JP5881938B2 - ワークの研削方法 - Google Patents
ワークの研削方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5881938B2 JP5881938B2 JP2010185067A JP2010185067A JP5881938B2 JP 5881938 B2 JP5881938 B2 JP 5881938B2 JP 2010185067 A JP2010185067 A JP 2010185067A JP 2010185067 A JP2010185067 A JP 2010185067A JP 5881938 B2 JP5881938 B2 JP 5881938B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- workpiece
- grinding
- work
- chuck table
- rotation center
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
- Grinding Of Cylindrical And Plane Surfaces (AREA)
Description
2a,2b…電極ランド
3…SAW素子チップ
4a,4b…バンプ
5…樹脂層
6,6A〜6D…ワーク
11…ワーク研削装置
12…チャックテーブル
13…研削ホイール
13a…支持部
13b…ホイール部
14…上下方向移動装置
15…回転軸
Claims (4)
- マトリクス状に配置された複数の電子部品素子が一体化されてなり、後に前記複数の電子部品素子に分割されることが予定されている集合体であり、割れ易い方向を有するワークを研削するワークの研削方法であって、
回転駆動されるテーブルの回転中心が前記ワークの下面の外側に位置するように前記テーブル上に前記ワークを配置して前記テーブルを回転させる工程と、
回転している前記テーブル上の前記ワークの上面に、前記テーブルと同一方向に回転駆動されている研削ホイールを当接させ、前記ワークを上面から研削する工程とを備える、ワークの研削方法。 - 前記研削ホイールにより前記ワークを研削した際に前記ワーク上面に形成される研削痕が延びる方向が、前記ワークの割れ易い方向と交差する方向である、請求項1に記載のワークの研削方法。
- 前記テーブル上に、複数の前記ワークを各ワークの下面の外側に前記テーブルの回転中心が位置するように配置し、前記研削ホイールにより前記複数のワークを研削する、請求項1または2に記載のワークの研削方法。
- 前記複数のワークが、前記テーブル上において、前記回転中心の周りにおける周方向に均一に分散配置されている、請求項3に記載のワークの研削方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010185067A JP5881938B2 (ja) | 2010-08-20 | 2010-08-20 | ワークの研削方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010185067A JP5881938B2 (ja) | 2010-08-20 | 2010-08-20 | ワークの研削方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012040653A JP2012040653A (ja) | 2012-03-01 |
JP5881938B2 true JP5881938B2 (ja) | 2016-03-09 |
Family
ID=45897521
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010185067A Active JP5881938B2 (ja) | 2010-08-20 | 2010-08-20 | ワークの研削方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5881938B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015085414A (ja) * | 2013-10-29 | 2015-05-07 | 株式会社ディスコ | パッケージ基板の加工方法 |
JP6165020B2 (ja) * | 2013-10-29 | 2017-07-19 | 株式会社ディスコ | 加工方法 |
JP6850569B2 (ja) * | 2016-09-09 | 2021-03-31 | 株式会社ディスコ | 研磨方法 |
JP7129895B2 (ja) * | 2018-12-10 | 2022-09-02 | 株式会社ディスコ | 被加工物の研削方法 |
JP7451241B2 (ja) | 2020-03-13 | 2024-03-18 | 株式会社東京精密 | 加工装置 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002075941A (ja) * | 2000-08-28 | 2002-03-15 | Disco Abrasive Syst Ltd | 半導体チップの研削方法 |
-
2010
- 2010-08-20 JP JP2010185067A patent/JP5881938B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2012040653A (ja) | 2012-03-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN107305864B (zh) | SiC晶片的加工方法 | |
JP5881938B2 (ja) | ワークの研削方法 | |
JP5657302B2 (ja) | 切削方法 | |
TWI767022B (zh) | 基板處理方法及基板處理系統 | |
JP4892201B2 (ja) | 貼合せワークの外周エッジ部の段差加工方法及び装置 | |
TWI546854B (zh) | The method of grinding | |
JP5498857B2 (ja) | ウェーハの加工方法 | |
TW201824376A (zh) | 晶圓及晶圓的加工方法 | |
TWI816969B (zh) | 載板移除方法 | |
JP2003273053A (ja) | 平面研削方法 | |
TWI668751B (zh) | Grinding method of workpiece | |
JP2012222310A (ja) | ウェーハの加工方法 | |
CN113400101A (zh) | 磨削方法 | |
TW201909269A (zh) | 晶圓加工方法 | |
JP7258489B2 (ja) | 半導体装置の製造方法及び製造装置 | |
JP2014069277A (ja) | 切削装置 | |
JP5912310B2 (ja) | ウェーハの加工方法 | |
JP6742772B2 (ja) | 面取り装置及び面取り方法 | |
JP7313775B2 (ja) | ウェーハの加工方法 | |
JP6991673B2 (ja) | 剥離方法 | |
TW202111798A (zh) | 晶圓之磨削方法 | |
JP2006100644A (ja) | 半導体ウェハの研削装置及びその研削方法 | |
JPH0837169A (ja) | 半導体基板の研削方法及び研削装置及び半導体装置の製造方法 | |
KR100910916B1 (ko) | 실리콘 잉곳의 표면 가공방법 | |
JP5944581B2 (ja) | 半導体ウエハ研削装置、半導体ウエハの製造方法、及び半導体ウエハの研削方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130606 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140311 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140313 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140408 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20140909 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160203 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5881938 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |