KR101132118B1 - 약액 공급 시스템 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (13)
- 약액이 채워진 펌프실과 작동실을 용적 가변 부재로 구분하고, 상기 작동실 안으로의 작동 기체의 공급에 의해 상기 용적 가변 부재를 구동시켜 상기 펌프실의 용적을 축소하며, 이러한 용적 변화에 기초하여 상기 약액을 배출하는 배출 펌프;상기 배출 펌프와 선단 노즐과의 사이에 설치된 개폐식의 배출 측 차단 밸브;상기 작동실로 설정압의 상기 작동 기체를 공급하는 제1 상태 또는 상기 작동실을 대기 개방하는 제2 상태 중 어느 하나로 전환하는 전환 수단;약액 공급 용기의 약액을 상기 배출 펌프에 송출하는 약액 공급 수단;가압 배관을 통해 상기 약액 공급 용기에 연결된 공기원;상기 배출 펌프와 상기 약액 공급 수단 사이에 설치된 개폐식의 공급 측 차단 밸브; 및상기 배출 펌프에서 약액을 배출할 때에는 상기 공급 측 차단 밸브를 닫은 위치로, 상기 배출 측 차단 밸브를 연 위치로 전환하고, 상기 전환 수단을 제1 상태로 전환하며, 상기 배출 펌프에 약액을 채울 때에는 상기 공급 측 차단 밸브를 연 위치로, 상기 배출 측 차단 밸브를 닫은 위치로 전환하고, 상기 전환 수단을 제2 상태로 전환하여 상기 약액 공급 수단에 의한 약액 공급을 개시할 수 있도록, 상기 양 차단 밸브 및 상기 전환 수단을 제어하는 제어 수단을 포함하며;상기 배출 펌프에 약액 공급 배관의 일단을 접속시키고, 상기 약액 공급 용기의 약액 내로 상기 약액 공급 배관의 타단을 배치하고;상기 약액 공급 수단은, 상기 공급 측 차단 밸브가 연 위치로 전환되고, 상기 배출 측 차단 밸브가 닫힌 위치로 전환된 상태에서, 상기 공기원으로부터, 밀폐된 약액 공급 용기 내부의 약액 상방의 공간으로 대기압보다 큰 설정압의 가압 기체를 공급하는 것만으로 약액을 송출하여, 상기 배출 펌프의 펌프실에 약액을 채우는 것을 특징으로 하는 약액 공급 시스템.
- 제1항에 있어서,상기 약액 공급 수단은, 상기 제어 수단에서의 약액 공급 지령에 의해, 밀폐된 약액 공급 용기 내부의 약액 상방의 공간으로 설정압의 가압 기체를 공급하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 시스템.
- 제2항에 있어서,상기 배출 펌프와 상기 약액 공급 용기 사이에 필터를 설치한 것을 특징으로 하는 약액 공급 시스템.
- 제1항에 있어서,상기 약액 공급 수단은, 밀폐된 약액 공급 용기 내부의 약액 상방의 공간으로 설정압의 가압 기체를 항시 공급하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 시스템.
- 제4항에 있어서,상기 배출 펌프와 상기 약액 공급 용기 사이에 필터를 설치한 것을 특징으로 하는 약액 공급 시스템.
