JP5903228B2 - 洗浄剤組成物及びそれを用いた液晶表示装置用アレイ基板の製造方法 - Google Patents
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Description
本発明の洗浄剤組成物は、ポリビニルアルコール、ポリエチルオキサゾリン及びポリビニルピロリドンからなる群から選ばれる1種以上の水溶性高分子化合物を含む。
本発明の洗浄剤組成物において、多価アルコール系化合物は、基板の表面の湿潤性を増大させて基板の表面の油成分除去能力(洗浄力)を向上し、洗浄剤組成物の水に対する溶解力を向上する。
本発明の洗浄剤組成物は、下記の化学式[化3]で表わされる第4級アンモニウム水酸化物を含む。
本発明の洗浄剤組成物は、下記の化学式[化4]で表わされるグリコールエーテル系有機溶剤を含む。
本発明の洗浄剤組成物において、水は特に限定されるものではないが、脱イオン水を用いることが好ましく、水中のイオンが除去された度合いを示す水の比抵抗値が18MΩ/cm以上の脱イオン水を用いることがさらに好ましい。
攪拌器が設置されている混合槽に、下記[表1]に示す成分を[表1]に記載の組成比によって混合し、常温で500rpmの速度で1時間攪拌して洗浄剤組成物を製造した。
本発明に係る金属洗浄剤組成物のパーティクル洗浄力及び有機汚染物洗浄力を評価するために、下記の実験を行った。
前記実施例1〜16及び比較例1〜5で製造した洗浄剤組成物100mLをそれぞれ容量が250mLのビーカーに入れ、汚染物除去力の評価のために、5cm×5cmのガラス基板、絶縁膜(SiNx:silicon nitride)基板及び銅基板を大気中に3日間放置して汚染させ、汚染した基板をスプレー式基板洗浄装置を用いて前記水溶液により1分間常温で洗浄した。洗浄の後、さらに超純水により30秒間洗浄し、窒素を用いて乾燥した。
指紋汚染物除去力の評価のために、2cm×5cmのガラス基板を人の指紋跡で汚染させ、汚染した基板をスプレー式基板洗浄装置を用いて前記水溶液により1分間常温で洗浄した。洗浄の後、さらに超純水により30秒間洗浄し、窒素を用いて乾燥した。
有機汚染物の除去力を評価するために、2cm×5cmのガラス基板を油性サインペンで汚染させ、汚染した基板をスプレー式基板洗浄装置を用いて、実施例3、4、9、12、14及び16の洗浄剤組成物と比較例1及び3の洗浄剤組成物により1分間常温で洗浄した。洗浄の後、超純水により30秒間洗浄し、窒素を用いて乾燥した。
洗浄の後、基板の表面に対する有機膜コーティング性を評価するために、5cm×5cmのガラス基板、絶縁膜(SiNx:Silicon nitride)基板及び銅基板をスプレー式基板洗浄装置を用いて、実施例3、4、9、12及び14と比較例1及び3の洗浄剤組成物により1分間常温で洗浄した。
Claims (5)
- 組成物の総重量を基準にして、
(a)0.0001重量%以上且つ5重量%以下のポリビニルアルコール、ポリエチルオキサゾリン及びポリビニルピロリドンからなる群から選ばれる1種以上の水溶性高分子化合物と、
(b)0.01重量%以上且つ5重量%以下の多価アルコール系化合物と、
(c)0.05重量%以上且つ10重量%以下の第4級アンモニウム水酸化物と、
(d)0.05重量%以上且つ40重量%以下の下記の化学式[化1]で表わされるグリコールエーテル系有機溶剤と、
(e)残量の水とを含む液晶表示装置用アレイ基板用の洗浄剤組成物。
(式中、R1はメチル基又はエチル基であり、R2は水素原子であり、nは2〜5の整数であり、xは1〜5の整数である。) - 前記(b)の多価アルコール系化合物は、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,3−プロパンジオール、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、2,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、2−メチル−1,3−プロパンジオール、グリセロール、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリトリトール、キシリトール、マンニトール、ソルビトール、エリトリトール、アドニトール、トレイトール、アラビトール及びタリトールからなる群から選ばれる1種以上で構成されることを特徴とする請求項1に記載の洗浄剤組成物。
- 前記(c)の第4級アンモニウム水酸化物は、水酸化テトラメチルアンモニウム、水酸化テトラエチルアンモニウム、水酸化テトラプロピルアンモニウム及び水酸化テトラブチルアンモニウムからなる群から選ばれる1種以上で構成されることを特徴とする請求項1に記載の洗浄剤組成物。
- 前記(d)のグリコールエーテル系有機溶剤は、エチレングリコールモノメチルエーテル(MG)、ジエチレングリコールモノメチルエーテル(MDG)、ジエチレングリコールモノエチルエーテル(カルビトール)、エチレングリコールモノエチルエーテル(EG)、トリエチレングリコールモノエチルエーテル(ETG)、トリエチレングリコールモノメチルエーテル(MTG)、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル(MFDG)及びプロピレングリコールモノメチルエーテル(MFG)からなる群から選ばれる1種以上で構成されることを特徴とする請求項1に記載の洗浄剤組成物。
- 請求項1〜4のいずれか1項に記載の洗浄剤組成物を用いて基板を洗浄する工程を含む液晶表示装置用アレイ基板の製造方法。
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