JP5885049B2 - 重合性液晶組成物の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、重合性液晶組成物を高品質で製造することに関する新規製造方法と、それにより製造された重合性液晶組成物を用いた光学異方体に関する。

重合性液晶組成物は光学異方体の構成部材として有用であり、光学異方体は、例えば、偏光フィルム、位相差フィルムとして、種々の液晶ディスプレイに応用されている。偏光フィルムや位相差フィルムは、重合性液晶組成物を基板に塗布して、配向膜等により重合性液晶組成物を配向させた状態で加熱、あるいは活性エネルギー線を照射して重合性液晶組成物を硬化することにより得られる。そして、得られるフィルムは、着色していないこと、ハジキが生じていないこと、及び、配向性が良好であることが求められる。ここで、ハジキとは、基板上に重合性液晶組成物を塗布した場合に、基板上にまで達するくぼみを生じる現象のことを言う。

通常、塗布するための重合性液晶組成物には、重合開始剤、界面活性剤、重合禁止剤等を含み、有機溶剤に溶解した状態で使用される。重合性液晶組成物を得る方法としては、重合性液晶組成物中に光開始剤、界面活性剤を添加し混合物を得て、次いで有機溶剤中に得られた混合物を２５ｗｔ％となる濃度で溶解させる方法が提案されている（特許文献１）。また、重合性液晶化合物、光重合開始剤、重合禁止剤、有機溶剤を７０℃で３０分攪拌混合した後に、室温に戻す方法が開示されている（特許文献２）。

しかしながら、公知の方法で製造した重合性液晶組成物は、基材に塗布した後に得られるフィルムの着色性の問題や、ハジキが発生する問題を抱えていた。

特開２００９−０９８１３３号公報 特開２００８−２８０７７１号公報

本発明が解決しようとする課題は、基材に塗布し、フィルムとなった時に着色しておらず、ハジキが生じておらず、かつ、配向性が良好なものが得られる重合性液晶組成物の製造方法を提供し、併せて、当該製造方法で製造された重合性液晶組成物、及び、当該重合性液晶組成物を用いた光学異方体を提供することにある。

本発明は、上記課題を解決するために、重合性液晶組成物の製造方法について鋭意検討した結果、光重合開始剤を特定の工程において添加することにより、保存安定性に優れること、また、当該重合性液晶組成物を用いることにより着色しておらず、ハジキが生じていない配向性が良好な光学異方体が得られることを見出し本発明の完成に至った。

すなわち、少なくとも１つ以上の重合性官能基を有する少なくとも１種以上の重合性化合物、および、１種又は２種以上の有機溶剤を混合し、加熱攪拌して重合性溶液を調製する工程（Ｉ）と、前記重合性溶液に重合開始剤を混合する工程（ＩＩ）とを含むことを特徴とする重合性液晶組成物の製造方法、及び、該製造方法により得られる重合性液晶組成物、当該重合性液晶組成物を用いた光学異方体を提供する。

本発明の重合性液晶組成物の製造方法を用いることで、着色しておらず、ハジキが生じていない配向性が良好な光学異方体を得ることができる。

以下に本発明による重合性液晶組成物の製造方法の最良の形態について説明する。本発明の重合性液晶組成物の製造方法は、少なくとも１つ以上の重合性官能基を有する少なくとも１種以上の重合性化合物、および、１種又は２種以上の有機溶剤を混合し、加熱攪拌して重合性溶液を調製する工程（Ｉ）と、前記重合性溶液に光重合開始剤を混合する工程（ＩＩ）との、少なくとも２つの工程を必要とする。

なお、本発明において、重合性液晶組成物の「液晶」とは、重合性液晶組成物を基材に塗布し、乾燥した後に、紫外線等の光照射、あるいは加熱によって重合処理を行った場合に、液晶性を示すことを意図する。
（重合性化合物）
工程（Ｉ）において用いられる、少なくとも１つ以上の重合性官能基を有する少なくとも１種以上の重合性化合物としては、単独または他の化合物との組成物において液晶性を示し、少なくとも１つ以上の重合性官能基を有する化合物であれば、特に限定はなく、公知慣用のものを用いることができる。

