JP2000018407A

JP2000018407A - プロセスガス供給ユニット

Info

Publication number: JP2000018407A
Application number: JP10187066A
Authority: JP
Inventors: Katsuya Okumura; 勝弥奥村; Yuichi Mikata; 裕一見方; Kei Hattori; 圭服部; Yoshihisa Sudo; 良久須藤; Minoru Ito; 稔伊藤; Shinichi Nitta; 慎一新田
Original assignee: Toshiba Corp; CKD Corp
Current assignee: Toshiba Corp; CKD Corp
Priority date: 1998-07-02
Filing date: 1998-07-02
Publication date: 2000-01-18

Abstract

(57)【要約】【課題】小型化・短縮化し、コストダウンしたマスフ
ローコントローラシステムを提供すること。【解決手段】入口開閉弁が、遮断弁機能を備えるエア
オペレート式比例弁１５であり、入口開閉弁へ供給する
エア圧力を制御する制御弁３５、３６と、圧力センサ１
３の出力を受けて、入口開閉弁の出口ポート２１の圧力
を所定値になるように、制御弁３５、３６を制御する制
御手段３２とを有する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造工程で
使用されるプロセスガス供給ユニットに関し、さらに詳
細には、全体をコンパクト化したプロセスガス供給ユニ
ットに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、半導体製造工程において、エッチ
ングガス等のプロセスガスを供給するためのプロセスガ
ス供給ユニットが開発されている。そして、半導体製造
工程が、複数枚のウェハをバッチ処理する方法から、ウ
ェハを１枚づつ処理する枚葉処理方法に移行するように
なり、プロセスガス供給ユニットの小型化、特に全長の
短縮化がより強く要求されている。図６に示すように、
従来のプロセスガス供給ユニットは右側から、手動によ
り弁の開閉を行う手動弁６と、流体の圧力を一定に保持
するためのレギュレータ７と、流体の圧力を検出するた
めの圧力センサ３と、入口開閉弁５と、パージガスを供
給するためのパージ弁４と、供給される流体の質量流量
をコントロールするためのマスフローコントローラ２
と、出口開閉弁１とが順次接続されている。プロセスガ
スは、図中右端から図中左端へと送られる。

【０００３】ここで、従来のレギュレータ７の構造を図
７に示す。レギュレータ７は、上部ボディであるハンド
ル７４と、中部ボディ７５と、下部ボディ７７とから形
成されている。ハンドル７４には、軸７４ａが垂設され
ている。軸７４ａの図中下端部には、ハンドル７４によ
って弾性力が調節されるコイルスプリング７６が設けら
れている。コイルスプリング７６は、中部ボディ７５内
に配設されている。ダイヤフラム・ポペット７２は、外
周が中部ボディ７５と下部ボディ７７により挟み込まれ
て保持されている。外部への流体の漏れを防止するため
に、ダイヤフラム８１を外部シール部材７２ａにより下
部ボディ７７に押し付けている。下部ボディ７７には、
一次側ポート７１と、二次側ポート７８が形成されてい
る。一次側ポート７１の図中上端には、シート７９が固
定されている。外部シール部材７２ａの外側付根部とシ
ート７９との間には、固定部材７３が固設されている。
固定部材７３には、流体通路７３ａが形成されている。
シール７９の中央部には、弁孔８０が形成されている。

【０００４】従来のプロセスガス供給ユニットの作用に
ついて説明する。手動弁６を開き、流体をプロセスガス
供給ユニットに導入する。流体は、レギュレータ７で調
圧されて、入口開閉弁５からマスフローコントローラ２
へ導かれ、出口開閉弁１から一定量づつ吐出される。ま
た、プロセスガスの供給が終了した後、パージ弁４は、
マスフローコントローラ２内にプロセスガスが残存し
て、マスフローコントローラ２内が腐食しないように、
プロセスガスの排出と窒素ガス等のパージガスの導入を
数回繰り返す。

【０００５】ここで、レギュレータ７は、以下のように
して調圧する。レギュレータ７のハンドル７４を廻すこ
とにより、スプリング７６が圧縮し、下向きに所定の付
勢力を与える。ポペット弁７２ｂと保持部材７２ｃ及び
ダイヤフラム８１は、この所定の付勢力により押し下げ
られてシート７９から離れる。すると、弁孔８０が開
き、一次側ポート７１から流体が流れ込み、二次側の固
定部材７３の流体通路７３ａから二次側ポート７８へ流
体が流れ、二次側ポート７８の圧力が増圧する。流体の
圧力は、ダイヤフラム８１を押し上げる力とスプリング
７６の所定の付勢力がバランスするまで増圧される。そ
して、二次側ポート７８が設定圧力になると、ダイヤフ
ラム・ポペット７２は押し上がり、シート７９と接触し
て弁孔８０を閉じ、一次側ポート７１から二次側ポート
７８への流体の供給を止める。圧力センサ３において流
体の圧力が所定値であることを確認して、調圧が完了す
る。また、二次側ポート７８で流体を使用すると、二次
側ポート７８の圧力が下がり、スプリング７６の所定の
付勢力が打ち勝ち、ダイヤフラム・ポペット７２が下が
り、再度、一次側ポート７１から二次側ポート７８に流
体が供給される。

【０００６】しかし、図６に示すプロセスガス供給ユニ
ットでは、右端から左端までの全長が３７９ｍｍあり、
小型化・短縮化の要求を満たすことができなかった。そ
のため、本出願人は、特願平６−３４０３１６号におい
て、全長を短くするために、市販のマスフローコントロ
ーラを使用するのを止めて、マスフローコントローラの
センサ部であるマスフローメータと、出口開閉弁をエア
オペレート式比例弁として、マスフローメータの出力を
出口開閉弁にフィードバックして流量をコントロールす
るシステムを提案した。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
プロセスガス供給ユニットには、次のような問題があっ
た。すなわち、本出願人が提案した従来のマスフローメ
ータを用いたシステムでも、まだ全長が３００ｍｍを切
ることができず、小型化・短縮化への更なる要求が強か
った。また、コストダウンを図ることへの要求も強かっ
た。

【０００８】本発明は上記問題点を解決し、小型化・短
縮化し、コストダウンしたプロセスガス供給ユニットを
提供することを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明のプロセスガス供給ユニットは、次のような構
成を有している。（１）入口開閉弁と、マスフローコントローラと、圧力
センサと、出口開閉弁とを有するプロセスガス供給ユニ
ットであって、入口開閉弁が遮断弁機能を備えるエアオ
ペレート式比例弁であり、入口開閉弁へ供給するエア圧
力を制御する制御弁と、圧力センサの出力を受けて入口
開閉弁の出口ポート圧力を所定値になるように、制御弁
を制御する制御手段とを有している。

【００１０】次に、上記構成を有するプロセスガス供給
ユニットの作用を説明する。入口開閉弁をエアオペレー
ション比例弁とし、これにより圧力を所定値に維持する
ように制御し、また、エアオペレーション比例弁に遮断
弁機能を備えさせているので、レギュレータ及び開閉弁
の役割を１つの弁で機能させることができるため、プロ
セスガス供給ユニット全体の長さを２８６ｍｍと、３０
０ｍｍ以下とすることができる。また、２つの部材の役
割を１つの部材で機能させることができるので、コスト
ダウンすることができる。エアオペレーション比例弁で
ある入口開閉弁へ供給する圧力は、圧力センサの出力に
基づいて、いわゆるＥＶ制御弁を用いてパルス信号によ
り制御しているので、入口開閉弁の出力ポートにおける
圧力値を所定値に正確に維持することができる。

【００１１】

【発明の実施の形態】以下、本発明に係るプロセスガス
供給ユニットを具体化した実施の形態を図面を参照して
詳細に説明する。本発明の１つの実施の形態であるプロ
セスガス供給ユニットの全体構成図を図１に示す。本実
施の形態であるプロセスガス供給ユニットは、左端か
ら、ＥＶ制御弁である遮断機能付エアオペレイト式流量
コントロール弁１１と、マスフロメータ１２と、圧力セ
ンサ１３と、パージ弁１４と、ＥＶ制御弁である遮断機
能付エアオペレイト式圧力コントロール弁１５と、手動
弁１６によって構成されている。

【００１２】図２は、本実施の形態のプロセスガス供給
ユニットで使用される遮断機能付エアオペレート式圧力
コントロール弁１５の構造を示す断面図である。コント
ロール弁本体２３は中空であり、中空部の中心には、ダ
イヤフラム２４が周囲をコントロール弁本体２３に固定
された状態で付設されている。ダイヤフラム２４の中央
には、ダイヤフラム２４と弁体２８を連結するための弁
棒２５が付設されている。ダイヤフラム２４の上側のコ
ントロール弁本体２３には、復帰バネ２９が付設されて
おり、ダイヤフラム２４は復帰バネ２９により下向きに
付勢されている。

