JP5498857B2 - ウェーハの加工方法 - Google Patents
ウェーハの加工方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5498857B2 JP5498857B2 JP2010120225A JP2010120225A JP5498857B2 JP 5498857 B2 JP5498857 B2 JP 5498857B2 JP 2010120225 A JP2010120225 A JP 2010120225A JP 2010120225 A JP2010120225 A JP 2010120225A JP 5498857 B2 JP5498857 B2 JP 5498857B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- dressing board
- cutting
- processing method
- grinding
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000003672 processing method Methods 0.000 title claims description 29
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims description 117
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 25
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 25
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 9
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 158
- 238000000034 method Methods 0.000 description 43
- 230000008569 process Effects 0.000 description 37
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 14
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 description 11
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 5
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 4
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 239000007767 bonding agent Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 1
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004831 Hot glue Substances 0.000 description 1
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Grinding Of Cylindrical And Plane Surfaces (AREA)
- Grinding-Machine Dressing And Accessory Apparatuses (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
- Dicing (AREA)
Description
以下、本発明の実施の形態について添付図面を参照して詳細に説明する。
本発明に係るウェーハの加工方法においては、(1)複数のデバイスが形成されたウェーハにドレッシングボードを貼着する工程(ドレッシングボード貼着ステップ)と、(2)切削装置の切削ブレードによってウェーハに切削溝を形成する工程(切削ステップ)と、(3)研削装置によってドレッシングボードを除去する工程(ドレッシングボード除去ステップ)と、を経て、ウェーハを個々のデバイスに分割する。ウェーハを切削する際、切削と同時にドレッシングボードによって切削ブレードをドレッシングすることにより、切削ブレードに付着した異物を排除して切削ブレードの目詰まりを低減するものである。
最初に、本発明に係るウェーハの加工方法において、加工対象となるウェーハについて簡単に説明する。
続いて、ウェーハにドレッシングボードを貼着する工程について説明する。ドレッシングボード貼着工程においては、ウェーハ1がドレッシングボードに貼着される。図1(a)は、ドレッシングボード貼着工程において、ドレッシングボードに貼着される前の状態のウェーハ1の斜視図である。図1(b)は、図1(a)に示す一点鎖線における断面模式図である。
続いて、ウェーハ1に切削溝を形成する工程について説明する。切削溝形成工程においては、ドレッシングボード21に貼着されたウェーハ1の表面1aに対して切削装置により切削溝が形成される。切削溝形成工程において、ドレッシングボード21に貼着されたウェーハ1は、切削装置に搬入および搬出するための環状フレームに支持される。図2(a)は、環状フレームに支持された状態のウェーハ1を示す斜視図である。図2(b)は、図2(a)に示す一点鎖線における断面模式図である。
続いて、ウェーハ1に貼着したドレッシングボード21を研削によって除去する工程について説明する。ドレッシングボード除去工程においては、研削装置により、切削溝形成工程で切削溝44が形成されたウェーハ1の裏面1bに貼着されたドレッシングボード21が接着剤22と共に除去される。図4は、本発明に係るウェーハ1の加工方法に適用される研削装置50の要部を示す斜視図である。
続いて、ドレッシングボード21が除去されたウェーハ1を薄化する工程(ウェーハ薄化ステップ)について説明する。ウェーハ薄化工程においては、ドレッシングボード除去工程でドレッシングボード21及び接着剤22が除去されたウェーハ1が所望の仕上げ厚みまで薄化される。なお、ここでは、ウェーハ薄化工程を、ドレッシングボード除去工程と独立する工程として説明するが、ドレッシングボード除去工程の一部に組み込むことが可能である。
実施の形態1で示したウェーハ1の加工方法とは異なる方法について説明する。実施の形態1に係るウェーハ1の加工方法においては、ドレッシングボード除去工程に継続してウェーハ薄化工程を行っている。実施の形態2に係るウェーハ1の加工方法においては、実施の形態1に係るウェーハ1の加工方法で説明したドレッシングボード貼着工程の前にウェーハ薄化工程を行う点で、実施の形態1に係るウェーハ1の加工方法と相違する。
12 デバイス
13 TEG
21 ドレッシングボード
22 接着剤
31 ダイシングテープ
32 環状フレーム
41 切削ブレード
42 ブレードユニット
43 保持テーブル
44 切削溝
51 チャックテーブル
51a 保持面
52 研削ホイール
53 研削ユニット
54 研削砥石
55 保護テープ
Claims (3)
- 表面に分割予定ラインに区画されて複数のデバイスが形成されたウェーハを前記分割予定ラインに沿って個々の前記デバイスに分割するウェーハの加工方法であって、
前記ウェーハの裏面を前記ウェーハの外径と同一或いは大きい外径を有するドレッシングボードの表面に接着剤によって貼着するドレッシングボード貼着ステップと、
前記ドレッシングボードが裏面に貼着された前記ウェーハの表面側から前記ドレッシングボードの厚さ方向中間部までの切り込み深さで前記ウェーハを前記分割予定ラインに沿って切削する切削ステップと、
前記切削ステップの後に、前記ウェーハの表面に保護テープを貼着する保護テープ貼着ステップと、
前記ウェーハの裏面に貼着されている前記ドレッシングボード及び前記接着剤を研削し、前記ドレッシングボード及び前記接着剤を前記ウェーハの裏面から除去するドレッシングボード除去ステップと、を具備することを特徴とするウェーハの加工方法。 - 前記ドレッシングボード除去ステップにおいて、前記ドレッシングボード及び前記接着剤を除去後更に前記ウェーハを研削し前記ウェーハを所望の仕上げ厚みまで薄化することを特徴とする請求項1記載のウェーハの加工方法。
- 前記ドレッシングボード貼着ステップの前に、前記ウェーハを所望の仕上げ厚みまで薄化するウェーハ薄化ステップを含むことを特徴とする請求項1記載のウェーハの加工方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010120225A JP5498857B2 (ja) | 2010-05-26 | 2010-05-26 | ウェーハの加工方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010120225A JP5498857B2 (ja) | 2010-05-26 | 2010-05-26 | ウェーハの加工方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011249499A JP2011249499A (ja) | 2011-12-08 |
JP5498857B2 true JP5498857B2 (ja) | 2014-05-21 |
Family
ID=45414419
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010120225A Active JP5498857B2 (ja) | 2010-05-26 | 2010-05-26 | ウェーハの加工方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5498857B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9545730B2 (en) | 2012-07-31 | 2017-01-17 | Koninklijke Philips N.V. | Hair clipping device |
US10093029B2 (en) | 2012-07-31 | 2018-10-09 | Koninklijke Philips N.V. | Hair clipping device |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013172115A (ja) * | 2012-02-23 | 2013-09-02 | Zhihao Chen | エコ加工のウェハー製造方法 |
JP5912696B2 (ja) * | 2012-03-13 | 2016-04-27 | 株式会社ディスコ | 研削方法 |
JP6196846B2 (ja) * | 2013-08-29 | 2017-09-13 | 株式会社ディスコ | 被加工物の分割方法 |
JP2017100255A (ja) * | 2015-12-03 | 2017-06-08 | 株式会社ディスコ | ウエーハの加工方法 |
JP6955977B2 (ja) * | 2017-11-24 | 2021-10-27 | 株式会社ディスコ | チップの形成方法 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3464388B2 (ja) * | 1998-07-01 | 2003-11-10 | 株式会社東芝 | 半導体ウェーハの分割加工方法 |
JP4207493B2 (ja) * | 2001-10-24 | 2009-01-14 | サンケン電気株式会社 | 半導体素子の製造方法 |
JP2004207591A (ja) * | 2002-12-26 | 2004-07-22 | Renesas Technology Corp | 半導体装置の製造方法 |
JP2007152440A (ja) * | 2005-11-30 | 2007-06-21 | Kyocera Kinseki Corp | 硬脆材の加工方法 |
JP5003023B2 (ja) * | 2006-06-01 | 2012-08-15 | ソニー株式会社 | 基板処理方法及び半導体装置の製造方法 |
JP2008062374A (ja) * | 2006-08-10 | 2008-03-21 | Disco Abrasive Syst Ltd | ウェーハ固定プレート |
JP2008258412A (ja) * | 2007-04-05 | 2008-10-23 | Shinko Electric Ind Co Ltd | シリコンウエハの個片化方法 |
JP5214332B2 (ja) * | 2008-05-27 | 2013-06-19 | 株式会社ディスコ | ウエーハの切削方法 |
JP5254679B2 (ja) * | 2008-06-23 | 2013-08-07 | 株式会社ディスコ | 切削ブレードのドレス方法 |
-
2010
- 2010-05-26 JP JP2010120225A patent/JP5498857B2/ja active Active
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9545730B2 (en) | 2012-07-31 | 2017-01-17 | Koninklijke Philips N.V. | Hair clipping device |
US10093029B2 (en) | 2012-07-31 | 2018-10-09 | Koninklijke Philips N.V. | Hair clipping device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2011249499A (ja) | 2011-12-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5498857B2 (ja) | ウェーハの加工方法 | |
JP5916513B2 (ja) | 板状物の加工方法 | |
TWI732012B (zh) | 加工裝置 | |
JP5963537B2 (ja) | シリコンウエーハの加工方法 | |
JP2004096112A (ja) | 半導体ウェーハの処理法 | |
JP5912311B2 (ja) | 被加工物の研削方法 | |
JP5443192B2 (ja) | サファイア基板の加工方法 | |
JP6192778B2 (ja) | シリコンウエーハの加工装置 | |
JP2008277602A (ja) | 半導体集積回路装置の製造方法 | |
JP2017092135A (ja) | デバイスの製造方法 | |
JP2014027000A (ja) | 研削装置 | |
KR102320761B1 (ko) | 웨이퍼의 가공 방법 및 연마 장치 | |
JP6999322B2 (ja) | ウエーハの研削方法 | |
JP2012222310A (ja) | ウェーハの加工方法 | |
JP4537778B2 (ja) | ビトリファイドボンド砥石の目立て方法 | |
JP2014069277A (ja) | 切削装置 | |
JP5357672B2 (ja) | 研削方法 | |
JP2009269128A (ja) | 研削装置及び研削方法 | |
JP7118558B2 (ja) | 被加工物の加工方法 | |
JP5860216B2 (ja) | ウエーハの面取り部除去方法 | |
JP5912310B2 (ja) | ウェーハの加工方法 | |
CN111799218A (zh) | 晶片的分割方法 | |
JP7187113B2 (ja) | 再生ウェーハの製造方法 | |
JP6231334B2 (ja) | 薄板基板の研削加工方法およびそれに用いる研削加工装置 | |
US20230395401A1 (en) | Wafer processing method and wafer processing system |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130415 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140213 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140218 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140310 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5498857 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |