JP5912310B2 - ウェーハの加工方法 - Google Patents
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Description
はじめに、一実施形態の加工方法で加工されるウェーハと、その加工方法で用いるサポートウェーハを説明する。
図1の(a)は一実施形態の加工方法によって裏面研削による薄化加工が施される円板状のウェーハ10の斜視図であり、(b)はウェーハ10の断面図である。ウェーハ10は、シリコンやガリウムヒ素等の半導体材料からなる電子デバイス用の基板ウェーハであって、例えば500〜700μm程度の厚さを有している。ウェーハ10の表面10aには格子状の分割予定ライン11が設定されており、この分割予定ライン11で囲まれた多数の矩形状領域に、ICやLSI等の電子回路を有するデバイス12が形成されている。図1(b)に示すように、ウェーハ10の外周縁13には、表面10a側から裏面10b側にわたって断面半円弧状となるように面取り加工が施されている。
図2の(a)はサポートウェーハ20の斜視図であり、(b)はサポートウェーハ20の側面図である。である。サポートウェーハ20は、ウェーハ10と径および厚さが概ね同程度の円板状のウェーハである。サポートウェーハ20は、ハンドリングが容易な所定の剛性を有する材料から構成され、例えば、ウェーハ10と同じ半導体材料、あるいはガラス等によって形成されたものが用いられる。図2(b)に示すように、サポートウェーハ20の外周縁23には、ウェーハ10と同様に表面20a側から裏面20b側にわたって断面半円弧状となるように面取り加工が施されている。
次に、一実施形態に係るウェーハ10の薄化加工の方法を説明する。
はじめに、ウェーハ10の面取り加工されている外周縁13を、表面10a側から裏面10bに至らない深さまで除去するとともに、裏面10b側に外周縁13の残存部を残す(外周縁除去ステップ)。外周縁除去ステップを実施するには、図3〜図5に示すように、ウェーハ10を保持する回転可能な円板状の保持テーブル31と切削手段35とを備えた切削装置を用いる。
上記実施形態によれば、ウェーハ10の表面10a側から外周縁13の厚さの一部を除去して裏面10b側に残存部14を残す外周縁除去ステップを実施した後、ウェーハ10の表面10a側をサポートウェーハ20上に貼り付ける貼り合わせウェーハ形成ステップを行い、この後、ウェーハ10の裏面10a側から残存部14を除去する残存部除去ステップを行うことにより、面取り加工されていたウェーハ10の外周縁13を厚さ方向全域にわたって確実に、かつ、サポートウェーハ20を損傷させることなく除去することができる。
なお、上記実施形態の外周縁除去ステップにおいては、切削手段の切削ブレード37によってウェーハ10の外周縁13の表面10a側を除去しているが、除去するには切削ブレード37での切削以外の、例えばエッチング、研削ホイールやカップホイール等による研削といった手法を採用してもよい。
10…ウェーハ
10a…ウェーハの表面
10b…ウェーハの裏面
13…外周縁
14…残存部
20…サポートウェーハ
37…切削ブレード
Claims (2)
- ウェーハの加工方法であって、
ウェーハ表面の外周縁を裏面に至らない深さまで切削ブレードで除去するとともに裏面側に残存部を残す外周縁除去ステップと、
該外周縁除去ステップを実施した後、ウェーハの表面側をサポートウェーハ上に貼り付けてウェーハの裏面側が露出した貼り合わせウェーハを形成する貼り合わせウェーハ形成ステップと、
該貼り合わせウェーハ形成ステップを実施した後、切削ブレードでウェーハ裏面側から前記残存部を除去する残存部除去ステップと、
該残存部除去ステップを実施した後、ウェーハの裏面を研削または研磨して所定厚さへと薄化する薄化ステップと、
を備えることを特徴とするウェーハの加工方法。 - 前記薄化ステップを実施した後、前記ウェーハを前記サポートウェーハから剥離する剥離ステップを備えることを特徴とする請求項1に記載のウェーハの加工方法。
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