JP2006059322A - 流体流制御装置及びシステム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 流体流制御装置5は、装置に流体を流入させるための注入口120と、装置から流体を流出させるための排出口125を含んでいる。この装置は、流体を受け取ってその流体を制御された圧力で送出するように構成された圧力調整部15も含んでいる。更に、圧力調整部により送出された流体を受け取って、その流体を制御された流量で送出するように構成された流量制御弁調節部を更に含んでいる。更に、流体の流量を測定するように構成された流量計25と、少なくとも流量計により測定された流量に従って少なくとも流量制御弁調節部を制御する制御装置115とを含んでいる。本装置は、流体を半導体処理工具に流入させるため及び/又は複数の流体を配合するために使用される。
【選択図】 図1
Description
図1と図2は、注入口120と排出口125を有する流体流制御装置5の或る実施形態を示している。注入口120は、図5に示すように流体源80に流体連通しており、流体が流体流制御装置5に流入できるように構成されている。流体流制御装置5で制御される流体は、流体の流れを制御できるようにするのに適した特性を有しているのであれば、どの様な流体でもよい。この流体は、液体、スラリー、気体状をしていてもよく、粘性と反応性は共に比較的低い。流体の例を幾つか挙げると、限定するわけではないが、水、溶融シリコン、プラチナ、銅、又は半導体製造技術において使用されるあらゆる他の流体の様なその他の流体がある。
随意的に、流体流制御装置5は、更に、図5に示すように1つ又は複数の圧力計24を含んでいる。圧力計24aを、圧力調整部10の上流に配置してもよい。このような例では、圧力計24aは、流体が圧力調整器15に入る前の流体の圧力を測定し、測定信号を制御装置115に送って、制御装置115が、感知された圧力に従って調整器のパイロット弁20を制御できるようにしている。これにより、圧力調整器15を、上流で発生する流体圧力の変動に対して調整できるようになる。
更に別の例では、フィードバックループは、それぞれ制御装置115に流量測定値と圧力測定値を送る流量計25と圧力計24a及び/又は24bとの両方を含んでいる。この様な例では、制御装置115は、この入力並びに他の入力(例えば、所望の流量)に従って、圧力及び流量コマンド信号を決め、次に、対応する圧力信号と流量信号を、調整器パイロット弁20とステッパモーター40にそれぞれ送る。
10 圧力調整部
15 圧力調整器
20 調整器パイロット弁
24a/b 圧力計
25 流量計
30 流量制御弁調節部
35 流量制御弁
40 モーター
45 流出弁
46 流出弁調節部
50a/b/c パイロット弁
55 パージ媒体弁調節部
60 パージ媒体弁
65 加圧物質供給源
65 遮断弁調節部
70 遮断弁
75 逆止弁
80 流体源
90 パージ媒体供給源
95 バスモジュール
100 PCボード
115 制御装置
120 注入口
125 排出口
135 表示装置
140 パージ媒体流入口
145 加圧物質流入口
150 雄コネクタ
155/160 雌コネクタ
Claims (26)
- 流体流制御装置において、
前記装置に流体を流入させるための注入口と、
前記装置から前記流体を流出させるための排出口と、
前記流体を受け取って、前記流体を制御された圧力で送出するように構成された圧力調整部と、
前記圧力調整部により送出された流体を受け取って、前記流体を制御された流量で送出するように構成された流量制御弁調節部と、
前記流体の流量を測定するように構成された流量計と、
少なくとも前記流量計により測定された流量に従って、少なくとも流量制御弁調節部を制御する制御装置と、を備えている流体流制御装置。 - 前記圧力調整部は、圧力調整器と、前記圧力調整器を空圧制御する調整器パイロット弁と、を備えている、請求項1に記載の流体流制御装置。
- 前記制御装置は前記調整器パイロット弁を制御する、請求項2に記載の流体流制御装置。
- 前記流体の圧力を測定するように構成された圧力計を更に備えており、前記制御装置は、少なくとも前記圧力計により測定された圧力に従って、前記調整器パイロット弁を制御する、請求項3に記載の流体流制御装置。
- 前記流量制御弁調節部は、流量制御弁と、前記流量制御弁を制御するステッパモーターと、を備えている、請求項1に記載の流体制御装置。
- 前記制御装置は前記ステッパモーターを制御する、請求項5に記載の流体流制御装置。
- 前記流量計は、前記流量制御弁から上流の流体の流量を測定する、請求項1に記載の流体流制御装置。
- 所望の流体流量を入力するための手段を更に備えており、前記制御装置は、少なくとも前記所望の流量と前記測定された流量とに従って、前記流量制御弁を制御する、請求項1に記載の流体流制御装置。
- 前記入力された所望の流量と前記測定された流量を表示する表示装置を更に備えている、請求項8に記載の流体流制御装置。
- 前記排出口を通して吸引を掛けるように構成された流出弁調節部を更に備えている、請求項1に記載の流体流制御装置。
- 前記流出弁調節部は、吸い戻し弁と、前記吸い戻し弁を空圧制御するパイロット弁と、を備えている、請求項10に記載の流体流制御装置。
