JP5933171B2 - 有機発光素子及びその製造方法 - Google Patents
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Description
[m−MTDATA(750Å)/α−NPD(150Å)/ジスチリルアリーレン(DSA)(300Å):2,5,8,11−テトラ−t−ブチルペリレン(TBPe)(3%)/Alq3(200Å)/LiF(80Å)/Al(3,000Å)]
アノードは、コーニング(Corning)15Ω/cm2(1,200Å)ITOガラス基板を、50mmx50mmx0.7mmサイズに切り、イソプロピルアルコールと純水との中で、それぞれ5分間超音波洗浄した後、30分間UV(ultraviolet)オゾン洗浄して使用する。前記基板上部にm−MTDATAを真空蒸着し、正孔注入層を750Å厚に形成する。次に、前記正孔注入層の上部にα−NPDを150Å厚に真空蒸着し、正孔輸送層を形成する。正孔輸送層を形成した後、この正孔輸送層の上部に、DSAをホストとし、ドーパントとしてTBPeを3%使用し、これを真空蒸着し、300Å厚に発光層を形成する。その後、前記発光層の上部にAlq3を真空蒸着し、200Å厚の電子輸送層を形成する。この電子輸送層の上部に、LiF 80Å(電子注入層)と、Al 3,000Å(カソード電極)とを順次に真空蒸着し、LiF/Al電極を形成する。
第1パッシベーション膜として、酸化物であるSiO2を使用し、第2パッシベーション膜として、窒化物であるSiNxを使用したことを除いては、実施例1と同一に有機発光素子を製造する。
50kV、2×10−6TorrでO2(10sccm)ガスでもってイオンドース量1×1017イオン/cm2で、60分間実施したことを除いては、実施例1と同一に有機発光素子を製造する。
第1電極、有機膜及び第2電極が順次に積層されてなされた有機電界発光部が形成された封止基板を製造する。次に、前記第2電極の上部に、平均粒径100nm以下のCa粉末を、酸素ガス雰囲気下で真空熱蒸着させることによって、水分吸収層を形成する。
前記実施例1及び比較例によって製造された有機発光素子に対して、水分及び外気に対する透過程度を調べた。
10 基板
20 有機発光部
30 第1パッシベーション膜
40 第2パッシベーション膜
50 イオン注入による成分
Claims (16)
- 第1電極、有機膜及び第2電極を順次に含む有機発光部が形成された基板と、
前記基板及び前記有機発光部を覆う、順次に積層された2層のパッシベーション膜と、を含む有機発光素子であり、
前記基板と第1パッシベーション膜との間に、基板の成分、第1パッシベーション膜の成分、及びHe、Ne、Ar、Kr、Xe、N 2 またはO 2 からなる群から選択された一つ以上からなる第1混合層を含み、
前記第1パッシベーション膜と、前記第1パッシベーション膜を覆う第2パッシベーション膜との間に、第1パッシベーション膜の成分、第2パッシベーション膜の成分、及びHe、Ne、Ar、Kr、Xe、N 2 またはO 2 からなる群から選択された一つ以上からなる第2混合層を含み、
前記第1パッシベーション膜及び第2パッシベーション膜は、互いに異なる成分からなり、該成分は、酸化物、窒化物、酸窒化物またはそれらの混合物からなり、
前記第1混合層が、前記有機発光部を除外した前記第1パッシベーション膜の部分に形成されることを特徴とする有機発光素子。 - 前記酸化物は、MoOx(x=2〜4)、Al2O3、Sb2O3、BaO、CdO、CaO、Ce2O3、CoO、Cu2O、DyO、GdO、HfO2、La2O3、Li2O、MgO、NbO、NiO、Nd2O3、PdO、Sm2O3、ScO、SiO2、SrO、Ta2O3、TiO、WO3、VO2、YbO、Y2O3、ZnOまたはZrOであることを特徴とする請求項1に記載の有機発光素子。
- 前記窒化物は、AlN、BN,NbN、SiN、TaN、TiN、VN、YbNまたはZrNであることを特徴とする請求項1に記載の有機発光素子。
- 前記酸窒化物は、SiONまたはAlONであることを特徴とする請求項1に記載の有機発光素子。
- 前記第1パッシベーション膜及び第2パッシベーション膜それぞれは、透光度が90%以上100%以下であることを特徴とする請求項1に記載の有機発光素子。
- 前記基板は、ガラス、プラスチック、ポリマーまたは金属であることを特徴とする請求項1に記載の有機発光素子。
- 前記第1混合層及び第2混合層の厚みは、それぞれ0を超えて6,000nmまでであることを特徴とする請求項1に記載の有機発光素子。
- 前記第1混合層及び第2混合層内で、前記第1パッシベーション膜の成分の濃度、または前記第2パッシベーション膜の成分の濃度が、それぞれのパッシベーション膜から基板側に、順次低下することを特徴とする請求項1に記載の有機発光素子。
- 第1電極、有機膜及び第2電極を順次に含む有機発光部が形成された基板を準備する段階と、
前記基板及び前記有機発光部の上に第1パッシベーション膜を蒸着させる段階と、
前記第1パッシベーション膜上にイオンビームを注入する段階と、
第2パッシベーション膜を前記第1パッシベーション膜上に蒸着させる段階と、
前記第2パッシベーション膜上にイオンビームを注入する段階と、を含み、
前記第1パッシベーション膜上にイオンビームを注入する段階が、前記有機発光部を除外した第1パッシベーション膜の部分にイオンビームを注入し、前記基板と第1パッシベーション膜との間に、基板の成分、第1パッシベーション膜の成分及びイオン注入による成分からなる第1混合層を形成することを特徴とし、
前記第2パッシベーション膜上にイオンビームを注入する段階が、第2パッシベーション膜全体にイオンビームを注入し、前記第1パッシベーション膜と第2パッシベーション膜との間に、第1パッシベーション膜の成分、第2パッシベーション膜の成分及びイオン注入による成分からなる第2混合層を形成することを特徴とする有機発光素子の製造方法。 - 前記第1パッシベーション膜及び第2パッシベーション膜は、それぞれ互いに異なる成分からなり、該成分は、酸化物、窒化物、酸窒化物またはそれらの混合物であることを特徴とする請求項9に記載の有機発光素子の製造方法。
- 前記酸化物は、MoOx(x=2〜4)、Al2O3、Sb2O3、BaO、CdO、CaO、Ce2O3、CoO、Cu2O、DyO、GdO、HfO2、La2O3、Li2O、MgO、NbO、NiO、Nd2O3、PdO、Sm2O3、ScO、SiO2、SrO、Ta2O3、TiO、WO3、VO2、YbO、Y2O3、ZnOまたはZrOであることを特徴とする請求項10に記載の有機発光素子の製造方法。
- 前記窒化物は、AlN、BN,NbN、SiN、TaN、TiN、VN、YbNまたはZrNであることを特徴とする請求項10に記載の有機発光素子の製造方法。
- 前記酸窒化物は、SiONまたはAlONであることを特徴とする請求項10に記載の有機発光素子の製造方法。
- 前記第1パッシベーション膜及び第2パッシベーション膜は、それぞれ透光度が90%以上100%以下であることを特徴とする請求項9に記載の有機発光素子の製造方法。
- 前記基板は、ガラス、プラスチック、ポリマーまたは金属であることを特徴とする請求項9に記載の有機発光素子の製造方法。
- 前記イオンビームは、He、Ne、Ar、Kr、Xe、N2またはO2からなる群から選択される一つ以上であることを特徴とする請求項9に記載の有機発光素子の製造方法。
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