具体的には、一般式（１）

（式中、Ｐは重合性官能基を表し、
Ｓｐは炭素原子数０〜１８のアルキレン基を表し（該アルキレン基は１つ以上のハロゲン原子又はＣＮにより置換されていても良く、この基中に存在する１つのＣＨ₂基又は隣接していない２つ以上のＣＨ₂基はそれぞれ相互に独立して、酸素原子が相互に直接結合しない形で、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ_３）−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−、−ＳＣＯ−、−ＣＯＳ−又は−Ｃ≡Ｃ−により置き換えられていても良い。）、
ｍは０又は１を表し、
ＭＧはメソゲン基を表し、
Ｒ¹は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基又は炭素原子数１〜１８のアルキル基を表すが、該アルキル基は１つ以上のハロゲン原子又はＣＮにより置換されていても良く、この基中に存在する１つのＣＨ₂基又は隣接していない２つ以上のＣＨ₂基はそれぞれ相互に独立して、酸素原子が相互に直接結合しない形で、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ_３）−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−、−ＳＣＯ−、−ＣＯＳ−又は−Ｃ≡Ｃ−により置き換えられていても良く、あるいはＲ¹は一般式（１−ａ）

（式中、Ｐは反応性官能基を表し、Ｓｐは炭素原子数０〜１８のスペーサー基を表し、ｍは０又は１を表す。）で表される構造を表し、Ｐ、及びＳｐが複数存在する場合は、それぞれ、同一であっても、異なっていても良い。）で表される化合物が挙げられる。

ここで、重合性官能基としては、ビニル基、ビニルエーテル基、アクリル基、（メタ）アクリル基、グリシジル基、オキセタニル基、マレイミド基、チオール基が好ましく、生産性の観点から、ビニル基、ビニルエーテル基、アクリル基、（メタ）アクリル基、グリシジル基がより好ましく、ビニル基、ビニルエーテル基、アクリル基、（メタ）アクリル基がさらに好ましく、アクリル基、（メタ）アクリル基が特に好ましい。

また、ＭＧで表されるメソゲン基は、一般式（１−ｂ）

（式中、Ａ１、Ａ２及びＡ３はそれぞれ独立的に、１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、１，４−シクロヘキセニル基、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル基、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基、テトラヒドロチオピラン−２，５−ジイル基、１，４−ビシクロ（２，２，２）オクチレン基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ピラジン−２，５−ジイル基、チオフェン−２，５−ジイル基−、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、２，６−ナフチレン基、フェナントレン−２，７−ジイル基、９，１０−ジヒドロフェナントレン−２，７−ジイル基、１，２，３，４，４ａ，９，１０ａ−オクタヒドロフェナントレン−２，７−ジイル基、１，４−ナフチレン基、ベンゾ［１，２−ｂ：４，５−ｂ‘］ジチオフェン−２，６−ジイル基、ベンゾ［１，２−ｂ：４，５−ｂ‘］ジセレノフェン−２，６−ジイル基、［１］ベンゾチエノ［３，２−ｂ］チオフェン−２，７−ジイル基、［１］ベンゾセレノフェノ［３，２−ｂ］セレノフェン−２，７−ジイル基、又はフルオレン−２，７−ジイル基を表し、置換基として１個以上のＦ、Ｃｌ、ＣＦ₃、ＯＣＦ₃、ＣＮ基、炭素原子数１〜８のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、アルカノイルオキシ基、炭素原子数２〜８のアルケニル基、アルケニルオキシ基、アルケノイル基、アルケノイルオキシ基、及び/又は一般式（１−ａ）

（式中、Ｐは反応性官能基を表し、Ｓｐは炭素原子数０〜１８のスペーサー基を表し、ｍは０又は１を表し、Ｐ、及びＳｐが複数存在する場合は、それぞれ、同一であっても、異なっていても良い。）を有していても良く、
Ｚ０、Ｚ１、Ｚ２及びＺ３はそれぞれ独立して、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ₂ ＣＨ₂−、−ＯＣＨ₂−、−ＣＨ₂Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＯＯ−、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＯ−、−ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＯＣＯＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、炭素数２〜１０のハロゲン原子を有してもよいアルキル基又は単結合を表し、
ｎは０、１又は２を表、Ａ１、及びＺ１が複数存在する場合は、それぞれ、同一であっても、異なっていても良い。）で表される。

前記一般式（１）で表される化合物のうち、分子内に１個の重合性官能基を有する単官能性化合物として、下記一般式（１−１）、及び一般式（１−２）で表される化合物が挙げられる。