【００１３】弁棒２５の中間位置に圧縮空気の漏れを防
ぐためのダイヤフラム２４が、周囲をコントロール弁本
体２３に固定された状態で付設されている。これによ
り、コントロール弁本体２３の側面に形成された圧縮空
気供給孔３０から供給された圧縮空気は、弁棒２５を上
方向に移動させるよう作用する。コントロール弁本体２
３の下側を構成する弁部の中央には、弁入力ポート２６
が形成されている。弁入力ポート２６の右側には、弁出
力ポート２１が形成されている。弁出力ポート２１は、
マスフロメータ１２に連通している。弁入力ポート２６
の上端には、弁座２７が形成されている。

【００１４】次に、遮断機能付エアオペレイト式圧力コ
ントロール弁１５の制御部の構成を説明する。圧力セン
サ１３は、制御手段３２に接続している。制御手段３２
は、図示しない中央制御装置に接続されている。制御手
段３２には、中央制御装置より入力信号Ｔが入力され
る。制御手段３２は、パルス変換回路３３に接続してい
る。パルス変換回路３３は、供給用電磁弁３５と排気用
電磁弁３６の各コイルに接続している。一方、供給用電
磁弁３５の入力ポートには、圧縮空気の供給源３４が接
続している。また、供給用電磁弁３５の出力ポートは、
圧縮空気供給孔３０に接続している。また、排気用電磁
弁３６の入力ポートも、圧縮空気供給孔３０に接続して
いる。そして、排気用電磁弁３６の出力ポートは、排気
管へ接続している。

【００１５】次に、上記遮断機能付エアオペレイト式圧
力コントロール弁１５の全体の作用について説明する。
図２は、遮断機能付エアオペレイト式圧力コントロール
弁に圧縮空気が供給されていない状態を示している。こ
のとき、制御手段３２には、入力信号Ｔとして遮断信号
が入力されている。制御手段３２は、遮断信号を受け
て、パルス変換回路３３を介して、供給用電磁弁３５及
び排気用電磁弁３６の動作を停止している。従って、圧
縮空気供給孔３０には、全く圧縮空気が供給されていな
い。それにより、ダイヤフラム２４は復帰バネ２９によ
り下向きに付勢され、その付勢力により弁体２８が弁座
２７に押し付けられる。このとき、圧力センサ１３は、
流体が流れていないことを検出しており、制御手段３２
は、圧力が零であることを確認している。

【００１６】次に、制御手段３２に所定の圧力を保持す
る指令である入力信号Ｔが入力した場合を説明する。現
在の圧力が零であるから、制御手段３２は、入力信号Ｔ
との差を演算し、パルス変換回路３３はその差に基づい
て、供給用電磁弁３５及び排気用電磁弁３６に駆動パル
スを与える。供給用電磁弁３５及び排気用電磁弁３６
は、与えられたパルスに応じて開閉動作を行う。そし
て、パルス周波数に応じた弁の時間開閉により、パルス
状の空気圧が供給され、あるいは排出されるため、圧縮
空気供給孔３０に供給する圧縮空気の空気圧を容易かつ
迅速に微調整することが可能である。圧縮空気供給孔３
０より供給された圧縮空気は、ダイヤフラム２４を押し
上げて、弁体２８を弁座２７から離間させる。これによ
り、流体が流れる。復帰バネ２９は、強いバネである
が、ダイヤフラム２４を圧縮空気で駆動しているので、
復帰バネ２９が強くても問題がない。

【００１７】圧力センサ１３によって計測された圧力値
が制御手段３２にフィードバックされ、制御手段３２
は、入力信号Ｔとの差が減少するように、パルス変換回
路３３を介して供給用電磁弁３５及び排気用電磁弁３６
を制御する。そして、供給用電磁弁３５は、計測した圧
力値が入力信号Ｔより小さいときに、パルス変換手段か
ら与えられたパルスに応じて開閉動作を行い、ダイヤフ
ラム２４に作用する圧縮空気を供給する。また、排気用
電磁弁３６は、計測した圧力値が入力信号Ｔより大きい
ときに、パルス変換手段から与えられたパルスに応じて
開閉動作を行い、ダイヤフラム２４に作用する圧縮空気
を排気する。ダイヤフラム２４に作用する圧縮空気の空
気圧を供給用電磁弁３５と排気用電磁弁３６の両方を使
用して同時に制御しているので、高い応答性で空気圧を
制御でき、弁体２８の位置を制御できるため、正確な圧
力を迅速に得ることができる。

【００１８】上記遮断機能付エアオペレイト式圧力コン
トロール弁１５を用いた本実施の形態であるプロセスガ
ス供給ユニット全体の作用を説明する。手動弁１６を開
放して、遮断機能付エアオペレイト式圧力コントロール
弁１５へ流体を導入する。圧力センサ１３は、遮断機能
付エアオペレイト式圧力コントロール弁１５から出力さ
れた流体の圧力を計測する。この圧力の計測値に基づ
き、制御部３２は、遮断機能付エアオペレイト式圧力コ
ントロール弁１５が供給する流体の圧力を一定に保つよ
うに調節する。圧力が一定に保持された流体は、マスフ
ロメータ１２を通過する。マスフロメータ１２で計測さ
れた質量流量の計測値に基づき、遮断機能付エアオペレ
イト式流量コントロール弁１１は、流体の質量流量を制
御して、弁の開閉作動を行なう。また、パージ弁１４
は、マスフロメータ１２内に流体が付着して腐食しない
ように、マスフロメータ１２内の流体を吸い込み、窒素
ガス等のパージガスを供給する作業を数回繰り返す。

【００１９】上記した本実施の形態であるプロセスガス
供給ユニットを用いたところ、遮断機能付エアオペレイ
ト式圧力コントロール弁１５が供給する流体の圧力が一
定になり、マスフロメータ１２が検出する質量流量が安
定した。そこで、この結果を従来のものと比較して、図
３〜図５を用いて説明する。図３〜図５の各（ａ）は、
本実施の形態であるプロセスガス供給ユニットの実験結
果を示す。グラフＡは、遮断機能付エアオペレイト式圧
力コントロール弁１５の圧力変動を示し、縦軸に供給圧
力（ｋｇｆ／ｃｍ² ）をとり、また、横軸に経時変化
（０．５ｓｅｃ／ｄｉｖ）をとっている。グラフＢは、
マスフロメータ１２の流量変動を示し、縦軸には流量変
化（ｃｃ／ｍｉｎ）をとり、横軸にはグラフＡと同じ経
時変化をとっている。また、図３〜図５の各（ｂ）は、
従来のプロセスガス供給ユニットの実験結果を示す。グ
ラフＡは、レギュレータ７の圧力変動を示し、縦軸に供
給圧力（ｋｇｆ／ｃｍ² ）をとり、また、横軸に経時変
化（０．５ｓｅｃ／ｄｉｖ）をとっている。また、グラ
フＢは、マスフローコントローラ２の流量変動を示し、
縦軸には流量変化（ｃｃ／ｍｉｎ）をとり、横軸にはグ
ラフＡと同じ経時変化をとっている。

【００２０】図３（ａ）、（ｂ）のグラフＡに示すよう
に、遮断機能付エアオペレイト式圧力コントロール弁１
５とレギュレータ７とは、同じ圧力降下Ｓ１をしてい
る。ここで、圧力降下Ｓ１は、約０．０２ｋｇｆ／ｃｍ
² とする。圧力降下Ｓ１が発生した時点の流量変化につ
いて、（ａ）、（ｂ）のグラフＢを比較する。本実施の
形態であるプロセスガス供給ユニットにおいては、マス
フロメータ１２には流量変化が発生していない。しか
し、従来のプロセスガス供給ユニットのマスフローコン
トローラ２には、約２０ｃｃ／ｍｉｎの流量変化Ｐ１が
発生している。

【００２１】次に、図４（ａ）、（ｂ）のグラフＡに示
すように、遮断機能付エアオペレイト式圧力コントロー
ル弁１５とレギュレータ７とは、同じ圧力降下Ｓ２をし
ている。ここで、圧力降下Ｓ２は、約０．０４ｋｇｆ／
ｃｍ² とする。圧力降下Ｓ２が発生した時点の流量変化
について、（ａ）、（ｂ）のＢを比較する。本実施の形
態であるプロセスガス供給ユニットにおいては、マスフ
ロメータ１２には流量変化が発生しない。しかし、従来
のプロセスガス供給ユニットのマスフローコントローラ
２には、約４０ｃｃ／ｍｉｎの流量変化Ｐ２が発生して
いる。

