KR20020026154A - 중간 챔버를 구비한 가스 가압 액체 펌프 - Google Patents

중간 챔버를 구비한 가스 가압 액체 펌프 Download PDF

Info

Publication number
KR20020026154A
KR20020026154A KR1020017013854A KR20017013854A KR20020026154A KR 20020026154 A KR20020026154 A KR 20020026154A KR 1020017013854 A KR1020017013854 A KR 1020017013854A KR 20017013854 A KR20017013854 A KR 20017013854A KR 20020026154 A KR20020026154 A KR 20020026154A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
chamber
liquid
gas
pump
intermediate chamber
Prior art date
Application number
KR1020017013854A
Other languages
English (en)
Other versions
KR100484581B1 (ko
Inventor
케니쓰 앨란 존슨
Original Assignee
추후제출
체만드 코포레이션
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 추후제출, 체만드 코포레이션 filed Critical 추후제출
Publication of KR20020026154A publication Critical patent/KR20020026154A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100484581B1 publication Critical patent/KR100484581B1/ko

Links

Classifications

    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04F—PUMPING OF FLUID BY DIRECT CONTACT OF ANOTHER FLUID OR BY USING INERTIA OF FLUID TO BE PUMPED; SIPHONS
    • F04F1/00—Pumps using positively or negatively pressurised fluid medium acting directly on the liquid to be pumped
    • F04F1/06—Pumps using positively or negatively pressurised fluid medium acting directly on the liquid to be pumped the fluid medium acting on the surface of the liquid to be pumped
    • F04F1/10—Pumps using positively or negatively pressurised fluid medium acting directly on the liquid to be pumped the fluid medium acting on the surface of the liquid to be pumped of multiple type, e.g. with two or more units in parallel
    • F04F1/12—Pumps using positively or negatively pressurised fluid medium acting directly on the liquid to be pumped the fluid medium acting on the surface of the liquid to be pumped of multiple type, e.g. with two or more units in parallel in series
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04B—POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS
    • F04B23/00—Pumping installations or systems
    • F04B23/02—Pumping installations or systems having reservoirs
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04B—POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS
    • F04B49/00—Control, e.g. of pump delivery, or pump pressure of, or safety measures for, machines, pumps, or pumping installations, not otherwise provided for, or of interest apart from, groups F04B1/00 - F04B47/00
    • F04B49/08—Regulating by delivery pressure

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Jet Pumps And Other Pumps (AREA)
  • Reciprocating Pumps (AREA)
  • Details Of Reciprocating Pumps (AREA)

Abstract

본 발명의 다중 챔버 액체 펌프(10)는 유입 챔버(14), 중간 챔버(22) 및 액체 유출 챔버(18)를 포함한다. 가압 가스(60)는 펌프(10)로부터 액체를 유출하기 위한 동력을 제공하여, 액체가 펌프 작동동안 일정한 유동률로 유출되도록 한다. 액체는 상기 유입 챔버(14)로, 상기 중간 챔버(22)내로 하나 이상의 밸브(52)를 통하여, 그리고 유출 챔버로 후속하는 하나 이상의 밸브(78)를 통하여 유동하며, 액체는 상기 유출 챔버(18)로부터 일정하게 유출된다. 시스템 제어기는 펌프의 연속 작동을 촉진시키기 위하여 상기 밸브로 제어 신호를 제공한다.