一般式（１−１）

（式中、Ｚ^４は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基又は炭素原子数１〜１８の炭化水素基（直鎖状アルキル基又は分岐鎖を有しても良いアルキル基）を表し、
Ｚ^５は水素原子又はメチル基を表し、tは０又は1を表し、
Ｂ、Ｃ及びＤはそれぞれ独立的に、１，４−フェニレン基、隣接しないＣＨ基が窒素で置換された１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、１つ又は隣接しない２つのＣＨ₂基が酸素又は硫黄原子で置換された１，４−シクロヘキシレン基、１，４−シクロヘキセニル基、１，４−ビシクロ（２，２，２）オクチレン基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ピラジン−２，５−ジイル基、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、２，６−ナフチレン基又は１，４−ナフチレン基を表すが、これらの基は炭素原子数１〜７のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、シアノ基又はハロゲン原子で一つ以上置換されていても良く、
Ｙ³及びＹ⁴はそれぞれ独立的に単結合、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ₂Ｏ−、−ＯＣＨ₂−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−（ＣＨ₂）₄−、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ−、−ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＯＯ−、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＯ−、−ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ₂−又は−ＯＣＯＣＨ₂ＣＨ₂-を表し、Ｙ⁵は単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−を表す。）で表される化合物、及び、一般式（１−２）

（式中、Ｚ^６は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基又は炭素原子数１〜１８の炭化水素基を表し、
Ｚ^７は水素原子又はメチル基を表し、
Ｗ³は単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表し、
vは１〜１８の整数を表し、
ｕは０又は１を表し、
Ｅ、Ｆ及びＧはそれぞれ独立的に、１，４−フェニレン基、隣接しないＣＨ基が窒素原子で置換された１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、１つ又は隣接しない２つのＣＨ₂基が酸素原子又は硫黄原子で置換された１，４−シクロヘキシレン基、１，４−シクロヘキセニル基、１，４−ビシクロ（２，２，２）オクチレン基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ピラジン−２，５−ジイル基、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、２，６−ナフチレン基又は１，４−ナフチレン基を表すが、これらの基は炭素原子数１〜７のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、シアノ基又はハロゲン原子で一つ以上置換されていても良く、
Ｙ⁶及びＹ⁷はそれぞれ独立的に単結合、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ₂Ｏ−、−ＯＣＨ₂−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−（ＣＨ₂）₄−、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ−、−ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＯＯ−、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＯ−、−ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ₂−又は−ＯＣＯＣＨ₂ＣＨ₂-を表し、
Ｙ⁸は単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−を表す。）。

一般式（１−１）及び、一般式（１−２）で表される例示化合物としては、以下に示されるが、これらに限定される訳ではない。

これらの化合物は、単独で使用することもできるし、２種類以上混合して使用することもできる。

分子内に１個の重合性官能基を有する単官能性化合物の合計含有量は、用いる重合性化合物の合計量のうち、０〜９０質量％含有することが好ましく、０〜８０質量％含有することがより好ましく、０〜６０質量％含有することがさらに好ましく、０〜４０質量％含有することが特に好ましい。

前記一般式（１）で表される化合物のうち、Ｒ¹が一般式（１−ａ）で表される置換基である、分子内に２個の重合性官能基を有する２官能性化合物として、下記一般式（２−１）で表される化合物が挙げられる。

一般式（２−１）

（式中、ｍは０又は１を表し、ｎは０、１又は２を表し
Ｗ¹及びＷ²はそれぞれ独立的に単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表し、
Ｙ¹及びＹ²はそれぞれ独立的に単結合、−Ｃ≡Ｃ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−を表し、Ｙ^２が複数存在する場合は、同一であっても、異なってもよく、
Ａは、１，４−フェニレン基、1,4-シクロヘキシレン基、ナフタレン-2,6-ジイル基を表し、Ａが複数存在する場合は、同一であっても、異なってもよく、
ｒ及びｓはそれぞれ独立的に１〜１８の整数を表し、
Ｚ^８及びＺ^９はそれぞれ独立して、水素原子、又はメチル基を表し、
Ｒ^３〜Ｒ^１０は、それぞれ、水素原子、炭素原子数１〜７のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、シアノ基、又はハロゲン原子から選択される。）。

一般式（２−１）で表される例示化合物としては、以下に示されるが、これらに限定される訳ではない。

これらの化合物は、単独で使用することもできるし、２種類以上混合して使用することもできる。

分子内に２個の重合性官能基を有する２官能性化合物の合計含有量は、用いる重合性化合物の合計量のうち、１０〜１００質量％含有することが好ましく、１２〜９７質量％含有することがより好ましく、１５〜９５質量％含有することが特に好ましい。

