JP2001286836A - 基板処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 設定された一定の流量で処理液を供給する一
方で、この設定流量を、シンプル、かつ安価な構成で変
更可能とする。 【解決手段】 基板処理部である処理槽１２に給水管１
４を介して純水を供給しつつ、給水管１４に接合した薬
液供給管２８ａ〜２８ｃを介して薬液を給水管１４に合
流させるようにした。給水管１４には、流量調整弁２０
を介設して流量を保持するようにした。流量調整弁２０
としては、処理液の流量をパイロット圧に応じた一定流
量に設定する流量調整弁を採用した。パイロット圧の供
給系は、コンプレッサに接続されたパイロット管３０を
設け、このパイロット管３０の途中に、並列な分岐部３
２ａ，３２ｂを設け、これらの分岐部３２ａ，３２ｂ
に、それぞれレギュレーター３４ａ，３４ｂ、圧力計３
６ａ，３６ｂおよび開閉弁３８ａ，３８ｂを介設し、各
レギュレーター３４ａ，３４ｂによる減圧値を異なる値
に設定した。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体基板や液晶
用ガラス基板等の基板を処理する基板処理装置に関する
ものである。

【０００２】

【従来の技術】従来から、半導体基板等の基板を処理槽
内の処理液に浸漬して処理する基板処理装置が知られて
おり、このような装置として、例えば特許登録第２７３
９４１９号に開示されるような装置がある。

【０００３】この装置には、処理槽内に純水を供給する
給水管が設けられるとともに、異なる薬液タンクにそれ
ぞれ通じる複数の薬液供給管が給水管に対して接合され
ている。そして、処理中は、給水管内の純水に薬液供給
管を通じて択一的に薬液を供給して（合流させ）所定濃
度の薬液を調製しつつ処理槽に供給し、あるいは薬液の
供給を停止して純水のみを処理槽に供給することによ
り、薬液や純水（以下、処理液という）を処理槽に貯留
しつつオーバーフローさせるように構成されている。

【０００４】この装置では、上記のように純水に薬液を
供給して所定濃度の薬液を調製するため、純水の流量が
不安定では所望濃度の薬液を調製することができず、安
定した処理は望めない。また、純水の流量が変動すると
処理槽内での処理液の流速が変動し、基板の面内均一性
等に悪影響を与える虞れもある。

【０００５】そのため、通常は、薬液供給管の接合部分
よりも上流側において、給水管に流量調整弁を介設し、
これにより給水管を通じて供給される純水の流量を一定
に保つようにしている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ところで、基板の処理
条件は基板の種類により異なり、基板の種類が異なれば
純水の流量を変更したいケースもある。例えば、基板の
種類によっては処理液の流速が処理速度に影響を与える
場合があり、このような場合には、純水の流量を基板毎
に変化させて処理槽内での処理液の流速を基板に適した
速度にすることが望まれる。また、基板の種類に応じて
温度の異なる純水を択一的に供給する場合もあり、この
ような場合には、供給する純水の温度に応じて流量を変
化させることが必要となる場合がある。

【０００７】そこで、このような要請に応えるべく、例
えば、薬液供給管の接合部分よりも上流において、給水
管に複数の互いに並列な分岐路を設けて各分岐路に開閉
弁及び流量調整弁を介設するとともに、流量調整弁によ
る設定流量を各分岐路毎に異なる流量に設定し、分岐路
に対して択一的に純水を通すことによって流量を変化さ
せるようにすることが考えられる。

【０００８】ところが、この構成では、処理液の供給系
統の主管である給水管を分岐構造とする必要がある上、
各分岐路にそれぞれ流量調整弁等を介設する必要がある
ため、スペースやコストの面で不利である。特に、複数
の処理槽を備え、給水管を分岐して各処理槽に接続する
ような装置では、各処理槽に対応して上記のような流量
調整のための構成が必要となるため、処理液の供給系統
が一層複雑になりその占有スペースが増大するという問
題がある。

【０００９】本発明は、上記問題を解決するためになさ
れたものであり、処理液供給管を通じて供給される処理
液の流量を設定された一定の流量で供給する一方で、こ
の設定流量を、シンプル、かつ安価な構成で変更可能と
する基板処理装置を提供することを目的としている。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は、基板を処理するための基板処理部と、処
理液供給源に接続されて基板処理部に処理液を供給する
処理液供給管とを備えた基板処理装置において、処理液
供給管に、パイロット管を介して与えられるパイロット
圧に応じて処理液の流量を調整する流量調整弁を介設す
るとともに、パイロット管にパイロット圧を調整可能と
する調整手段を介設したものである（請求項１）。

【００１１】この装置によれば、流量調整弁に与えるパ
イロット圧の調整に応じて処理液の流量が変更され、変
更後は、その流量が維持されて安定した処理液の供給が
行われる。そのため、処理液供給管については、流量調
整弁を介設しただけのシンプルな構成で処理液の流量変
更が可能となる。

【００１２】上記調整手段としては、パイロット管に並
列な複数の分岐部を設け、各分岐部に、開閉弁と、パイ
ロット圧を一定圧力に調整可能な圧力調整弁とを介設
し、さらに各分岐部の圧力調整弁による調整圧力値を異
なる値に設定することができる（請求項２）。

【００１３】このようにすれば、各分岐部の開閉弁を択
一的に開操作することにより、その開閉弁の該当する分
岐部の圧力調整弁により調整されるパイロット圧が処理
液供給管の流量調整弁に与えられる。

【００１４】また、上記調整手段としては、パイロット
管に、電圧に応じてパイロット圧を調整可能な電気圧力
比例型の圧力調整弁を設けることもできる（請求項
３）。

【００１５】このようにすれば、圧力調整弁に対する電
圧の大きさに応じてパイロット圧が調整され、そのパイ
ロット圧が処理液供給管に介設された流量調整弁に与え
られる。そのため、パイロット管に単一の流量調整弁を
介設しただけのシンプルな構成でパイロット圧の調整を
行うことができる。

【００１６】なお、例えば、処理槽内に処理液を貯留
し、そこに基板を浸漬させた状態で処理液をオーバーフ
ローさせながら処理を行うタイプの装置では、基板の種
類によって処理液の温度を変えて処理する場合があり、
この場合には、処理槽での処理液の流速を処理液の温度
に応じて変化させる方が好ましい場合がある。そのた
め、このような場合には、上記パイロット圧を処理液の
温度に応じた複数の圧力値に調整できるように上記調整
手段を構成するようにし（請求項４）、これにより、流
量を変化させて処理槽内での処理液の流速を処理液の温
度に応じて調整できるようにしてもよい。

【００１７】

【発明の実施の形態】本発明の実施の形態について図面
を用いて説明する。

【００１８】図１は、本発明に係る基板処理装置の一の
実施の形態を概略的に示している。この図に示す基板処
理装置１０は、単一の処理槽に各種薬液や純水を順次貯
留しながら、半導体ウエハ等の基板をこの処理液に浸漬
して表面処理を行う、いわゆるワンバス方式の基板処理
装置であって、基板処理部である処理槽１２と、これに
対する処理液の給排系とを備えている。

【００１９】処理槽１２は、例えば断面矩形の箱型に形
成されているとともに、その開口周囲に液受け部１２ａ
が設けられ、その全体は例えばＰＴＦＥ（ポリテトラフ
ロロエチレン）、ＰＶＤＦ（フッ化ビニリデン）等の耐
侵食性に優れた材料から構成されている。

【００２０】処理槽１２には、処理液の給排系を構成す
る給水管１４（処理液供給管）及び排液管１６がそれぞ
れ接続されている。

【００２１】給水管１４は、図示を省略するが、例え
ば、その上流端側が切換え弁を介して２つに分岐され、
それぞれ機械式ポンプを介して別々の純水貯留タンク
（処理液供給源）に接続されている。各貯留タンクに
は、温度の異なる純水、例えば常温とこれより若干温度
の高い純水が貯留されており、上記切換え弁の操作に応
じていずれか一方の純水を供給できるように構成されて
いる。

