc. | Controlling the flow of vapors sublimated from solids |
US7621290B2 (en) | 2005-04-21 | 2009-11-24 | Mks Instruments, Inc. | Gas delivery method and system including a flow ratio controller using antisymmetric optimal control |
US7673645B2 (en) * | 2005-04-21 | 2010-03-09 | Mks Instruments, Inc. | Gas delivery method and system including a flow ratio controller using a multiple antisymmetric optimal control arrangement |
US9921089B2 (en) | 2005-06-27 | 2018-03-20 | Fujikin Incorporated | Flow rate range variable type flow rate control apparatus |
JP4856905B2 (ja) * | 2005-06-27 | 2012-01-18 | 国立大学法人東北大学 | 流量レンジ可変型流量制御装置 |
US9383758B2 (en) | 2005-06-27 | 2016-07-05 | Fujikin Incorporated | Flow rate range variable type flow rate control apparatus |
JP4642115B2 (ja) * | 2006-12-12 | 2011-03-02 | 株式会社堀場エステック | 流量比率制御装置 |
CN101910706B (zh) * | 2007-12-27 | 2013-11-13 | 朗姆研究公司 | 短蚀刻配方的气体传输延迟解决方案 |
CN102473634B (zh) * | 2009-08-20 | 2015-02-18 | 东京毅力科创株式会社 | 等离子体处理装置和等离子体处理方法 |
US9127361B2 (en) | 2009-12-07 | 2015-09-08 | Mks Instruments, Inc. | Methods of and apparatus for controlling pressure in multiple zones of a process tool |
WO2012002232A1 (ja) * | 2010-06-28 | 2012-01-05 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置及び方法 |
CN102435388A (zh) * | 2011-09-19 | 2012-05-02 | 大连基准机电设备有限公司 | 压力测量自动切换控制系统 |
US8849466B2 (en) * | 2011-10-04 | 2014-09-30 | Mks Instruments, Inc. | Method of and apparatus for multiple channel flow ratio controller system |
JP5960614B2 (ja) * | 2012-03-29 | 2016-08-02 | Ckd株式会社 | 流体制御システム、流体制御方法 |
US9004107B2 (en) * | 2012-08-21 | 2015-04-14 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for enhanced gas flow rate control |
US10114389B2 (en) * | 2013-06-28 | 2018-10-30 | Applied Materials, Inc. | Method and system for controlling a flow ratio controller using feedback |
US10108205B2 (en) | 2013-06-28 | 2018-10-23 | Applied Materials, Inc. | Method and system for controlling a flow ratio controller using feed-forward adjustment |
WO2015013477A2 (en) * | 2013-07-25 | 2015-01-29 | Fluid Handling Llc | Sensorless adaptive pump control with self-calibration apparatus for hydronic pumping system |
JP6193679B2 (ja) * | 2013-08-30 | 2017-09-06 | 株式会社フジキン | ガス分流供給装置及びガス分流供給方法 |
JP2016134569A (ja) * | 2015-01-21 | 2016-07-25 | 株式会社東芝 | 半導体製造装置 |
US9934956B2 (en) * | 2015-07-27 | 2018-04-03 | Lam Research Corporation | Time multiplexed chemical delivery system |
US10957561B2 (en) * | 2015-07-30 | 2021-03-23 | Lam Research Corporation | Gas delivery system |
US10192751B2 (en) | 2015-10-15 | 2019-01-29 | Lam Research Corporation | Systems and methods for ultrahigh selective nitride etch |
US10825659B2 (en) | 2016-01-07 | 2020-11-03 | Lam Research Corporation | Substrate processing chamber including multiple gas injection points and dual injector |
US10651015B2 (en) | 2016-02-12 | 2020-05-12 | Lam Research Corporation | Variable depth edge ring for etch uniformity control |
US10699878B2 (en) | 2016-02-12 | 2020-06-30 | Lam Research Corporation | Chamber member of a plasma source and pedestal with radially outward positioned lift pins for translation of a substrate c-ring |
US10147588B2 (en) | 2016-02-12 | 2018-12-04 | Lam Research Corporation | System and method for increasing electron density levels in a plasma of a substrate processing system |
US10438833B2 (en) | 2016-02-16 | 2019-10-08 | Lam Research Corporation | Wafer lift ring system for wafer transfer |
US10557736B2 (en) * | 2016-05-10 | 2020-02-11 | Mks Instruments, Inc. | Predictive diagnostics systems and methods using vacuum pressure control valves |
US10410832B2 (en) | 2016-08-19 | 2019-09-10 | Lam Research Corporation | Control of on-wafer CD uniformity with movable edge ring and gas injection adjustment |
US10996689B2 (en) * | 2016-09-12 | 2021-05-04 | Horiba Stec, Co., Ltd. | Flow rate ratio control device with flow velocity control mode |
JP7164938B2 (ja) * | 2017-07-31 | 2022-11-02 | 株式会社堀場エステック | 流量制御装置、流量制御方法、及び、流量制御装置用プログラム |
US10866135B2 (en) * | 2018-03-26 | 2020-12-15 | Applied Materials, Inc. | Methods, systems, and apparatus for mass flow verification based on rate of pressure decay |
JP2021164492A (ja) * | 2018-04-24 | 2021-10-14 | オリンパス株式会社 | 気腹装置 |
US10698426B2 (en) | 2018-05-07 | 2020-06-30 | Mks Instruments, Inc. | Methods and apparatus for multiple channel mass flow and ratio control systems |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2895502A (en) | 1955-10-20 | 1959-07-21 | Manning Maxwell & Moore Inc | Automatic process control system |
US3556126A (en) * | 1968-11-19 | 1971-01-19 | Ashland Oil Inc | Pipeline valve control system |
US4107246A (en) | 1976-12-20 | 1978-08-15 | Phillips Petroleum Company | Extrusion control |
US4369031A (en) | 1981-09-15 | 1983-01-18 | Thermco Products Corporation | Gas control system for chemical vapor deposition system |
JP2509022B2 (ja) * | 1991-08-22 | 1996-06-19 | 株式会社東芝 | ガスタ―ビン制御装置 |
US5453124A (en) | 1992-12-30 | 1995-09-26 | Texas Instruments Incorporated | Programmable multizone gas injector for single-wafer semiconductor processing equipment |
US5329965A (en) | 1993-07-30 | 1994-07-19 | The Perkin-Elmer Corporation | Hybrid valving system for varying fluid flow rate |
JP2002110570A (ja) | 2000-10-04 | 2002-04-12 | Asm Japan Kk | 半導体製造装置用ガスラインシステム |
US6333272B1 (en) * | 2000-10-06 | 2001-12-25 | Lam Research Corporation | Gas distribution apparatus for semiconductor processing |
JP3540738B2 (ja) | 2000-10-30 | 2004-07-07 | 株式会社東芝 | 流量分配装置 |
US6418954B1 (en) | 2001-04-17 | 2002-07-16 | Mks Instruments, Inc. | System and method for dividing flow |
KR20040019293A (ko) | 2001-05-24 | 2004-03-05 | 셀레리티 그룹 아이엔씨 | 소정 비율의 프로세스 유체를 제공하는 방법 및 장치 |
US6766260B2 (en) | 2002-01-04 | 2004-07-20 | Mks Instruments, Inc. | Mass flow ratio system and method |
JP4224492B2 (ja) | 2003-06-09 | 2009-02-12 | シーケーディ株式会社 | 圧力制御システム及び流量制御システム |
US7072743B2 (en) * | 2004-03-09 | 2006-07-04 | Mks Instruments, Inc. | Semiconductor manufacturing gas flow divider system and method |
US7621290B2 (en) | 2005-04-21 | 2009-11-24 | Mks Instruments, Inc. | Gas delivery method and system including a flow ratio controller using antisymmetric optimal control |
-
2005
- 2005-04-21 US US11/111,646 patent/US7621290B2/en active Active
-
2006
- 2006-04-20 CN CN2006800131069A patent/CN101164029B/zh active Active
- 2006-04-20 GB GB0717778A patent/GB2438997B8/en active Active
- 2006-04-20 TW TW95114095A patent/TWI430065B/zh active
- 2006-04-20 DE DE112006000836.6T patent/DE112006000836B4/de active Active
- 2006-04-20 JP JP2008507828A patent/JP2008538656A/ja not_active Withdrawn
- 2006-04-20 KR KR1020077027151A patent/KR101111401B1/ko active IP Right Grant
- 2006-04-20 WO PCT/US2006/014682 patent/WO2006115926A2/en active Application Filing
-
2014
- 2014-05-15 JP JP2014101309A patent/JP5937139B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW200707148A (en) | 2007-02-16 |
CN101164029A (zh) | 2008-04-16 |
US7621290B2 (en) | 2009-11-24 |
US20060237063A1 (en) | 2006-10-26 |
JP2014206985A (ja) | 2014-10-30 |
GB2438997B (en) | 2011-04-13 |
KR20080002999A (ko) | 2008-01-04 |
WO2006115926A3 (en) | 2007-01-04 |
GB2438997B8 (en) | 2011-04-27 |
KR101111401B1 (ko) | 2012-02-27 |
DE112006000836T5 (de) | 2008-03-06 |
GB2438997A (en) | 2007-12-12 |
JP2008538656A (ja) | 2008-10-30 |
CN101164029B (zh) | 2011-06-22 |
TWI430065B (zh) | 2014-03-11 |
GB0717778D0 (en) | 2007-10-24 |
DE112006000836B4 (de) | 2022-03-31 |
WO2006115926A2 (en) | 2006-11-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5937139B2 (ja) | 反対称最適制御を使用する流量比率制御装置を含むガス送出方法及びシステム | |
JP6031167B2 (ja) | 4チャンネルガス送出システム、多チャンネルガス送出システム、および制御バルブを制御する方法 | |
JP5613752B2 (ja) | マルチ反対称最適制御性能構成を使用する流量比制御装置を含むガス送出方法及びシステム | |
KR100944962B1 (ko) | 질량유량분할 시스템과 방법 | |
US5904170A (en) | Pressure flow and concentration control of oxygen/ozone gas mixtures | |
JP3926747B2 (ja) | フローを分割するためのシステム及び方法 | |
JP7168747B2 (ja) | ガス流量比制御のための方法及びアセンブリ | |
CN1777696B (zh) | 用于原子层沉积的方法和设备 | |
US6941965B2 (en) | Method and apparatus for providing a determined ratio of process fluids | |
JP2939843B2 (ja) | 主管圧力制御装置 | |
JP2020105577A (ja) | 流体供給装置 | |
JPS61158137A (ja) | ガスの流量制御装置 | |
JP2001286836A (ja) | 基板処理装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150415 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150421 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150717 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20151110 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160310 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20160323 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160412 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160511 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5937139 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |