KR20040110489A - 반도체 제조 공정에서 사용되는 약액 공급 장치 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (9)
- 약액을 사용하여 반도체 장치를 처리하는 처리 장치에 약액을 공급하기 위한 장치에 있어서:약액 공급원으로부터 약액을 공급받아 저장하는 버퍼 탱크;상기 버퍼탱크로부터 약액을 공급받는 제1챔버와, 상기 제1챔버와 다수의 통로들을 통해 연결되는 제2챔버 그리고 상기 통로들을 선택적으로 개폐할 수 있는 개폐부를 포함하는 유량 정량 공급부; 및상기 유량 정량 공급부로부터 약액 처리장치로 약액을 공급하는 공급라인을 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.
- 제1항에 있어서,상기 유량 정량 공급부는상기 제2챔버가 중앙에 형성되고, 상기 제1챔버가 상기 제2챔버를 둘러싸도록 형성되며, 상기 통로들은 상기 제1챔버와 제2챔버를 구획하는 벽면에 관통되어 형성된 실린더를 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.
- 제1항에 있어서,상기 개폐부는 상기 제2챔버상에서 상하 운동에 따라 상기 통로들의 유체 흐름을 조정하는 피스톤 및 상기 피스톤을 상하 이동시키기 위한 구동부를 포함하는것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.
- 제1항에 있어서,상기 유량 정량 공급부는상기 제2챔버가 중앙에 형성되고, 상기 제1챔버가 상기 제2챔버를 둘러싸도록 형성되며, 상기 제1챔버와 제2챔버 사이의 벽면에 상기 통로가 관통되어 형성된 실린더를 포함하고,상기 개폐부는 상기 제2챔버상에서 상하 운동에 따라 상기 유로들의 유체 흐름을 조정하는 피스톤 및 상기 피스톤을 상하 이동시키기 위한 구동부를 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.
- 제4항에 있어서,상기 구동부는 상기 피스톤을 단계적으로 상하 이동시키기 위한 모터를 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.
- 제1항에 있어서,상기 통로들은 상기 벽면에 나선형으로 배치되는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.
- 제1항에 있어서,상기 공급라인에는 상기 약액을 가열시키기 위한 가열부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 약액 공급 장치는상기 약액이 혼합된 상태로 처리장치로 공급될 수 있도록 상기 약액을 혼합시켜주는 혼합기를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.
- 제1항에 있어서,상기 약액 공급 장치는상기 버퍼 탱크에 압력을 가하기 위한 가압 라인을 더 포함하여, 상기 버퍼 탱크에 담겨진 약액은 가압에 의해 상기 약액정량부로 이동되는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR10-2003-0039826A KR100509446B1 (ko) | 2003-06-19 | 2003-06-19 | 반도체 제조 공정에서 사용되는 약액 공급 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR10-2003-0039826A KR100509446B1 (ko) | 2003-06-19 | 2003-06-19 | 반도체 제조 공정에서 사용되는 약액 공급 장치 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20040110489A true KR20040110489A (ko) | 2004-12-31 |
KR100509446B1 KR100509446B1 (ko) | 2005-08-22 |
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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KR10-2003-0039826A KR100509446B1 (ko) | 2003-06-19 | 2003-06-19 | 반도체 제조 공정에서 사용되는 약액 공급 장치 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100509446B1 (ko) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100721757B1 (ko) * | 2006-06-08 | 2007-05-25 | 두산디앤디 주식회사 | 웨이퍼 표면연마장비의 세정물질 가압장치 |
KR100896471B1 (ko) * | 2007-09-18 | 2009-05-14 | 세메스 주식회사 | 반도체 제조 설비의 약액 공급 장치 |
KR20140041437A (ko) | 2011-01-21 | 2014-04-04 | 쿄고 엔도 | 탈모증 치료제 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101151276B1 (ko) | 2010-09-14 | 2012-08-09 | (주) 하이텍 | 기판 코터 장치의 약액 공급 기구 및 이를 이용한 약액 공급 방법 |
-
2003
- 2003-06-19 KR KR10-2003-0039826A patent/KR100509446B1/ko active IP Right Grant
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100721757B1 (ko) * | 2006-06-08 | 2007-05-25 | 두산디앤디 주식회사 | 웨이퍼 표면연마장비의 세정물질 가압장치 |
KR100896471B1 (ko) * | 2007-09-18 | 2009-05-14 | 세메스 주식회사 | 반도체 제조 설비의 약액 공급 장치 |
KR20140041437A (ko) | 2011-01-21 | 2014-04-04 | 쿄고 엔도 | 탈모증 치료제 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
KR100509446B1 (ko) | 2005-08-22 |
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