JP5907776B2 - Pcbで汚染された大型機器の処理方法及びそれに用いる処理装置 - Google Patents
Pcbで汚染された大型機器の処理方法及びそれに用いる処理装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5907776B2 JP5907776B2 JP2012078524A JP2012078524A JP5907776B2 JP 5907776 B2 JP5907776 B2 JP 5907776B2 JP 2012078524 A JP2012078524 A JP 2012078524A JP 2012078524 A JP2012078524 A JP 2012078524A JP 5907776 B2 JP5907776 B2 JP 5907776B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid
- cleaning
- pcb
- processing
- cleaning liquid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000012545 processing Methods 0.000 title claims description 121
- 238000003672 processing method Methods 0.000 title claims description 12
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 271
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 205
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 claims description 58
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 57
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical group CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 48
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 46
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 claims description 13
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 12
- 238000012360 testing method Methods 0.000 claims description 9
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 5
- 238000005070 sampling Methods 0.000 claims description 3
- 238000004064 recycling Methods 0.000 claims description 2
- 238000012856 packing Methods 0.000 claims 1
- 150000003071 polychlorinated biphenyls Chemical class 0.000 description 13
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 10
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 10
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 150000001722 carbon compounds Chemical class 0.000 description 8
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 5
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 5
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005695 dehalogenation reaction Methods 0.000 description 4
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 4
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 3
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 239000002440 industrial waste Substances 0.000 description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 150000002013 dioxins Chemical class 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000000852 hydrogen donor Substances 0.000 description 2
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 2
- -1 tetrachlorobenzene tetrachloride Chemical compound 0.000 description 2
- RZNAUCXHYSSBOQ-UHFFFAOYSA-N 1,1'-biphenyl dihydrochloride Chemical compound Cl.Cl.C1(=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 RZNAUCXHYSSBOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AUGNBQPSMWGAJE-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-trichloro-4-(2,3-dichlorophenyl)benzene Chemical compound ClC1=C(Cl)C(Cl)=CC=C1C1=CC=CC(Cl)=C1Cl AUGNBQPSMWGAJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPZGRMZPZLOPBS-UHFFFAOYSA-N 1,3-dichloro-2,2-bis(chloromethyl)propane Chemical compound ClCC(CCl)(CCl)CCl KPZGRMZPZLOPBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHMZSHBMMYKPTM-UHFFFAOYSA-N C(C=C1)=CC=C1C1=CC=CC=C1.Cl.Cl.Cl.Cl.Cl Chemical compound C(C=C1)=CC=C1C1=CC=CC=C1.Cl.Cl.Cl.Cl.Cl MHMZSHBMMYKPTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LKNJXAOGEUWHBW-UHFFFAOYSA-N Cl.Cl.Cl.C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 Chemical compound Cl.Cl.Cl.C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 LKNJXAOGEUWHBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- XILYOLONIFWGMT-UHFFFAOYSA-N benzene;dihydrochloride Chemical compound Cl.Cl.C1=CC=CC=C1 XILYOLONIFWGMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQTYQCAVOMQEFJ-UHFFFAOYSA-N benzene;trihydrochloride Chemical compound Cl.Cl.Cl.C1=CC=CC=C1 MQTYQCAVOMQEFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000001784 detoxification Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 238000000874 microwave-assisted extraction Methods 0.000 description 1
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Processing Of Solid Wastes (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Description
2)洗浄工程を複数回実施した後、該洗浄工程の替わりに、洗浄液抜き出し後の大型機器に新たな洗浄液を入れて大型機器と第1バッファタンクとの間で循環洗浄する後洗浄工程を実施することを特徴とする1)に記載のPCBで汚染された大型機器の処理方法、
3)大型機器に入れる新たな洗浄液を、タンクローリーから供給することを特徴とする1)又は2)に記載のPCBで汚染された大型機器の処理方法、
4)大型機器に入れる洗浄液が、イソプロピルアルコールであることを特徴とする1)〜3)のいずれかに記載のPCBで汚染された大型機器の処理方法、
5)洗浄工程を経た大型機器の部品を解体して部材を得る解体工程と、その後、該部材に対して拭き取り試験、洗浄液試験又は部材採取試験を行い、規制値を満たす該部材はリサイクル又は廃棄し、満たさない該部材は前記分解処理工程で得られた処理液に浸漬してPCBを処理液に溶解させる溶解工程とをさらに含むことを特徴とする1)〜4)のいずれかに記載のPCBで汚染された大型機器の処理方法。
前記大型機器から抜き出した洗浄液を貯留する第1バッファタンク、
第1バッファタンクから移送した洗浄液を貯留する供給液タンク、触媒充填装置、マイクロ波処理装置、PCB分解処理後の処理液を貯留する処理液タンク及び供給液タンクに移送した洗浄液を循環させる液循環手段を備えたマイクロ波装置ユニット、
前記PCB分解処理工程を経てPCB濃度が規制値以下になった処理液を貯留する第2バッファタンク、及び、
洗浄液、処理液を移送する送液手段、
を具備することを特徴とする分解、組み立て可能な処理装置、
7)大型機器を分解して得た部材を浸漬する洗浄槽と、該洗浄槽へ前記処理液タンクの処理液を移送する送液手段と、をさらに有することを特徴とする6)に記載の分解、組み立て可能な処理装置。
分解処理工程では、供給液タンクと処理液タンクを別個に設けているため、抜き出した洗浄液の受け入れと、分解処理後の処理液のバッファタンクへの移送を同時に行うことができる。PCB分解処理が終了した洗浄液は、順次バッファタンクに移送し、最後に卒業判定を実施した後に特別管理産業廃棄物として払い出し・処分する。
これに対して、例えば図2に示すような、第1バッファタンク2のみを有する従来の装置では、第1バッファタンク2内の洗浄液を一部抜き出して、供給液タンク3に移送しPCB分解処理を行う場合には、第1バッファタンク2からの洗浄液の抜き出しを行っている間、トランス1の循環洗浄を停止せざるを得ない。また、PCBの分解処理が終了した処理液は第1バッファタンク2に戻されるため、未使用の洗浄液を追加してトランス1の循環洗浄を行うことが難しい。
図2に示す処理フローに従い容器処理を実施した。なお、図2のマイクロ波装置ユニット20を構成する供給液タンク3、処理液タンク6、触媒充填装置4、マイクロ波処理装置5は、図1と同じ仕様である。
図1に示す処理フローに従い容器処理を実施した。
2 第1バッファタンク
2a ポンプ
3 供給液タンク
4 触媒充填装置
5 マイクロ波処理装置
6 処理液タンク
7 第2バッファタンク
7a ポンプ
8 洗浄槽
8a ポンプ
9 タンクローリー
10 オーバーフロー配管
11 液循環手段(11a、11b)
11a ポンプ
11b 配管
11c 配管
12 配管
13 液循環手段(13a、13b、13c、13d)
13a、13b ポンプ
13c、13d 配管
14 配管
15 配管
16 配管
17 配管
18 配管
19 配管
20 マイクロ波装置ユニット
Claims (7)
- 洗浄液を用いてPCBで汚染された大型機器の内部を循環洗浄しながら、洗浄中の洗浄液から所定量の洗浄液を第1バッファタンクに適宜に抜き出し、洗浄液抜き出し後の大型機器に新たに洗浄液を入れて循環洗浄する洗浄工程と、抜き出した洗浄液の一部を、第1バッファタンクから、洗浄液を貯留する供給液タンクに移送し、供給液タンク内の洗浄液にアルカリを添加した後、該洗浄液をPCB分解触媒を充填した触媒充填装置に流通させながらマイクロ波を照射して洗浄液中のPCBを分解し、触媒充填装置流通後の洗浄液を処理液タンクに戻す分解処理工程と、を並行して実施し、処理液タンクに戻された処理液に対してPCB濃度を測定し、規制値を満たさない処理液は、再び、供給液タンクに戻し、満たす処理液は第2バッファタンクに移送することを特徴とするPCBで汚染された大型機器の処理方法。
- 洗浄工程を複数回実施した後、該洗浄工程の替わりに、洗浄液抜き出し後の大型機器に新たな洗浄液を入れて大型機器と第1バッファタンクとの間で循環洗浄する後洗浄工程を実施することを特徴とする請求項1に記載のPCBで汚染された大型機器の処理方法。
- 大型機器に入れる新たな洗浄液を、タンクローリーから供給することを特徴とする請求項1又は2に記載のPCBで汚染された大型機器の処理方法。
- 大型機器に入れる洗浄液が、イソプロピルアルコールであることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のPCBで汚染された大型機器の処理方法。
- 洗浄工程を経た大型機器の部品を解体して部材を得る解体工程と、その後、該部材に対して拭き取り試験、洗浄液試験又は部材採取試験を行い、規制値を満たす該部材はリサイクル又は廃棄し、満たさない該部材は前記分解処理工程で得られた処理液に浸漬してPCBを処理液に溶解させる溶解工程とをさらに含むことを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のPCBで汚染された大型機器の処理方法。
- PCBで汚染された大型機器内部の洗浄液を循環させる液循環手段、
前記大型機器から抜き出した洗浄液を貯留する第1バッファタンク、
第1バッファタンクから移送した洗浄液を貯留する供給液タンク、触媒充填装置、マイクロ波処理装置、PCB分解処理後の処理液を貯留する処理液タンク及び供給液タンクに移送した洗浄液を循環させる液循環手段を備えたマイクロ波装置ユニット、
前記PCB分解処理工程を経てPCB濃度が規制値以下になった処理液を貯留する第2バッファタンク、及び、
洗浄液、処理液を移送する送液手段、
を具備することを特徴とする分解、組み立て可能な処理装置。 - 大型機器を分解して得た部材を浸漬する洗浄槽と、該洗浄槽へ前記処理液タンクの処理液を移送する送液手段と、をさらに有することを特徴とする請求項6に記載の分解、組み立て可能な処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012078524A JP5907776B2 (ja) | 2012-03-30 | 2012-03-30 | Pcbで汚染された大型機器の処理方法及びそれに用いる処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012078524A JP5907776B2 (ja) | 2012-03-30 | 2012-03-30 | Pcbで汚染された大型機器の処理方法及びそれに用いる処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013208510A JP2013208510A (ja) | 2013-10-10 |
JP5907776B2 true JP5907776B2 (ja) | 2016-04-26 |
Family
ID=49526927
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012078524A Active JP5907776B2 (ja) | 2012-03-30 | 2012-03-30 | Pcbで汚染された大型機器の処理方法及びそれに用いる処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5907776B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6213186B2 (ja) * | 2013-11-25 | 2017-10-18 | 東京電力ホールディングス株式会社 | 汚染機器の洗浄方法 |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5925335A (ja) * | 1982-07-30 | 1984-02-09 | Kitamura Gokin Seisakusho:Kk | Pcbの無害化処理装置 |
US4935114A (en) * | 1988-09-15 | 1990-06-19 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Microwave-enhanced chemical processes |
JP3106180B2 (ja) * | 1996-12-13 | 2000-11-06 | 工業技術院長 | 超臨界水によるポリ塩化ビフェニルの無害化方法 |
JP4370381B2 (ja) * | 1999-05-28 | 2009-11-25 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 有害有機化合物のマイクロ波−ソルボサーマル連続処理法 |
JP3930295B2 (ja) * | 2001-11-13 | 2007-06-13 | 三菱重工業株式会社 | 有機塩素化合物含有機器の処理方法 |
JP2003230638A (ja) * | 2002-02-07 | 2003-08-19 | Toshiba Corp | 有害有機塩素化合物の無害化処理システムおよび無害化処理された生成物と廃棄物のリサイクル方法 |
JP2004201702A (ja) * | 2002-11-08 | 2004-07-22 | Tokyo Electric Power Co Inc:The | ポリ塩化ビフェニール混合物の脱塩素化方法 |
JP2006142278A (ja) * | 2004-10-21 | 2006-06-08 | Tokyo Electric Power Co Inc:The | 有機ハロゲン化合物内蔵機器の無害化処理方法 |
JP3976329B2 (ja) * | 2005-03-25 | 2007-09-19 | 東京電力株式会社 | 有機ハロゲン化合物の分解処理方法及び移動式分解処理システム |
JP3852856B1 (ja) * | 2005-08-09 | 2006-12-06 | 東京電力株式会社 | ダイオキシン類の分解方法 |
JP3970900B1 (ja) * | 2005-12-26 | 2007-09-05 | 東京電力株式会社 | マイクロ波による有機ハロゲン化合物の分解処理方法 |
JP2009183820A (ja) * | 2008-02-04 | 2009-08-20 | Tokyo Electric Power Co Inc:The | 有機ハロゲン化合物含有変圧器内部部材の無害化処理方法 |
JP2009183839A (ja) * | 2008-02-05 | 2009-08-20 | Tokyo Electric Power Co Inc:The | 有機ハロゲン化合物含有変圧器内部部材の無害化処理方法 |
JP2009183838A (ja) * | 2008-02-05 | 2009-08-20 | Tokyo Electric Power Co Inc:The | 有機ハロゲン化合物含有変圧器内部部材の無害化処理方法 |
JP2009233654A (ja) * | 2008-03-07 | 2009-10-15 | Tokyo Electric Power Co Inc:The | 汚染機器の洗浄方法および洗浄システム |
JP5163592B2 (ja) * | 2009-05-25 | 2013-03-13 | 東京電力株式会社 | Pcb使用機器の無害化処理方法および無害化処理システム |
JP5287505B2 (ja) * | 2009-05-27 | 2013-09-11 | 東京電力株式会社 | 有機ハロゲン化合物残留機器の無害化処理方法及び無害化処理装置 |
-
2012
- 2012-03-30 JP JP2012078524A patent/JP5907776B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2013208510A (ja) | 2013-10-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2009233654A (ja) | 汚染機器の洗浄方法および洗浄システム | |
JP5489124B2 (ja) | 原子力発電所の廃樹脂処理方法及び処理システム | |
JP4269242B2 (ja) | 有機ハロゲン化合物内蔵機器の無害化処理方法 | |
JP5907776B2 (ja) | Pcbで汚染された大型機器の処理方法及びそれに用いる処理装置 | |
JP2006142278A (ja) | 有機ハロゲン化合物内蔵機器の無害化処理方法 | |
JP6213186B2 (ja) | 汚染機器の洗浄方法 | |
JP2010259496A (ja) | 有機ハロゲン化合物の分解処理方法及び分解処理装置 | |
JP2003024885A (ja) | 洗浄方法およびその装置 | |
JP5163592B2 (ja) | Pcb使用機器の無害化処理方法および無害化処理システム | |
JP5287505B2 (ja) | 有機ハロゲン化合物残留機器の無害化処理方法及び無害化処理装置 | |
JP2009183820A (ja) | 有機ハロゲン化合物含有変圧器内部部材の無害化処理方法 | |
JP2011125795A (ja) | 触媒再生可能な有機塩素化合物の連続無害化処理装置及び連続無害化処理システム | |
JP2010234194A (ja) | 高濃度pcb汚染機器の前処理洗浄方法 | |
JP4023816B1 (ja) | 分解能が低下した触媒の処理方法 | |
JP3970900B1 (ja) | マイクロ波による有機ハロゲン化合物の分解処理方法 | |
JP5145706B2 (ja) | 電気機器絶縁油中のpcb無害化方法 | |
JP2016168532A (ja) | Pcbで汚染された電気機器の浄化方法 | |
JP2011098253A (ja) | 劣化触媒の再生方法 | |
JP2006021165A (ja) | 車載トランスの処理方法 | |
JP2012232277A (ja) | Pcb汚染廃電気機器の処理装置 | |
JP2008194063A (ja) | 高濃度有機塩素化合物の分解方法 | |
JP2007061594A5 (ja) | ||
JP4396826B2 (ja) | 有機ハロゲン化合物の分解処理方法及びループ分解システム | |
KR20110023381A (ko) | 폴리염화비페닐 탈염소화 공정 | |
JP2009183838A (ja) | 有機ハロゲン化合物含有変圧器内部部材の無害化処理方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150216 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20160121 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160201 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160226 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160316 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160322 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5907776 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |