JP3803032B2 - 中間チャンバを備えるガス加圧式液体ポンプ - Google Patents
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Description
【0001】
(発明の背景)
(発明の分野)
本発明は、一般に液体のポンプ装置に関し、より詳細には加圧ガスによって作動すると共に、吸入チャンバ、中間チャンバ、排出チャンバを含む液体ポンプ装置に関する。
【0002】
(従来技術の説明)
ほとんどすべての液体移送用途においては、液体供給ラインを介して液体を移動させる原動力を供給するためのポンプを準備することが必要である。重力システムおよびサイフォン・システムは例外として、液体ポンプを利用することは必須であり、歴史的に多くの種類のポンプが開発されている。ポンプの多くは、回転式または往復式原動機によって駆動され、これらの原動機はポンプ移送する液体やポンプを使用するシステム内に振動や脈動を発生させる傾向がある。多くの用途において、このようなポンプの振動や圧力脈動は重要ではなく、これらのポンプは適切な性能をもたらす。
【0003】
しかし、液体移送の用途の多くでは、微妙な化学組成を有する液体や、ポンプ移送する液体の脈動や振動によって悪影響を受ける化学プロセスが関係している。このような用途においては、ポンプ移送する液体に脈動や振動を発生させないポンプを使用する必要がある。さらに、多くの精密な化学プロセスにおいては、ポンプ移送する液体の流速の厳密な制御が要求され、ポンプ移送する液体中に脈動や振動を誘起する従来技術によるポンプでは、このような流速の制約を満足させることが難しい。半導体製造プロセスは、液体ポンプのパラメータに対する制約がますます厳しくなっている用途の1つである。半導体製造業界の多くの特有の用途において、ポンプ移送される化学薬品の脈動および振動が、様々な製作ステップにおける半導体基板とプロセス用液体との化学反応ばかりでなく、プロセス用液体の微妙な化学的平衡に悪影響を与える。
【0004】
したがって、ポンプ移送する液体の流速の厳密な制御を可能にしながら、液体に脈動および振動を起こさせないポンプに対する要望がある。本発明は、本出願書で開示する様々な実施形態において、液体流通配管を通して液体を連続的にポンプ移送する原動力を供給するために加圧ガスを利用するポンプ・システムを提供する。従来技術によるポンプ・システムで発生する脈動と振動が解消されて、ポンプ移送する液体の流速が厳密に制御される。
【0005】
(発明の概要)
本発明の多重チャンバ液体ポンプは、吸入チャンバ、中間チャンバ、液体排出チャンバを含む。加圧したガスが、ポンプから液体を排出する原動力を供給し、その結果、ポンプの作動中にポンプから一定の流速で液体が排出される。液体が排出チャンバから絶え間なく排出される間に、液体は吸入チャンバに流入し、1つまたは複数の弁を通過して中間チャンバ中に入り、さらに1つまたは複数の後続の弁を通過して排出チャンバへと流れる。システム・コントローラが、ポンプの連続運転を容易にするために弁群に制御信号を供給する。
【0006】
本発明の一利点は、振動および脈動のない液体をポンプ移送する液体ポンプを提供することである。
【0007】
本発明の別の利点は、円滑かつ絶え間のない、また変動のない流れで、液体をポンプ移送する液体ポンプを提供することである。
【0008】
本発明のさらなる利点は、加圧ガスを利用して液体のポンプ力をもたらす液体ポンプを提供することである。
【0009】
本発明のさらに別の利点は、ガス動力式で、制御された一定の液体流速をもたらす液体ポンプを提供することである。
【0010】
本発明のさらに別の利点は、吸入チャンバ、中間チャンバ、排出チャンバを備え、排出チャンバから流出する液体を、中間チャンバを使用して、吸入チャンバからの液体で補充することのできる液体ポンプを提供することである。
【0011】
本発明の上記およびその他の特徴と利点は、図面のいくつかの図表を参照する以下の詳細な説明を読めば、当業者には明らかになるであろう。
【0012】
(好ましい実施形態の詳細な説明)
本発明のポンプ10の第1実施形態を図1および2に概略図で示してある。図1は第1ステージにおけるポンプを、図2は第2ステージにおけるポンプを示している。図1および2に示すように、ポンプ10は、吸入チャンバ14、排出チャンバ18、中間チャンバ22の3つの隔離されたチャンバを備える。各チャンバ14、18、22は、チャンバ壁24で区画されている。この好ましい実施形態においては、フロー制御弁28を内部に配置した内部チャンバ壁26が、吸入チャンバ14を中間チャンバ22から隔離している。同様に、フロー制御弁32を内部に配置した内部チャンバ壁30が、中間チャンバ22を排出チャンバ18から隔離している。ポンプ10は、さらにコンピュータ搭載のポンプ・コントローラ36を含み、このコントローラは様々なガス流制御弁、液面検出器、フロート・センサなどに電子的に連結されて、以下に詳細を示すようにポンプを通過する液体の流れを自動的に制御または調節する。図1および2に示す実施形態10において、電気信号線40は、コントローラ36および、このコントローラ36に制御信号を送ったり、受けたりする様々な弁、検出器、センサの位置で示してある。わかりやすくするために、図1および2では電気制御線40は完全に結線した状態では示していないが、個々の制御用電気配線はコントローラと様々な制御弁、検出器、センサの間に配置されているものと理解される。
【0013】
ガス抜き配管44は、通常吸入チャンバ14を、ポンプ運転プロセスを通して大気圧(0psi)に維持するために、吸入チャンバ14に連結されている。制御ガス弁46は開放されており、揮発性あるいは危険性のある化学薬品をポンプで処理する場合などのように、吸入チャンバの通気制御が望まれるときには、ベント配管に連結することもある。制御式液体弁52を備える液体取込み配管50が、液体を吸入チャンバ14中に吸入するために、吸入チャンバ14に連結されている。必須ではないが、液面HI検出器54および液面LO検出器56を吸入チャンバに装備して、吸入チャンバ14内の液面が適切なポンプ運転には高すぎる、または低すぎると判断されるときにコントローラに警報信号を送るようにしてもよい。
【0014】
加圧ガス供給源60は、必須ではないが好ましくは窒素であり、ガス配管62を介して供給され、このガス配管は以下に示すガス制御弁によって制御されて、排出チャンバ18と中間チャンバ22に加圧ガスを供給する。制御式ガス吸入弁66は、ポンプ10中へのガス流を計量する働きをする。排出チャンバ18は、制御式ガス弁72で制御される加圧ガス吸入配管70を含む。この好ましい実施形態においては、排出チャンバ18内のガス圧は、システムの要件に依存して通常は約2〜40psiの一定の正圧に維持され、ガス弁72は、コントローラ36と共に、排出チャンバ18内の液面高さにかかわらずこの圧力を維持しようとする。制御式液体排出弁78で調節される液体排出配管76が、そこから液体を取り出すために排出チャンバ18に連結されている。ポンプ10の重要な特徴の1つは、液体出力弁78の作動と、排出チャンバ18内のガス圧を介してコントローラ36とによって制御される、円滑で変動のない一定の流速で、液体が排出配管76を経由して排出されることである。ポンプ10の好ましい一実施形態においては、液体は、例えば定常圧力40psiで毎分5ガロンのように、一定の流速で排出される。
【0015】