【００２２】一方、給水管１４の下流端側は、処理槽１
２の底部に接続されて処理槽１２内に連通しており、上
記切換え弁の下流側には、流量調整弁２０、流量計２２
及び三方弁２４が上流側から順に介設されている。ま
た、流量計２２と三方弁２４との間には、薬液供給管２
８ａ〜２８ｃが一列に並べられた状態で給水管１４に接
続されている。薬液供給管２８ａ〜２８ｃは、上流端側
がそれぞれ異なる種類の薬液を貯留した薬液タンク２６
ａ〜２６ｃに至っており、その途中には、開閉バルブ２
９ａ〜２９ｃがそれぞれ介設されている。すなわち、い
ずれかの開閉バルブ２９ａ〜２９ｃが択一的に、または
所要のものが複数同時に開操作されることにより給水管
１４を通じて給送される純水に薬液が混入されつつ所定
濃度の薬液が調製されて処理槽１２に給送される一方、
全ての開閉バルブ２９ａ〜２９ｃが閉状態とされると、
純水のみが処理槽１２に給送されるようになっている。

【００２３】上記流量調整弁２０は、当実施の形態で
は、空気圧を用いたパイロット圧式の流量調整弁であっ
て、純水貯溜タンクに接続する側である上流側（以下、
一次側という）の圧力変動等による影響を是正して、給
水管１４を通じて供給される純水の流量をパイロット圧
に応じた一定流量に保つように構成されている。

【００２４】流量調整弁２０に対するパイロット圧の供
給系は、図１の破線に示すように、上流側が図外のコン
プレッサに接続されたパイロット管３０を有している。
このパイロット管３０の途中には、同図に示すように並
列に分岐部３２ａ，３２ｂが設けられており、これらの
分岐部３２ａ，３２ｂに、それぞれ上流側から順にレギ
ュレーター（減圧弁）３４ａ，３４ｂ、圧力計３６ａ，
３６ｂおよび開閉弁３８ａ，３８ｂが介設されている。

【００２５】各レギュレーター３４ａ，３４ｂによる減
圧値はそれぞれ異なる値に設定されており、開閉弁３８
ａ，３８ｂが択一的に開操作されることにより流量調整
弁２０に与えられるパイロット圧が切り換えられるよう
になっている。なお、各レギュレーター３４ａ，３４ｂ
による減圧値は、純水の温度に対応した値に設定されて
いる。すなわち、温度毎に予め設定されている所定の流
量で純水を供給するように設定されている。

【００２６】ここで、上記給水管１４に介設された流量
調整弁２０の構成について説明する。

【００２７】図２は上記流量調整弁２０を示す断面概略
図である。この図に示す流量調整弁２０は、一般的なパ
イロット圧式の流量調整弁であって、内部に上下（同図
で上下）に延びる純水の流路４２を備えるとともに、こ
の流路４２に通じる上下にオフセットされた入口側およ
び出口側の各ポート４４，４６を左右（同図で左右）両
側に有しており、給水管１４がこれら各ポート４４，４
６に接続されている。

【００２８】流路４２内には、後述するように弁体４８
が上下方向に変位可能に支持され、この弁体４８に形成
された円錐状部分４８ｃと流路４２の途中に形成された
断面円形状の絞り部４２ｃとによりオリフィス５６を形
成している。

【００２９】また、流路４２の下方に、弁体４８の下部
４８ａを収容する弁体下部収容室４２ａが形成されると
ともに、流路４２の上方に、弁体４８の上部４８ｂを収
容する弁体上部収容室４２ｂが形成されている。そし
て、弁体４８の下部４８ａが下側ダイアフラム５０ａに
より弁体下部収容室４２ａ内にフランジ支持状に支えら
れる一方、同上部４８ｂが弁体上部収容室４２ｂ内に上
側ダイアフラム５０ｂによりフランジ支持状に支えられ
ている。これにより弁体４８が流路４２内に上下方向に
変位可能に支持されている。

【００３０】前記の下側ダイアフラム５０ａは弁体下部
収容室４２ａを上下に区分しており、ダイアフラム５０
ａの上側に流路４２に臨む入口側流体圧作用空間５１ａ
を形成する一方、ダイアフラム５０ａの下側に下部ポー
ト５４ａを介して前記パイロット管３０に連通する下側
のパイロット圧作用空間５２ａを形成している。また、
上側ダイアフラム５０ｂも弁体上部収容室４２ｂを上下
に区分しており、ダイアフラム５０ｂの下側に流路４２
に臨む出口側流体圧作用空間５１ｂを形成する一方、ダ
イアフラム５０ｂの上側に上部ポート５４ｂを介して前
記パイロット管３０に連通する上側のパイロット圧作用
空間５２ｂを形成している。

【００３１】そして、図２に示すように上記弁体上部収
容室４２ｂが弁体下部収容室４２ａより広く（径が大き
く）形成されることにより、上側のパイロット圧作用空
間５２ｂにおける上側ダイアフラム５０ｂ及び弁体４８
のエア圧の受圧面積が下側のパイロット圧作用空間５２
ａにおける下側ダイアフラム５０ａ及び弁体４８のエア
圧の受圧面積よりも大きくなるように構成されるととも
に、出口側流体圧作用空間５１ｂにおける上側ダイアフ
ラム５０ｂ及び弁体４８の純水の受圧面積が入口側流体
圧作用空間５１ａにおける下側ダイアフラム５０ａ及び
弁体４８の純水の受圧面積よりも大きくなるように構成
されている。

【００３２】この構成において、上記入口側ポート４４
を通じて純水を供給するとともに、両ポート５４ａ，５
４ｂを通じてエア圧を与えると、オリフィス５６通過前
の純水の圧力により弁体４２を押し下げる力、オリフィ
ス５６通過後の純水の圧力により弁体４２を押し上げる
力、下側のパイロット圧作用空間５２ａに供給されるエ
ア圧により弁体４２を押し上げる力、上側のパイロット
圧作用空間５２ｂに供給されるエア圧により弁体４２を
押し下げる力、弁体４２の自重および弾性変形した両ダ
イヤフラム５０ａ、５０ｂの復帰力が弁体４２に作用す
るが、上述のように下側ダイアフラム５０ａ等のエア圧
の受圧面積よりも上側ダイアフラム５０ｂ等のエア圧の
受圧面積の方が大きく設定されていることにより、純水
及びエア圧を与えた状態で、このエア圧を漸次高める
と、エア圧の増加に伴って弁体４８を押し下げる力が増
大し、その結果、弁体４８が下方へ変位した所定位置で
バランスすることとなる。

【００３３】つまり、エア圧を漸次高めると、次第にオ
リフィスの面積が増して出口側のポート４６からの純水
の流量が増すため、所要の流量が得られた時点のエア圧
を所定のパイロット圧として設定しておく。

【００３４】このように所定パイロット圧を与えておけ
ば、その後、一次側の純水に圧力変動が生じても、上記
流量調節弁２０が次にように動作することにより流量が
一定に維持される。すなわち、例えば一次側の圧力が高
まると、上述したように、入口側流体圧作用空間５１ａ
における下側ダイアフラム５０等の純水の受圧面積より
も出口側流体圧作用空間５１ｂにおける上側ダイアフラ
ム５０ｂ等の純水の受圧面積が広く構成されていること
により、出口側流体圧作用空間５１ｂにおいて弁体４８
を上方へ変位させる力の増加分が入口側流体圧作用空間
５１ａにおいて弁体４８を下方へ変位させる力の増加分
よりも大きくなり、その結果、弁体４８が上方へ変位し
てオリフィス５６の面積が狭まり、出口側のポート４６
での純水の流量がパイロット圧に応じた一定流量に維持
されることとなる。一方、一次側の圧力が低下すると、
逆に弁体４８が下方へ変位してオリフィス５６の面積が
拡大し、出口側のポート４６での純水の流量がパイロッ
ト圧に応じた一定流量に維持されることとなる。

【００３５】なお、パイロット圧の設定は、幾種類かの
所望の流量毎に行なうことで、各流量に応じたパイロッ
ト圧を設定することができる。

【００３６】一方、上記排水管１６は、図１に示すよう
に、その上流端側が処理槽１２の液受け部１２ａに接続
される一方、下流端側が図外の廃液タンクに接続されて
いる。また、排水管１６には、その途中に分岐管１６ａ
が設けられ、この分岐管１６ａが給水管１４の三方弁２
４に接続されている。すなわち、処理槽１２から液受け
部１２ａにオーバーフローした純水、あるいは薬液（以
下、特に区別する場合を除き処理液という）を排水管１
６を介して廃液タンクに導入しつつ、例えば、処理槽１
２内の処理液を全て排出する必要がある場合には、三方
弁２４を切替えることにより、給水管１４、三方弁２
４、分岐管１６ａ及び排水管１６を介して処理槽１２内
の処理液を廃液タンクに導入するようになっている。

【００３７】以上のように構成された基板処理装置１０
では、例えば、まず、開閉バルブ２９ａ〜２９ｃが全て
閉じられ、給水管１４を通じて処理槽１２に純水のみが
給送されつつ液受け部１２ａにオーバーフローさせられ
る。これにより処理槽１２内に純水の上昇流が形成さ
れ、この状態で基板Ｗを処理槽１２内に浸漬させること
により、基板Ｗに対して水洗処理が施される。この際、
基板Ｗの種類に応じて給水管１４の切換え弁が操作さ
れ、基板Ｗに適した温度の純水が給水管１４を通じて供
給される。また、供給される純水の流量がこの純水の温
度に対応した流量となるように、パイロット管３０の開
閉弁３８ａと開閉弁２３ｂのうち対応するものが開かれ
る。これにより供給される純水の温度に応じたパイロッ
ト圧が流量調整弁２０に与えられ、純水の温度に対応し
た一定の流量で純水が処理槽１２に供給される。

【００３８】こうして一定時間だけ水洗処理が施される
と、次に、開閉バルブ２９ａ〜２９ｃのいずれかの開閉
バルブ２９ａ〜２９ｃが開かれて給水管１４に薬液が導
入され、所定濃度の薬液が調製されつつ処理槽１２に給
送される。これにより基板Ｗに対して薬液による処理が
施される。この際、流量調整弁２０の作用により純水の
流量が一定に保たれることにより薬液濃度が所定の濃度
に保たれる。

【００３９】こうして、以後、開閉バルブ２９ａ〜２９
ｃが順次択一的に開かれることにより、異なる処理液が
処理槽１２内に供給され、これにより基板Ｗに対して複
数種類の処理液による処理が順次施される。なお、この
ときも、処理槽１２に連続的に薬液が供給されて液受け
部１２ａにオーバーフローすることによって処理残渣当
が処理槽１２外へと導出される。

【００４０】そして、すべての処理液による処理が終了
すると、再び純水のみが処理槽１２に供給されて基板Ｗ
に対して水洗処理が施され、一定時間水洗処理が行われ
ると、処理槽１２への純水の供給が停止され、基板Ｗが
処理槽１２から取り出されて基板処理装置１０による基
板Ｗの処理が完了する。

【００４１】以上説明した基板処理装置１０によれば、
給水管１４を通じて供給される純水の流量が流量調整弁
２０により設定された一定の流量に保たれるようになっ
ているので、処理槽１２に供給する純水の流量の変動を
防止して安定した純水の供給を行うことができ、その
上、流量調整弁２０による設定流量を、供給される純水
の温度に応じて変更できるようになっているので、温度
に対応した最適な流量で純水を供給して処理に供すこと
ができる。

【００４２】しかも、純水の流量の変更は、上述のよう
に流量調整弁２０に与えるパイロット圧を切り換えるこ
とにより行うため、処理液の供給系統の主管である給水
管１４自体の構成を複雑化することなく純水の流量を変
更することができる。従って、処理液の給排系統の占有
スペースの拡大を伴うことがなく、また、安価な構成で
純水の流量変更を行うことができる。

【００４３】なお、上記基板処理装置１０の構成では、
上述のようにシンプルな給水管１４の構成で純水の流量
変更が可能となるものの、流量調整弁２０に対するパイ
ロット圧の供給系統に、圧力の変更を可能とするための
構成を組み込むため、該供給系統の構成が複雑化して占
有スペースの増大やコストアップを招くとの懸念があ
る。しかし、パイロット圧の供給系統は、純水の供給系
統に比べると管径等が極めて小さく、また、弁等も小サ
イズのもので対応できるため、パイロット圧の供給系統
が多少複雑な構成となっても、例えば、従来技術で説明
した構成、すなわち、給水管に複数の並列な分岐通路を
設けて各分岐通路に開閉弁及び流量調整弁を介設し、分
岐通路に対して択一的に純水を通すことによって流量を
変化させるような構成に比べると、占有スペースやコス
トの面での影響は極めて少ない。

【００４４】ところで、上記基板処理装置１０は、本発
明に係る基板処理装置の一の実施の形態であって、その
具体的な構成は、本発明の要旨を逸脱しない範囲で適宜
変更可能である。

【００４５】例えば、上記基板処理装置１０では、本発
明に係る調整手段として、パイロット管３０に並列な分
岐部３２ａ，３２ｂを設け、これらの分岐部３２ａ，３
２ｂに、それぞれレギュレーター３４ａ，３４ｂおよび
開閉弁３８ａ，３８ｂを介設するようにし、供給する純
水の温度に応じて開閉弁３８ａ，３８ｂを択一的に開操
作することによりパイロット圧を２種類の圧力に切り換
えるようにしているが、供給する純水の温度が３種類以
上ある場合には、さらにパイロット管３０に分岐部を増
設して、より多くの異なる圧力への設定を行えるように
してもよい。

【００４６】また、上記のような調整手段の構成以外
に、例えば、パイロット圧の供給系統として、分岐部を
有しない単一構造のパイロット管を設け、電圧に応じて
圧力を調整可能ないわゆる電気圧力比例型の圧力調整弁
をこのパイロット管に介設し、供給する純水の温度に応
じて圧力調整弁に与える電圧を制御することにより、流
量調整弁２０に与えるパイロット圧を変更するようにし
てもよい。このような構成によれば、パイロット圧を供
給電圧に応じて無段階に調整できるため、純水の供給系
統およびパイロット圧の供給系統を共にシンプルな構成
としながら純水の流量調整を無段階に行うことができる
という利点がある。

【００４７】さらに、上記基板処理装置１０では、純水
の供給系統についてのみ本発明の構成を採用している
が、例えば、薬液の供給系統についても本発明を採用す
るようにしてもよい。すなわち、薬液供給管２８ａ〜２
８ｃにさらにパイロット圧式の流量調整弁を介設し、各
流量調整弁に対するパイロット圧を変更可能に構成して
もよい。このようにすれば、薬液を継続的に供給する場
合の薬液の流量を一定に保つことができ、また、基板Ｗ
の種類に応じて薬液濃度を変更する必要がある場合に
は、流量調整弁に与えるパイロット圧を変更することに
より薬液の流量を変更することができる。

【００４８】また、流量調整弁２０の構成は、純水の流
量をパイロット圧に応じた一定流量に設定する流量調整
弁であれば、必ずしも図２に示すような構成である必要
はなく、他の構成の流量調整弁を採用するようにしても
よい。また、パイロット圧として油圧を用いる弁を採用
してもよい。

【００４９】なお、上記の実施の形態では、本願発明
を、基板Ｗを処理液に浸漬して表面処理を行う、いわゆ
るワンバス方式の基板処理装置に適用しているが、本願
発明は、基板Ｗを搬送しながら該基板Ｗに処理液をスプ
レーして表面処理等を行う、いわゆるスプレー方式の基
板処理装置についても適用可能である。

【００５０】

【発明の効果】以上説明したように、本発明は、処理液
供給管を通じて基板処理部に処理液を供給しつつ基板に
処理を施す装置において、処理液供給管に、パイロット
管を介して与えられるパイロット圧に応じて処理液の流
量を調整する流量調整弁を介設するとともに、上記パイ
ロット管に、パイロット圧を調整可能とする調整手段を
介設するようにしたので、処理液供給管を通じて供給さ
れる処理液の流量を設定された一定の流量で供給しなが
らこの設定流量を変更することができ、しかも、シンプ
ルな処理液供給管の構成でこのような処理液の流量変更
を行うことができる。従って、処理液の給排系統の占有
スペースの拡大を伴うことがなく、また、安価な構成で
処理液の流量変更を行うことができる。

【００５１】上記調整手段としては、上記パイロット管
に並列な複数の分岐部を設け、各分岐部に、開閉弁と、
パイロット圧を一定圧力に調整可能な圧力調整弁とを介
設し、さらに各分岐部の圧力調整弁による調整圧力値を
異なる値に設定することができる。このようにすれば、
各分岐部の開閉弁を択一的に開くことにより、流量調整
弁に与えるパイロット圧を変更することができる。ま
た、これ以外の調整手段として、電圧に応じてパイロッ
ト圧を調整可能な電気圧力比例型の圧力調整弁を設ける
ようにすれば、パイロット圧の供給系統の構成をシンプ
ルな構成としながらパイロット圧を無段階に変更でき
る。

【００５２】なお、基板処理装置においては、供給する
処理液の温度に応じて流量を変更したい場合があり、こ
の場合には、上記パイロット圧を処理液の温度に応じた
複数の圧力値に調整できるように上記調整手段を構成す
れば、処理液の温度に応じた流量設定が可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る基板処理装置の一の実施の形態を
示す全体構成図である。

【図２】流量調整弁の構成を示す断面図である。

【符号の説明】

１０ 基板処理装置 １２ 処理槽 １４ 給水管 １６ 排液管 ２０ 流量調整弁 ２２ 流量計 ２４ 三方弁 ２６ａ，２６ｂ，２６ｃ 薬液タンク ２８ａ，２８ｂ，２８ｃ 薬液供給管 ２９ａ，２９ｂ，２９ｃ 開閉バルブ ３０ パイロット管 ３２ａ，３２ｂ 分岐部 ３４ａ，３４ｂ レギュレーター ３６ａ，３６ｂ 圧力計 ３８ａ，３８ｂ 開閉弁 Ｗ 基板

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 杉本 賢司 京都市上京区堀川通寺之内上る４丁目天神 北町１番地の１ 大日本スクリーン製造株 式会社内 (72)発明者 新居 健一郎 京都市上京区堀川通寺之内上る４丁目天神 北町１番地の１ 大日本スクリーン製造株 式会社内 Ｆターム(参考） 3B201 AA03 AB44 BB02 BB04 BB05 BB93 BB95 CD42 CD43 5F043 EE07 EE16 EE23 EE28 EE31 EE32 EE35 EE40 GG10

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板を処理するための基板処理部と、処
   理液供給源に接続されて上記基板処理部に処理液を供給
   する処理液供給管とを備えた基板処理装置において、上
   記処理液供給管に、パイロット管を介して与えられるパ
   イロット圧に応じて処理液の流量を調整する流量調整弁
   を介設するとともに、上記パイロット管に上記パイロッ
   ト圧を調整可能とする調整手段を介設したことを特徴と
   する基板処理装置。
2. 【請求項２】 上記調整手段として、上記パイロット管
   に並列な複数の分岐部を設け、開閉弁と、パイロット圧
   を一定圧力に調整可能な圧力調整弁とを各分岐部に介設
   するとともに各分岐部の圧力調整弁による調整圧力値を
   異なる値に設定することを特徴とする請求項１記載の基
   板処理装置。
3. 【請求項３】 上記調整手段として、上記パイロット管
   に、電圧に応じてパイロット圧を調整可能な電気圧力比
   例型の圧力調整弁を介設したことを特徴とする請求項１
   記載の基板処理装置。
4. 【請求項４】 パイロット圧を処理液の温度に応じた複
   数の圧力値に調整できるように上記調整手段を構成した
   ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の基
   板処理装置。