KR100484581B1 - 다중 챔버 액체 펌프, 및 액체 펌핑 방법 - Google Patents

다중 챔버 액체 펌프, 및 액체 펌핑 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명의 다중 챔버 액체 펌프(10)는 유입 챔버(14), 중간 챔버(22) 및 유출 챔버(18)를 포함한다. 가압 가스(60)는 펌프(10)로부터 액체를 유출하기 위한 동력을 제공하여, 액체가 펌프 작동동안 일정한 유동률로 유출되도록 한다. 액체는 상기 유입 챔버(14)로, 상기 중간 챔버(22)내로 하나 이상의 밸브(52)를 통하여, 그리고 유출 챔버로 후속하는 하나 이상의 밸브(78)를 통하여 유동하며, 액체는 상기 유출 챔버(18)로부터 일정하게 유출된다. 시스템 제어기는 펌프의 연속 작동을 촉진시키기 위하여 상기 밸브로 제어 신호를 제공한다.

Description

다중 챔버 액체 펌프, 및 액체 펌핑 방법{A MULTI-CHAMBER LIQUID PUMP, AND A METHOD FOR PUMPING LIQUID}
본 발명은 일반적으로 액체를 펌핑하기 위한 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 가압 가스에 의하여 작동되며, 유입 챔버, 중간 챔버 및 유출 챔버를 포함하는 액체 펌핑 장치에 관한 것이다.
거의 모든 유체 이송 분야에서 액체 공급 라인을 통하여 액체를 이동시키기 위한 동력을 제공하는 펌프가 제공되는 것이 요구된다. 중력 시스템(gravitational systems) 및 사이펀 시스템(siphon systems)을 제외하고, 액체 펌프의 이용이 요구되며 다양한 타입의 펌프가 역사적으로 개발되었다. 다양한 펌프는 펌핑된 액체내에 그리고 이 같은 펌프를 이용하는 시스템내에서 진동(vibration) 또는 파동(pulsation)을 발생시키는 회전 또는 왕복 운동 동력화 장치에 의해 작동된다. 다양한 적용 분야에서는 이 같은 펌프의 진동 및 압력 파동은 그리 중요하지 않으며 이 같은 펌프는 적절한 성능을 제공한다.
그러나, 많은 액체 이송 분야는 펌핑된 액체의 파동 및 진동에 의해 불리한 영향을 받는 정교한 화학적 구성 및 화학적 프로세스를 가지는 액체를 포함한다. 이 같은 분야에 대해 펌핑된 유체의 파동 및 진동을 발생시키지 않는 펌프를 이용하는 것이 요구된다. 부가적으로, 다양한 정밀한 화학적 프로세스는 펌핑된 액체의 유동률을 엄격하게 제어하는 것이 요구되며, 펌핑된 유체내에서 파동 및 진동을 초래하는 종래 기술의 펌프는 이 같은 유동률에 대한 제한을 충족시키는데 어려움이 있다. 반도체 제조 프로세스는 액체 펌핑 파라미터상의 더 엄격한 제한이 계속적으로 발전되어야 하는 이 같은 적용분야 중 하나이다. 반도체 제조 산업에서의 많은 특정 분야에서 펌핑된 화학 제품의 파동 및 진동은 다양한 제조 단계에서의 반도체 물질과 프로세싱 액체의 화학적 반응 뿐만 아니라 프로세싱 액체의 정교한 화학적 균형에 불리한 영향을 미친다.
따라서 펌핑된 액체의 유동률을 빈틈없이 제어하면서, 액체가 파동 및 진동에 영향을 받지 않고 액체를 펌핑하는 펌프에 대한 요구가 있었다. 본 발명은 본 명세서에서 공개된 다양한 실시예에서 액체 유동 라인을 통하여 액체를 연속적으로 펌핑하기 위한 동력을 제공하기 위하여 가압 가스를 이용하는 펌프 시스템을 제공한다. 종래 기술의 펌핑 시스템에 의하여 발생된 파동 및 진동이 제거되며 펌핑된 액체 유동률이 엄격히 제어된다.
도 1은 제 1 단계에 있는 본 발명의 펌프의 개략도이며,
도 2는 제 2 펌핑 단계에 있는 도 1에 도시된 펌프의 개략도이며,
도 3은 화학 프로세싱 컨테이너가 설치된 본 발명의 펌프의 또 다른 실시예의 개략도이며,
도 4는 데이 탱크내에 설치된 본 발명의 다른 실시예의 개략도이며,
도 5는 데이 탱크가 이용되는 경우 본 발명의 다른 실시예의 개략도이다.
본 발명의 다중 챔버 액체 펌프는 유입 챔버, 중간 챔버 및 액체 유출 챔버를 포함한다. 가압 가스는 펌프로부터 액체를 유출하기 위한 동력을 제공하여 액체가 펌프 작동동안 일정한 유동률로 유출된다. 액체가 중간 챔버내로의 하나 이상의 밸브를 통하여 그리고 유출 챔버내로의 하나 이상의 연속적인 밸브를 통하여 유입 챔버로 유동하며 액체는 유출 챔버로부터 일정하게 유출된다. 시스템 제어기는 펌프의 연속적 작동을 촉진시키도록 밸브로 제어 신호를 제공한다.
본 발명의 장점은 진동 및 파동없이 액체를 펌핑하는 액체 펌프가 제공된다는 것이다.
본 발명의 또 다른 장점은 부드럽고, 일정하며, 변동이 없는 유동으로 액체를 펌핑하는 액체 펌프를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 장점은 액체에 펌핑력을 제공하기 위하여 가압 가스를 이용하는 액체 펌프를 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 장점은 가스에 동력을 제공하고 일정한 제어 액체 유동률을 제공하는 액체 펌프를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 장점은 유입 챔버, 중간 챔버 및 유출 챔버를 가지는 액체 펌프를 제공하여 유출 챔버로부터 유동하는 액체가 중간 챔버의 이용을 통한 유입 챔버로부터의 액체로 대체될 수 있다는 것이다.
본 발명의 이러한, 그리고 이외의 특징 및 장점은 도면을 참고로하여 후술되는 상세한 설명으로부터 본 기술분야의 기술자에게 맹백하게 된다.
본 발명의 펌프(10)의 제 1 실시예는 도 1 및 도 2에 개략적으로 도시되어 있는데, 도 1에는 제 1 단계에서의 펌프가 도시되며 도 2에는 제 2 단계에서의 펌프가 도시된다. 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 펌프(10)는 3개의 개별적인 챔버를 가지는데, 이는 유입 챔버(14), 유출 챔버(18) 및 중간 챔버(22)이다. 각각의 챔버(14, 18 및 22)는 챔버벽(24)에 의하여 한정된다. 바람직한 실시예에서, 제 1 액체 제어 밸브(28)가 배치되는 제 1 내부 챔버벽(26)은 중간 챔버(22)로부터 유입 챔버(14)를 분리한다. 동일한 방식으로, 제 2 액체 제어 밸브(32)가 배치되는 제 2 내부 챔버벽(30)은 중간 챔버(22)와 유출 챔버(18)를 분리한다. 펌프(10)는 본 명세서에서 상세하게 설명되는 바와 같이 펌프를 통하여 액체의 유동을 자동적으로 제어하고 조절하도록 다양한 가스 유동 제어 밸브와 액체 레벨 감지기 및 플로트 센서(float sensor)에 전자적으로 결합되는 컴퓨터로 처리되는 펌프 제어기(36)를 더 포함한다. 도 1 및 도 2에 도시된 실시예에서, 전기 신호 라인(40)은 제어기(36) 및, 제어기(36)에 그리고 제어기(36)로부터 제어 신호를 제공하기 위한 다양한 밸브, 감지기 및 센서에서 보여지는데, 용이한 묘사를 위해, 전기 신호 라인(40)은 도 1 및 도 2에서 완전히 연결되어 도시되지 않으며, 개별적인 전기 신호 라인은 제어기 및 다양한 제어 밸브, 감지기 및 센서 사이에 결합된다.
가스 벤트(44)는 유입 챔버(14)에 결합되어 펌프 작동 프로세스동안 대체로 유입 챔버를 대기 압력(0 psi)으로 유지한다. 휘발성 또는 위험한 화학 제품이 펌프에 의하여 처리되는 경우일 수 있는 유입 챔버 배출의 제어가 필요할 때 근소하게 개방되는 제어 가스 밸브(46)가 벤트에 결합될 수 있다. 제어 액체 밸브(52)를 가지는 액체 유입 라인(50)은 유입 챔버(14)로 액체를 유입시키기 위하여 유입 챔버(14)에 결합된다. 요구되지는 않지만, 유입 챔버(14)내의 액체 레벨이 적절한 펌프 작동에 대해 너무 높거나 너무 낮아지는 것을 결정하는 경우 액체 레벨 HI 감지기(54) 및 액체 레벨 LO 감지기(56)가 제어기에 경보 신호를 제공하기 위하여 유입 챔버에 설치될 수 있다.
바람직하게는 질소 가스, 그러나, 반드시 질소 가스일 필요는 없는 가압 가스(60)의 공급이 가스 라인(62)을 통하여 제공하며 가압 가스 공급원은 유출 챔버(18) 및 중간 챔버(22)로 가압 가스를 제공하기 위하여 본 명세서에서 설명되는 가스 제어 밸브에 의하여 제어된다. 제어 가스 유입 밸브(66)는 펌프(10)로의 가스를 계량한다. 유출 챔버(18)는 유출 챔버 제어 가스 밸브(72)에 의하여 제어되는 가압 가스 유입 라인(70)을 포함한다. 바람직한 실시예에서, 유출 챔버(18)에서의 가스 압력은 시스템 필요조건에 따라 일반적으로 약 2 내지 40 psi의 일정 정압(constant positive pressure)을 유지하며, 제어기(36)와 함께 유출 챔버 제어 가스 밸브(72)는 유출 챔버(18)내의 액체 레벨과 관계없이 압력을 유지한다. 제어 액체 유출 밸브(78)에 의하여 조절되는 액체 유출 라인(76)은 유출 챔버로부터 액체를 유출시키기 위하여 유출 챔버(18)에 결합된다. 펌프(10)의 중요한 특징은 유출 챔버(18)의 가스 압력과 액체 유출 밸브(78)의 작동을 통해 제어기(36)에 의해 제어되는 부드럽고 일정하고 비 변동적인 유동률로 액체가 액체 유출 라인(76)을 통하여 유출된다는 것이다. 펌프(10)의 바람직한 일 실시예에서 액체는 40 psi 일정 압력(constant pressure)에서 분당 5 갤론과 같은 일정한 유동률로 유출된다.
유출 챔버 액체 레벨 센서, 예를 들면 플로트 밸브(80)는 유출 챔버(18)내의 액체의 레벨에 관한 정보를 제공하기 위하여 제어기(36)에 연결되며 유출 챔버(18)내에 배치된다. 부가적으로, 필요하지는 않지만, 액체 레벨 HI 센서(82) 및 액체 레벨 LO 센서(84)도 유출 챔버내의 액체 레벨이 수용할 수 없게 HI 또는 LO가 되는 경우 신호를 제어기로 제공하도록 유출 챔버(18)내에 설치된다.
유출 챔버(18)의 액체가 유출 라인(76)을 통하여 유출될 때, 유출 챔버(18)내의 액체 레벨이 하강하여, 보충이 필요하다는 것을 알 수 있다. 이러한 보충을 위해, 다음에서 논의되는 바와 같이 액체가 제 2 액체 제어 밸브(32)를 통하여 중간 챔버(22)로부터 유출 챔버(18)로 추가된다.
일반적으로, 중간 챔버(22)는 펌프 작동의 제 1 단계동안 유입 챔버(14)로부터 액체를 수용하며, 펌프 작동의 제 2 단계동안 중간 챔버(22)로부터 유출 챔버(18)로 액체를 분배한다. 유입 챔버(14)와 유출 챔버(18)와 다르게, 중간 챔버(22)내의 가스 압력은 본 명세서에서 논의되는 제어 가스 밸브와 가스 라인을 이용하여 변화되며, 중간 챔버(22)의 가스 압력의 변화는 중간 챔버를 채우거나 비우는데 이용된다. 특히, 도 1에 도시된 바와 같이, 가스 라인(86)은 중간 챔버 제 1 제어 가스 밸브(90)를 통하여 중간 챔버(22)로 가압 가스를 공급한다. 중간 챔버(22)의 가스는 중간 챔버 제 2 제어 가스 밸브(96)의 조절하에 가스 라인(86)을 통하여 가스 배출 라인(94)으로 배출되어 유입 챔버로 유입된다. 중간 챔버(22)에서의 가스 압력은 0 psi에서 중간 챔버(22)와 유입 챔버(14) 사이의 가스 라인 통로를 개방하는 중간 챔버 제 2 제어 가스 밸브(96)의 개방과 중간 챔버 제 1 제어 가스 밸브(90)의 폐쇄를 통하여 0 psi로 감소되어, 중간 챔버(22)에서의 가스 압력도 0 psi로 떨어진다. 이때, 유입 챔버(14)와 중간 챔버(22) 사이의 제 1 액체 제어 밸브(28)는 밸브의 양측면이 동일한 가스 압력인 경우에 유입 챔버에 있는 액체의 중량에 의하여 개방된다. 그리고나서 유입 챔버(14)내의 액체는 중간 챔버(22)내로 유동된다. 중간 챔버(22)내에서 이동된 가스는 가스 라인(86 및 94)과 중간 챔버 제 2 제어 가스 밸브(96)를 통하여 유입 챔버(14)로 유동된다. 액체 레벨 HI 센서(100)는 제어기로 제어 신호를 제공하기 위하여 중간 챔버(22)내에 포함될 수 있으며 중간 챔버(22)내의 액체 레벨은 HI 레벨에 도착하며, 이 포인트에서 중간 챔버(22)가 채워졌기 때문에 제 1 액체 제어 밸브(28)를 폐쇄하기 위해 중간 챔버(22)내에 소정의 가스 압력을 제공하도록 중간 챔버 제 2 제어 가스 밸브(96)가 폐쇄되고 중간 챔버 제 1 제어 가스 밸브(90)가 개방된다. 그후, 유출 챔버(18)의 액체 레벨이 유출 챔버 액체 레벨 센서(80)의 레벨 아래로 떨어질 때, 유출 챔버(18)내의 액체 레벨을 채우는 것이 필요하다. 이를 위해, 도 2에 도시된 바와 같이, 중간 챔버 제 1 제어 가스 밸브(90)는 중간 챔버(22)내의 가스 압력을 증가시키기 위해 개방되며 유출 챔버(18)의 상승된 압력으로 유출 챔버(18)의 가스 압력과 중간 챔버의 압력을 동일하게 한다. 중간 챔버(22)의 가스 압력이 상승하여 제 1 액체 제어 밸브(28)가 폐쇄된다. 챔버(22 및 18)의 압력이 동일하게 될 때, 제 2 액체 제어 밸브(32)가 개방되어 중간 챔버(22)로부터의 액체가 유출 챔버(18)내로 유동된다. 유출 챔버(18)로부터 이동된 가스는 가스 라인(70, 104 및 86)과 개방된 유출 챔버 제어 가스 밸브(72) 및 중간 챔버 제 1 제어 가스 밸브(90)를 통하여 중간 챔버(22)로 유동한다. 유출 챔버 압력이 대체로 일정한 값으로 유지되는 동안, 유출 챔버(18)로부터의 액체 유출은 유출 챔버(18)의 충진 프로세스동안 대체로 일정한 유동률로 남게 된다. 유출 챔버(18)내의 액체 레벨이 유출 챔버 액체 레벨 센서(80) 위로 상승될 때, 제어기는 중간 챔버(22)내의 가스 압력을 감소시키기 위하여 중간 챔버 제 1 제어 가스 밸브(90)를 폐쇄하고 중간 챔버 제 2 제어 가스 밸브(96)를 개방하며, 제 2 액체 제어 밸브(32)가 폐쇄될 때, 중간 챔버(22)로부터 유출 챔버(18)로의 액체 유동을 중지한다. 중간 챔버(22)의 가스 압력이 O psi에 도달할 때, 유입 챔버(14)와 중간 챔버(22) 사이의 제 1 액체 제어 밸브(28)가 중간 챔버(22)를 재충전하기 위해 개방된다.
따라서, 펌프(10)는 대체로 일정한 값으로 유출 챔버(18)내의 압력을 연속적으로 유지하면서 가압된 유출 챔버(18)에 액체를 채우는 두 개의 단계 방식으로 기능하여, 유출 챔버(18)로부터의 액체의 유출 유동을 부드럽고 일정하고 비변동적인 유동률을 유지한다. 펌프의 작동중에는 유출 챔버 액체 레벨 센서(80)에 의하여 주로 제어된다. 즉 유출 챔버 액체 레벨 센서(80)가 제어기(36)로 유출 챔버(18)로 추가적인 액체를 요구하는 신호를 제공할 때, 신호는 제어기에 의하여 유출 챔버의 압력 레벨로 중간 챔버를 가압하도록 적절한 가스 밸브의 가압 레벨로 송신되며, 이때 제 2 액체 제어 밸브(32)는 중간 챔버에 있는 액체를 유출 챔버로 유동하기 위해 개방된다. 유출 챔버 액체 레벨 센서(80)가 유출 챔버가 채워졌다는 신호를 제어기로 보낼 때, 제어기는 신호를 송신하여 중간 챔버를 감압하고 제 2 액체 제어 밸브(32)를 폐쇄한다. 중간 챔버의 압력 레벨이 유입 챔버의 압력 레벨에 도달할 때, 제 1 액체 제어 밸브(28)가 개방되어 액체가 유입 챔버로부터 중간 챔버로 유입된다. 유출 챔버의 액체 레벨이 유출 챔버 액체 레벨 센서(80)를 다시 작동시키는 레벨로 떨어질 때, 두 개의 단계 프로세스는 다시 한번 시작한다. 따라서, 유출 챔버(18)의 액체 레벨 센서(80)로부터의 신호는 펌프(10)의 작동을 위한 제어 신호를 제공한다.
본 발명의 가스 가압 펌프에 대한 다양한 적용 분야는 본 기술분야의 기술자에 의하여 예측될 것이다. 이 같은 제 1 적용분야는 재순환 및 유체 전달 펌프이다. 이 같은 설비에서, 유출 라인(76)은 유출 라인(120)을 통하여 제어 유체 유출 전달 밸브(124)에 연결된다. 제어 유체 유출 전달 밸브(124)가 개방될 때 유체는 유출 챔버로부터 유출 라인(120)과 제어 유체 유출 전달 밸브(124)를 통하여 외부로 전달된다. 대체 유체는 제어 밸브(52)를 이용하여 유입 라인(50)을 통하여 유입 챔버(14)로 공급된다. 유입 챔버(14)내의 하부 액체 레벨 센서(56)는 유입 라인(50)을 통해 유체 유입을 시작하기 위해 필요한 센서 신호를 제공한다. 재순환 라인(128)은 액체 재순환 밸브(132)의 제어하에서 유입 챔버(14)로 액체를 복귀시키기 위하여 액체 유입 라인으로 연결된다. 즉, 제어 유체 유출 전달 밸브(124)가 폐쇄될 때, 액체 재순환 밸브(132)가 개방되고 펌프는 재순환 펌프로서 계속적으로 작동되며, 액체가 유출 챔버(18)를 통하여 계속적으로 유출되고 재순환 라인(128)을 통하여 유입 챔버(14)로 재순환된다. 본 기술분야에서 공지된 바와 같이, 액체 재순환은 탈이온수와 많은 화학 용액에 대해 특히 중요하며 본 발명의 가스 가압 액체 펌프는 기계적인 펌핑 장치에 동반되는 진동 및 액체 파동없이 재순환 및 펌핑된 액체 유출을 수행한다.
도 3은 통상적으로 반도체 제조 산업내에서 수행되는 많은 화학적 프로세싱 단계에 대해 적절하고 일정한 유동률 액체 배쓰(bath)(204)를 갖는 본 발명의 제 2 펌프(202) 실시예의 설비(200)를 보여준다. 도 3에 도시된 바와 같이, 펌프(10)의 통상적인 특징 및 구성은 이해의 용이를 위해 도 1과 도 2에 도시된 부호와 동일한 부호로 제공된다. 펌프(202)는 유입 챔버(14), 유출 챔버(18)와 중간 챔버(22)를 한정하는 챔버벽(24)을 포함한다. 추가적인 하우징벽(212)은 상기 제어 가스 밸브 및 가스 라인을 둘러싼다.
액체 유출 라인(76)은 필터(216)로 연결되며 필터(216)로부터의 유출 라인(220)은 배쓰(204)의 바닥에 배치된 배쓰 액체 유입구(224)로 공급된다. 액체는 배쓰(204)에 채워지며 상기 배쓰(204)의 립(230)을 넘어 외부로 흘러 배쓰 홀딩 베이신(bath holding basin; 234)으로 유입된다. 배수관(248)은 베이신(234)의 베이스에 위치하며 배수 라인(254)은 펌프(202)의 유입 라인(256)을 구비한 배수관(248)으로 연결된다. 따라서 펌프 설비(200)는 기본적으로 액체 재순환 설비를 구성한다. 즉, 유출 라인으로부터의 액체는 배쓰(204)를 따라 순환하며 유입 라인(256)을 통하여 복귀하며 유입 챔버로의 액체 유동률이 유출 챔버로부터의 액체 유동률과 동일한 경우 펌프(202)의 연속 작동은 유지된다.
도 3에 도시된 바와 같이, 유입 챔버(14)는 정상적으로 개방 제어된 가스 밸브(46)에 의하여 제어되는 가스 벤트(44)를 포함한다. 제어 액체 밸브(264)를 가지는 액체 유입 라인(260)은 액체를 설비(200)로 유입하기 위하여 이용된다. 제어 액체 밸브(278)를 가지는 액체 배수 라인(274)은 설비(200)로부터 액체를 배수하기 위해 이용된다.
제어 가스 밸브 구성에 대하여, 질소 가소(60)는 가스 라인(62)을 통하여 제어 가스 밸브(66)를 통하여 유입된다. 또한 수동 작동 가스 제어 밸브(290)가 가스 라인(62)에 배치되어 질소 가스를 수동으로 차단한다. 제 2 수동 가스 제어 밸브(294)는 펌프(202)에 있는 밸브 제어 시스템으로 가압 가스를 제공하는 가스 밸브 제어 라인(298)으로의 가스를 계량한다. 가스 밸브 제어 라인(298)의 제어 가스는 유출 챔버 액체 레벨 센서(80)에 의하여 제어된 제어 가스 밸브(302)와 유출 챔버 제어 가스 밸브(72)로 제공된다. 가스 밸브 제어 라인(298)의 부분(304)은 제어 가스를 제어 가스 밸브(302)로부터 중간 챔버 제 1 제어 가스 밸브(90) 및 중간 챔버 제 2 제어 가스 밸브(96)로 공급한다. 도 3에 도시된 바와 같이, 유출 챔버 제어 가스 밸브(72)가 개방 위치에 있도록 약간 가압되어, 유출 액체에 기동력을 제공하도록 유출 챔버의 가스 압력이 일정하게 남아있게 된다. 제어 가스 밸브(302)는 가스 밸브 제어 라인(298)의 부분(304)으로 밸브 제어 가스의 유동을 제어하여, 제어 라인(298)의 부분(304)의 가스 압력이 유출 챔버 액체 레벨 센서(80)에 의하여 제어된다. 즉, 제어 가스 밸브(302)가 개방될 때, 제어 라인의 부분(304)이 가압 가스를 유지하도록 중간 챔버 제 1 제어 가스 밸브(90)가 약간 개방되는 반면, 중간 챔버 제 2 제어 가스 밸브(96)는 약간 폐쇄된다. 유출 챔버 액체 레벨 센서(80)에 의하여 조종되는 바와 같이 제어 가스 밸브(302)가 폐쇄되며, 제어 가스 밸브(302)는 라인 부분(304)의 가스 압력을 배출하며, 중간 챔버 제 1 제어 가스 밸브(90)는 폐쇄되며 중간 챔버 제 2 제어 가스 밸브(96)는 개방된다. 따라서, 도 3에 도시된 바와 같이 펌프(202)의 두 개의 단계 작동은 유출 챔버 액체 레벨 센서(80)에 의하여 두 개의 밸브, 즉 중간 챔버(22)로의 중간 챔버 제 1 제어 가스 밸브(90)와 중간 챔버 제 2 제어 가스 밸브(96)만을 제어한다.
설비(200)에 도시된 바와 같이, 펌프(202)는 도 1 및 도 2에 도시되고 상술된 펌프(10)과 유사한 기능을 한다. 기본적으로, 유출 챔버(18)에 유출 챔버 제어 가스 밸브(72)가 명목적으로 온(on)이 되어 유출 챔버(18)가 항상 가압되며, 그럼으로써 유출 챔버(18)에 있는 액체는 항상 액체 유출 라인(76)을 통하여 일정하게 제어가능한 비율로 필터(216)를 통하여 액체 배쓰(204)의 유입구(224)로 유출된다. 동시에, 배쓰(204)의 액체는 항상 배쓰(204)의 립(230)을 넘어 배쓰 홀딩 베이신(234)으로 흐르며, 후속적으로 배수관(248)을 통과하여 유입 챔버(14)의 유입 라인(256)으로 유입되어 항상 액체가 유입 챔버(14)로 흐른다. 이러한 방식에서, 펌프(202)는 배쓰(204)를 통하여 액체의 일정하고 부드러운 유동을 유지한다. 액체가 유출 챔버로부터 유출될 때, 유출 챔버(18)의 액체 레벨이 하강한다. 유출 챔버의 액체 레벨이 유출 챔버 액체 레벨 센서(80)를 작동시키기 위해 충분히 하강할 때, 라인 부분(304)이 가압되자 마자 제어 가스 밸브(302)는 라인 부분(304)의 가압 가스를 전달하도록 개방되어 중간 챔버 제 1 제어 가스 밸브(90)를 개방하고 중간 챔버 제 2 제어 가스 밸브(96)를 폐쇄한다. 이러한 밸브 구성에서, 가압 가스는 중간 챔버(22)로 공급되어 중간 챔버의 가스 압력이 유출 챔버(18)의 가스 압력과 같아지며, 액체는 제 2 액체 제어 밸브(32)를 통하여 유출 챔버를 채우기 위해 유출 챔버(18)로 유동한다. 유출 챔버의 액체 레벨 센서(80)가 충전 레벨 표시부로 상승할 때, 제어 가스 밸브(302)는 폐쇄되며 라인 부분(304)의 가스 압력을 배출하며, 중간 챔버 제 1 제어 가스 밸브(90)가 폐쇄되고 중간 챔버 제 2 제어 가스 밸브(96)가 개방된다. 이러한 밸브 구성에서, 중간 챔버(22)의 가압 가스는 유입 챔버(14)로 배출하며, 중간 챔버 및 유입 챔버의 압력이 동일하게 될 때, 제 1 액체 제어 밸브(28)가 중간 챔버(22)로 액체를 추가로 공급하기 위해 개방된다. 한편, 액체가 유출 챔버로부터 유출되며, 유출 챔버의 액체 레벨이 유출 챔버 액체 레벨 센서(80)를 다시 작동시키도록 충분히 하강할 때, 제어 가스 밸브(302)는 라인 부분(304)으로 가압 가스를 제공하기 위해 개방되며, 중간 챔버 제 1 제어 가스 밸브(90)는 개방되고 중간 챔버 제 2 제어 가스 밸브(96)가 폐쇄되어 두 개의 단계 펌프 사이클이 다시 시작된다. 따라서, 도 3에 도시된 바와 같이 펌프(202)의 작동 전개가 가스 밸브 시스템으로 가압 가스(60)의 공급 그리고, 다양한 챔버(14, 22 및 18) 및 특히 챔버(18)내의 액체의 존재에 주로 의존하여 유출 챔버(18)의 액체의 레벨에 의하여 결정되는 바와 같이 유출 챔버 액체 레벨 센서(80)의 작용이 펌프를 통한 액체의 유동을 제어한다. 즉, 펌프(202)의 작동 전개는 전기적으로 제어되지 않으며, 차라리 충분한 양의 액체와 함께 가압 가스의 공급에 의하여 제어된다.
본 발명의 추가 실시예가 도 4에 도시되며, 가스 가압 액체 펌프(400)는 탈이온수와 같은 액체의 공급을 하루 이상 유지하도록 반도체 처리 산업에 통상적으로 이용되는 데이 탱크(day tank)와 같은 대형 액체 홀딩 탱크(420)로 설치된다. 이 같은 탱크는 크기가 10 내지 15 피트일 수 있으며 수천 갤론의 액체를 유지한다. 도 4에 도시된 바와 같이, 데이 탱크(420)는 원통형 측벽(424), 돔형 상부(428) 및 평평한 원형의 베이스(432)를 가져 액체의 양이 레벨(436)로 유지된다. 탱크 홀딩 펌프 구조물(440)은 원형 베이스(448)에 연결되는 원통형 측벽(444)을 포함한다. 펌프 구조물(440)은 두 개의 내부 벽(460 및 464)에 의하여 중간 챔버(452) 및 유출 챔버(456)로 분리된다. 상술된 펌프 (10 및 202) 실시예와 비교하면, 데이 탱크(420)는 펌프의 유입 챔버(14)로서 기능하며, 제 1 내부 벽(460)에 배치된 두 개의 액체 유동 제어 플로트 밸브(470)는 데이 탱크(420)로부터 중간 챔버(452)로 액체의 유동을 허용하며, 제 2 내부 벽(464)에 배치된 3개의 액체 유동 제어 플로트 밸브(474)는 중간 챔버(452)로부터 유출 챔버(456)로 액체의 유동을 용이하게 한다. 액체 유출 라인(480)은 유출 챔버(456)로부터 액체가 요구되는 화학 프로세싱 도구로 액체를 유출시키기 위해 이용된다.
가압 질소 가스는 공급원(484)으로부터 가스 라인(488)을 통하여 유출 챔버(456)내의 수동 가스 조절기 밸브(492) 및 제어 가스 유입 밸브(496)로 공급된다. 제어 가스 유입 밸브(496) 및 다른 제어 가스 및 액체 밸브는 제어 라인(499)을 이용하는 다양한 제어 부품으로 전기적으로 결합되는 컴퓨터 처리 시스템 제어기(498)를 이용하여 전기적으로 제어한다. 따라서, 상술된 가스 가압 펌프 실시예와 같이, 제어 밸브를 통한 가압 가스는 유출 라인(480)의 제어 및 연속적인 액체 유출 유동을 유지하도록 유출 챔버(456)내의 일정한 액체 유출 압력을 유지하기 위해 이용된다. 또한 가압 질소 가스는 중간 챔버(452)내의 제어 가스 압력 밸브(504)와 수동 가스 조절기 밸브(500)를 통한 라인(488)을 통하여 공급된다. 전술된 펌프(10 및 202) 실시예와 같이, 제어 가스 압력 밸브(504)를 통한 가압 가스는 중간 챔버내의 압력을 변경시키기 위해 이용되어 중간 챔버(452)의 압력이 유출 챔버(456)의 압력과 거의 동일하며, 중간 챔버(452)로부터의 액체는 액체 유동 제어 플로트 밸브(474)를 통하여 유출 챔버(456)내로 유동한다. 제어 가스 밸브(512)에 의하여 제어되는 가스 배출 라인(508)이 중간 챔버(452)로부터 유입 챔버(데이 탱크)(420)로 가스를 배출하기 위해 이용됨으로써, 유입 챔버(데이 탱크)(420)로부터 액체 유동 제어 플로트 밸브(470)를 통하여 중간 챔버(452)내로의 액체 유동을 제어한다. 액체 재순환/복귀 라인(530)은 유출 챔버(456)로부터 액체를 배압 조절기 밸브(534)를 통하여 유입 챔버(데이 탱크)(420)로 복귀 및 재순환하기 위해 액체 유출 라인(480)에 결합된다. 복귀되지 않고 유출 밸브(538)를 통하여 유출 챔버(456)로부터 펌핑되고 화학 프로세스에서 이용된 액체를 대체하기 위해, 액체 공급원(540)은 유입 라인(544)을 통하여 유입 챔버(데이 탱크)(420)로 결합된다.
상술된 펌프(10 및 202)와 다르게, 가스 가압 액체 펌프(400)는 작동을 제어하기 위해 플로트 레벨 또는 센서를 이용하지 않는다. 차라리, 가스 가압 액체 펌프(400)는 가스 밸브를 개방 및 폐쇄하기 위해 컴퓨터 처리 시스템 제어기(498)의 소프트웨어 및 전자 제어 시스템을 이용하는 시간 시컨스 방식(time sequence manner)으로 제어된다. 특히, 다양한 액체 유동률 및 액체 압력이 공지된 곳에서, 다른 공지된 파라미터와 유출 챔버의 가스 압력을 기초로 하는 특정 유동률로 유출 챔버로부터 소정의 액체 양을 유출하기 위해 요구되는 시간을 계산하기에는 상대적으로 간단하다. 또한 중간 챔버에 이용되는 공지된 가스 압력과 함께, 또한 중간 챔버로부터 유출 챔버로 채워지는 시간이 결정될 수 있으며, 유사하게 유입 챔버로부터 유출 챔버로 채워지는 시간이 결정될 수 있다. 따라서, 중간 챔버와 유출 챔버를 충전하기 위해 요구되는 시간 간격을 결정함으로써, 가스 가압 액체 펌프(400)는 시간 밸브 제어 모드에서 전자적으로 작동될 수 있다. 즉, 펌프가 유출 챔버로부터 액체를 일정하게 유출하는 동안, 중간 챔버는 적절한 시간 간격으로 유입 챔버로부터 충전될 수 있으며 중간 챔버는 적절한 시간 간격으로 유출 챔버로 비워질 수 있어, 펌프의 작동이 일정하게 전개된다.
유출 챔버(456)의 액체 레벨상의 소정의 제어는 가스 가압 액체 펌프(400)의 성공적인 전개 작동에 필요할 수 있다. 특히, 유출 챔버(456)의 액체 레벨이 유출 챔버내의 가압 가스가 액체 유출 라인(480)으로 통과하도록 낮아지는 것이 허용될 수 없다. 유사하게, 유출 챔버(456)의 액체 레벨이 제어 가스 유입 밸브(496)상으로 상승하는 경우, 밸브의 부식이 발생할 수 있다. 이러한 문제를 방지하기 위하여, 하부 액체 레벨 센서(550)는 유출 챔버(456)와 관련하여 설치될 수 있다. 하부 액체 레벨 센서(550)는 라인(554)에 의하여 컴퓨터 처리 시스템 제어기(498)로 전기적으로 연결되어 시스템 제어기에 액체 레벨 정보를 제공한다. 유출 챔버(456)내의 액체 레벨이 매우 낮아진 경우, 컴퓨터 처리 시스템 제어기(498)는 각각의 사이클 동안 액체 유동 제어 플로트 밸브(474 및 470)를 개방하는 시간 간격을 전자적으로 증가시켜, 각각의 사이클 동안 유출 챔버(456)로 유동하는 액체의 양이 증가된다. 결과적으로, 유출 챔버(456)의 액체 레벨이 상승한다. 유사하게, 하부 액체 레벨 센서(550)가 컴퓨터 처리 시스템 제어기(498)로 유출 챔버(456)의 액체 레벨이 매우 높아진다는 신호를 제공하면, 컴퓨터 처리 시스템 제어기(498)는 각각의 사이클 동안 액체 유동 제어 플로트 밸브(470 및 474)를 개방하는 시간 간격을 줄임으로써, 각각의 사이클 동안 유출 챔버로 유동하는 액체의 양이 감소된다. 결과적으로, 유출 챔버(456)내의 액체 레벨이 낮추어진다.
가스 가압 액체 펌프(400)는 중간 챔버(452)와 유출 챔버(456)를 데이 탱크(420) 아래에 배치하는 구성으로 가스 가압 액체 펌프(400)가 도시되고 설명되었지만, 도 5에 도시된 바와 같이, 가스 가압 액체 펌프(400)가 분할된 방식으로 구성되어 있는 펌프 시스템(600)으로 될 수 있다. 설명된 바와 같이, 가스 가압 액체 펌프(400)에 대한 동일한 구성에는 동일한 도면 부호가 주어지며, 데이 펌프(420)는 펌프 시스템(600)의 유입 챔버를 포함하며, 데이 펌프(420)로부터의 유출구(604)는 액체 라인(608)을 통하여 개별적인 중간 챔버(452)로 연통된다. 컴퓨터 제어 액체 유동 제어 플로트 밸브(470)는 유입 챔버[데이 펌프(420)]로부터 중간 챔버(452)로 액체의 유동을 제어하며 액체 유동 제어 플로트 밸브(474)는 중간 챔버로부터 유출 챔버(456)로 액체의 유동을 제어한다. 펌프 시스템(600)용 가스 밸브 시스템(612)과 컴퓨터 처리 시스템 제어기(498)는 가스 가압 액체 펌프(400)의 실시예용 컴퓨터 처리 제어 시스템과 동일할 수 있다. 펌프 시스템(600)은 미리 설치된 데이 탱크를 구비한 본 발명의 다중 챔버 액체 펌핑 시스템의 이용을 촉진한다.
본 발명이 소정의 바람직한 실시예에 대해 설명되었지만, 본 발명의 사상 및 범위를 포함하는 모든 다양한 변화 및 변경을 후술되는 청구범위에 포함되는 것으로 발명가에 의하여 의도된다.

Claims (17)

  1. 액체를 유입하기 위한 수단을 가지는 유입 챔버,
    중간 챔버,
    액체를 유출하기 위한 수단을 가지는 유출 챔버,
    상기 유입 챔버와 상기 중간 챔버 사이에 결합되는 제 1 액체 제어 밸브,
    상기 중간 챔버와 상기 유출 챔버 사이에 결합되는 제 2 액체 제어 밸브,
    상기 유출 챔버로부터 액체를 유출하기 위해 상기 유출 챔버내로 가압 가스를 공급하도록 상기 유출 챔버에 결합되며, 상기 중간 챔버로 가압 가스를 공급하도록 상기 중간 챔버에 결합되는, 가압 가스 공급원, 및
    상기 유입 챔버로부터 상기 중간 챔버로의 그리고 상기 중간 챔버로부터 상기 유출 챔버로의 액체의 유동을 제어하도록 상기 중간 챔버로의 그리고 상기 중간 챔버로부터의 가압 가스의 유동을 제어하도록 작동되는, 펌프 제어기를 포함하는,
    다중 챔버 액체 펌프.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 펌프 제어기는 상기 중간 챔버로 상기 가스의 유동을 제어하는 중간 챔버 제 1 제어 가스 밸브, 및 상기 중간 챔버로부터 상기 가스의 유동을 제어하는 중간 챔버 제 2 제어 가스 밸브를 포함하는,
    다중 챔버 액체 펌프.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 펌프 제어기는 상기 유출 챔버내에 배치되는 유출 챔버 액체 레벨 감지 센서를 포함하며, 상기 유출 챔버 액체 레벨 감지 센서는 상기 제 1 제어 가스 밸브 및 상기 제 2 제어 가스 밸브를 제어하는,
    다중 챔버 액체 펌프.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 유출 챔버 액체 레벨 감지 센서는 상기 펌프 제어기로 전기 제어 신호를 제공하며, 상기 펌프 제어기는 상기 중간 챔버 제 1 제어 가스 밸브 및 상기 중간 챔버 제 2 제어 가스 밸브의 작동을 제어하는 전기 제어 신호를 제공하는,
    다중 챔버 액체 펌프.
  5. 제 3 항에 있어서,
    상기 유출 챔버 액체 레벨 감지 센서는 상기 중간 챔버 제 1 제어 가스 밸브 및 상기 중간 챔버 제 2 제어 가스 밸브의 작동을 제어하기 위하여 가스 제어 라인을 통하여 상기 가스의 유동을 제어하는,
    다중 챔버 액체 펌프.
  6. 제 2 항에 있어서,
    상기 중간 챔버 제 1 제어 가스 밸브 및 상기 중간 챔버 제 2 제어 가스 밸브는 상기 펌프 제어기에 의한 타이머 모드로 제어되는,
    다중 챔버 액체 펌프.
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 유출 챔버로부터 유출되는 액체는 유출된 후 상기 펌프를 통하여 상기 액체를 재순환되도록 상기 유입 챔버로 유입되는,
    다중 챔버 액체 펌프.
  8. 다중 챔버 펌프의 유입 챔버로 액체를 유입하는 단계,
    상기 유입 챔버내의 액체를 상기 중간 챔버로 유동하기 위하여 상기 펌프의 중간 챔버내의 가스 압력을 제어하는 단계,
    액체를 상기 펌프의 상기 중간 챔버로부터 상기 유출 챔버내로 유동하도록 상기 중간 챔버내의 가스 압력을 제어하는 단계,
    액체가 상기 유출 챔버로부터 일정하게 유동되도록 상기 펌프의 유출 챔버내의 가스 압력을 제어하는 단계를 포함하는,
    액체 펌핑 방법.
  9. 제 8 항에 있어서,
    상기 중간 챔버내의 가스 압력을 제어하는 단계들은 상기 유출 챔버내의 액체 레벨을 결정하는 단계를 포함하는,
    액체 펌핑 방법.
  10. 제 9 항에 있어서,
    상기 유출 챔버내의 액체 레벨을 결정하는 단계는 유출 챔버 액체 레벨 센서의 이용을 포함하는,
    액체 펌핑 방법.
  11. 제 9 항에 있어서,
    상기 중간 챔버내의 가스 압력을 제어하는 단계는 상기 유출 챔버내의 액체 레벨이 낮을 때 상기 중간 챔버내의 가스 압력을 증가시키는 단계를 포함하는,
    액체 펌핑 방법.
  12. 제 11 항에 있어서,
    상기 중간 챔버내의 가스 압력을 증가시키는 단계는 상기 중간 챔버내의 액체를 상기 유출 챔버로 유동시키는,
    액체 펌핑 방법.
  13. 제 9 항에 있어서,
    상기 중간 챔버내의 상기 가스 압력을 제어하는 단계는 상기 유출 챔버내의 액체 레벨이 높을 때 상기 중간 챔버내의 가스 압력을 감소시키는 단계를 포함하는,
    액체 펌핑 방법.
  14. 제 13 항에 있어서,
    상기 중간 챔버내의 가스 압력을 감소시키는 단계는 상기 유입 챔버내의 액체를 상기 중간 챔버로 유동시키는,
    액체 펌핑 방법.
  15. 제 8 항에 있어서,
    상기 중간 챔버내의 가스 압력을 제어하는 단계는 예정된 시간 간격에서 상기 중간 챔버내의 가스 압력을 변경시키는 단계들을 포함하는,
    액체 펌핑 방법.
  16. 제 15 항에 있어서,
    상기 가스 압력을 변경시키는 단계는 액체를 상기 중간 챔버로부터 상기 유출 챔버로 유동시키도록 상기 중간 챔버내의 가스 압력을 증가시키는 단계들을 포함하는,
    액체 펌핑 방법.
  17. 제 15 항에 있어서,
    상기 가스 압력을 변경시키는 단계는 상기 유입 챔버내의 액체를 상기 중간 챔버로 유동시키도록 상기 중간 챔버내의 가스 압력을 감소시키는 단계를 포함하는,
    액체 펌핑 방법.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6306166B1 (en) * 1997-08-13 2001-10-23 Scimed Life Systems, Inc. Loading and release of water-insoluble drugs
US6749086B2 (en) * 2000-12-01 2004-06-15 Applied Materials Inc. Pressurized liquid delivery module
US6957749B2 (en) * 2000-12-01 2005-10-25 Applied Materials, Inc. Liquid delivery system
TWI303175B (en) * 2004-02-26 2008-11-21 Nipro Corp Safe indwelling needle
NZ574597A (en) * 2006-07-03 2011-11-25 Hemoteq Ag Stent coated with a biodegradable polymer and rapamycin
NZ588816A (en) * 2007-01-21 2011-11-25 Hemoteq Ag Medical device for the treatment of stenoses of corporal lumina and for the prevention of impending restenoses
US9192697B2 (en) * 2007-07-03 2015-11-24 Hemoteq Ag Balloon catheter for treating stenosis of body passages and for preventing threatening restenosis
WO2011005421A2 (en) 2009-07-10 2011-01-13 Boston Scientific Scimed, Inc. Use of nanocrystals for a drug delivery balloon
JP5933434B2 (ja) * 2009-07-17 2016-06-08 ボストン サイエンティフィック サイムド，インコーポレイテッドＢｏｓｔｏｎ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ Ｓｃｉｍｅｄ，Ｉｎｃ． 薬剤送達バルーンの製造方法
US20110160645A1 (en) * 2009-12-31 2011-06-30 Boston Scientific Scimed, Inc. Cryo Activated Drug Delivery and Cutting Balloons
US8889211B2 (en) 2010-09-02 2014-11-18 Boston Scientific Scimed, Inc. Coating process for drug delivery balloons using heat-induced rewrap memory
WO2013022458A1 (en) 2011-08-05 2013-02-14 Boston Scientific Scimed, Inc. Methods of converting amorphous drug substance into crystalline form
US9056152B2 (en) 2011-08-25 2015-06-16 Boston Scientific Scimed, Inc. Medical device with crystalline drug coating
JP6038288B2 (ja) * 2013-03-28 2016-12-07 株式会社日立国際電気 基板処理装置、半導体装置の製造方法およびプログラム
CN111960371A (zh) * 2015-11-25 2020-11-20 科拉温股份有限公司 具有控制器的饮料抽取器
US11795046B2 (en) 2015-11-25 2023-10-24 Coravin, Inc. Beverage dispenser with container engagement features
US10363543B2 (en) 2016-04-19 2019-07-30 General Electric Company Gas driven fluid transport

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1979407A (en) 1931-07-27 1934-11-06 Water Level Controls Company Hydropneumatic control apparatus
US2158381A (en) 1936-11-09 1939-05-16 Raymond Gwynne Metering apparatus
US2246594A (en) 1937-04-29 1941-06-24 Celanese Corp Supplying liquids at constant rates
US2520175A (en) 1944-12-14 1950-08-29 American Can Co Liquid dispensing machine with means for controlling the pressure at point of discharge
US2703607A (en) 1949-03-25 1955-03-08 Milo R Simmonds Multiple cell fuel tank arrangement
US2545303A (en) 1949-09-13 1951-03-13 Petrucci Giuseppe Liquid dispensing apparatus
DE883237C (de) * 1950-11-26 1953-07-16 Chapman Einrichtung zur Hebung und Foerderung von Fluessigkeiten
US2892416A (en) * 1954-12-13 1959-06-30 Alexander Rolf Conveyance of liquids through pipelines
US4132242A (en) 1976-02-23 1979-01-02 Carroll Jr John D Chemical distribution system
US4136708A (en) * 1977-06-08 1979-01-30 Renal Systems, Inc. Hemodialysate blending system
US4507056A (en) * 1981-09-11 1985-03-26 Logic Devices, Inc. Liquid circulation apparatus and method
US4544084A (en) 1981-12-03 1985-10-01 Cleland Robert K Beverage dispenser
US4630753A (en) 1983-06-07 1986-12-23 Anscherlik A Device for dispensing doses of liquid
US4676404A (en) 1983-10-17 1987-06-30 Nippon Zeon Co., Ltd. Method and apparatus for feeding drug liquid from hermetic returnable can
GB9021094D0 (en) 1990-09-27 1990-11-07 Oxford Glycosystems Ltd Liquid delivery systems
JP2972970B2 (ja) 1992-04-24 1999-11-08 東京エレクトロン株式会社 処理装置
US5556002A (en) 1995-02-03 1996-09-17 Abc Techcorp Measured liquid dispensing system
US5511954A (en) * 1995-06-26 1996-04-30 Han; Tai-Kang Water pumping system using solar energy

Also Published As

Publication number Publication date
US6186745B1 (en) 2001-02-13
EP1185796A4 (en) 2002-11-13
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