【００２２】次に、図５（ａ）、（ｂ）のＡに示すよう
に、遮断機能付エアオペレイト式圧力コントロール弁１
５とレギュレータ７とは、同じ圧力降下Ｓ３をしてい
る。ここで、圧力降下Ｓ３は、約０．０６ｋｇｆ／ｃｍ
² とする。圧力降下Ｓ３が発生した時点の流量変化につ
いて、（ａ）、（ｂ）のＢを比較する。実施の形態であ
るプロセスガス供給ユニットにおいては、マスフロメー
タ１２には流量変化が発生しない。しかし、従来のプロ
セスガス供給ユニットのマスフローコントローラ２に
は、約６０ｃｃ／ｍｉｎの流量変化Ｐ３が発生してい
る。

【００２３】図３〜図５（ｂ）に示したように、従来の
プロセスガス供給ユニットは、レギュレータ７の圧力降
下にともない、マスフローコントローラ２で検出される
流量が大きく変動する。これは、レギュレータ７が圧力
変化に対応できる機能を有していないためである。つま
り、従来のプロセスガス供給ユニットは、作業開始時に
レギュレータ７において流体の圧力が所定値に調圧され
るが、レギュレータ７から供給される流体の圧力が常に
一定であるとは限らない。圧力センサ３が所定値と異な
った圧力値を計測しても、従来のプロセスガス供給ユニ
ットは、これを是正する機能を有していないので、所定
値でない圧力の流体をそのまま入口開閉弁５からマスフ
ローコントローラ２へ供給してしまう。従って、レギュ
レータ７から供給される流体の圧力が一定に保持されな
いので、マスフローコントローラ２で計測される質量流
量が一定に維持されない。

【００２４】しかし、本実施の形態であるプロセスガス
供給ユニットは、遮断機能付エアオペレイト式圧力コン
トロール弁１５を用いたことにより、圧力変化に随時対
応することができる。すなわち、圧力センサ１３により
計測された圧力値に基づいて制御装置３２が、所定値と
圧力値とを比較して、パルス回路３３に出力する。圧力
値が所定値よりも小さい場合には、パルス回路３３は、
供給用電磁弁３５を開放して、空気を遮断機能付エアオ
ペレイト式圧力コントロール弁１５に供給するパルスを
送る。供給用電磁弁３５から圧縮空気供給孔３０に空気
が供給されると、弁が開放され流体が供給される。一
方、圧力値が所定値よりも大きい場合には、排気用電磁
弁３６を開放して、圧縮空気供給孔３０から排気管へ空
気を排出するパルスを送るので、弁が開放されず流体は
供給されない。従って、遮断機能付エアオペレイト式圧
力コントロール弁１５から供給される流体の圧力値は一
定に保持されるので、マスフロメータ１２で検出される
流体の質量流量も、ほぼ一定に維持される。

【００２５】従って、本実施の形態であるプロセスガス
供給ユニットは、遮断機能付エアオペレイト式圧力コン
トロール弁１５を用いることにより圧力変化に随時対応
することができるので、従来のプロセスガス供給ユニッ
トよりも、圧力変化に対する応答性が高く、圧力値を所
定値に正確に維持することができる。

【００２６】本実施の形態であるプロセスガス供給ユニ
ットにおいては、上記遮断機能付エアオペレイト式圧力
コントロール弁１５を用いたことにより、次のような効
果を奏する。すなわち、遮断機能付エアオペレイト式圧
力コントロール弁１５が、従来のプロセスガス供給ユニ
ットで用いられていたレギュレータ７と入口開閉弁５が
果たしていた役割を果たす。従って、必要部材の数が２
つから１つに減り、プロセスガス供給ユニットの小型化
・短縮化をすることができる。つまり、従来のプロセス
ガス供給ユニットの右端から左端までの全長は３７９ｍ
ｍであったが、実施の形態であるプロセスガス供給ユニ
ットの右端から左端までの全長は２８６ｍｍであり、従
来のものよりも約２５％短縮することができる。また、
プロセスガス供給ユニットの構成も簡素化することがで
きる。更に、部材の数が減ることによって、コストダウ
ンすることができる。

【００２７】また、従来のプロセスガス供給ユニットに
おいては、レギュレータ７によって調圧された圧力の所
定値のみに基づいて、流体を供給していた。しかし、本
実施の形態であるプロセスガス供給ユニットにおいて
は、遮断機能付エアオペレイト式圧力コントロール弁１
５から供給される流体の圧力値を圧力センサ１３が計測
して、その圧力値に基づいて、制御手段３２が、遮断機
能付エアオペレイト式圧力コントロール弁１５から供給
される流体の圧力を一定に保持するよう制御している。
従って、図３〜図５に示すように、本実施の形態である
プロセスガス供給ユニットは、従来のプロセスガス供給
ユニットと比べて高い応答性を有しているので、出力ポ
ート２１の圧力値を所定値に正確に維持することがで
き、ひいては、プロセスガス供給ユニットが供給する流
体の流量を一定にすることができる。

【００２８】なお、本発明は上記実施の形態に何ら限定
されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲に
おいて以下のように実施することもできる。例えば、上
記各実施の形態では、比例制御弁として、パルス駆動電
磁弁を２つ使用する装置について説明したが、供給用電
磁弁３５と排気用電磁弁３６の代わりに、特開平３−７
４６０１号に開示されているノズルフラッパー機構を有
する比例制御弁を使用しても良い。また、実公平５−４
２２９６号に開示されている比例ソレノイドを有する比
例制御弁を使用しても良い。

【００２９】

【発明の効果】本発明のプロセスガス供給ユニットは、
入口開閉弁と、マスフローコントローラと、圧力センサ
と、出口開閉弁とを有するプロセスガス供給ユニットで
あって、入口開閉弁が、遮断弁機能を備えるエアオペレ
ート式比例弁であり、入口開閉弁へ供給するエア圧力を
制御する制御弁と、圧力センサの出力を受けて、前記入
口開閉弁の出口ポート圧力を所定値になるように、前記
制御弁を制御する制御手段とを有するので、全長を短く
することができ、プロセスガス供給ユニットを小型化・
短縮化して構造を簡素化することができる。また、遮断
弁機能付エアオペレート式比例弁を用いたことにより必
要部材の数が減り、コストダウンすることができる。ま
た、エアオペレーション比例弁である入口開閉弁へ供給
する圧力は、圧力センサの出力に基づいて、いわゆるＥ
Ｖ制御弁を用いてパルス信号により制御しているので、
入口開閉弁の出力ポートにおける圧力値を所定値に正確
に維持することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の１実施の形態であるプロセスガス供給
ユニットの全体構成を示す図である。

【図２】本発明のプロセスガス供給ユニットで使用され
るエアオペレート比例弁の構造を示す断面図である。

【図３】本発明のプロセスガス供給ユニットを用いた場
合の供給圧力の変動にともなうマスフローコントローラ
の流量変動（ａ）と、従来のプロセスガス供給ユニット
が用いた場合の供給圧力の変動にともなうマスフローコ
ントローラの流量変動（ｂ）を示す図である。

【図４】本発明のプロセスガス供給ユニットを用いた場
合の供給圧力の変動にともなうマスフローコントローラ
の流量変動（ａ）と、従来のプロセスガス供給ユニット
が用いた場合の供給圧力の変動にともなうマスフローコ
ントローラの流量変動（ｂ）を示す図である。

【図５】本発明のプロセスガス供給ユニットを用いた場
合の供給圧力の変動にともなうマスフローコントローラ
の流量変動（ａ）と、従来のプロセスガス供給ユニット
が用いた場合の供給圧力の変動にともなうマスフローコ
ントローラの流量変動（ｂ）を示す図である。

【図６】従来のプロセスガス供給ユニットの全体の構成
を示す図である。

【図７】従来のレギュレータの断面図を示す図である。

【符号の説明】

１５遮断機能付エアオペレイト式圧力コントロ
ール弁３５、３６制御弁１３圧力センサ２１出口ポート３２制御手段

フロントページの続き (72)発明者見方裕一神奈川県横浜市磯子区新杉田町８株式会社東芝内 (72)発明者服部圭神奈川県横浜市磯子区新杉田町８株式会社東芝内 (72)発明者須藤良久東京都千代田区内神田３丁目６番３号シーケーディ株式会社シーケーディ第二ビル内 (72)発明者伊藤稔東京都千代田区内神田３丁目６番３号シーケーディ株式会社シーケーディ第二ビル内 (72)発明者新田慎一東京都千代田区内神田３丁目６番３号シーケーディ株式会社シーケーディ第二ビル内Ｆターム(参考） 3H106 FB11 KK12

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】入口開閉弁と、マスフローコントローラ
と、圧力センサと、出口開閉弁とを有するプロセスガス
供給ユニットにおいて、前記入口開閉弁が、遮断弁機能を備えるエアオペレート
式比例弁であり、前記入口開閉弁へ供給するエア圧力を制御する制御弁
と、前記圧力センサの出力を受けて、前記入口開閉弁の出口
ポート圧力を所定値になるように、前記制御弁を制御す
る制御手段とを有することを特徴とするプロセスガス供
給ユニット。