Description

중간 챔버를 구비한 가스 가압 액체 펌프{GAS PRESSURIZED LIQUID PUMP WITH INTERMEDIATE CHAMBER}
거의 모든 유체 이송 분야에서 액체 공급 라인을 통하여 액체를 이동시키기 위한 동력을 제공하도록 펌프를 제공하는 것이 필요하다. 중력 시스템(gravitational systems) 및 사이펀 시스템(siphon systems)을 제외하고, 액체 펌프의 이용이 필요하며 많은 타입의 펌프가 역사를 통하여 개발되었다. 많은 펌프는 이 같은 펌프를 이용하는 시스템 및 펌핑된 액체의 진동(vibration) 또는 파동(pulsation)을 발생시키는 회전 또는 왕복 운동 동력화 장치에 의하여 동력이 공급된다. 많은 적용 분야에 대해 이 같은 펌프의 진동 및 압력 파동은 중요하지 않으며 이 같은 펌프는 적절한 수행을 한다.
그러나, 많은 액체 이송 분야는 펌핑된 액체의 파동 및 진동에 의하여 역으로 영향을 받는 정교한 화학적 구성 및 화학적 프로세스를 가지는 액체를 포함한다. 이 같은 분야에 대해 펌핑된 유체의 파동 및 진동을 발생시키지 않는 펌프를이용하는 것이 필요하다. 부가적으로, 많은 정밀한 화학적 프로세스는 펌핑된 액체의 유동률의 엄격한 제어가 요구되며, 펌핑된 유체내에서 파동 및 진동을 초래하는 종래 기술의 펌프는 이 같은 유동률에 대한 구속을 충족시키는데 어려움이 있다. 반도체 제조 프로세스는 액체 펌핑 파라미터상의 더 엄격한 구속이 계속적으로 발전되는 하나의 이 같은 적용분야이다. 반도체 제조 산업에서의 많은 특별한 분야에서 펌핑된 화학 제품의 파동 및 진동은 다양한 제조 단계에서의 반도체 물질과 프로세싱 액체의 화학적 반응 뿐만 아니라 프로세싱 액체의 정교한 화학적 균형에 역으로 영향을 미친다.
따라서 펌핑된 액체의 유동율의 빈틈없는 제어를 제공하면서, 액체가 파동 및 진동에 영향을 받지 않는 액체를 펌핑하는 펌프에 대한 요구가 있었다. 본 발명은 본 명세서에서 공개된 다양한 실시예에서 액체 유동 라인을 통하여 액체를 연속적으로 펌핑하기 위한 동력을 제공하기 위하여 가압 가스를 이용하는 펌프 시스템을 제공한다. 종래기술의 펌핑 시스템에 의하여 발생된 파동 및 진동이 제거되며 펌핑된 액체 유동률이 엄격히 제어된다.
본 발명은 일반적으로 펌핑 액체용 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 가압 가스에 의하여 작동되며, 유입 챔버, 중간 챔버 및 유출 챔버를 포함하는 액체 펌핑 장치에 관한 것이다.
도 1은 제 1 단계에 있는 본 발명의 펌프의 개략도이며,
도 2는 제 2 펌핑 단계에 있는 도 1에 도시된 펌프의 개략도이며,
도 3은 화학 프로세싱 컨테이너가 설치된 본 발명의 펌프의 또 다른 실시예의 개략도이며,
도 4는 데이 탱크내에 설치된 본 발명의 다른 실시예의 개략도이며,
도 5는 데이 탱크가 이용되는 경우 본 발명의 다른 실시예의 개략도이다.
본 발명의 다중 챔버 액체 펌프는 유입 챔버, 중간 챔버 및 액체 유출 챔버를 포함한다. 가압된 가스는 펌프로부터 액체를 유출하기 위한 동력을 제공하여 액체가 펌프 작동동안 일정한 유동률로 출력된다. 중간 챔버내로의 하나 이상의 밸브를 통하여 그리고 유출 챔버로의 하나 이상의 연속적인 밸브를 통하여 유입 챔버로 액체가 유동하며 액체는 유출 챔버로부터 일정하게 유출된다. 시스템 제어기는 펌프의 연속적 작동을 촉진시키도록 밸브로 제어 신호를 제공한다.
본 발명의 장점은 진동 및 파동없이 액체를 펌핑하는 액체 펌프가 제공된다는 것이다.
본 발명의 또 다른 장점은 부드럽고, 일정하며, 변동이 없는 유동으로 액체를 펌핑하는 액체 펌프를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 장점은 액체에 펌핑력을 제공하기 위하여 가압 가스를 이용하는 액체 펌프를 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 장점은 가스에 동력을 제공하고 일정한 제어 액체 유동률을 제공하는 액체 펌프를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 장점은 유입 챔버, 중간 챔버 및 유출 챔버를 가지는 액체 펌프를 제공하여 유출 챔버로부터 유동하는 액체가 중간 챔버의 이용을 통하여 유입 챔버로부터의 액체로 대체될 수 있다는 것이다.
본 발명의 이러한, 그리고 이외의 특징 및 장점은 도면을 참고로하여 후술되는 상세한 설명으로부터 본 기술분야의 기술자에게 맹백하게 된다.
본 발명의 펌프(10)의 제 1 실시예는 도 1 및 도 2에 개략적으로 도시되어 있는데, 도 1에는 제 1 단계에서의 펌프가 도시되며 도 2에는 제 2 단계에서의 펌프가 도시된다. 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 펌프(10)는 3개의 개별적인 펌프를 가지는데, 이는 유입 챔버(14), 유출 챔버(18) 및 중간 챔버(22)이다. 각각의 챔버(14, 18 및 22)는 챔버벽(24)에 의하여 한정된다. 바람직한 실시예에서, 유동 제어 밸브(28)가 배치되는 내부 챔버벽(26)은 중간 챔버(22)로부터 유입 챔버(14)를 분리한다. 동일한 방식으로, 유동 제어 밸브(32)가 배치되는 내부 챔버벽(30)은 중간 챔버(22)와 유출 챔버(18)를 분리한다. 펌프(10)는 본 명세서에서 상세하게 설명되는 바와 같이 펌프를 통하여 액체의 유동을 자동적으로 제어하고 조절하도록 다양한 가스 유동 제어 밸브와 액체 레벨 감지기 및 플로트 센서에 전자적으로 결합되는 컴퓨터로 처리되는 펌프 제어기(36)를 더 포함한다. 도 1 및 도 2에 도시된 실시예(10)에서, 전기 신호 라인(40)은 제어기(36)로 그리고 제어기로(36)부터 제어 신호를 제공하기 위한 제어기(36) 및 다양한 밸브, 감지기 및 센서에서 보여지는데, 용이한 묘사를 위해, 전기 제어 신호(40)는 도 1 및 도 2에서 완전히 연결되어 도시되지 않으며, 개별적인 전기 제어 라인은 제어기 및 다양한 제어 밸브, 감지기 및 센서 사이에 결합된다.
가스 배출 라인(44)은 펌프 작동 프로세스동안 전체적으로 유입 챔버를 대기 압력(0 psi)으로 전체적으로 유지하도록 유입 챔버(14)로 결합된다. 휘발성 또는위험한 화학 제품이 펌프에 의하여 제어되는 경우일 수 있는 유입 챔버 배출의 제어가 필요할 때 근소하게 개방되는 제어 가스 밸브(46)는 배출 라인에 결합될 수 있다. 제어 액체 밸브(52)를 가지는 액체 유입 라인(50)은 유입 챔버(14)로 액체를 유입시키기 위하여 유입 챔버(14)에 결합된다. 필요하지 않는 경우, 액체 레벨 HI 감지기(54) 및 액체 레벨 LO 감지기(56)는 유입 챔버(14)내의 액체 레벨이 적절한 펌프 작동에 대해 너무 높거나 너무 낮아지는 것을 결정하는 경우 제어기로 경보 신호를 제공하기 위하여 유입 챔버로 설치될 수 있다.
바람직하게는 반드시 질소가 아닌 가압 가스 공급원(60)이 가스 라인(62)을 통하여 공급하며 가압 가스 공급원은 유출 챔버(18) 및 중간 챔버(22)로 가압 가스를 제공하기 위하여 본 명세서에서 설명되는 가스 제어 밸브에 의하여 제어된다. 제어 가스 유입 밸브(66)는 펌프(10)로의 가스를 계량한다. 유출 챔버(18)는 제어 가스 밸브(72)에 의하여 제어되는 가압 가스 유입 라인(70)을 포함한다. 바람직한 실시예에서, 유출 챔버(18)에서의 가스 압력은 시스템 필요조건에 따라 약 2 내지 40 psi의 일정 정압을 일반적으로 유지하며, 제어기(36)와 함께 가스 밸브(72)는 유출 챔버(18)내의 액체 레벨과 관계없이 압력을 유지한다. 제어 액체 유출 밸브(78)에 의하여 조절되는 액체 유출 라인(76)은 유출 챔버로부터 액체를 유출시키기 위하여 유출 챔버(18)에 결합된다. 펌프(10)의 상당한 특징은 유출 챔버(18)에서의 가스 압력과 액체 유출 밸브(78)의 작동을 통하여 제어기(36)에 의하여 액체가 부드럽고, 일정하며 비 변동적 유동률에서 유출 라인(76)을 통하여 유출된다는 것이다. 펌프(10)의 바람직한 일 실시예에서 액체는 40 psi 일정 압력에서 분당 5 갤론과 같은 일정한 유동률에서 유출된다.
플로트 밸브(80)와 같은 액체 레벨 센서는 유출 챔버(18)내의 액체의 레벨에 관한 정보를 제공하기 위하여 제어기(36)에 결합되며 유출 챔버(18)내에 배치된다. 부가적으로, 필요하지는 않지만, 액체 레벨 HI 센서(82) 및 액체 레벨 LO 센서(84)도 유출 챔버내의 액체 레벨이 수용할 수 없는 HI 또는 수용할 수 없는 LO가 되는 경우 신호를 제어기로 제공하도록 유출 챔버(18)내에 설치된다.
유출 챔버(18)의 액체가 유출 라인(76)을 통하여 유출될 때, 유출 챔버(18)내의 액체 레벨이 하강할 때, 보충이 필요하다는 것을 알 수 있다. 이를 달성하기 위하여, 액체는 다음에서 논의되는 바와 같이 밸브(32)를 통하여 중간 챔버(22)로부터 유출 챔버(18)로 추가된다.
일반적으로, 중간 챔버(22)는 펌프 작동의 제 1 단계동안 유입 챔버(14)로부터 액체를 수용하며, 펌프 작동의 제 2 단계동안 중간 챔버(22)로부터 유출 챔버(18)로 분배한다. 유입 챔버(14)와 유출 챔버(18)와 다르게, 중간 챔버(22)내의 가스 압력은 본 명세서에서 논의되는 제어된 가스 밸브와 가스 라인을 이용하여 변화되며, 중간 탱크(2)의 가스 압력의 변화는 중간 탱크를 채우거나 비우기 위해 이용된다. 특히, 도 1에 도시된 바와 같이, 가스 라인(86)은 제어 가스 밸브(90)를 통하여 중간 챔버(22)로 가압 가스를 공급한다. 중간 챔버(22)에서의 가스는 제어 가스 밸브(96)의 조절하에 가스 라인(86)을 통하여 가스 배출 라인(94)으로 배출되어 유입 챔버로 유입된다. 중간 챔버(22)에서의 가스 압력은 0 psi에서 중간 챔버(22)와 유입 챔버(14) 사이의 가스 라인 통로를 개방하기 위하여 가스밸브(90)의 폐쇄와 가스 밸브(96)의 개방을 통하여 0 psi로 감소되어, 중간 챔버(22)에서의 가스 압력도 0 psi로 떨어진다. 이때, 유입 챔버(22)와 중간 챔버(22) 사이의 밸브(28)는 밸브의 양측면의 동일한 가스 압력, 및 밸브상의 유입 챔버에 있는 액체의 중량에 의하여 개방된다. 유입 챔버(14)내의 액체는 그때 중간 챔버(22)내로 유동된다. 중간 챔버(22)의 변위 가스는 가스 라인(86 및 94)을 통하여 유동되며 유입 챔버(14)내로 밸브(96)를 개방한다. 액체 레벨 HI 센서(100)는 제어기로 제어 신호를 제공하기 위하여 중간 챔버(22)내로 포함될 수 있으며 중간 챔버(22)내의 액체 레벨은 HI 레벨에 도착하며, 이 포인트에서 가스 밸브(96)는 폐쇄되고 가스 밸브(90)는 액체 유입 밸브(28)를 폐쇄하기 위해 중간 챔버(22)내의 소정의 가스 압력을 제공하기 위하여 개방되는데, 이는 중간 탱크(22)가 채워지기 때문이다. 그후, 유출 챔버(18)의 액체 레벨이 플로트 밸브(80)의 레벨 아래로 떨어질 때, 유출 챔버(18)내의 액체 레벨을 채우는 것이 필요하다. 이것을 달성하기 위해, 도 2에 도시된 바와 같이, 가스 밸브(72와 90)는 중간 챔버(22)내의 가스 압력을 증가시키기 위해 개방되며 유출 챔버(18)의 상승된 압력에서 유출 챔버(18)의 가스 압력과 중간 챔버의 압력을 동일하게 한다. 중간 챔버(22)에서의 가스 압력이 상승하여 액체 제어 밸브(28)를 폐쇄시킨다. 챔버(22 및 18)의 압력이 동일하게 될 때, 액체 제어 밸브(32)가 개방되어 중간 챔버(22)로부터의 액체가 유출 챔버(18)내로 유동된다. 유출 챔버(18)로부터의 변위 가스는 가스 라인(70, 104 및 86)을 통하여 유동하며 중간 챔버(22)로 가스 밸브(72 및 90)를 개방한다. 유출 챔버 압력이 전체적으로 일정한 값으로 유지될때, 유출 챔버(18)로부터의 액체 유출은 유출 챔버(18)의 충진 프로세스동안 전체적으로 일정한 유동률로 남는다. 유출 챔버(18)내의 액체 레벨이 플로트 밸브(80)상으로 상승될 때, 제어기는 중간 챔버(22)내의 가스 압력을 감소시키기 위하여 가스 밸브(90)를 폐쇄하고 가스 밸브(96)를 개방하며, 액체 제어 밸브(32)가 폐쇄될 때, 유출 챔버(18)로의 중간 챔버(22)로부터의 액체의 유동이 중지된다. 중간 챔버(22)의 가스 압력이 O psi에 도달할 때, 유입 챔버(14)와 중간 챔버(22) 사이의 액체 제어 밸브(28)가 중간 챔버(22)를 재충전하기 위해 개방된다.
따라서, 펌프(10)는 전체적으로 일정한 값에서 유출 챔버(18)내의 압력을 연속적으로 유지하면서 유출 챔버(18)에 액체를 채우기 위해 두 개의 단계 방식에서 기능하여, 유출 챔버(18)로부터의 액체의 유출 유동을 부드럽고 일정하고 비변동적인 유동률을 유지한다. 펌프의 작동중에는 유출 챔버의 액체 레벨 센서(80)에 의하여 주로 제어된다는 것이 이해된다. 즉 센서(80)가 유출 챔버(18)에서 추가적인 액체가 요구되는 제어기(36)로의 신호를 제공할 때, 신호는 유출 챔버의 압력 신호로 중간 챔버를 가압하도록 적절한 가스 밸브로 제어기에 의하여 송신되며, 이때 밸브(32)는 유출 챔버로 액체를 중간 챔버로 유동하기 위해 개방된다 센서(80)가 신호를 유출 챔버를 충전하는 제어기로 신호를 보낼 때, 제어기는 중간 챔버를 감압하도록 신호를 송신하여 밸브(32)를 폐쇄한다. 중간 챔버의 압력 레벨이 유입 챔버의 압력 레벨에 도달할 때, 밸브(28)가 개방되어 액체가 유입 챔버로부터 중간 챔버로 유입된다. 유출 챔버의 액체 레벨이 액체 레벨 센서(80)를 다시 작동시키는 레벨로 떨어질 때, 두 개의 단계 프로세스는 일단 다시 시작한다. 따라서, 유출 챔버(18)의 액체 레벨 센서(80)로부터의 신호는 펌프(10)의 작동을 위한 제어 신호를 제공한다.
본 발명의 가스 가압 펌프에 대한 많은 분야는 본 기술분야의 기술자에 의하여 상상될 것이다. 이 같은 제 1 적용분야는 재순환 및 유체 전달 펌프이다. 이 같은 설비에서, 유체 유출 라인(76)은 제어 유체 유출 전달 밸브(124)로 유출 라인(120)을 통하여 연결된다. 밸브(124)가 개방될 때 유체는 유출 챔버로부터 유출 라인(120)과 밸브(124)를 통하여 외부로 전달된다. 대체 유체는 제어 밸브(52)를 이용하여 유입 라인(50)을 통하여 유입 챔버(14)로 공급된다. 유입 챔버(14)의 낮은 액체 레벨 센서(56)는 유입 라인(50)을 통하여 유체 유입을 트리거하기 위해 필요한 센서 신호를 제공한다. 액체 라인 복귀 라인(128)은 제어 밸브(132)의 제어하에서 유입 챔버(14)로 액체를 복귀시키기 위하여 액체 유입 라인으로 연결된다. 즉, 액체 유출 밸브(124)가 폐쇄될 때, 액체 재순환 밸브(132)가 개방되고 펌프는 재순환 펌프로서 계속적으로 작동되며, 액체가 유출 챔버(18)를 통하여 계속적으로 유출되고 재순환 라인(128)을 통하여 유입 챔버(14)로 재순환된다. 본 기술분야에서 공지된 바와 같이, 액체 재순환은 탈이온수와 많은 화학 용액에 대해 특히 중요하며 본 발명의 가스 가압 액체 펌프는 기계적인 펌핑 장치를 동반하며 진동 및 액체 파동없이 재순환 및 펌핑된 액체 펌프 없이 수행된다.
도 3은 통상적으로 반도체 제조 산업내에서 수행되는 많은 화학적 프로세싱 단계에 대해 적절한 일정한 유동률 액체 배쓰(bath)(204)를 갖는 본 발명의 제 2 펌프 실시예(202)의 설비(200)를 보여준다. 도 3에 도시된 바와 같이, 펌프(10)의통상적인 특징 및 구성이 이해의 용이를 위해 도 1과 도 2에 도시된 부호와 동일한 부호로 제공된다. 펌프(202)는 유입 챔버(14), 유출 챔버(18)와 중간 챔버(22)를 한정하는 챔버벽(24)을 포함한다. 추가적인 하우징벽(212)은 상기의 제어 가스 밸브 및 가스 라인을 둘러싼다.
액체 유출 라인(76)은 필터(216)로 연결되며 필터(216)로부터의 유출 라인(220)은 배쓰(204)의 바닥에 배치된 배쓰 액체 유입구(224)로 공급된다. 액체는 배쓰(204)에 채워지며 상기 배쓰(204)의 립(230)을 넘어 외부로 흘러 배쓰 홀딩 베이신(basin)(234)으로 유입된다. 배수관(248)은 베이신(234)의 베이스에 위치하며 배수 라인(254)은 펌프(202)의 유입 라인(50)을 구비한 배수관(248)로 연결된다. 따라서 펌프 설비(200)는 기본적으로 액체 재순환 설비를 구성한다. 즉, 유출 라인으로부터의 액체는 배쓰(204)를 따라 순환하며 유입 라인(50)을 통하여 복귀하며 펌프(202)의 연속 작동은 유입 챔버로의 액체 유동률이 유출 챔버로부터의 액체 유동률과 동일한 곳에서 유지된다.
도 3에 도시된 바와 같이, 유입 챔버(14)는 정상적으로 개방 제어된 가스 밸브(46)에 의하여 제어되는 가스 배출부(44)를 포함한다. 제어 액체 밸브(264)를 가지는 액체 유입 라인(260)은 액체를 시스템(200)으로 유입하기 위하여 이용된다. 제어 액체 밸브(278)를 가지는 액체 배수 라인(274)은 시스템(200)으로부터 액체를 배수하기 위해 이용된다.
제어 가스 밸브 구성에 대하여, 질소 가소(60)는 가스 라인(62)을 통하여 제어 가스 밸브(66)를 통하여 유입된다. 또한 수동 작동 가스 제어 밸브(290)가 가스 라인(62)에 배치되어 질소 가스용 수동 차단을 제공한다. 제 2 수동 가스 제어 밸브(294)는 펌프(202)의 밸브 제어 시스템으로 가압 가스를 제공하는 가스 밸브 제어 라인(298)으로의 가스를 계량한다. 제어 라인(298)의 제어 가스는 유출 챔버 플로트 밸브 센서(80)에 의하여 제어된 제어 가스 밸브(302)와 유출 챔버 제어 가스 밸브(72)로 제공된다. 제어 라인(298)의 부분(304)은 제어 가스를 제어 밸브(302)로부터 중간 챔버 제어 가스 밸브(90) 및 중간 챔버 제어 가스 배출 밸브(96)로 공급한다. 도 3에 도시된 바와 같이, 제어 가스 밸브(72)는 개방 위치에 있도록 약간 가압되어, 유출 챔버의 가스 압력이 유출 챔버로 동력을 제공하도록 일정하게 남아있게 된다. 가스 밸브(302)는 가스 밸브 제어 라인(298)의 부분(304)으로 밸브 제어 가스의 유동을 제어하여, 제어 라인(298)의 부분(304)의 가스 압력이 센서(80)에 의하여 제어된다. 즉, 밸브(302)가 개방될 때, 제어 라인(304)이 가압 가스를 홀딩하도록 제어 가스 밸브(90)가 약간 개방되는 반면, 제어 가스 밸브(96)는 약간 폐쇄된다. 플로트 밸브(80)에 의하여 조종되는 바와 같이 밸브(302)가 폐쇄되며, 밸브(302)는 라인(304)의 가스 압력을 배출하며, 제어 가스 밸브(90)는 폐쇄되며 제어 가스 밸브(96)는 개방된다. 따라서, 도 3에 도시된 바와 같이 펌프(202)의 두 개의 단계 작동은 플로트 밸브(80)에 의하여 중간 챔버(22)로의 가스 유입 밸브(90)와 중간 챔버 가스 배출 밸브(96)가 제어되며, 플로트 밸브는 두 개의 가스 밸브만을 제어한다.
설비(200)에 도시된 바와 같이, 펌프(202)는 도 1 및 도 2에 도시되고 상술된 펌프(10)과 유사한 기능을 한다. 기본적으로, 유출 챔버(18)에 가스 압력 유입밸브(72)가 명목적으로 온(on)이 되어 유출 챔버(18)가 항상 가압되며, 그럼으로써 유출 챔버(18)에 있는 액체는 항상 유출 라인(76)을 통하여 일정한 제어가능한 비율로 필터(216)를 통하고 액체 배쓰(204)의 유입구(224)로 유출된다. 동시에, 배쓰(204)의 액체는 항상 배쓰(204)의 립(230)을 넘어 배쓰 홀딩 베이신(234)으로 흐르며, 후속적으로 배수관(248)을 통과하여 유입 챔버(14)의 유입 라인(50)으로 유입되어 항상 액체가 유입 챔버(14)로 흐른다. 이러한 방식에서, 펌프(202)는 배쓰(204)를 통하여 액체의 일정하고 부드러운 유동을 유지한다. 액체가 유출 챔버로부터 유출될 때, 유출 챔버(18)의 액체 레벨이 하락한다. 유출 챔버의 액체 레벨이 플로트 밸브(80)를 작동시키기 위해 충분히 하락할 때, 라인(304)이 가압될 때 밸브(302)는 밸브 제어 라인(304)의 가압 가스를 전달하도록 개방되어 제어 가스 밸브(90)를 개방하고 제어 가스 밸브(96)를 폐쇄한다. 이러한 밸브 구성에서, 가압 가스는 중간 챔버(22)로 공급되어 중간 챔버의 가스 압력이 유출 챔버(18)의 가스 압력과 같아지며, 액체는 밸브(32)를 통하여 유출 챔버를 채우기 위해 유출 챔버(18)로 유동한다. 유출 챔버의 플로트 밸브(80)가 충전 레벨 표시부로 상승할 때, 밸브(302)는 폐쇄되며 라인(304)의 가스 압력을 배출하며, 가스 제어 밸브(90)가 폐쇄되고 가스 제어 밸브(96)가 개방된다. 이러한 밸브 구성에서, 중간 챔버(22)의 가압 가스는 유입 챔버(14)로 배출하며, 중간 챔버 및 유입 챔버의 압력이 동일하게 될 때, 액체 밸브(28)가 중간 챔버(22)로 액체를 추가적으로 공급하기 위해 개방된다. 한편, 액체가 유출 챔버로부터 유출되며, 유출 챔버의 액체 레벨이 센서(80)를 다시 작동시키도록 충분히 하강할 때, 밸브(302)는 제어라인(304)으로 가압 가스를 제공하기 위해 개방되며, 유입 밸브(90)는 개방되고 배출 밸브(96)가 폐쇄되어 두 개의 단계 펌프 사이클이 다시 시작된다. 따라서, 도 3에 도시된 바와 같이 펌프(202)의 작동 전개가 가스 밸브 시스템으로 가압 가스(60)의 공급 그리고, 다양한 챔버(14, 22 및 18) 및 특별한 챔버(18)내의 액체의 존재에 주로 의존하여 유출 챔버(18)의 액체의 레벨에 의하여 결정되는 바와 같이 플로트 밸브(80)의 작용이 펌프를 통한 액체의 유동을 제어한다. 즉, 펌프(202)의 작동 전개는 전기적으로 제어되지 않으며, 차라리 충분한 양의 액체와 함께 가압 가스의 공급에 의하여 제어된다.
본 발명의 추가적인 실시예(400)는 도 4에 도시되며, 가스 압력 액체 펌프(400)는 탈이온수와 같은 액체의 더 많은 공급 또는 데이를 홀딩하도록 반도체 처리 산업에 통상적으로 이용되는 데이 탱크와 같은 큰 액체 홀딩 탱크(420)로 설치된다. 이 같은 탱크는 크기가 10 내지 15 피트일 수 있으며 수천 갤론의 액체를 유지한다. 도 4에 도시된 바와 같이, 데이 탱크(420)는 원통형 측벽(424), 돔형 상부(428) 및 평평하고 원형의 베이스(432)를 가져 레벨(436)로 액체의 양이 유지된다. 탱크 홀딩 펌프 구조물(440)은 원형 베이스(448)에 연결되는 원통형 측벽(444)을 포함한다. 펌프 구조물(440)은 두 개의 내벽(460 및 464)에 의하여 중간 챔버(452) 및 유출 챔버(456)로 분리된다. 상술된 펌프 실시예(10 및 202)와의 비교에 의하여, 데이 탱크(420)는 펌프의 유입 챔버(14)로서 기능하며, 중간벽(460)에 배치된 두 개의 액체 유동 제어 플로트 밸브(470)는 탱크(420)로부터 중간 챔버(452)로 액체의 유동을 허용하며, 중간벽(464)에 배치된 3개의 액체제어 플로트 밸브(474)는 중간 챔버(452)로부터 유출 챔버(456)로 액체의 유동을 촉진시킨다. 액체 유출 라인(480)은 액체가 요구되는 유출 챔버(456)로부터 화학 프로세싱 도구로 액체를 유출시키기 위해 이용된다.
가압 질소 가스는 공급원(484)으로부터 가스 라인(488)을 통하여 유출 챔버(456)내의 수동 가스 조절기 밸브(492) 및 제어 가스 밸브(492)로 공급된다. 제어 가스 밸브(496) 및 다른 제어 가스 및 액체 밸브는 제어 라인(499)을 이용하는 다양한 제어 부품으로 전기적으로 결합되는 컴퓨터화된 시스템 제어기(498)를 이용하여 전기적으로 제어한다. 따라서, 상술된 가스 가압 펌프 실시예(10 및 202)와 같이, 제어 밸브를 통한 가압 가스는 유출 라인(480)의 제어되고 연속적인 액체 유출 유동을 유지하도록 유출 챔버(456)내의 일정한 액체 유출 압력을 유지하기위하여 이용된다. 또한 가압 질소 가스는 중간 챔버(452)내의 제어 가스 압력 밸브(504)와 수동 가스 조절기 밸브(500)를 통한 라인(488)을 통하여 공급된다. 전술된 실시예(10 및 202)와 같이, 제어된 밸브(504)를 통한 가압 가스는 중간 챔버내의 압력을 변경시키기 위해 이용되어 중간 챔버(452)의 압력이 유출 챔버(456)의 압력과 거의 동일하며, 중간 챔버(452)로부터의 액체는 제어 밸브(474)를 통하여 그리고 유출 챔버(456)내로 유동한다. 제어 가스 밸브(512)에 의하여 제어되는 가스 배출 라인(508)은 중간 챔버(452)로부터 유입 챔버(데이 탱크)(420)로 가스를 배출배출 위해 이용됨으로써, 유입 챔버(데이 탱크)(420)로부터 제어 밸브(470)를 통하여 중간 챔버(452)내로의 액체 유동을 제어한다. 액체 재순환/복귀 라인(530)은 유출 챔버(456)로부터 액체를 배압 조절기 밸브(534)를 통하여 유입 챔버(데이탱크)(420)로 복귀 및 재순환하기 위해 액체 유출 라인(480)에 결합된다. 복귀되지 않고 유출 밸브(538)를 통하여 유출 챔버(456)으로부터 펌핑되고 화학 프로세스에서 이용된 액체를 대체하기 위해, 액체 공급원(540)은 유입 라인(544)을 통하여 유입 챔버(데이 탱크)(420)로 결합된다.
상술된 펌프(10 및 202)와 다르게, 펌프(400)는 작동을 제어하기 위해 플로트 레벨 또는 센서를 이용하지 않는다. 차라리, 펌프(400)는 가스 밸브를 개방 및 폐쇄하기 위해 시스템 제어기(498)의 소프트웨어 및 전자 제어 시스템을 이용하는 시간 시컨스(sequence) 방식으로 제어된다. 특히, 다양한 액체 유동률 및 액체 압력이 공지된 곳에서, 다른 공지된 파라미터와 유출 챔버의 가스 압력을 기초로 하는 특정된 유동률에서 유출 챔버로부터 소정의 액체 양을 유출하기 위해 요구된 시간을 계산하기 위해 상대적으로 수월하다. 또한 중간 챔버에 이용되는 공지된 가스 압력과 함께, 또한 중간 챔버로부터 유출 챔버로 채워지는 시간이 결정가능하며, 유입 챔버로부터 유출 챔버로 채우는 시간이 유사하게 결정가능하다. 따라서, 중간 챔버와 유출 탱크를 충전하기 위해 요구되는 시간 간격을 결정함으로써, 가스 가압 펌프(400)는 시간 밸브 제어 모드에서 전자적으로 작동될 수 있다. 즉, 펌프가 유출 챔버로부터 액체를 일정하게 유출하는 동안, 중간 챔버는 적절한 시간 간격에서 유입 챔버로부터 충전될 수 있으며 중간 챔버는 적절한 시간 간격에서 유출 챔버로 비워질 수 있어, 펌프의 작동이 일정하게 전개된다.
유출 챔버(456)의 액체 레벨상의 소정의 제어는 펌프 실시예(400)의 성공적인 전개 작동에 필요할 수 있다. 특히, 유출 챔버(456)의 액체 레벨은 유출 챔버내의 가압 가스가 액체 유출 라인(480)으로 통과하도록 낮게 되는 것이 허용될 수 없다. 유사하게, 유출 챔버(456)의 액체 레벨이 가스 유입 밸브(496)상으로 상승하는 경우, 밸브의 부식이 발생할 수 있다. 이러한 문제를 방지하기 위하여, 액체 레벨 센서(550)는 유출 챔버(456)과 관련하여 설치될 수 있다. 액체 레벨 센서(550)는 라인(554)에 의하여 시스템 제어기(498)로 전기적으로 결합되어 시스템 제어기로 액체 레벨 정보를 제공한다. 유출 탱크(456)내의 액체 레벨이 매우 낮아진 경우, 시스템 제어기(498)는 제어 밸브(474 및 470)가 각각의 사이클 동안 개방되는 시간 간격을 전자적으로 증가시켜, 유출 챔버(456)로 유동하는 액체의 양이 각각의 사이클 동안 증가된다. 결과적으로, 유출 챔버(456)의 액체 레벨이 상승한다. 유사하게, 액체 레벨 센서(550)가 유출 챔버(456)의 액체 레벨이 매우 높아지는 시스템 제어기(498)로의 신호를 제공하는 곳에서, 시스템 제어기(498)는 각각의 사이클동안 밸브(470 및 474)를 개방하는 시간 간격을 줄임으로써, 각각의 사이클동안 유출 챔버로 유동하는 액체의 양을 감소시킨다. 결과적으로, 유출 챔버(456)내의 액체 레벨이 낮추어진다.
데이 탱크 펌프 시스템(400)이 중간 챔버(452)와 유출 챔버(456)가 데이 탱크(420)아래 배치되는 구성으로 데이 탱크 펌프 시스템(400)이 도시되고 설명되었지만, 도 5에 도시된 바와 같이, 시스템(400)이 구획된 방식으로 펌프(600)로서 구성될 수 있다. 설명된 바와 같이, 펌프 시스템(400)에 대한 동일한 구성에는 동일한 도면 부호가 주어지며, 데이 펌프(420)는 펌프(600)의 유입 챔버를 포함하며, 데이 펌프(420)로부터의 유출구(604)는 액체 라인(608)을 통하여 개별적인 중간 챔버(452)로 연통된다. 컴퓨터 제어 밸브(470)는 유입 챔버[데이 펌프(420)]로부터 중간 챔버(452)로 액체의 유동을 제어하며 제어 밸브(474)는 중간 챔버로부터 유출 챔버(456)로 액체의 유동을 제어한다. 컴퓨터화된 제어 시스템(498)과 시스템(600)용 가스 밸브 시스템(612)은 탱크 펌프 실시예(400)용 컴퓨터화된 제어 시스템과 동일할 수 있다. 펌프 실시예(600)는 미리 설치된 데이 탱크를 구비한 본 발명의 다중 챔버 액체 펌핑 시스템의 이용을 촉진한다.
본 발명이 소정의 바람직한 실시예에 대해 설명되었지만, 본 발명의 사상 및 범위를 포함하는 모든 다양한 변화 및 변경을 후술되는 청구범위에 포함되는 것으로 발명가에 의하여 의도된다.

Claims (17)

  1. 다중 챔버 액체 펌프로서,
    액체를 유입하기 위한 수단을 가지는 유입 챔버와,
    중간 챔버와,
    액체를 유출하기 위한 수단을 가지는 액체 유출 챔버와,
    상기 유입 챔버와 상기 중간 챔버 사이에 결합되는 제 1 액체 유동 제어 밸브와,
    상기 중간 챔버와 상기 유출 챔버 사이에 결합되는 제 2 액체 유동 제어 밸브와,
    상기 유출 챔버로부터 액체를 유출하기 위해 상기 유출 챔버내로 가압 가스를 공급하도록 상기 유출 챔버에 결합되며, 상기 중간 챔버로 가압 가스를 공급하기 위하여 상기 중간 챔버에 결합되는 가압 가스 공급원과, 그리고
    상기 유입 챔버로부터 상기 중간 챔버로의 그리고 상기 중간 챔버로부터 상기 유출 챔버로의 액체의 유동을 제어하기 위하여 상기 중간 챔버로의 그리고 상기 중간 챔버로부터의 가압 가스의 유동을 제어하도록 작동되는 펌프 제어기를 포함하는 펌프.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 펌프 제어기는 상기 중간 챔버로 상기 가스의 유동을 제어하는 제 1 제어 가스 밸브와, 그리고 상기 중간 챔버로부터 상기 가스의 유동을 제어하는 제 2 제어 가스 밸브를 포함하는 펌프.
  3. 제 2 항에 있어서, 상기 펌프 제어기는 상기 유출 챔버내에 배치된 액체 레벨 감지 장치를 포함하며, 상기 액체 레벨 감지 장치는 상기 제 1 및 제 2 제어 가스 밸브를 제어하는 펌프.
  4. 제 3 항에 있어서, 상기 액체 레벨 감지 장치는 상기 펌프 제어기로 전자 제어 신호를 제공하며, 상기 펌프 제어기는 상기 제 1 및 제 2 제어 가스 밸브의 작동을 제어하는 전자 신호를 제공하는 펌프.
  5. 제 3 항에 있어서, 상기 액체 레벨 감지 장치는 상기 제 1 및 제 2 제어 가스 밸브의 작동을 제어하기 위하여 가스 제어 라인을 통하여 상기 가스의 유동을 제어하는 펌프.
  6. 제 2 항에 있어서, 상기 제 1 및 제 2 제어 가스 밸브는 상기 펌프 제어기에 의한 타이머 모드에서 제어되는 펌프.
  7. 제 1 항에 있어서, 상기 유출 챔버로부터 유출되는 액체는 그 후 상기 펌프를 통하여 상기 액체를 재순환하기 위하여 상기 유입 챔버로 유입되는 펌프.
  8. 액체를 펌핑하는 방법으로서,
    다중 챔버 펌프의 유입 챔버로 액체를 유입하는 단계와,
    상기 유입 챔버내의 액체를 상기 중간 챔버로 유동하기 위하여 상기 펌프의 중간 챔버내의 가스 압력을 제어하는 단계와,
    액체를 상기 펌프의 중간 챔버로부터 유출 챔버내로 유동하기 위하여 상기 중간 챔버내의 가스 압력을 제어하는 단계와, 그리고
    액체를 상기 유출 챔버로부터 일정하게 유동하기 위하여 상기 펌프의 유출 챔버내의 가스 압력을 제어하는 단계를 포함하는 방법.
  9. 제 8 항에 있어서, 상기 중간 챔버내의 가스 압력을 제어하는 단계들은 상기 유출 챔버내의 액체 레벨을 결정하는 단계를 포함하는 방법.
  10. 제 9 항에 있어서, 상기 유출 챔버내의 액체 레벨을 결정하는 단계는 플로트 센서의 이용을 포함하는 방법.
  11. 제 9 항에 있어서, 상기 중간 챔버내의 가스 압력을 제어하는 단계는 상기 유출 챔버내의 액체 레벨이 낮을 때 상기 중간 챔버내의 가스 압력을 증가시키는 단계를 포함하는 방법.
  12. 제 11 항에 있어서, 상기 중간 챔버내의 가스 압력을 증가시키는 단계는 상기 중간 챔버내의 액체를 상기 유출 챔버로 유동시키는 방법.
  13. 제 9 항에 있어서, 상기 중간 챔버내의 상기 가스 압력을 제어하는 단계는 상기 유출 챔버내의 액체 레벨이 높을 때 상기 중간 챔버내의 가스 압력을 감소시키는 단계를 포함하는 방법.
  14. 제 13 항에 있어서, 상기 중간 챔버내의 가스 압력을 감소시키는 단계는 상기 유입 챔버내의 액체를 상기 중간 챔버로 유동시키는 방법.
  15. 제 8 항에 있어서, 상기 중간 챔버내의 가스 압력을 제어하는 단계는 예정된 시간 간격에서 상기 중간 챔버내의 가스 압력을 변경시키는 단계를 포함하는 방법.
  16. 제 15 항에 있어서, 상기 가스 압력을 변경시키는 단계는 액체를 상기 중간 챔버로부터 상기 유출 챔버로 유동시키도록 상기 중간 챔버내의 상기 가스 압력을 증가시키는 단계를 포함하는 방법.
  17. 제 15 항에 있어서, 상기 가스 압력을 변경시키는 단계는 상기 유입 챔버내의 액체를 상기 중간 챔버로 유동시키도록 상기 중간 챔버내의 가스 압력을 감소시키는 단계를 포함하는 방법.
KR10-2001-7013854A 1999-04-28 2000-04-28 다중 챔버 액체 펌프, 및 액체 펌핑 방법 KR100484581B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US09/301,518 1999-04-28
US09/301,518 US6186745B1 (en) 1999-04-28 1999-04-28 Gas pressurized liquid pump with intermediate chamber
PCT/US2000/011582 WO2000065237A2 (en) 1999-04-28 2000-04-28 Gas pressurized liquid pump with intermediate chamber

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20020026154A true KR20020026154A (ko) 2002-04-06
KR100484581B1 KR100484581B1 (ko) 2005-04-22

Family

ID=23163731

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR10-2001-7013854A KR100484581B1 (ko) 1999-04-28 2000-04-28 다중 챔버 액체 펌프, 및 액체 펌핑 방법

Country Status (7)

Country Link
US (1) US6186745B1 (ko)
EP (1) EP1185796A4 (ko)
JP (1) JP3803032B2 (ko)
KR (1) KR100484581B1 (ko)
AU (1) AU4679800A (ko)
CA (1) CA2371571C (ko)
WO (1) WO2000065237A2 (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100858072B1 (ko) * 2004-02-26 2008-09-11 니프로 가부시키가이샤 안전 유치 바늘

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6306166B1 (en) * 1997-08-13 2001-10-23 Scimed Life Systems, Inc. Loading and release of water-insoluble drugs
US6957749B2 (en) * 2000-12-01 2005-10-25 Applied Materials, Inc. Liquid delivery system
US6749086B2 (en) * 2000-12-01 2004-06-15 Applied Materials Inc. Pressurized liquid delivery module
KR20090045916A (ko) * 2006-07-03 2009-05-08 헤모텍 아게 혈관의 영구 개방을 위한 활성 물질 방출용 의약 제품, 그의 제조 방법 및 용도
MX2009007663A (es) * 2007-01-21 2009-10-13 Hemoteq Ag Dispositivo medico para el tratamiento de estenosis de pasajes corporales y para la prevencion de reestenosis inminente.
US9192697B2 (en) * 2007-07-03 2015-11-24 Hemoteq Ag Balloon catheter for treating stenosis of body passages and for preventing threatening restenosis
JP2012532670A (ja) 2009-07-10 2012-12-20 ボストン サイエンティフィック サイムド，インコーポレイテッド 薬剤搬送バルーンのためのナノ結晶の使用
WO2011008393A2 (en) * 2009-07-17 2011-01-20 Boston Scientific Scimed, Inc. Nucleation of drug delivery balloons to provide improved crystal size and density
US20110160645A1 (en) * 2009-12-31 2011-06-30 Boston Scientific Scimed, Inc. Cryo Activated Drug Delivery and Cutting Balloons
US8889211B2 (en) 2010-09-02 2014-11-18 Boston Scientific Scimed, Inc. Coating process for drug delivery balloons using heat-induced rewrap memory
US8669360B2 (en) 2011-08-05 2014-03-11 Boston Scientific Scimed, Inc. Methods of converting amorphous drug substance into crystalline form
US9056152B2 (en) 2011-08-25 2015-06-16 Boston Scientific Scimed, Inc. Medical device with crystalline drug coating
WO2014157211A1 (ja) * 2013-03-28 2014-10-02 株式会社日立国際電気 基板処理装置、半導体装置の製造方法および記録媒体
US11795046B2 (en) 2015-11-25 2023-10-24 Coravin, Inc. Beverage dispenser with container engagement features
JP6868021B2 (ja) * 2015-11-25 2021-05-12 コラヴァン，インコーポレイテッド コントローラを備えた飲料抽出器
US10363543B2 (en) 2016-04-19 2019-07-30 General Electric Company Gas driven fluid transport

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1979407A (en) 1931-07-27 1934-11-06 Water Level Controls Company Hydropneumatic control apparatus
US2158381A (en) 1936-11-09 1939-05-16 Raymond Gwynne Metering apparatus
US2246594A (en) 1937-04-29 1941-06-24 Celanese Corp Supplying liquids at constant rates
US2520175A (en) 1944-12-14 1950-08-29 American Can Co Liquid dispensing machine with means for controlling the pressure at point of discharge
US2703607A (en) 1949-03-25 1955-03-08 Milo R Simmonds Multiple cell fuel tank arrangement
US2545303A (en) 1949-09-13 1951-03-13 Petrucci Giuseppe Liquid dispensing apparatus
DE883237C (de) * 1950-11-26 1953-07-16 Chapman Einrichtung zur Hebung und Foerderung von Fluessigkeiten
US2892416A (en) * 1954-12-13 1959-06-30 Alexander Rolf Conveyance of liquids through pipelines
US4132242A (en) 1976-02-23 1979-01-02 Carroll Jr John D Chemical distribution system
US4136708A (en) * 1977-06-08 1979-01-30 Renal Systems, Inc. Hemodialysate blending system
US4507056A (en) * 1981-09-11 1985-03-26 Logic Devices, Inc. Liquid circulation apparatus and method
US4544084A (en) 1981-12-03 1985-10-01 Cleland Robert K Beverage dispenser
EP0144362B1 (de) 1983-06-07 1989-05-31 ANSCHERLIK, Arnost Vorrichtung zum dosieren von flüssigkeiten
US4676404A (en) 1983-10-17 1987-06-30 Nippon Zeon Co., Ltd. Method and apparatus for feeding drug liquid from hermetic returnable can
GB9021094D0 (en) 1990-09-27 1990-11-07 Oxford Glycosystems Ltd Liquid delivery systems
JP2972970B2 (ja) 1992-04-24 1999-11-08 東京エレクトロン株式会社 処理装置
US5556002A (en) 1995-02-03 1996-09-17 Abc Techcorp Measured liquid dispensing system
US5511954A (en) * 1995-06-26 1996-04-30 Han; Tai-Kang Water pumping system using solar energy

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100858072B1 (ko) * 2004-02-26 2008-09-11 니프로 가부시키가이샤 안전 유치 바늘

Also Published As

Publication number Publication date
WO2000065237A9 (en) 2002-06-06
WO2000065237A2 (en) 2000-11-02
CA2371571C (en) 2005-10-04
AU4679800A (en) 2000-11-10
KR100484581B1 (ko) 2005-04-22
JP3803032B2 (ja) 2006-08-02
WO2000065237A3 (en) 2001-02-01
US6186745B1 (en) 2001-02-13
EP1185796A4 (en) 2002-11-13
CA2371571A1 (en) 2000-11-02
JP2002543334A (ja) 2002-12-17
EP1185796A2 (en) 2002-03-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100484581B1 (ko) 다중 챔버 액체 펌프, 및 액체 펌핑 방법
KR100494971B1 (ko) 유체 이송 시스템, 및 유체 공급 탱크로부터 유체 유출 라인으로 유체를 이송하는 방법
US6098843A (en) Chemical delivery systems and methods of delivery
US6340098B2 (en) Chemical delivery systems and methods of delivery
KR100949029B1 (ko) 화학물질 혼합 및 이송 시스템과 그 방법
JP2001192893A (ja) 二倍圧力ベッセル化学物質ディスペンサーユニット
KR20000023360A (ko) 액상 화학 물질 분배 방법 및 시스템
KR100274925B1 (ko) 액체 분배 장치 및 방법
KR102142211B1 (ko) 약액 공급 시스템
JP3039689B2 (ja) 液体分配装置及び液体分配方法並びに液体分配装置の処理方法
KR100509446B1 (ko) 반도체 제조 공정에서 사용되는 약액 공급 장치
SU1239520A1 (ru) Устройство дл дозированного отпуска жидкости
KR100239721B1 (ko) 화공약품 공급 장치
CZ60395A3 (cs) Ponorné elektromagnetické čerpadlo s magneticky ovládaným kovových pístem

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20080414

Year of fee payment: 4

LAPS Lapse due to unpaid annual fee