- 流出弁調節部を更に備えており、前記制御装置は、前記圧力調整部と前記流量制御弁調節部が所望の流れの状態を求めて設定されると、前記流出弁調節部が流体遮断位置から流体流通位置に切り替わるように前記流出弁調節部を制御する、請求項1に記載の流体流制御装置。
- パージ媒体用の注入口と、少なくとも前記排出口を備えている装置の少なくとも一部を通るパージ媒体の流れを制御するように構成されたパージ媒体弁調節部と、を更に備えている、請求項1に記載の流体流制御装置。
- 前記パージ媒体弁調節部は、パージ媒体弁と、前記パージ媒体弁を空圧制御するパイロット弁と、を備えている、請求項13に記載の流体流制御装置。
- 前記装置からの流体の流れを前記注入口を介して制限するように構成された逆止弁を更に備えている、請求項1に記載の流体流制御装置。
- 加圧物質用の流入口を更に備えており、前記圧力調整部は、前記加圧物質を使用して空圧制御されるように構成されている、請求項1に記載の流体流制御装置。
- 流体流制御装置において、
前記装置に流体を流入させるための注入口と、
前記装置から前記流体を流出させるための排出口と、
前記流体を受け取って、前記流体を制御された圧力で送出するように構成された圧力調整部であって、圧力調整器と、前記圧力調整器を空圧制御する調整器パイロット弁と、を備えている圧力調整部と、
前記圧力調整部により送出された流体を受け取って、前記流体を制御された流量で送出するように構成された流量制御弁調節部であって、流量制御弁と、前記流量制御弁を制御するステッパモーターと、を備えている流量制御弁調節部と、
前記流体の流量を測定するように構成された流量計と、
前記ステッパモーターと前記調整器パイロット弁とを制御する制御装置であって、少なくとも前記流量計によって測定された流量に従って少なくともステッパモーターを制御する制御装置と、を備えている流体流制御装置。 - 前記流体の圧力を測定するように構成された圧力計を更に備えており、前記制御装置は、少なくとも前記圧力計によって測定された圧力に従って前記調整器パイロット弁を制御する、請求項17に記載の流体流制御装置。
- 半導体処理に使用されるシステムにおいて、
請求項1に記載の少なくとも1つの流体流制御装置と、
少なくとも1つの半導体処理工具であって、前記少なくとも1つの流体流制御装置からの流体を受け取る半導体処理工具と、を備えているシステム。 - 複数の流体の流れを制御するのに使用されるシステムにおいて、
第1流体流制御装置と、
第2流体流制御装置と、を備えており、
前記第1流体流制御装置と前記第2流体流制御装置は、それぞれ、前記請求項1に記載の流体流制御装置に従って構成されており、
前記第1流体流制御装置と前記第2流体流制御装置は互いに連通している、システム。 - 前記第1流体流制御装置は、雄コネクタを更に備えており、前記第2流体流制御装置は、前記雄コネクタに連結されるように構成された雌コネクタを更に備えている、請求項20に記載のシステム。
- 前記システムが制御ユニットと通信できるようにするよう構成されたバスモジュールを更に備えており、前記バスモジュールは、前記第2流体流制御装置の雄コネクタに連結するように構成された雌コネクタを更に備えている、請求項21に記載のシステム。
- 前記第1及び第2流体流制御装置は、それぞれ、所望の流体流量を入力するための手段を更に備えている、請求項20に記載のシステム。
- 前記第1及び第2流体流制御装置は、それぞれ、入力された前記所望の流量と前記測定された流量とを表示する表示装置を更に備えている、請求項23に記載のシステム。
- 複数の流体を配合するのに使用するシステムにおいて、
第1流体流制御装置と、
第2流体流制御装置と、を備えており、
前記第1流体流制御装置と前記第2流体流制御装置は、それぞれ、前記請求項1に記載の流体流制御装置に従って構成されており、
前記システムは、更にミキサーを備えており、前記第1及び前記第2流体流制御装置それぞれの排出口が前記ミキサーに流体連結されている、システム。 - 前記システムは、前記第1及び第2流体流制御装置を制御して、前記ミキサーに複数の流体の流れを供給するように構成されており、前記各流体の流れは、制御された流量と制御された流量の持続時間を有している、請求項25に記載のシステム。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US10/883,197 US20060000509A1 (en) | 2004-07-01 | 2004-07-01 | Fluid flow control device and system |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
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---|---|---|---|
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---|---|
US (1) | US20060000509A1 (ja) |
EP (1) | EP1624355A3 (ja) |
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CN (1) | CN1716138A (ja) |
SG (1) | SG118378A1 (ja) |
TW (1) | TW200625046A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104216424A (zh) * | 2014-08-29 | 2014-12-17 | 湖南三德科技股份有限公司 | 用于便携设备的精密流量控制器 |
JP2016021219A (ja) * | 2014-06-20 | 2016-02-04 | 株式会社堀場エステック | 中継器 |
WO2020031629A1 (ja) * | 2018-08-10 | 2020-02-13 | 株式会社フジキン | 流体制御装置、流体制御機器、及び動作解析システム |
JP2020091107A (ja) * | 2018-12-03 | 2020-06-11 | 株式会社堀場エステック | 流体制御装置、流体制御装置用制御方法、及び、流体制御装置用プログラム |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4461329B2 (ja) * | 2004-08-31 | 2010-05-12 | 旭有機材工業株式会社 | 流体制御装置 |
US8997789B2 (en) * | 2008-06-22 | 2015-04-07 | Malema Engineering Corporation | Internal leak detection and backflow prevention in a flow control arrangement |
US8381760B2 (en) * | 2008-07-14 | 2013-02-26 | Emerson Electric Co. | Stepper motor valve and method of control |
US8746275B2 (en) | 2008-07-14 | 2014-06-10 | Emerson Electric Co. | Gas valve and method of control |
CN101419469B (zh) * | 2008-12-04 | 2010-06-02 | 上海森和投资有限公司 | Plc自动控制的多晶硅还原炉进气系统 |
FR3060257B1 (fr) * | 2016-12-21 | 2019-07-05 | Exel Industries | Dispositif de distribution d'un produit sur une surface, comprenant un regulateur de pression pour egaliser les valeurs de pression de buses disposees le long d'un element de rampe de distribution |
CN110159928B (zh) * | 2018-02-13 | 2021-04-20 | 辛耘企业股份有限公司 | 流体控制装置 |
US11331660B2 (en) * | 2019-01-04 | 2022-05-17 | Funai Electric Co. Ltd. | Digital dispense system |
JP2021162105A (ja) * | 2020-03-31 | 2021-10-11 | ナブテスコ株式会社 | 流量制御装置、流量制御方法及び流量制御プログラム |
CN113340560B (zh) * | 2021-07-05 | 2022-05-17 | 中国空气动力研究与发展中心低速空气动力研究所 | 一种多普勒干涉仪校准调试系统、校准方法及调试方法 |
CN114215938B (zh) * | 2021-12-09 | 2023-06-06 | 浙江华章科技有限公司 | 一种稀释水流浆箱阀门控制系统 |
Citations (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63231603A (ja) * | 1987-03-20 | 1988-09-27 | Tokico Ltd | 流量制御装置 |
JPH0571503A (ja) * | 1991-09-09 | 1993-03-23 | Smc Corp | 真空ユニツト |
JPH05134711A (ja) * | 1991-11-13 | 1993-06-01 | Toshiba Corp | マスフローコントローラ制御ユニツト |
JPH07175525A (ja) * | 1993-12-20 | 1995-07-14 | Nippon M K S Kk | 質量流量制御装置 |
JPH07281760A (ja) * | 1994-04-12 | 1995-10-27 | Ckd Corp | マスフローコントローラ絶対流量検定システム |
JPH0994451A (ja) * | 1995-10-03 | 1997-04-08 | Nippon Sanso Kk | ガス混合装置 |
JPH1182763A (ja) * | 1997-09-05 | 1999-03-26 | Ckd Corp | 空気圧駆動用の開閉制御弁及びその制御装置 |