- 약액이 채워진 펌프실과 작동실을 용적 가변 부재로 구분하고, 상기 작동실 내에서의 작동 기체의 공급에 의해 상기 용적 가변 부재를 구동시켜 상기 펌프실의 용적을 축소하며, 이러한 용적 변화에 기초하여 상기 약액을 배출하는 배출 펌프;상기 배출 펌프와 선단 노즐과의 사이에 설치된 개폐식의 배출 측 차단 밸브;상기 작동실로 설정압의 상기 작동 기체를 공급하는 제1 상태 또는 상기 작동실을 대기 개방하는 제2 상태 중 어느 하나로 전환하는 전환 수단;약액 공급 용기의 약액을 상기 배출 펌프에 송출하는 약액 공급 수단;가압 배관을 통해 상기 약액 공급 용기에 연결된 공기원;상기 배출 펌프와 상기 약액 공급 수단 사이에 설치된 개폐식의 공급 측 차단 밸브; 및상기 배출 펌프에서 약액을 배출할 때에는 상기 공급 측 차단 밸브를 닫은 위치로, 상기 배출 측 차단 밸브를 연 위치로 전환하고, 상기 전환 수단을 제1 상태로 전환하며, 상기 배출 펌프에 약액을 채울 때에는 상기 공급 측 차단 밸브를 연 위치로, 상기 배출 측 차단 밸브를 닫은 위치로 전환하고, 상기 전환 수단을 제2 상태로 전환하여 상기 약액 공급 수단에 의한 약액 공급을 개시할 수 있도록, 상기 양 차단 밸브 및 상기 전환 수단을 제어하는 제어 수단을 포함하며;상기 배출 펌프에 약액 공급 배관의 일단을 접속시키고, 상기 약액 공급 용기의 약액 내로 상기 약액 공급 배관의 타단을 배치하고;상기 약액 공급 수단은, 상기 공급 측 차단 밸브가 연 위치로 전환되고, 상기 배출 측 차단 밸브가 닫힌 위치로 전환된 상태에서, 상기 공기원으로부터, 밀폐된 약액 공급 용기 내부의 약액 상방의 공간으로 대기압보다 큰 설정압의 가압 기체를 공급하는 것만으로 약액을 송출하여, 상기 배출 펌프의 펌프실에 약액을 채우고;상기 배출 펌프에서는, 약액 배출과 약액 충전이 교대로 행해지며;상기 제어 수단은, 약액 배출 종료 시점에서 미리 결정된 시간이 경과한 후에 약액 충전을 개시할 수 있도록, 상기 양 차단 밸브 및 상기 전환 수단을 제어하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 시스템.
- 제6항에 있어서,상기 약액 공급 수단은, 상기 제어 수단에서의 약액 공급 지령에 의해, 밀폐된 약액 공급 용기 내부의 약액 상방의 공간으로 설정압의 가압 기체를 공급하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 시스템.
- 제7항에 있어서,상기 배출 펌프와 상기 약액 공급 용기 사이에 필터를 설치한 것을 특징으로 하는 약액 공급 시스템.
- 제6항에 있어서,상기 약액 공급 수단은 밀폐된 약액 공급 용기 내부의 약액 상방의 공간으로 설정압의 가압 기체를 항시 공급하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 시스템.
- 제9항에 있어서,상기 배출 펌프와 상기 약액 공급 용기 사이에 필터를 설치한 것을 특징으로 하는 약액 공급 시스템.
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Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004232071A JP4541069B2 (ja) | 2004-08-09 | 2004-08-09 | 薬液供給システム |
JPJP-P-2004-00232071 | 2004-08-09 | ||
PCT/JP2005/013919 WO2006016486A1 (ja) | 2004-08-09 | 2005-07-29 | 薬液供給システム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20070051880A KR20070051880A (ko) | 2007-05-18 |
KR101132118B1 true KR101132118B1 (ko) | 2012-04-05 |
Family
ID=35839259
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020077005377A KR101132118B1 (ko) | 2004-08-09 | 2005-07-29 | 약액 공급 시스템 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7988429B2 (ko) |
JP (1) | JP4541069B2 (ko) |
KR (1) | KR101132118B1 (ko) |
CN (1) | CN101018950A (ko) |
WO (1) | WO2006016486A1 (ko) |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4697882B2 (ja) * | 2006-05-19 | 2011-06-08 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理液供給装置及び処理液供給方法並びに処理液供給用制御プログラム |
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JP4445987B2 (ja) | 2007-09-06 | 2010-04-07 | 日本ピラー工業株式会社 | 流体機器と継手との接続構造 |
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- 2004-08-09 JP JP2004232071A patent/JP4541069B2/ja active Active
-
2005
- 2005-07-29 KR KR1020077005377A patent/KR101132118B1/ko active IP Right Grant
- 2005-07-29 WO PCT/JP2005/013919 patent/WO2006016486A1/ja active Application Filing
- 2005-07-29 US US11/659,727 patent/US7988429B2/en active Active
- 2005-07-29 CN CNA2005800267524A patent/CN101018950A/zh active Pending
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Publication number | Publication date |
---|---|
WO2006016486A1 (ja) | 2006-02-16 |
CN101018950A (zh) | 2007-08-15 |
US7988429B2 (en) | 2011-08-02 |
JP4541069B2 (ja) | 2010-09-08 |
US20070267065A1 (en) | 2007-11-22 |
JP2006049756A (ja) | 2006-02-16 |
KR20070051880A (ko) | 2007-05-18 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
N231 | Notification of change of applicant | ||
A201 | Request for examination | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20150224 Year of fee payment: 4 |
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FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160219 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170221 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180302 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190305 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20200302 Year of fee payment: 9 |