フロート弁80などの液面センサが、排出チャンバ18内に配置され、コントローラ36に連結されて、排出チャンバ18内部の液体の液面に関する情報を供給する。さらに、必須ではないが、液面HIセンサ82および液面L0センサ84を排出チャンバ18内に装備して、排出チャンバ内の液面が高すぎる(HI)、あるいは低すぎる(LO)場合には、コントローラに信号を供給するようにすることもできる。
【0016】
排出チャンバ18内の液体が出力配管76を経由して排出されるとき、排出チャンバ18内の液面が低下し、補充を必要とすることになることがわかるであろう。これを達成するために、次に論ずるように、弁32を経由して中間チャンバ22から、排出チャンバ18に液体が追加される。
【0017】
一般に中間チャンバ22は、ポンプ運転の第1ステージの間に、吸入チャンバ14から液体を受け入れると共に、ポンプ運転の第2ステージの間には、中間チャンバ22から排出チャンバに液体を供給する役割をする。中間チャンバ22内部のガス圧は、吸入チャンバ14および排出チャンバ18とは異なり、以下に述べるガス配管および制御式ガス弁を利用して変化させ、この中間タンク22のガス圧の変化をタンクを充填したり空にしたりするのに利用する。とりわけ、図1に示すように、ガス配管86が制御式ガス弁90を経由して中間チャンバ22に加圧ガスを供給する。中間チャンバ22内のガスは、制御式ガス弁96によって調節された状態で、ガス配管86を経由して、ガス抜き配管94へ、またさらに吸入チャンバ14中に排出される。中間チャンバ22と吸入チャンバ14との間のガス通路を0psiに開放するために、ガス弁90を閉じると共にガス弁96を開いて、中間チャンバ22内のガス圧を0psiに低下させ、これによって中間チャンバ22のガス圧が0psiまで低下する。この時に、吸入チャンバ14と中間チャンバ22の間の弁28が、その両側のガス圧が等しいこと、およびその上にある吸入チャンバ内の液体の重量がかかるために開くことになる。次いで吸入チャンバ14内部の液体は、98の方向に流れて中間チャンバ22に入る。中間チャンバ22内の置換されたガスは、ガス配管86と94および解放弁96を通過して、吸入チャンバ14に流入する。液面HIセンサ100を中間チャンバ22内部に備えて、中間チャンバ22内部の液面高さが高さHIに達したという信号をコントローラに供給するようにし、この高さで中間タンク22は満杯になっているとして、液体吸入弁28を閉じるために、ガス弁96を閉じ、かつガス弁90を開き、中間チャンバ22内部にいくらかのガス圧を供給するようにしてもよい。その後に、排出チャンバ18内の液面高さが、フロート弁80の高さ以下に低下するときには、排出チャンバ18内部の液面高さを補充する必要がある。これを達成するためには、図2に示すように、ガス弁72および90を開いて、中間チャンバ22内部のガス圧を上げて、その圧力が、排出チャンバ18内部の加圧されたガス圧力と等しくなるようにする。中間チャンバ22のガス圧が上昇すると、液体制御弁28は閉じる。チャンバ22および18内のガス圧が等しくなると、液体制御弁32が開き、中間チャンバ22からの液体が102の方向に流れてチャンバ18中に入る。排出チャンバ18から排出されたガスは、ガス配管70、104、86中を流れ、ガス弁72、90を開いて中間チャンバ22中に入る。ここで排出チャンバ18からの液体排出は、排出チャンバ18の圧力が通常一定値に保たれているので、排出チャンバ18の充填過程中、概して一定の流速のままであることを理解すべきである。排出チャンバ18内部の液面高さが、フロート弁80より上に上昇すると、コントローラはガス弁90を閉じ、ガス弁96を開いて、中間チャンバ22内部のガス圧を下げる。その結果液体制御弁32が閉まり、したがって中間チャンバ22から排出チャンバ18への液体の流れを止める。中間チャンバ22内のガス圧が0psiに達すると、吸入チャンバ14と中間チャンバ22の間の液体制御弁28が開いて、中間チャンバ22を再充填することになる。
【0018】
したがって、ポンプ10は2段階で作動して、排出チャンバ18からの液体の流出が、円滑で脈動のない一定の流速を保つように、排出チャンバ18内部の圧力を連続的にほぼ一定値に維持する一方で、加圧した排出チャンバ18内の液体を補充することを理解すべきである。さらに、運転中のポンプ10は、主として排出チャンバ内の液面センサ80によって制御されることも理解すべきである。つまり、センサ80がコントローラ36に、排出チャンバ18内でさらに液体を必要としているという信号を供給すると、コントローラから適当なガス弁に信号が送られて、中間チャンバを排出チャンバの圧力レベルまで加圧し、この結果弁32が開いて、中間チャンバから排出チャンバに液体を流入させる。センサ80がコントローラに、排出チャンバは満杯であるという信号を送ると、コントローラは中間チャンバを減圧するための信号を送り、これによって弁32が閉まる。中間チャンバの圧力レベルが、吸入チャンバの圧力レベルに達すると、弁28が開いて、液体は吸入チャンバから中間チャンバ中に吸入される。排出チャンバ内の液面高さが、液面センサ80を作動させる高さまで再び低下すると、前記の2段階のプロセスが再開される。このようにして、排出チャンバ18の液面センサ80からの信号が、ポンプ10の運転のための制御信号を供給する。
【0019】
本発明のガス加圧ポンプの多くの用途を当業者は想定するであろう。そのような用途の第1は、再循環/流体配送ポンプである。このような装置においては、流体排出配管76は、排出配管120を経由して、制御式流体排出配送弁124に接続されている。したがって、弁124が開かれると、排出チャンバ18から排出配管120および弁124を経由して流体が外部装置に配送される。一方、液体の補充は、制御式液体弁52を使用して、液体を流体吸入配管50を経由して吸入チャンバ14に供給する。吸入チャンバ14内の低液面センサ56は、吸入配管50を経由しての液体の補充をトリガするのに必要なセンサ信号を送る。再循環配管128が液体排出配管120に接続されており、液体再循環弁132の制御の下で、吸入チャンバ14に液体を戻す。つまり、液体排出弁124が閉じているとき、液体再循環弁132は開いており、ポンプ10は再循環ポンプとして作動し続け、液体は排出チャンバ18を経由して絶え間なく排出されて、再循環配管128を経由して吸入チャンバ14へと再循環される。当業者には知られているように、液体再循環は、脱イオン水や多くの化学溶液において特に重要であり、本発明のガス加圧液体ポンプは、再循環の実施と、機械式ポンプ装置に伴う振動および液体脈動のない液体ポンプ排出の両方を達成する。
【0020】
図3は、本発明第2のポンプ実施形態202の装置200を示しており、このポンプは、通常半導体製造業界で実施されている多くの化学プロセスに適する流速一定式液体浴204を備える。図3に示すように、ポンプ10の共通の特徴と要素は、わかりやすいように、図1および2を参照して説明したものと、同じ番号をつけてある。ポンプ202は、吸入チャンバ14、排出チャンバ18、中間チャンバ22を区画するチャンバ壁24を含む。さらに、上述した制御式ガス弁およびガス配管は、ハウジング壁212で取り囲まれている。
【0021】
