JP2006026546A - 処理液供給システム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 ガス圧駆動式でダイヤフラム形の圧送ポンプ22のガス管路41には,電空レギュレータ43が設けられる。電空レギュレータ43と圧送ポンプ22との間には,ダイヤフラム形のアキュームレータ44が設けられる。第3の開閉バルブ26が開放され,レジスト液吐出ノズル7からレジスト液が吐出されると,圧送ポンプ22の給気室31内の急激な圧力変動がアキュームレータ44により緩和され,短時間で収束する。これにより,給気室31の圧力によって貯留室30から圧送されるレジスト液の流量も短時間で安定する。この結果,レジスト液吐出ノズル7から吐出されるレジスト液の吐出流量が安定する。
【選択図】 図2
Description
7 レジスト液吐出ノズル
10 レジスト液供給システム
22 圧送ポンプ
26 開閉バルブ
30 貯留室
31 給気室
41 ガス管路
43 電空レギュレータ
44 アキュームレータ
W ウェハ
Claims (5)
- 基板に処理液を供給する処理液供給システムであって,
基板に処理液を吐出する処理液吐出ノズルと,
前記処理液吐出ノズルに対し処理液供給流路を通じて処理液を圧送する圧送ポンプと,
前記処理液供給流路に設けられ,前記処理液吐出ノズルからの処理液の吐出の開始と停止を行う開閉バルブと,を備え,
前記圧送ポンプは,処理液を貯留する貯留室と,ガスが給気される給気室を有し,前記給気室のガス圧力により前記貯留室の処理液を圧送するものであり,
前記給気室にガスを給気するためのガス流路には,前記給気室のガス圧力を一定に維持するためのレギュレータが設けられ,
さらに,前記レギュレータと前記給気室との間の前記ガス流路には,前記給気室内のガス圧力の変動を緩和するアキュームレータが設けられていることを特徴とする,処理液供給システム。 - 前記圧送ポンプは,筺体内に,前記貯留室と,前記給気室と,前記貯留室と給気室との間に設けられ前記給気室内のガス圧力を前記貯留室内の処理液に伝達する圧力伝達部材と,を備え,
前記アキュームレータは,前記筐体内に設けられていることを特徴とする,請求項1に記載の処理液供給システム。 - 前記アキュームレータは,前記ガスが流通し容積変化が可能な蓄圧室を備え,
前記筐体内には,前記蓄圧室,前記給気室及び前記貯留室が順に直線状に配置され,
前記蓄圧室と前記給気室との間には,通気孔が形成された隔壁が設けられていることを特徴とする,請求項2に記載の処理液供給システム。 - 前記通気孔は,前記隔壁の複数箇所に形成され,さらに同一円周上に等間隔に形成されていることを特徴とする,請求項3に記載の処理液供給システム。
- 前記筺体の一部が可撓性のある材質で形成され,当該筺体の一部によって前記蓄圧室が形成されていることを特徴とする,請求項3又は4のいずれかに記載の処理液供給システム。
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