KR101799592B1 - 평판 디스플레이 기판용 세정제 조성물 및 이를 이용한 세정방법 - Google Patents

평판 디스플레이 기판용 세정제 조성물 및 이를 이용한 세정방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 알킬글리코사이드, 글리콜에테르계 유기용매, 다가알코올, 제4급 암모늄수산화물 및 물을 포함하는 평판 디스플레이 기판용 세정제 조성물 및 이를 이용한 세정방법에 관한 것이다.
본 발명의 평판 디스플레이 기판용 세정제 조성물은 기판 표면을 친수성으로 만들어 코팅성을 향상시킴으로써, 평판 디스플레이 기판의 유리 및 절연막과 구리 및 구리합금을 포함하는 금속막 표면에 대한 유기물 오염물 및 파티클 제거능력이 우수하고, 다량의 탈이온수를 포함하여 취급이 용이하며 환경적으로 유리한 효과를 가진다.

Description

평판 디스플레이 기판용 세정제 조성물 및 이를 이용한 세정방법{A Detergent Composition For A Substrate Of Flat Panel Display Device And Cleaning Method Using The Same}
본 발명은 평판 디스플레이 기판용 세정제 조성물 및 이를 이용한 세정방법에 관한 것이다.
일반적으로, 평판 디스프레이(flat panel display device; FPD)는, 반도체 디바이스와 같이, 성막, 노광, 에칭 등의 공정을 거쳐 제품이 제조된다. 하지만, 이러한 제조공정에 의해서, 기판 표면에 각종의 유기물이나 무기물 등의 크기가 1㎛ 이하인 매우 작은 파티클(Particle)로 인해, 부착 오염이 발생한다. 이러한 파티클을 부착한 채로, 다음의 공정 처리를 실시했을 경우, 막의 핀홀이나 피트, 배선의 단선이나 브릿지(Bridge)가 발생하여, 제품의 제조 수율이 저하된다.
이러한 문제를 극복하기 위한 세정제에 대하여 공지되어 있다. 예를 들어, 대한민국 등록특허 제10-0305314 호에는 금속이온이 없는 알칼리성 수용액과 2 내지 10의 -OH기 그룹을 포함하는 폴리하이드록실 화합물로 구성된 마이크로일렉트로닉스 웨이퍼물질 표면 세척방법에 대하여 기재되어 있으나, 이는 기판 표면을 친수성으로 개질시키는 효과를 달성하기 어려우며 오일과 같은 유기오염물의 제거력도 떨어지는 문제점이 남아있다.
대한민국 등록특허 제 10-0730521호에는 글리콜에테르, 수용성유기용제 및 암모늄화합물을 포함하는 세정액을 제안하였다. 이와 같은 조성은 포토레지스트 박리공정에는 효과가 있을 수 있으나 기판표면을 친수성으로 개질시키지 못하며 다량의 유기용제가 잔류되어 표면 접촉각을 증가시킨다.
또한, 대한민국 등록특허 제 10-05522845 호에는 아민 및 플루오르화염으로부터 선택한 적어도 1종의 용해제와 폴리비닐피롤리돈과 같은 알킬글리코사이드를 포함하는 세정액을 제안하였으나 플루오르화염이 첨가되었을 경우 실리콘 기반의 유리기판이나 실리콘질화막을 부식시키며 구리와 같은 금속에도 부식이 발생하는 문제점을 갖고 있다.
따라서, 본 발명의 목적은 기판 상에 존재하는 오염물질을 제거함으로써, 세정효과 및 생산성을 증대시킬 수 있는 평판 디스플레이 기판용 세정제 조성물 및 이를 이용한 세정방법을 제공하는 것이다.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 알킬글리코사이드;
하기 화학식 2로 표시되는 글리콜에테르계 유기용매;
다가알코올;
제4급 암모늄수산화물; 및
물을 포함하는 평판 디스플레이 기판용 세정제 조성물을 제공한다.
<화학식 1>
Figure 112010060901247-pat00001
상기 화학식 1에서,
R1은 수소 또는 탄소수 1 내지 3의 직쇄 또는 분지쇄 알킬이고,
R2는 탄소수 1 내지 4의 직쇄 또는 분지쇄 알킬이다.
<화학식 2>
Figure 112010060901247-pat00002
상기 화학식 2에서,
R1은 메틸기 또는 에틸기이며,
R2는 수소 또는 히드록시에틸기이며,
n은 2 내지 3의 정수이며,
x는 1 내지 3의 정수이다.
또한, 본 발명은 상기 평판 디스플레이 기판의 세정제 조성물을 이용한 평판 디스플레이 기판의 세정 방법을 제공한다.
본 발명의 평판 디스플레이 기판용 세정제 조성물은 기판 표면을 친수성으로 만들어 코팅성을 향상시킴으로써, 평판 디스플레이 기판의 유리 및 절연막과 구리 및 구리합금을 포함하는 금속막 표면에 대한 유기물 오염물 및 파티클 제거능력이 우수하고, 다량의 탈이온수를 포함하여 취급이 용이하며 환경적으로 유리한 효과를 가진다.
도 1은 각각의 실시예 10 및 비교예 3의 세정제 조성물을 이용하여 지문오염물 제거력을 평가한 실험 결과이다.
도 2는 각각의 실시예 4 및 비교예 4의 세정제 조성물을 이용하여 유성펜자국 제거력을 평가한 실험 결과이다
이하, 본 발명에 대해 상세히 설명한다.
본 발명은 알킬글리코사이드, 글리콜에테르계 유기용매, 다가알코올, 제4급 암모늄수산화물 및 물을 포함하는 평판 디스플레이 기판용 세정제 조성물에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 조성물 총중량에 대하여 알킬글리코사이드 0.0001 내지 5 중량%, 글리콜에테르계 유기용매 0.05 내지 40 중량%, 다가알코올 0.01 내지 5 중량%, 제4급 암모늄수산화물 0.05 내지 5중량% 및 잔량의 물을 포함하는 것이 바람직하다.
본 발명의 평판 디스플레이 기판용 세정제 조성물에 포함되는 알킬글리코사이드는 하기 화학식 1에 표시되는 것이 바람직하다.
Figure 112010060901247-pat00003
상기 화학식 1에서,
R1은 수소 또는 탄소수 1 내지 3의 직쇄 또는 분지쇄 알킬이고,
R2는 탄소수 1 내지 4의 직쇄 또는 분지쇄 알킬이다.
이때, R2의 탄소수가 4를 초과하게 되면 게면활성제 특성을 가지게 되어 세정 작업 시 거품이 과도하게 발생하며, 생분해성이 떨어져 폐수처리 효율이 떨어질 수 있다.
상기 화학식 1로 표시되는 알킬글리코사이드는 메틸글리코사이드, 에틸글리코사이드, 프로필글리코사이드 및 부틸글리코사이드에서 선택된 1종 또는 2종이상의 혼합물일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 발명에서의 상기 알킬글리코사이드는 물에 대한 용해도가 좋으며, 구리, 구리합금 금속막, 몰리브덴, 몰리브덴합금 금속막과 같은 금속 표면의 부식을 억제하며, 소수성 표면을 친수성 표면으로 개질시킴으로 유기오염물, 파티클의 제거에 용이하다.
상기 화학식 1로 표시되는 알킬글리코사이드의 함량은 세정제 조성물 총중량에 대하여 0.0001 내지 5 중량%을 포함되는 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 0.001 내지 2 중량%를 포함할 수 있다. 상기 함량이 0.0001 중량% 미만이면 기판 표면에 금속표면의 부식을 억제하는 성질이 현저히 감소하는 문제점이 있다. 상기 함량이 5 중량%를 초과하면, 표면에 흡착력이 강하여 기판 표면에 세정제가 잔류함으로써, 린스공정에서 알킬글리코사이드가 기판에 잔류하게 되고, 세정제의 점도 상승으로 인한 거품 발생 정도가 심해져서 공정상 작업성이 저하되는 문제가 있다.
본 발명에 포함되는 상기 글리콜에테르계 유기용매는 하기 화학식 2로 표시되는 것이 바람직하다.
Figure 112010060901247-pat00004
상기 화학식 2에서,
R1은 메틸기 또는 에틸기이며,
R2는 수소 또는 히드록시에틸기이며,
n은 2 내지 3의 정수이며,
x는 1 내지 3의 정수이다.
이때, 상기 글리콜에테르계 유기용매는 기판 표면의 습윤성을 증가시켜 기판 표면의 오일성분과 같은 유기오염물질의 제거능력, 즉 세정력을 향상시킨다. 또한, 상기 글리콜에테르계 유기용매는 본 발명의 세정제 조성물의 물에 대한 용해력 및 린스력을 향상시킬 수 있으며, 구체적인 예로는 에틸렌글리콜모노메틸에테르(Ethylene Glycol Monomethyl Ether; MG), 디에틸렌글리콜모노메틸에테르(Diethylene Glycol Monomethyl Ether; MDG), 디에틸렌글리콜모노에틸에테르(Diethylene Glycol Monoethyl Ether; EDG, carbitol), 에틸렌글리콜모노에틸에테르(Ethylene Glycol Monoethyl Ether; EG), 트리에틸렌글리콜모노에틸에테르(Triethylene Glycol Monoethyl Ether; ETG), 트리에틸렌글리콜모노메틸에테르(Triethylene Glycol Monomethyl Ether; MTG), 디프로필렌글리콜 모노메틸에테르(Dipropylene Glycol Monomethyl Ether; MFDG), 프로필렌글리콜 모노메틸에테르(Propylene Glycol Monomethyl Ether; MFG) 로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 또는 2종이상의 혼합물일 수 있으나, 이에 한정하는 것은 아니다.
상기 글리콜에테르계 유기용매의 함량은 조성물 총중량에 대하여 0.05 내지 40 중량%을 포함하는 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 0.5 내지 20 중량% 이다. 상기 글리콜에테르계 유기용매의 함량이 조성물 총중량에 대하여 0.05 중량% 미만이면 글리콜에테르의 추가에 기인한 세정제 조성물의 유기오염물에 대한 용해력을 증가시킬 수 없고, 40 중량%를 초과하면 기판 표면의 습윤성 부여가 부족하며, 비경제적이다.
본 발명의 세정제 조성물에 있어서, 기판 표면의 습윤성을 증가시켜 오일성분을 제거능력을 향상시키고, 조성물의 물에 대한 용해력 및 린스력을 향상시킬 목적으로 다가알코올을 포함할 수 있다.
상기 다가알코올은 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 1,3-프로판디올, 1,2-부탄디올, 1,3-부탄디올, 2,3-부탄디올, 1,4-부탄디올, 2-메틸-1,3-프로판디올, 글리세롤, 헥사글리세롤, 트리메틸올에탄, 트리메틸올프로판, 펜타에리스리톨(pentaerythritol), 크실리톨(자일리톨), 만니톨(mannitol), 솔비톨(sorbitol), 에리스리톨(erythritol), 아도니톨(anonitol), 트레이톨(threitol), 아라비톨(arabitol) 및 탈리톨(talitol)로 이루어진 군에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 혼합물인 것이 바람직하나, 이에 한정되는 것은 아니다.
조성물 총 중량에 대하여, 상기 다가알코올은 0.01 내지 5 중량%로 포함되는 것이 바람직하고, 0.1 내지 3 중량%로 포함되는 것이 보다 바람직하다. 상기 다가알코올이 0.01 중량% 미만으로 포함되면 유리기판 표면에 대한 습윤성 부여가 부족하고, 5 중량%를 초과하면 비경제적이다.
상기 제4급 암모늄수산화물은 일반식 [N-(R)4]+·OH- (R은 탄소수 1 내지 3의 알킬기)로 표시될 수 있으며, 이는 고알칼리성을 가짐으로써 고분자의 유기오염물이나 오일성 유기화합물의 저분자량화와 박리성을 높이고 세정성능을 부여할 수 있다. 상기 제4급 암모늄수산화물의 구체적인 예로는 수산화테트라메틸암모늄, 수산화테트라에틸암모늄, 수산화테트라프로필암모늄 및 수산화테트라부틸암모늄으로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 또는 2종 이상의 혼합물인 것이 바람직하나, 이에 한정하는 것은 아니다.
상기 제4급 암모늄수산화물은 조성물 총중량에 대하여 0.05 내지 5 중량%로 포함되는 것이 바람직하다. 상기 제4급 암모늄수산화물이 0.05 중량% 미만으로 포함될 경우에는 기판 위에 부착된 파티클이나 유기오염물 제거가 용이하지 않으며, 5 중량%를 초과하는 경우에는 세정효과가 더 이상 증가되지 않으며, 세정제의 가격이 상승하여 경제적이지 못하고, 환경적인 문제를 유발할 수 있다.
또한, 본 발명의 평판 디스플레이 기판용 세정제 조성물에 포함되는 물은 특별히 한정되는 것은 아니나, 반도체 공정용의 물로서, 바람직하게는 비정항값이 18Ω/㎝ 이상인 탈이온수를 사용할 수 있다. 상기 물의 함량은 총중량이 100중량% 되도록 잔량 포함되는 것으로, 다른 구성성분의 함량에 따라 조정될 수 있다.
본 발명의 평판 디스플레이 기판용 세정제 조성물은 pH 12 이상인 것이 바람직하다.
본 발명의 평판 디스플레이 기판용 세정제 조성물은 전술한 성분 이외에 통상의 첨가제를 더 포함할 수 있으며, 상기 첨가제로는 금속 이온 봉쇄제 및 pH 조절제 등을 들 수 있다.
본 발명의 평판 디스플레이 기판용 세정제 조성물은 평판표시장치의 유리기판의 표면에 대한 유기물 오염물 및 파티클 제거력이 우수하다. 본 발명의 세정제 조성물은 린스 후 잔류물이 없고 다량의 탈이온수를 포함하므로 취급이 용이하고 환경적으로 유리하다.
또한, 본 발명의 평판 디스플레이 기판용 세정제 조성물을 이용한 평판 디스플레이 기판의 세정 방법을 제공한다.
이하에서, 실시예, 비교예 및 시험예를 통하여 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다. 그러나, 본 발명의 범위가 하기 실시예, 비교예 및 시험예에 의하여 한정되는 것은 아니다.
실시예 1 내지 실시예 10 및 비교예 1 내지 비교예 5: 세정제 조성물의 제조
교반기가 설치되어 있는 혼합조에 하기 표 1에 기재된 성분들을 표 1에 기재된 조성비에 따라 혼합하고, 상온에서 1시간 동안 500rpm의 속도로 교반하여 세정제 조성물을 제조하였다.
(단위 : 중량%)
알킬글리코사이드 다가알코올 제4급 암모늄수산화물 글리콜에테르계유기용매 물
실시예1 1) 0.01 a) 0.1 TMAH 1 MG 5 잔량
실시예2 2) 0.1 a) 0.2 TMAH 2 EG 3 잔량
실시예3 3) 1 a) 0.3 TMAH 3 MG 1 잔량
실시예4 1) 0.5 b) 0.5 TMAH 2 MDG 3 잔량
실시예5 2) 0.005 b) 1 TMAH 0.4 MTG 10 잔량
실시예6 3) 2 b) 0.5 TEAH 5 EDG 0.5 잔량
실시예7 1) 0.2 c) 1 TEAH 1 EDG 5 잔량
실시예8 2) 0.02 c) 0.5 TEAH 0.5 MDG 1 잔량
실시예9 3) 0.04 c) 5 TEAH 0.5 MTG 3 잔량
실시예10 1) 0.3 c) 5 TMAH 1 EG 5 잔량
비교예1 - - a) 3 TMAH 0.5 MG 2 잔량
비교예2 1) 5 a) 2 -　 -　 MTG 12 잔량
비교예3 2) 1 b) 7 TEAH 0.05 - - 잔량
비교예4 4) 0.5 b) 2 TEAH 1 MDG 4 잔량
1) 메틸글리코사이드
2) 에틸글리코사이드
3) 부틸글리코사이드
4) 카테콜
a) 1,4-부탄디올
b) 글리세롤
c) 헥사글리세롤
TMAH : 수산화테트라에틸암모늄(Tetramethylammoniumhydroxide)
TEAH : 수산화테트라에틸암모늄(Tetraethylammoniumhydroxide)
EG : 에틸렌글리콜모노에틸에테르
MG : 에틸렌글리콜모노메틸에테르
EDG : 디에틸렌글리콜모노에틸에테르
MDG : 디에틸렌글리콜모노메틸에테르
MTG : 트리에틸렌글리콜모노메틸에테르
실험예 : 파티클세정력 및 유기오염물 세정력 평가
본 발명에 따른 세정제 조성물의 파티클 세정력 및 유기오염물 세정력을 평가하기 위하여, 하기와 같은 실험을 수행하였다.
1) 대기 중 오염물 제거력 평가
상기 실시예 1 내지 10 및 비교예 1 내지 4의 세정제 조성물 100㎖를 각각 용량 250㎖의 비이커에 넣었다. 오염물의 제거력 평가를 위해 2cm x 6cm 크기로 형성된 유리기판(제조사:SEMES)과 몰리브덴(Mo)기판과 구리(Copper)기판을 대기 중에 3일간 방치시켜 오염시켰다. 상기 오염된 기판을 스프레이식 유리기판 세정장치를 이용하여 1분 동안 상온에서 실시예 1 내지 10 및 비교예 1 내지 4의 세정제로 세정하였다. 세정 후 초순수에 30초 세척한 후 질소로 건조하였다. 오염물의 제거 정도는 접촉각 측정장치(모델명: DSA100, 제조사 : KRUSS)를 이용하여 세정전과 세정후의 접촉각 감소량으로 평가하였고, 그 결과를 표2로 나타내었다.
2) 지문오염물 제거력 평가
지문오염물의 제거력 평가를 위해 2cm x 6cm 크기로 형성된 유리기판 위에 사람의 지문 자국으로 오염시키고, 오염된 기판을 스프레이식 유리 기판 세정장치를 이용하여 1분 동안 상온에서 실시예 1 내지 10 및 비교예 1 내지 4의 세정제로 세정하였다. 세정 후 초순수에 30초 세척한 후 질소로 건조하였다.
이때 유기오염물의 제거 유무는 제거가 되었을 때 ○, 제거가 되지 않았을 때 x로 표시하였으며, 그 결과를 표 2 및 도 1에 나타내었다.
　 대기중오염물 (유리기판) 대기중오염물
(몰리브덴기판)		 대기중오염물
(구리기판)		 지문오염물 세정력
실시예 1 ○ ○ ○ ○
실시예 2 ◎ ◎ ○ ○
실시예 3 ○ ◎ ◎ ○
실시예 4 ◎ ◎ ◎ ○
실시예 5 ○ ○ ○ ◎
실시예 6 ○ ○ ◎ ○
실시예 7 ○ ◎ ○ ○
실시예 8 ○ ○ ○ ○
실시예 9 ○ ○ ○ ○
실시예 10 ◎ ○ ○ ◎
비교예1 △ △ ○ △
비교예2 X △ △ X
비교예3 △ △ △ X
비교예4 △ △ ○ △
< 유리기판의 대기 중 오염물 제거력 평가>
◎: 우수(30°이상감소), ○: 양호(20~30°감소)
△: 미흡 (5~20°감소), X: 불량(5°미만감소)
< 몰리브덴막 및 구리막의 대기 중 오염물 제거력 평가>
◎: 우수(15°이상감소), ○: 양호(10~15°감소)
△: 미흡 (0~10°감소), X: 불량(0°미만감소)
표 2의 결과로부터 알 수 있는 바와 같이 실시예 1 내지 10의 경우에는 대기중오염물 및 지문오염의 제거능력이 있음을 보였다. 반면 알킬글리코사이드, 글리콜에테르계 유기용매, 다가알코올 또는 제4급 암모늄수산화물이 하나이상 첨가되지 않거나 바람직한 범위를 초과 또는 미만으로 포함하는 경우의 비교예 1 내지 4의 세정제 조성물은 오염물 제거력이 감소함을 알 수 있다.
또한, 도 1을 참조하면, 실시예 10의 세정제 조성물를 이용한 것이 비교예 3의 세정제 조성물을 이용한 것보다 효과적으로 오염물이 제거되었음을 알 수 있다.
3) 유성펜자국 제거력 평가
유기오염물의 제거력 평가를 위해 2cm x 6cm 크기로 형성된 유리기판 위에 유성사인펜으로 오염시키고, 오염된 기판을 스프레이식 기판 세정장치를 이용하여 1분 동안 상온에서 상기의 세정제 중 실시예 2 내지 4와 비교예 4로 세정하였다. 세정 후 초순수에 30초 세척한 후 질소로 건조하였다.
유성사인펜의 제거 유무는 제거가 되었을 때 ○, 제거가 되지 않았을 때 x로 표시하였다. 그 결과를 표 3에 기재하였다. 또한, 실시예 4 및 비교예 4의 세정액 조성물에 의한 유성펜자국의 제거력 결과를 도 2에 나타내었다.
4) 파티클 제거력 평가
상기 실시예 2 내지 4 및 비교예 4의 세정제 조성물을 사용하여 유기 파티클 솔루션으로 오염시킨 유리기판에 대한 세정을 실시하였다. 즉, 유리기판을 평균 입자 크기가 0.8㎛인 유기 파티클 솔루션으로 오염시키고 1분간 3000rpm으로 스핀(spin) 드라이한 후 스프레이식 유리 기판 세정장치를 이용하여 2분동안 40℃에서 각각의 세정제로 세정하였다. 세정 후 초순수에 30초 세척한 후 질소로 건조하였다. 세정 전후의 파티클 수는 표면입자측정기(Topcon WM-1500)로 0.3㎛ 이상의 파티클 수를 측정하였고, 그 결과를 표 3에 나타내었다.
유성펜자국제거력 세정전 파티클수 세정후 파티클수 제거율(%)
실시예2 ○ 2634 331 87
실시예3 ○ 2682 284 89
실시예4 ○ 2621 340 87
비교예4 △ 2650 1031 61
상기 표 3 및 도 2의 결과로부터, 실시예 2 내지 4의 세정제 조성물을 이용하면 유성펜 자국 제거능력 및 파티클 제거능력이 우수한 것을 알 수 있었다. 반면에 알킬글리코사이드 대신 폴리하이드록시벤젠 구조의 카테콜이 첨가된 비교예 4의 세정제 조성물은 세정력이 감소하였다.

Claims (8)

  1. 하기 화학식 1로 표시되는 알킬글리코사이드;
    하기 화학식 2로 표시되는 글리콜에테르계 유기용매;
    다가알코올;
    제4급 암모늄수산화물; 및
    물을 포함하는 것을 특징으로 하는 평판 디스플레이 기판용 세정제 조성물로,
    상기 알킬글리코사이드는 부식 억제제인 것을 특징으로 하는 평판 디스플레이 기판용 세정제 조성물:
    <화학식 1>
    Figure 112017041293360-pat00005

    상기 화학식 1에서,
    R1은 수소 또는 탄소수 1 내지 3의 직쇄 또는 분지쇄 알킬이고,
    R2는 탄소수 1 내지 4의 직쇄 또는 분지쇄 알킬이다.
    <화학식 2>
    Figure 112017041293360-pat00006

    상기 화학식 2에서,
    R1은 메틸기 또는 에틸기이며,
    R2는 수소 또는 히드록시에틸기이며,
    n은 2 내지 3의 정수이며,
    x는 1 내지 3의 정수이다.
  2. 청구항 1에 있어서, 조성물 총중량에 대하여
    알킬글리코사이드 0.0001 내지 5 중량%;
    글리콜에테르계 유기용매 0.05 내지 40 중량%;
    다가알코올 0.01 내지 5 중량%;
    제4급 암모늄수산화물 0.05 내지 5 중량%; 및
    잔량의 물을 포함하는 것을 특징으로 하는, 평판 디스플레이 기판용 세정제 조성물.
  3. 청구항 1에 있어서, 상기 알킬글리코사이드는 메틸글리코사이드, 에틸글리코사이드, 프로필글리코사이드 및 부틸글리코사이드에서 선택된 1종 또는 2종이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는, 평판 디스플레이 기판용 세정제 조성물.
  4. 청구항 1에 있어서, 상기 글리콜에테르계 유기용매는 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노에틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜 모노메틸에테르, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 또는 2종이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는, 평판 디스플레이 기판용 세정제 조성물.
  5. 청구항 1에 있어서, 상기 다가알코올은 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 1,3-프로판디올, 1,2-부탄디올, 1,3-부탄디올, 2,3-부탄디올, 1,4-부탄디올, 2-메틸-1,3-프로판디올, 글리세롤, 헥사글리세롤, 트리메틸올에탄, 트리메틸올프로판, 펜타에리스리톨, 크실리톨, 만니톨, 솔비톨, 에리스리톨, 아도니톨, 트레이톨, 아라비톨 및 탈리톨로 이루어진 군에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는, 평판 디스플레이 기판용 세정제 조성물.
  6. 청구항 1에 있어서, 상기 제4급 암모늄수산화물은 수산화테트라메틸암모늄, 수산화테트라에틸암모늄, 수산화테트라프로필암모늄 및 수산화테트라부틸암모늄으로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 또는 2종 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는, 평판 디스플레이 기판용 세정제 조성물.
  7. 청구항 1에 있어서, 상기 세정제 조성물은 pH 12 이상인 것을 특징으로 하는, 평판 디스플레이 기판용 세정제 조성물.
  8. 청구항 1 내지 7 중 어느 한 항의 세정제 조성물을 이용한 평판 디스플레이 기판의 세정 방법.
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