JP5896522B2 - 封止部品に適した配線基板及びチップ部品並びにその製造方法 - Google Patents
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Description
これらの方法では、強度不足による封止材の漏れ、スルーホール下部の金属導体の表面汚染による実装不良、充填材の埋め込み深さの精度不足によるスルーホール下部の金属導体距離の不足による実装強度不足、分割する事により露出したスルーホール上部の内壁金属の腐食、また封止材と金属導体の密着力不足等の問題となっていた。
その一手法であるサイドスルーホールの上部を封止しない方法では、サイドスルーホールの面積分だけ部品が大型化してしまう問題があった。この問題を回避する為サイドスルーホールの上部を封止する手法が採用されて来たが、それぞれ問題を抱えていた。
またスルーホールを切断する為、内壁の金属が露出する事となり、スルーホール下部では実装の半田により被覆されるが、スルーホール上部では金属が露出する事となり、使用時の腐食により製品の信頼性及び機能が低下する問題があった。
そこで、埋め込み精度を改善した基板として、複数の非貫通導通穴を配置し、非貫通導通穴内部の上方のみに充填されたエポキシ樹脂系の充填部材と、この充填部材の下部はレーザー加工により均一な深さに加工された配線基板が開示されている(特許文献3)。しかし、この方法でも基板と充填剤の間に金属メッキがされているため、実装後に切断の圧力で金属、樹脂の界面で剥離する問題及び金属の露出による信頼性及び機能低下の問題は解決されない状況である。
[配線基板]
図1に本発明の配線基板の断面図を示す。
図1において、10は配線基板、2aは非貫通導通穴、2bは非貫通非導通穴、2cは開放型凹形陥没形状、3は絶縁基材、4aは外層導体a(金属導体)、4bは外層導体b(金属導体)、5及び6は金属導体、7a、7bは樹脂系充填材である。
その非貫通導通穴2aを介して両面の外層導体a、b(4a、4b)を電気的に接続し、非貫通導通穴2aと非貫通非導通穴2bの部品搭載面A側部が樹脂系充填部材7a及び7bにより充填されて絶縁され、非貫通非導通穴2bの部品搭載面B側部は開放型凹形陥没形状2cに成形され、その凹形陥没形状2cの凹面部2dには、金属メッキなどによる金属層6を備える構造となっている。
図2は、本発明による配線基板を使用して部品素子を実装した場合の実装断面図を示すもので、1は非導通非貫通サイドスルーホールを示し、20は封止材、21は実装する部品素子、22は部品素子を配線基板に接合する半田である。
次に、本発明の配線基板の製造方法を説明する。
図1に模式断面図を示す本発明の特徴とする所の金属腐食の無い非導通非貫通サイドスルーホール(図2符号1参照)を形成する非貫通非導通穴2bと非貫通導通穴2aを有する配線基板10を例に、サブトラクティブ工法による本発明の製造方法を図3に従って説明するが、アディティブ工法での製造も可能である。
なお非導通非貫通サイドスルーホール(図2符号1参照)は、メッキ後に該当穴内のみをエッチングする事でも形成可能である。
<図3(A)>
先ず、両面(部品搭載面A、B)に、外層導体a、bとなる金属導体4a、4bを備えた絶縁基材3(以下コア材)に、非貫通導通穴2aとなる箇所に穴開け加工を実施して貫通穴30を形成する。
穴開け加工方法は、特に限定されないが、NCドリリングマシンなどを用いると良い。また、穴の形状は丸穴に限らず、楕円穴、四角穴、異形穴など、目的に合わせて選択すればよい。
次に、穴開け加工が実施されたコア材の全面または必要な箇所に金属導体5を設けるためのメッキを実施し、非貫通導通穴2aとなる貫通穴30を貫通導通穴30aとする。
さらに、金属導体5のメッキを実施したコア材に、両面非導通非貫通サイドスルーホール1(図2参照)となる箇所に再度穴開け加工を実施して貫通穴40を形成する。
両面非導通非貫通サイドスルーホール1となる貫通穴40、及び非貫通導通穴30aが、それぞれ樹脂系充填材7b(貫通穴40充填)、7a(貫通穴30a充填)により完全に充填された非導通充填穴41及び導通充填穴31を形成する。
その充填作業は下記の条件を満たす樹脂を印刷法、ローラー法、カーテンコーター法、ディップ法など、各種工法で行う事が可能である。
充填材は、充填作業時には粘性を持ち、熱、UV、光等により硬化する性質が必要である。樹脂の種類に制約は無くエポキシ系、メラニン系、アクリル系等が選択可能であるが、高耐熱性、高剛性を持つ樹脂がより望ましい。
充填材7a、7bを充填した後に、熱、UV、光等により、充填樹脂を硬化させる。硬化状態については半硬化状態でも、完全硬化状態でも良い。
硬化した充填材7a、7bを金属導体5が形成する面と段差が生じないよう平坦に研磨する。
部品素子(図2の符号21を参照)を実装する反対面(図1〜図3では、部品搭載面B)から、充填材7bにより充填された両面非導通非貫通サイドスルーホール1となる非導通充填穴41に部品搭載面B方向が開放された開放型凹形陥没形状2cを形成する。その形成には、レーザー加工をすることが好ましい。加工レーザーの種類は炭酸ガスレーザー、UVレーザー等、有機物にエネルギーが吸収される波長であればその種類に制約は無い。加工深さは膜強度、実装強度等の必要に応じて任意に調整可能である。またレーザー加工の条件により底部はほぼ平坦に加工する事が可能である。
穴開け、レーザー加工等が実施されたコア材の全面または必要な箇所に金属導体6をメッキ法などにより実施し、両面非導通非貫通サイドスルーホール1を形成する前段階の非貫通非導通穴41a、及び非貫通導通穴2aを構成する。この非貫通非導通穴41aにおける不要な箇所を除去した後、縦切断することによって、外部接続の端子となる。
穴開け、レーザー、メッキ加工等が実施されたコア材両面の金属導体4a、4b、5、6の不要な箇所を、露光、エッチングにより除去する。
コア材の両面にある絶縁基材3及び金属導体(外層導体4a、4b)の表面には、必要に応じてレジスト膜を必要な箇所に被覆する事が可能である。
さらに、コア材両面の金属導体(外層導体4a、4b)の表面には、必要に応じて金、銀、ニッケル等の他の金属メッキを行う事が可能である。
さらに、部品素子21(図2参照)を実装し、封止材20(図2参照)により封止した後、凹形陥没形状2cを有する非貫通非導通穴2bのほぼ中心で切断することで、両面非導通非貫通サイドスルーホール1(図2参照)を有する実装用の配線基板が得られる。
穴径が同等レベルになるように設計した配線基板により、本発明及び他構造での性能評価を実施した。
実施例で用いた配線基板の構造を図4〜図6に示す。
図4は実施例1に用いた配線基板50で、図1に示した配線基板10と同様な両面非貫通非導通穴50a(図1の非貫通穴2bに相当)を樹脂系充填材7により、その部品搭載面A側のみを充填し、その上に封止材20を設けたものである。
図5は比較例1に用いた配線基板51で、両面貫通導通穴51aの部品搭載面A側を液状レジスト70a及びフィルムレジスト70bを用いて封止したものである。
図6は比較例2に用いた配線基板52で、両面非貫通導通穴52aの部品搭載面A側のみを樹脂系充填材を用いて充填し、その上に封止材20を設けたものである。
その結果を表1に示す。
また、サイドスルーホールの部品搭載面A側の金属腐食状態は、光学顕微鏡により腐食が見られないものを「○」、明らかに腐食が観察された場合を「×」と評価した。
2a 非貫通導通穴
2b 非貫通非導通穴
2c 開放型凹形陥没形状
2d 凹形陥没形状凹面
3 絶縁基材
4a 金属導体(外層導体a)
4b 金属導体(外層導体b)
5 金属導体
6 金属導体
7a、7b 樹脂系充填材
10 配線基板
20 封止材
21 部品素子
22 半田
30、40 貫通穴
30a 貫通導通穴
31 導通充填穴
41 非導通充填穴
41a 非貫通非導通穴
50 実施例1の配線基板
50a 両面非貫通非導通穴
51 比較例1の配線基板
51a 両面貫通導通穴
52 比較例2の配線基板
52a 両面非貫通導通穴
70a 液状レジスト
70b フィルムレジスト
Claims (5)
- 部品搭載面A、Bを、絶縁基材を介して有する配線基板において、
前記絶縁基材を貫通する複数の非貫通導通穴と非貫通非導通穴を有し、
前記部品搭載面A上に外層導体a、前記部品搭載面B上に外層導体bを備え、
前記非貫通導通穴は、樹脂系充填部材により穴が充填され、且つ前記配線基板の外層導体a、bを電気的に接続し、
前記非貫通非導通穴は、樹脂系充填部材により穴の前記部品搭載面A側が充填、絶縁され、且つ前記部品搭載面B側を開放型凹形陥没形状とし、前記開放型凹形陥没形状の凹面に金属層を有していることを特徴とする配線基板。 - 絶縁基材を介して、部品搭載面A、Bにそれぞれ外層導体a、bを備える基板に、複数の貫通穴を形成し、前記貫通穴の壁面に金属メッキを行い金属層を設けて貫通導通穴を形成した後、さらに複数の貫通穴を形成し、前記貫通導通穴及び前記貫通穴を樹脂系充填部材により穴を充填して、非貫通導通穴および非貫通非導通穴を形成し、前記非貫通非導通穴の部品搭載面B側の樹脂系充填部材を除去して前記非貫通非導通穴の前記部品搭載面A側に前記樹脂系充填部材を残置した開放型凹形陥没形状を形成した後、前記基板下面に金属メッキを行うことを特徴とする配線基板の製造方法。
- 絶縁基材を介して、部品搭載面A、Bにそれぞれ外層導体a、bを備える基板に、複数の貫通穴を形成し、前記貫通穴の壁面に金属メッキを行い金属層を設けて貫通導通穴を形成した後、予め定めた貫通導通穴の壁面の前記金属メッキを、エッチングにより除去して貫通非導通穴を形成し、前記貫通導通穴及び前記貫通非導通穴を樹脂系充填部材により穴を充填して、非貫通導通穴および非貫通非導通穴を形成し、前記非貫通非導通穴の部品搭載面B側の樹脂系充填部材を除去して開放型凹形陥没形状を形成した後、前記配線基板下面に金属メッキを行うことを特徴とする配線基板の製造方法。
- 前記開放型凹形陥没形状を、レーザー加工により形成することを特徴とする請求項2または3に記載の配線基板の製造方法。
- 請求項1に記載の配線基板の前記開放型凹形陥没形状を有する非貫通非導通穴を、サイドスルーホールとして備えることを特徴とするチップ型電子部品。
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