JPH11353030A (ja) * | 1998-06-08 | 1999-12-24 | Hitachi Metals Ltd | マスフローコントローラ |
JP2000018407A (ja) * | 1998-07-02 | 2000-01-18 | Ckd Corp | プロセスガス供給ユニット |
JP2000020137A (ja) * | 1998-06-30 | 2000-01-21 | Yamatake Corp | 流量制御装置 |
JP2001147722A (ja) * | 1999-11-22 | 2001-05-29 | Ace:Kk | ガス流量制御装置 |
JP2001184127A (ja) * | 1999-12-22 | 2001-07-06 | Stec Inc | 集積タイプのマスフローコントローラ |
JP2003091322A (ja) * | 2001-09-17 | 2003-03-28 | Ckd Corp | ガス供給集積弁 |
JP2003280745A (ja) * | 2002-03-25 | 2003-10-02 | Stec Inc | マスフローコントローラ |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3672129A (en) * | 1970-03-20 | 1972-06-27 | Lif O Gen Inc | Apparatus for dispensing sterile gas |
US3941148A (en) * | 1975-04-17 | 1976-03-02 | Sun Oil Company Of Pennsylvania | Control valve drive |
US5220940A (en) * | 1988-04-07 | 1993-06-22 | David Palmer | Flow control valve with venturi |
EP1316728B1 (en) * | 1991-09-10 | 2005-08-17 | Smc Kabushiki Kaisha | Fluid pressure apparatus |
JP2692770B2 (ja) * | 1992-09-30 | 1997-12-17 | シーケーディ株式会社 | マスフローコントローラ流量検定システム |
US5251653A (en) * | 1993-02-12 | 1993-10-12 | Tucker Orrin E | Control system for automatic fluid shut-off |
JP3174856B2 (ja) * | 1993-05-07 | 2001-06-11 | 日本エア・リキード株式会社 | 混合ガス供給装置 |
DE4431463C2 (de) * | 1994-09-03 | 1997-10-16 | Honeywell Ag | Kompaktregler für ein Regelventil |
JP3940853B2 (ja) * | 1997-03-11 | 2007-07-04 | Smc株式会社 | サックバックバルブ |
US6112137A (en) * | 1998-02-04 | 2000-08-29 | Gas Research Institute | Adaptive system for predictive control of district pressure regulators |
WO2000063757A1 (en) * | 1999-04-19 | 2000-10-26 | Millipore Corporation | Modular surface mount mass flow and pressure controller |
US6210482B1 (en) * | 1999-04-22 | 2001-04-03 | Fujikin Incorporated | Apparatus for feeding gases for use in semiconductor manufacturing |
US6119710A (en) * | 1999-05-26 | 2000-09-19 | Cyber Instrument Technologies Llc | Method for wide range gas flow system with real time flow measurement and correction |
US6209576B1 (en) * | 1999-08-05 | 2001-04-03 | Dan Davis | Automatic fluid flow shut-off device |
US6772781B2 (en) * | 2000-02-04 | 2004-08-10 | Air Liquide America, L.P. | Apparatus and method for mixing gases |
US6814096B2 (en) * | 2000-12-15 | 2004-11-09 | Nor-Cal Products, Inc. | Pressure controller and method |
TW552490B (en) * | 2001-10-18 | 2003-09-11 | Ckd Corp | Apparatus and method of pulse type flow rate adjustment |
-
2004
- 2004-07-01 US US10/883,197 patent/US20060000509A1/en not_active Abandoned
-
2005
- 2005-06-16 SG SG200503870A patent/SG118378A1/en unknown
- 2005-06-24 TW TW094121339A patent/TW200625046A/zh unknown
- 2005-06-24 EP EP20050253944 patent/EP1624355A3/en not_active Withdrawn
- 2005-06-28 JP JP2005188280A patent/JP2006059322A/ja active Pending
- 2005-06-30 KR KR1020050058346A patent/KR20060049712A/ko not_active Application Discontinuation
- 2005-07-01 CN CNA2005100818726A patent/CN1716138A/zh active Pending
Patent Citations (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63231603A (ja) * | 1987-03-20 | 1988-09-27 | Tokico Ltd | 流量制御装置 |
JPH0571503A (ja) * | 1991-09-09 | 1993-03-23 | Smc Corp | 真空ユニツト |
JPH05134711A (ja) * | 1991-11-13 | 1993-06-01 | Toshiba Corp | マスフローコントローラ制御ユニツト |
JPH07175525A (ja) * | 1993-12-20 | 1995-07-14 | Nippon M K S Kk | 質量流量制御装置 |
JPH07281760A (ja) * | 1994-04-12 | 1995-10-27 | Ckd Corp | マスフローコントローラ絶対流量検定システム |
JPH0994451A (ja) * | 1995-10-03 | 1997-04-08 | Nippon Sanso Kk | ガス混合装置 |
JPH1182763A (ja) * | 1997-09-05 | 1999-03-26 | Ckd Corp | 空気圧駆動用の開閉制御弁及びその制御装置 |
JPH11353030A (ja) * | 1998-06-08 | 1999-12-24 | Hitachi Metals Ltd | マスフローコントローラ |
JP2000020137A (ja) * | 1998-06-30 | 2000-01-21 | Yamatake Corp | 流量制御装置 |
JP2000018407A (ja) * | 1998-07-02 | 2000-01-18 | Ckd Corp | プロセスガス供給ユニット |
JP2001147722A (ja) * | 1999-11-22 | 2001-05-29 | Ace:Kk | ガス流量制御装置 |
JP2001184127A (ja) * | 1999-12-22 | 2001-07-06 | Stec Inc | 集積タイプのマスフローコントローラ |
JP2003091322A (ja) * | 2001-09-17 | 2003-03-28 | Ckd Corp | ガス供給集積弁 |
JP2003280745A (ja) * | 2002-03-25 | 2003-10-02 | Stec Inc | マスフローコントローラ |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016021219A (ja) * | 2014-06-20 | 2016-02-04 | 株式会社堀場エステック | 中継器 |
US10216162B2 (en) | 2014-06-20 | 2019-02-26 | Horiba Stec, Co., Ltd. | Fluid control and measurement system with a relay |
CN104216424A (zh) * | 2014-08-29 | 2014-12-17 | 湖南三德科技股份有限公司 | 用于便携设备的精密流量控制器 |
CN104216424B (zh) * | 2014-08-29 | 2019-04-09 | 湖南三德科技股份有限公司 | 用于便携设备的精密流量控制器 |
WO2020031629A1 (ja) * | 2018-08-10 | 2020-02-13 | 株式会社フジキン | 流体制御装置、流体制御機器、及び動作解析システム |
KR20200139787A (ko) * | 2018-08-10 | 2020-12-14 | 가부시키가이샤 후지킨 | 유체 제어 장치, 유체 제어 기기, 및 동작 해석 시스템 |
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