液体排出配管76はフィルタ216に接続されており、フィルタ216からの排出配管220は、浴204の底に配置された浴液体取込み口224に送り込まれる。液体は浴204を満たし、浴204の縁230を越えて外部に溢れて、浴保持液溜り234中に入る。廃液口248が、液溜り234のベースに配置されており、廃液配管254がポンプ202の吸入配管50と廃液口248を連結している。したがって、ポンプ装置200は基本的に液体再利用装置を構成していることを理解すべきである。つまり、排出配管からの液体は浴204を経由して循環されて、吸入配管50を経由して戻り、吸入チャンバへの液体流速が排出チャンバからの液体流速と同じとなって、ポンプ202の連続運転が維持される。
【0022】
図3に示すように、吸入チャンバ14は、通常開いている制御式ガス弁46によって制御されるガス抜出し口44を備える。制御式液体弁264を備える液体吸入配管260は、液体をシステム200に吸入するために利用される。制御式液体弁278を有する液体排出配管274は、システム200から液体を排出するために利用される。
【0023】
制御式ガス弁の構成に関して、窒素ガス60が、ガス配管62および制御式ガス弁66を経由して取り込まれる。この窒素ガスを手動で遮断できるようにするために、手動式ガス制御弁290がガス配管62にも配置されている。第2の手動式のガス制御弁294が、ポンプ202の弁制御システムに加圧ガスを供給するガス弁制御配管298へのガス流量を計測する。制御配管298内の制御ガスは、排出チャンバ・フロート弁センサ80によって制御される制御式ガス弁302と、排出チャンバ制御式ガス弁72に供給される。制御配管298の部分304は、制御弁302から、中間チャンバ制御式ガス弁90および中間チャンバ制御式ガス抜出し弁96へと、制御ガスを供給する。図3に示すように、排出チャンバ内のガス圧を一定に保ち、液体の排出の原動力を供給するために、制御式ガス弁72は開位置になるように加圧されている。制御式ガス弁302は、ガス弁制御配管298の部分304への弁制御ガスの流れを制御し、この結果制御配管298の部分304内のガス圧がセンサ80で制御される。つまり、弁302が開いているとき、制御配管304が加圧ガスを保持し、制御式ガス弁90は開いているのに対して、制御ガス弁96は閉じられている。弁302が、フロート弁80によって操作されて閉じられると、弁302が配管304内のガス圧を抜き、制御式ガス弁90が閉まり、制御式ガス弁96が開く。したがって、ポンプ202の2段階動作は、図3に示すように、中間チャンバ22へのガス吸入弁90と中間チャンバのガス抜き弁96の、2つのガス弁だけを制御するフロート弁80によって制御されることを理解すべきである。
【0024】
装置200内に示すように、ポンプ202は、図1および2に示し、以上に説明したポンプ10と同様に機能する。基本的に、排出チャンバ18が常時加圧されて、これによって排出チャンバ18内の液体が、排出配管76およびフィルタ216を経由し、液体浴204の取込み口224中へと、常時一定の制御可能な流速で排出されるように、排出チャンバ18へのガス圧取込み弁72は常時オンにされている。同時に、浴204内の液体は、常時浴204の縁230を越えて溢れ、浴保持液溜り234中に入り、続いて抜出し口248を経由して吸入チャンバ14の取込み配管50中を通り、その結果液体は常時吸入チャンバに流入している。このようにして、ポンプ202は、浴204を経由しての液体の円滑で絶え間ない流れを維持する。液体が排出チャンバから流出するとき、排出チャンバ18の液面高さは低下する。排出チャンバの液面高さがフロート弁80を作動させる程度に低下すると、弁302が開いて弁制御配管304内に加圧ガスを配給し、その結果配管304が加圧されて、制御ガス弁90を開かせると共に、制御ガス弁96を閉じさせる。この弁構成においては、ガス圧を排出チャンバ18のガス圧と等しくするように、加圧ガスが中間チャンバ22に供給され、その結果液体が弁32を経由して排出チャンバ18に流入し、そこに充満する。排出チャンバ内のフロート弁80が最高指示位置まで上昇すると、弁302が閉まると共に配管304内のガス圧が抜かれ、この結果ガス制御弁90が閉まり、ガス制御弁96が開く。この弁構成においては、中間チャンバ22内の加圧ガスは、吸入チャンバ14内に抜け出し、中間チャンバと吸入チャンバ内の圧力が等しいときに、液体弁28が開き、中間チャンバ22にさらに液体を供給する。この間、液体は排出チャンバから排出されており、排出チャンバ内の液面高さが再びセンサ80を作動させるまで低下すると、弁302が開いて制御配管304に加圧ガスを供給し、その結果、吸入弁90が開き、抜出し弁96が閉まり、このようにして2段階のポンプ・サイクルが再開される。したがって、ポンプ202の実際作動は原理的に、図3に示すように、加圧ガス60をガス弁システムに供給すること、および各チャンバ14、22、18特にチャンバ18内に液体が存在することに依存し、この結果として排出チャンバ18内の液面高さによって決まるフロート弁80の作動が、ポンプを通過する液体の流れを制御することを理解すべきである。つまり、ポンプ202の進行中の作動は、電気的に制御されるのではなく、十分な量の液体と共に、加圧ガス供給することによって制御される。
【0025】
本発明のさらなる実施形態を図4に示してあり、この実施形態においてはガス加圧液体ポンプ400が、デイ・タンクのような大型の液体保持タンク420とともに装備されており、このようなタンクは半導体加工業界において、脱イオン水などの液体の1日または数日の在庫を保管するのに一般的に使用されている。このようなタンクは、高さが10から15フィートあり、数千ガロンの液体を収納するようなものである。図4に示すように、デイ・タンク420は、円筒形の側壁424と、ドーム型天井428と、円形の基台432を有し、高さ436までの量の液体がその中に収納される。タンクを保持するポンプ構造440は、円形の基台448に接続された円筒形の側壁444を含む。ポンプ構造440は、2つの内壁460、464によって、中間チャンバ452と排出チャンバ456に分割されている。先述のポンプ実施形態10、202と比較として、デイ・タンク420はポンプの吸入チャンバ14として機能し、中間壁460に配置した2つの液体流制御フロート弁470によって、タンク420から中間チャンバ452への液体流が可能となり、中間壁464内に配置した3つの液体制御フロート弁474によって、中間チャンバ452から排出チャンバ456への液体の流れが可能になることを理解すべきである。液体排出配管480は、液体を、排出チャンバ456からそれを必要とする化学処理装置へと取り出すのに使用する。
【0026】
加圧窒素ガスが、供給源484から、ガス配管488を経由して、手動式ガス調整弁492および制御式ガス弁496に、さらに排出チャンバ456中に供給される。制御式ガス弁496および先述の他の制御式ガス弁および液体弁は、制御配線499を利用して様々な制御要素に電気的に接続したコンピュータ制御のシステム・コントローラ498を用いて、電気的に制御される。したがって、前述のガス加圧式ポンプの実施形態10および202と同様に、排出配管480内に制御された、連続的な液体排出を維持するために、制御式弁496を経由する加圧ガスを利用して、排出チャンバ456内部の液体排出圧力を一定に維持している。加圧窒素ガスは、配管488、手動式ガス制御弁500、制御式ガス圧力弁504を経由して、中間チャンバ452にも供給される。先述の実施形態10および202と同様に、中間チャンバ452内の圧力が排出チャンバ456内の圧力にほぼ等しいときに、中間チャンバ452からの液体が制御式弁474を経由して排出チャンバ456に流れるように、制御式弁504経由の加圧ガスを利用して、中間チャンバ452内の圧力を変化させる。制御式ガス弁512で制御されるガス抜出し配管508を利用して、中間チャンバ452から吸入チャンバ(デイ・タンク)420にガスを抜き出し、これによって吸入チャンバ(デイ・タンク)420から、制御式弁470を経由して中間チャンバ452への液体の流れを制御している。空気圧平準化弁520が、デイ・タンク420内部の大気圧を維持するために、吸入チャンバ(デイ・タンク)420に連結されている。液体を排出チャンバ456から背圧制御弁534を経由して、吸入チャンバ(デイ・タンク)420に復帰かつ再循環させるために、液体再循環/復帰配管530が液体排出配管480に連結されている。排出チャンバ456から、排出弁538を介してポンプ排出され、化学プロセスで使用され、かつ元に戻されない液体を補充するために、液体供給源540が、吸入配管544を介して吸入チャンバ(デイ・タンク)420に連結されている。
【0027】
ポンプ400は、先述のポンプ10および202と異なり、その作動を制御するためにフロートまたは液面センサを使用しない。そのかわりに、ポンプ400は、システム・コントローラ498のソフトウエアと電子制御システムを利用して、時系列方式でガス弁を開閉することにより制御される。特に、様々な液体流速および液体圧力が既知の場合には、ある量の液体を所定の流速で、排出チャンバから送出するのに要する時間を、排出チャンバのガス圧およびその他の既知のパラメータから計算することは比較的簡単である。また中間チャンバで使用される既知のガス圧を用いて、中間チャンバから排出チャンバを充填するのにかかる時間も計算可能であると共に、吸入チャンバから中間チャンバを充填するのに要する時間も同様に計算可能である。したがって、中間タンクおよび排出タンクを充填するために必要な時間間隔を決定すると、ガス圧力式ポンプ400は、時間弁制御モードで電子的に運転することが可能である。つまり、ポンプが排出チャンバから絶え間なく液体を排出している間に、ポンプの作動が一定して進行するように、吸入チャンバから適当な時間間隔で中間チャンバを充填し、中間チャンバを適切な時間間隔で排出チャンバ中に排出して空にすることができる。
【0028】
ポンプ実施形態400を問題なく運転を進行させるためには、排出チャンバ456の液面高さに対して、ある程度の制御が必要になることもある。特に、排出チャンバ456の液面高さが、排出チャンバ480内の加圧ガスが液体排出配管に流れ込むほど低くなりすぎることは許容できない。同様に、排出チャンバ456内の液面高さが、ガス吸入弁496より上まで上昇すると、弁の腐食が発生する可能性がある。このような問題を防ぐために、液面センサ550を排出チャンバ456と共に装備してもよい。液面センサ550は、配線554によって電子的にシステム・コントローラ498に接続され、システム・コントローラに液面情報を供給する。排出タンク456内の液面高さが低くなりすぎると、システム・コントローラ498は、各サイクル中に排出チャンバ456に流入する液体量が増加するように、制御弁474および470が各サイクル中に開かれている時間を電子的に増加させる。この結果として、排出チャンバ456の液面高さは上昇することになる。同様に、液面センサ550が、排出チャンバ456内の液面高さが高くなりすぎたという信号をシステム・コントローラ498に供給する場合には、システム・コントローラ498は各サイクルで弁470および474が開いている時間を減少させて、これによって各サイクル中に排出チャンバに流入する液体量は減少することになる。またその結果、排出チャンバ内の液面高さは低下することになる。
【0029】
中間チャンバ452および排出チャンバ456がデイ・タンク420の下方に配置された構成の、デイ・タンク用ポンプ・システム400を示し、それについて説明したが、同様にシステム400は、図5に示すようにセグメント化したポンプ600として構築することもできることを理解すべきである。そこに示すように、ポンプ400と同じ特徴要素には、同じ番号をつけてある。デイ・タンク420は、ポンプ600の吸入チャンバを備え、デイ・タンク420からの取出し口604は、液体配管608を経由して、別の中間チャンバ452内へと配管されている。コンピュータ制御式弁470が、吸入チャンバ(デイ・タンク420)から中間チャンバ452への液体の流れを制御し、制御弁474が中間チャンバから排出チャンバ456への液体の流れを制御する。システム600用のコンピュータ制御システム498およびガス弁システム612は、タンク・ポンプ実施形態400用のコンピュータ制御システムと同じでもよい。ポンプ実施形態600は、先に示したデイ・タンクを装備する、本発明の多重チャンバ液体ポンプ・システムの利用を容易にする。
【0030】
本発明を特定の好ましい実施形態について説明したが、本発明者の意図するところは、添付の特許請求の範囲が、本発明の真の精神と範囲を含んでなされる、様々な変更形態および修正形態すべてを包含することである。
【図面の簡単な説明】
【図1】 第1ステージにおける本発明のポンプを示す概略図である。
【図2】 第2ステージにおける、図1に示すポンプを表す概略図である。
【図3】 化学プロセス容器と共に装備された本発明の別の実施形態を示す概略図である。
【図4】 デイ・タンク中に装備された本発明のさらなる実施形態を示す概略図である。
【図5】 デイ・タンクと一緒に使用される本発明のさらなる実施形態を示す概略図である。
(発明の背景)
(発明の分野)
本発明は、一般に液体のポンプ装置に関し、より詳細には加圧ガスによって作動すると共に、吸入チャンバ、中間チャンバ、排出チャンバを含む液体ポンプ装置に関する。
【0002】
(従来技術の説明)
ほとんどすべての液体移送用途においては、液体供給ラインを介して液体を移動させる原動力を供給するためのポンプを準備することが必要である。重力システムおよびサイフォン・システムは例外として、液体ポンプを利用することは必須であり、歴史的に多くの種類のポンプが開発されている。ポンプの多くは、回転式または往復式原動機によって駆動され、これらの原動機はポンプ移送する液体やポンプを使用するシステム内に振動や脈動を発生させる傾向がある。多くの用途において、このようなポンプの振動や圧力脈動は重要ではなく、これらのポンプは適切な性能をもたらす。
【0003】
しかし、液体移送の用途の多くでは、微妙な化学組成を有する液体や、ポンプ移送する液体の脈動や振動によって悪影響を受ける化学プロセスが関係している。このような用途においては、ポンプ移送する液体に脈動や振動を発生させないポンプを使用する必要がある。さらに、多くの精密な化学プロセスにおいては、ポンプ移送する液体の流速の厳密な制御が要求され、ポンプ移送する液体中に脈動や振動を誘起する従来技術によるポンプでは、このような流速の制約を満足させることが難しい。半導体製造プロセスは、液体ポンプのパラメータに対する制約がますます厳しくなっている用途の1つである。半導体製造業界の多くの特有の用途において、ポンプ移送される化学薬品の脈動および振動が、様々な製作ステップにおける半導体基板とプロセス用液体との化学反応ばかりでなく、プロセス用液体の微妙な化学的平衡に悪影響を与える。
【0004】
したがって、ポンプ移送する液体の流速の厳密な制御を可能にしながら、液体に脈動および振動を起こさせないポンプに対する要望がある。本発明は、本出願書で開示する様々な実施形態において、液体流通配管を通して液体を連続的にポンプ移送する原動力を供給するために加圧ガスを利用するポンプ・システムを提供する。従来技術によるポンプ・システムで発生する脈動と振動が解消されて、ポンプ移送する液体の流速が厳密に制御される。
【0005】
(発明の概要)
本発明の多重チャンバ液体ポンプは、吸入チャンバ、中間チャンバ、液体排出チャンバを含む。加圧したガスが、ポンプから液体を排出する原動力を供給し、その結果、ポンプの作動中にポンプから一定の流速で液体が排出される。液体が排出チャンバから絶え間なく排出される間に、液体は吸入チャンバに流入し、1つまたは複数の弁を通過して中間チャンバ中に入り、さらに1つまたは複数の後続の弁を通過して排出チャンバへと流れる。システム・コントローラが、ポンプの連続運転を容易にするために弁群に制御信号を供給する。
【0006】
本発明の一利点は、振動および脈動のない液体をポンプ移送する液体ポンプを提供することである。
【0007】
本発明の別の利点は、円滑かつ絶え間のない、また変動のない流れで、液体をポンプ移送する液体ポンプを提供することである。
【0008】
本発明のさらなる利点は、加圧ガスを利用して液体のポンプ力をもたらす液体ポンプを提供することである。
【0009】
本発明のさらに別の利点は、ガス動力式で、制御された一定の液体流速をもたらす液体ポンプを提供することである。
【0010】
本発明のさらに別の利点は、吸入チャンバ、中間チャンバ、排出チャンバを備え、排出チャンバから流出する液体を、中間チャンバを使用して、吸入チャンバからの液体で補充することのできる液体ポンプを提供することである。
【0011】
本発明の上記およびその他の特徴と利点は、図面のいくつかの図表を参照する以下の詳細な説明を読めば、当業者には明らかになるであろう。
【0012】
(好ましい実施形態の詳細な説明)
本発明のポンプ10の第1実施形態を図1および2に概略図で示してある。図1は第1ステージにおけるポンプを、図2は第2ステージにおけるポンプを示している。図1および2に示すように、ポンプ10は、吸入チャンバ14、排出チャンバ18、中間チャンバ22の3つの隔離されたチャンバを備える。各チャンバ14、18、22は、チャンバ壁24で区画されている。この好ましい実施形態においては、フロー制御弁28を内部に配置した内部チャンバ壁26が、吸入チャンバ14を中間チャンバ22から隔離している。同様に、フロー制御弁32を内部に配置した内部チャンバ壁30が、中間チャンバ22を排出チャンバ18から隔離している。ポンプ10は、さらにコンピュータ搭載のポンプ・コントローラ36を含み、このコントローラは様々なガス流制御弁、液面検出器、フロート・センサなどに電子的に連結されて、以下に詳細を示すようにポンプを通過する液体の流れを自動的に制御または調節する。図1および2に示す実施形態10において、電気信号線40は、コントローラ36および、このコントローラ36に制御信号を送ったり、受けたりする様々な弁、検出器、センサの位置で示してある。わかりやすくするために、図1および2では電気制御線40は完全に結線した状態では示していないが、個々の制御用電気配線はコントローラと様々な制御弁、検出器、センサの間に配置されているものと理解される。
【0013】
ガス抜き配管44は、通常吸入チャンバ14を、ポンプ運転プロセスを通して大気圧(0psi)に維持するために、吸入チャンバ14に連結されている。制御ガス弁46は開放されており、揮発性あるいは危険性のある化学薬品をポンプで処理する場合などのように、吸入チャンバの通気制御が望まれるときには、ベント配管に連結することもある。制御式液体弁52を備える液体取込み配管50が、液体を吸入チャンバ14中に吸入するために、吸入チャンバ14に連結されている。必須ではないが、液面HI検出器54および液面LO検出器56を吸入チャンバに装備して、吸入チャンバ14内の液面が適切なポンプ運転には高すぎる、または低すぎると判断されるときにコントローラに警報信号を送るようにしてもよい。
【0014】
加圧ガス供給源60は、必須ではないが好ましくは窒素であり、ガス配管62を介して供給され、このガス配管は以下に示すガス制御弁によって制御されて、排出チャンバ18と中間チャンバ22に加圧ガスを供給する。制御式ガス吸入弁66は、ポンプ10中へのガス流を計量する働きをする。排出チャンバ18は、制御式ガス弁72で制御される加圧ガス吸入配管70を含む。この好ましい実施形態においては、排出チャンバ18内のガス圧は、システムの要件に依存して通常は約2〜40psiの一定の正圧に維持され、ガス弁72は、コントローラ36と共に、排出チャンバ18内の液面高さにかかわらずこの圧力を維持しようとする。制御式液体排出弁78で調節される液体排出配管76が、そこから液体を取り出すために排出チャンバ18に連結されている。ポンプ10の重要な特徴の1つは、液体出力弁78の作動と、排出チャンバ18内のガス圧を介してコントローラ36とによって制御される、円滑で変動のない一定の流速で、液体が排出配管76を経由して排出されることである。ポンプ10の好ましい一実施形態においては、液体は、例えば定常圧力40psiで毎分5ガロンのように、一定の流速で排出される。
【0015】
フロート弁80などの液面センサが、排出チャンバ18内に配置され、コントローラ36に連結されて、排出チャンバ18内部の液体の液面に関する情報を供給する。さらに、必須ではないが、液面HIセンサ82および液面L0センサ84を排出チャンバ18内に装備して、排出チャンバ内の液面が高すぎる(HI)、あるいは低すぎる(LO)場合には、コントローラに信号を供給するようにすることもできる。
【0016】
排出チャンバ18内の液体が出力配管76を経由して排出されるとき、排出チャンバ18内の液面が低下し、補充を必要とすることになることがわかるであろう。これを達成するために、次に論ずるように、弁32を経由して中間チャンバ22から、排出チャンバ18に液体が追加される。
【0017】
一般に中間チャンバ22は、ポンプ運転の第1ステージの間に、吸入チャンバ14から液体を受け入れると共に、ポンプ運転の第2ステージの間には、中間チャンバ22から排出チャンバに液体を供給する役割をする。中間チャンバ22内部のガス圧は、吸入チャンバ14および排出チャンバ18とは異なり、以下に述べるガス配管および制御式ガス弁を利用して変化させ、この中間タンク22のガス圧の変化をタンクを充填したり空にしたりするのに利用する。とりわけ、図1に示すように、ガス配管86が制御式ガス弁90を経由して中間チャンバ22に加圧ガスを供給する。中間チャンバ22内のガスは、制御式ガス弁96によって調節された状態で、ガス配管86を経由して、ガス抜き配管94へ、またさらに吸入チャンバ14中に排出される。中間チャンバ22と吸入チャンバ14との間のガス通路を0psiに開放するために、ガス弁90を閉じると共にガス弁96を開いて、中間チャンバ22内のガス圧を0psiに低下させ、これによって中間チャンバ22のガス圧が0psiまで低下する。この時に、吸入チャンバ14と中間チャンバ22の間の弁28が、その両側のガス圧が等しいこと、およびその上にある吸入チャンバ内の液体の重量がかかるために開くことになる。次いで吸入チャンバ14内部の液体は、98の方向に流れて中間チャンバ22に入る。中間チャンバ22内の置換されたガスは、ガス配管86と94および解放弁96を通過して、吸入チャンバ14に流入する。液面HIセンサ100を中間チャンバ22内部に備えて、中間チャンバ22内部の液面高さが高さHIに達したという信号をコントローラに供給するようにし、この高さで中間タンク22は満杯になっているとして、液体吸入弁28を閉じるために、ガス弁96を閉じ、かつガス弁90を開き、中間チャンバ22内部にいくらかのガス圧を供給するようにしてもよい。その後に、排出チャンバ18内の液面高さが、フロート弁80の高さ以下に低下するときには、排出チャンバ18内部の液面高さを補充する必要がある。これを達成するためには、図2に示すように、ガス弁72および90を開いて、中間チャンバ22内部のガス圧を上げて、その圧力が、排出チャンバ18内部の加圧されたガス圧力と等しくなるようにする。中間チャンバ22のガス圧が上昇すると、液体制御弁28は閉じる。チャンバ22および18内のガス圧が等しくなると、液体制御弁32が開き、中間チャンバ22からの液体が102の方向に流れてチャンバ18中に入る。排出チャンバ18から排出されたガスは、ガス配管70、104、86中を流れ、ガス弁72、90を開いて中間チャンバ22中に入る。ここで排出チャンバ18からの液体排出は、排出チャンバ18の圧力が通常一定値に保たれているので、排出チャンバ18の充填過程中、概して一定の流速のままであることを理解すべきである。排出チャンバ18内部の液面高さが、フロート弁80より上に上昇すると、コントローラはガス弁90を閉じ、ガス弁96を開いて、中間チャンバ22内部のガス圧を下げる。その結果液体制御弁32が閉まり、したがって中間チャンバ22から排出チャンバ18への液体の流れを止める。中間チャンバ22内のガス圧が0psiに達すると、吸入チャンバ14と中間チャンバ22の間の液体制御弁28が開いて、中間チャンバ22を再充填することになる。
【0018】
したがって、ポンプ10は2段階で作動して、排出チャンバ18からの液体の流出が、円滑で脈動のない一定の流速を保つように、排出チャンバ18内部の圧力を連続的にほぼ一定値に維持する一方で、加圧した排出チャンバ18内の液体を補充することを理解すべきである。さらに、運転中のポンプ10は、主として排出チャンバ内の液面センサ80によって制御されることも理解すべきである。つまり、センサ80がコントローラ36に、排出チャンバ18内でさらに液体を必要としているという信号を供給すると、コントローラから適当なガス弁に信号が送られて、中間チャンバを排出チャンバの圧力レベルまで加圧し、この結果弁32が開いて、中間チャンバから排出チャンバに液体を流入させる。センサ80がコントローラに、排出チャンバは満杯であるという信号を送ると、コントローラは中間チャンバを減圧するための信号を送り、これによって弁32が閉まる。中間チャンバの圧力レベルが、吸入チャンバの圧力レベルに達すると、弁28が開いて、液体は吸入チャンバから中間チャンバ中に吸入される。排出チャンバ内の液面高さが、液面センサ80を作動させる高さまで再び低下すると、前記の2段階のプロセスが再開される。このようにして、排出チャンバ18の液面センサ80からの信号が、ポンプ10の運転のための制御信号を供給する。
【0019】
本発明のガス加圧ポンプの多くの用途を当業者は想定するであろう。そのような用途の第1は、再循環/流体配送ポンプである。このような装置においては、流体排出配管76は、排出配管120を経由して、制御式流体排出配送弁124に接続されている。したがって、弁124が開かれると、排出チャンバ18から排出配管120および弁124を経由して流体が外部装置に配送される。一方、液体の補充は、制御式液体弁52を使用して、液体を流体吸入配管50を経由して吸入チャンバ14に供給する。吸入チャンバ14内の低液面センサ56は、吸入配管50を経由しての液体の補充をトリガするのに必要なセンサ信号を送る。再循環配管128が液体排出配管120に接続されており、液体再循環弁132の制御の下で、吸入チャンバ14に液体を戻す。つまり、液体排出弁124が閉じているとき、液体再循環弁132は開いており、ポンプ10は再循環ポンプとして作動し続け、液体は排出チャンバ18を経由して絶え間なく排出されて、再循環配管128を経由して吸入チャンバ14へと再循環される。当業者には知られているように、液体再循環は、脱イオン水や多くの化学溶液において特に重要であり、本発明のガス加圧液体ポンプは、再循環の実施と、機械式ポンプ装置に伴う振動および液体脈動のない液体ポンプ排出の両方を達成する。
【0020】
図3は、本発明第2のポンプ実施形態202の装置200を示しており、このポンプは、通常半導体製造業界で実施されている多くの化学プロセスに適する流速一定式液体浴204を備える。図3に示すように、ポンプ10の共通の特徴と要素は、わかりやすいように、図1および2を参照して説明したものと、同じ番号をつけてある。ポンプ202は、吸入チャンバ14、排出チャンバ18、中間チャンバ22を区画するチャンバ壁24を含む。さらに、上述した制御式ガス弁およびガス配管は、ハウジング壁212で取り囲まれている。
【0021】
液体排出配管76はフィルタ216に接続されており、フィルタ216からの排出配管220は、浴204の底に配置された浴液体取込み口224に送り込まれる。液体は浴204を満たし、浴204の縁230を越えて外部に溢れて、浴保持液溜り234中に入る。廃液口248が、液溜り234のベースに配置されており、廃液配管254がポンプ202の吸入配管50と廃液口248を連結している。したがって、ポンプ装置200は基本的に液体再利用装置を構成していることを理解すべきである。つまり、排出配管からの液体は浴204を経由して循環されて、吸入配管50を経由して戻り、吸入チャンバへの液体流速が排出チャンバからの液体流速と同じとなって、ポンプ202の連続運転が維持される。
【0022】
図3に示すように、吸入チャンバ14は、通常開いている制御式ガス弁46によって制御されるガス抜出し口44を備える。制御式液体弁264を備える液体吸入配管260は、液体をシステム200に吸入するために利用される。制御式液体弁278を有する液体排出配管274は、システム200から液体を排出するために利用される。
【0023】
制御式ガス弁の構成に関して、窒素ガス60が、ガス配管62および制御式ガス弁66を経由して取り込まれる。この窒素ガスを手動で遮断できるようにするために、手動式ガス制御弁290がガス配管62にも配置されている。第2の手動式のガス制御弁294が、ポンプ202の弁制御システムに加圧ガスを供給するガス弁制御配管298へのガス流量を計測する。制御配管298内の制御ガスは、排出チャンバ・フロート弁センサ80によって制御される制御式ガス弁302と、排出チャンバ制御式ガス弁72に供給される。制御配管298の部分304は、制御弁302から、中間チャンバ制御式ガス弁90および中間チャンバ制御式ガス抜出し弁96へと、制御ガスを供給する。図3に示すように、排出チャンバ内のガス圧を一定に保ち、液体の排出の原動力を供給するために、制御式ガス弁72は開位置になるように加圧されている。制御式ガス弁302は、ガス弁制御配管298の部分304への弁制御ガスの流れを制御し、この結果制御配管298の部分304内のガス圧がセンサ80で制御される。つまり、弁302が開いているとき、制御配管304が加圧ガスを保持し、制御式ガス弁90は開いているのに対して、制御ガス弁96は閉じられている。弁302が、フロート弁80によって操作されて閉じられると、弁302が配管304内のガス圧を抜き、制御式ガス弁90が閉まり、制御式ガス弁96が開く。したがって、ポンプ202の2段階動作は、図3に示すように、中間チャンバ22へのガス吸入弁90と中間チャンバのガス抜き弁96の、2つのガス弁だけを制御するフロート弁80によって制御されることを理解すべきである。
【0024】
装置200内に示すように、ポンプ202は、図1および2に示し、以上に説明したポンプ10と同様に機能する。基本的に、排出チャンバ18が常時加圧されて、これによって排出チャンバ18内の液体が、排出配管76およびフィルタ216を経由し、液体浴204の取込み口224中へと、常時一定の制御可能な流速で排出されるように、排出チャンバ18へのガス圧取込み弁72は常時オンにされている。同時に、浴204内の液体は、常時浴204の縁230を越えて溢れ、浴保持液溜り234中に入り、続いて抜出し口248を経由して吸入チャンバ14の取込み配管50中を通り、その結果液体は常時吸入チャンバに流入している。このようにして、ポンプ202は、浴204を経由しての液体の円滑で絶え間ない流れを維持する。液体が排出チャンバから流出するとき、排出チャンバ18の液面高さは低下する。排出チャンバの液面高さがフロート弁80を作動させる程度に低下すると、弁302が開いて弁制御配管304内に加圧ガスを配給し、その結果配管304が加圧されて、制御ガス弁90を開かせると共に、制御ガス弁96を閉じさせる。この弁構成においては、ガス圧を排出チャンバ18のガス圧と等しくするように、加圧ガスが中間チャンバ22に供給され、その結果液体が弁32を経由して排出チャンバ18に流入し、そこに充満する。排出チャンバ内のフロート弁80が最高指示位置まで上昇すると、弁302が閉まると共に配管304内のガス圧が抜かれ、この結果ガス制御弁90が閉まり、ガス制御弁96が開く。この弁構成においては、中間チャンバ22内の加圧ガスは、吸入チャンバ14内に抜け出し、中間チャンバと吸入チャンバ内の圧力が等しいときに、液体弁28が開き、中間チャンバ22にさらに液体を供給する。この間、液体は排出チャンバから排出されており、排出チャンバ内の液面高さが再びセンサ80を作動させるまで低下すると、弁302が開いて制御配管304に加圧ガスを供給し、その結果、吸入弁90が開き、抜出し弁96が閉まり、このようにして2段階のポンプ・サイクルが再開される。したがって、ポンプ202の実際作動は原理的に、図3に示すように、加圧ガス60をガス弁システムに供給すること、および各チャンバ14、22、18特にチャンバ18内に液体が存在することに依存し、この結果として排出チャンバ18内の液面高さによって決まるフロート弁80の作動が、ポンプを通過する液体の流れを制御することを理解すべきである。つまり、ポンプ202の進行中の作動は、電気的に制御されるのではなく、十分な量の液体と共に、加圧ガス供給することによって制御される。
【0025】
本発明のさらなる実施形態を図4に示してあり、この実施形態においてはガス加圧液体ポンプ400が、デイ・タンクのような大型の液体保持タンク420とともに装備されており、このようなタンクは半導体加工業界において、脱イオン水などの液体の1日または数日の在庫を保管するのに一般的に使用されている。このようなタンクは、高さが10から15フィートあり、数千ガロンの液体を収納するようなものである。図4に示すように、デイ・タンク420は、円筒形の側壁424と、ドーム型天井428と、円形の基台432を有し、高さ436までの量の液体がその中に収納される。タンクを保持するポンプ構造440は、円形の基台448に接続された円筒形の側壁444を含む。ポンプ構造440は、2つの内壁460、464によって、中間チャンバ452と排出チャンバ456に分割されている。先述のポンプ実施形態10、202と比較として、デイ・タンク420はポンプの吸入チャンバ14として機能し、中間壁460に配置した2つの液体流制御フロート弁470によって、タンク420から中間チャンバ452への液体流が可能となり、中間壁464内に配置した3つの液体制御フロート弁474によって、中間チャンバ452から排出チャンバ456への液体の流れが可能になることを理解すべきである。液体排出配管480は、液体を、排出チャンバ456からそれを必要とする化学処理装置へと取り出すのに使用する。
【0026】
加圧窒素ガスが、供給源484から、ガス配管488を経由して、手動式ガス調整弁492および制御式ガス弁496に、さらに排出チャンバ456中に供給される。制御式ガス弁496および先述の他の制御式ガス弁および液体弁は、制御配線499を利用して様々な制御要素に電気的に接続したコンピュータ制御のシステム・コントローラ498を用いて、電気的に制御される。したがって、前述のガス加圧式ポンプの実施形態10および202と同様に、排出配管480内に制御された、連続的な液体排出を維持するために、制御式弁496を経由する加圧ガスを利用して、排出チャンバ456内部の液体排出圧力を一定に維持している。加圧窒素ガスは、配管488、手動式ガス制御弁500、制御式ガス圧力弁504を経由して、中間チャンバ452にも供給される。先述の実施形態10および202と同様に、中間チャンバ452内の圧力が排出チャンバ456内の圧力にほぼ等しいときに、中間チャンバ452からの液体が制御式弁474を経由して排出チャンバ456に流れるように、制御式弁504経由の加圧ガスを利用して、中間チャンバ452内の圧力を変化させる。制御式ガス弁512で制御されるガス抜出し配管508を利用して、中間チャンバ452から吸入チャンバ(デイ・タンク)420にガスを抜き出し、これによって吸入チャンバ(デイ・タンク)420から、制御式弁470を経由して中間チャンバ452への液体の流れを制御している。空気圧平準化弁520が、デイ・タンク420内部の大気圧を維持するために、吸入チャンバ(デイ・タンク)420に連結されている。液体を排出チャンバ456から背圧制御弁534を経由して、吸入チャンバ(デイ・タンク)420に復帰かつ再循環させるために、液体再循環/復帰配管530が液体排出配管480に連結されている。排出チャンバ456から、排出弁538を介してポンプ排出され、化学プロセスで使用され、かつ元に戻されない液体を補充するために、液体供給源540が、吸入配管544を介して吸入チャンバ(デイ・タンク)420に連結されている。
【0027】
ポンプ400は、先述のポンプ10および202と異なり、その作動を制御するためにフロートまたは液面センサを使用しない。そのかわりに、ポンプ400は、システム・コントローラ498のソフトウエアと電子制御システムを利用して、時系列方式でガス弁を開閉することにより制御される。特に、様々な液体流速および液体圧力が既知の場合には、ある量の液体を所定の流速で、排出チャンバから送出するのに要する時間を、排出チャンバのガス圧およびその他の既知のパラメータから計算することは比較的簡単である。また中間チャンバで使用される既知のガス圧を用いて、中間チャンバから排出チャンバを充填するのにかかる時間も計算可能であると共に、吸入チャンバから中間チャンバを充填するのに要する時間も同様に計算可能である。したがって、中間タンクおよび排出タンクを充填するために必要な時間間隔を決定すると、ガス圧力式ポンプ400は、時間弁制御モードで電子的に運転することが可能である。つまり、ポンプが排出チャンバから絶え間なく液体を排出している間に、ポンプの作動が一定して進行するように、吸入チャンバから適当な時間間隔で中間チャンバを充填し、中間チャンバを適切な時間間隔で排出チャンバ中に排出して空にすることができる。
【0028】
ポンプ実施形態400を問題なく運転を進行させるためには、排出チャンバ456の液面高さに対して、ある程度の制御が必要になることもある。特に、排出チャンバ456の液面高さが、排出チャンバ480内の加圧ガスが液体排出配管に流れ込むほど低くなりすぎることは許容できない。同様に、排出チャンバ456内の液面高さが、ガス吸入弁496より上まで上昇すると、弁の腐食が発生する可能性がある。このような問題を防ぐために、液面センサ550を排出チャンバ456と共に装備してもよい。液面センサ550は、配線554によって電子的にシステム・コントローラ498に接続され、システム・コントローラに液面情報を供給する。排出タンク456内の液面高さが低くなりすぎると、システム・コントローラ498は、各サイクル中に排出チャンバ456に流入する液体量が増加するように、制御弁474および470が各サイクル中に開かれている時間を電子的に増加させる。この結果として、排出チャンバ456の液面高さは上昇することになる。同様に、液面センサ550が、排出チャンバ456内の液面高さが高くなりすぎたという信号をシステム・コントローラ498に供給する場合には、システム・コントローラ498は各サイクルで弁470および474が開いている時間を減少させて、これによって各サイクル中に排出チャンバに流入する液体量は減少することになる。またその結果、排出チャンバ内の液面高さは低下することになる。
【0029】
中間チャンバ452および排出チャンバ456がデイ・タンク420の下方に配置された構成の、デイ・タンク用ポンプ・システム400を示し、それについて説明したが、同様にシステム400は、図5に示すようにセグメント化したポンプ600として構築することもできることを理解すべきである。そこに示すように、ポンプ400と同じ特徴要素には、同じ番号をつけてある。デイ・タンク420は、ポンプ600の吸入チャンバを備え、デイ・タンク420からの取出し口604は、液体配管608を経由して、別の中間チャンバ452内へと配管されている。コンピュータ制御式弁470が、吸入チャンバ(デイ・タンク420)から中間チャンバ452への液体の流れを制御し、制御弁474が中間チャンバから排出チャンバ456への液体の流れを制御する。システム600用のコンピュータ制御システム498およびガス弁システム612は、タンク・ポンプ実施形態400用のコンピュータ制御システムと同じでもよい。ポンプ実施形態600は、先に示したデイ・タンクを装備する、本発明の多重チャンバ液体ポンプ・システムの利用を容易にする。
【0030】
本発明を特定の好ましい実施形態について説明したが、本発明者の意図するところは、添付の特許請求の範囲が、本発明の真の精神と範囲を含んでなされる、様々な変更形態および修正形態すべてを包含することである。
【図面の簡単な説明】
【図1】 第1ステージにおける本発明のポンプを示す概略図である。
【図2】 第2ステージにおける、図1に示すポンプを表す概略図である。
【図3】 化学プロセス容器と共に装備された本発明の別の実施形態を示す概略図である。
【図4】 デイ・タンク中に装備された本発明のさらなる実施形態を示す概略図である。
【図5】 デイ・タンクと一緒に使用される本発明のさらなる実施形態を示す概略図である。
Claims (17)
- 液体を吸入するための手段を有する吸入チャンバと、
中間チャンバと、
液体を排出するための手段を有する液体排出チャンバと、
前記吸入チャンバと中間チャンバの間に連結された第1の液体流制御弁と、
前記中間チャンバと排出チャンバの間に連結された第2の液体流制御弁と、
前記排出チャンバ中に加圧ガスを供給して、前記排出チャンバから液体を排出するために、前記排出チャンバに連結されている加圧ガス供給源と
を有し、前記加圧ガス供給源が、前記中間チャンバに加圧ガスを供給するために前記中間チャンバに連結されており、
さらに、前記吸入チャンバから前記中間チャンバ中、および前記中間チャンバから前記排出チャンバ中への液体流を制御するために、前記中間チャンバの外へ、あるいはその中への加圧ガスの流れを制御できるポンプ・コントローラ
を備える多重チャンバ液体ポンプ。 - 前記ポンプ・コントローラが、中間チャンバ中へのガス流を制御する第1の制御式ガス弁と、前記中間チャンバからのガス流を制御する第2の制御式ガス弁を含む請求項1に記載のポンプ。
- 前記ポンプ・コントローラが、前記排出チャンバ内に配置された、前記第1および第2の制御可能なガス弁を制御する液面センサ装置を含む請求項2に記載のポンプ。
- 前記液面センサ装置が、前記ポンプ・コントローラに電子制御信号を供給し、前記ポンプ・コントローラが前記第1および第2制御式弁の作動を制御するための電子信号を供給する請求項3に記載のポンプ。
- 前記液面センサ装置が、前記第1および第2制御式ガス弁の作動を制御するために、ガス制御配管を経由するガス流を制御する請求項3に記載のポンプ。
- 前記第1および第2制御式ガス弁が、前記ポンプ・コントローラによってタイマ・モードで制御される請求項2に記載のポンプ。
- 前記排出チャンバから排出される液体が、前記液体を前記ポンプを経由して再循環させるために、その後に前記吸入チャンバ中に吸入される請求項1に記載のポンプ。
- 多重チャンバ式ポンプの吸入チャンバ中に液体を吸入するステップと、
前記吸入チャンバ内部の液体を、前記中間チャンバ内に流入させるように、前記ポンプの中間チャンバ内のガス圧を制御するステップと、
前記中間チャンバから前記ポンプの排出チャンバに液体を流入させるように、前記中間チャンバ内部のガス圧を制御するステップと、
前記排出チャンバから絶え間なく液体が流出するように、前記ポンプの前記排出チャンバ内部のガス圧を制御するステップと
を含む液体をポンピングする方法。 - 前記中間チャンバ内部のガス圧を制御するステップが、前記排出チャンバ内部の液面高さを決定するステップを含む請求項8に記載の方法。
- 前記排出チャンバ内部の前記液面高さを決定するステップが、フロート・センサの使用を含む請求項9に記載の方法。
- 前記中間チャンバ内部のガス圧を制御するステップが、前記排出チャンバ内部の液面高さが低いときに、前記中間チャンバ内部のガス圧を増大させるステップを含む請求項9に記載の方法。
- 前記中間チャンバ内部のガス圧を増大させるステップが、前記中間チャンバ内部の液体を前記排出チャンバ内に流入させる請求項11に記載の方法。
- 前記中間チャンバ内部のガス圧を制御するステップが、前記排出チャンバ内部の前記液面高さが高いときに、前記中間チャンバ内部のガス圧を低減するステップを含む請求項9に記載の方法。
- 前記中間チャンバ内部の前記ガス圧を減少させるステップが、前記吸入チャンバ内部の液体を前記中間チャンバ内に流入させる請求項13に記載の方法。
- 前記中間チャンバ内部の前記ガス圧を制御するステップが、所定の時間間隔で、前記中間チャンバ内部の前記ガス圧を変更するステップを含む請求項8に記載の方法。
- 前記ガス圧の前記変更のステップが、液体を前記中間チャンバから前記排出チャンバへと流入させるように、前記中間チャンバ内部の前記ガス圧を増大するステップを含む請求項15に記載の方法。
- 前記ガス圧の前記変更ステップが、前記吸入チャンバ内部の液体を前記中間チャンバ内に流入させるように、前記中間チャンバ内部のガス圧を低減するステップを含む請求項15に記載の方法。
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