前記一般式（１）で表される化合物のうち、分子内に３個以上の重合性官能基を有する多官能性化合物としては、以下の例示化合物が挙げられる。

分子内に３個以上の重合性官能基を有する多官能性化合物の合計含有量は、用いる重合性化合物の合計量のうち、０〜３０質量％含有することが好ましく、０〜２５質量％含有することがより好ましく、０〜２０質量％含有することが特に好ましい。

本発明の重合性液晶組成物にはキラルネマチック相を得ることを目的としてキラル化合物を配合してもよい。キラル化合物のなかでも、分子中に重合性官能基を有する化合物が特に好ましい。

キラル化合物中の重合性官能基としては、アクリロイルオキシ基が特に好ましい。キラル化合物の配合量は、化合物の螺旋誘起力によって適宜調整することが必要であるが、用いる重合性化合物及びキラル化合物の合計量のうち０〜８５質量％含有することが好ましく、０〜８０質量％含有することがより好ましく、０〜７５質量％含有することが特に好ましい。

キラル化合物の具体的例としては、式（４−１）〜（４−８）の化合物を挙げることができる。

（式中、ｎは2〜12の整数を表す。）また、キラル化合物の具体的例としては、更に、式（４−９）〜（４−１２）の化合物を挙げることができる。

（有機溶剤）
本発明の重合性溶液に用いる有機溶剤としては特に限定はないが、重合性化合物が良好な溶解性を示す有機溶剤が好ましく、１００℃以下の温度で乾燥できる有機溶剤であることが好ましい。そのような溶剤としては、例えば、トルエン、キシレン、クメン、メシチレン等の芳香族系炭化水素、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン等のケトン系溶剤、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、アニソール等のエーテル系溶剤、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、等のアミド系溶剤、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン及びクロロベンゼン等が挙げられる。これらは、単独で使用することもできるし、２種類以上混合して使用することもできるが、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤及び芳香族炭化水素系溶剤のうちのいずれか１種類以上を用いることが溶液安定性の点から好ましい。

重合性溶液中の有機溶剤の比率は、本発明に用いられる重合性液晶組成物が通常塗布により行われることから、塗布した状態を著しく損なわない限りは特に制限はないが、重合性液晶組成物中に含有する重合性化合物の合計量が１〜６０質量％であることが好ましく、３〜５５質量％であることが更に好ましく、５〜５０質量％であることが特に好ましい。

本願発明の製造方法は、重合性化合物を有機溶剤に混合して重合性溶液を調製する工程（Ｉ）を要するが、均一な重合性溶液とするために、加熱攪拌することが好ましい。加熱攪拌時の加熱温度は、用いる重合性化合物の有機溶剤に対する溶解性を考慮して適宜調節すればよいが、生産性の点から１５℃〜１１０℃が好ましく、１５℃〜１０５℃がより好ましく、１５℃〜１００℃がさらに好ましく、２０℃〜９０℃とするのが特に好ましい。

重合性溶液を調製する工程に続き、本願発明の製造方法は、当該重合性溶液に重合開始剤を混合する工程（ＩＩ）を要するが、重合開始剤の混合における重合性溶液の温度は、重合開始剤混合時の溶液の温度が高すぎると、重合開始剤から発生したラジカルにより重合性化合物の重合が起こりやすくなるため、フィルムにした場合、着色する可能性が生じることなどから、０℃〜７０℃であることが好ましく、５℃〜６０℃であることがより好ましく、１５℃〜５０℃であることが特に好ましい。

なお、本願の重合性液晶組成物の製造方法は、前記一般式（１）で表される化合物のうち、融点が１００℃以上である化合物を用いる場合に、特に優れた効果を発揮する。通常、融点が高い化合物を有機溶剤に混合して重合性溶液を作製する場合、有機溶剤への溶解時の温度を高温にする必要があり、高温下で光重合開始剤を混合する場合、重合性化合物の重合が進行する影響等により、得られる重合性液晶組成物に着色が生じることがある。そのため、重合性溶液を調製する工程（Ｉ）の加熱攪拌時の加熱温度よりも、重合開始剤を混合する工程（ＩＩ）の溶液温度を低くすることが好ましい。具体的には、重合性溶液を調製する工程（Ｉ）の加熱攪拌時の加熱温度よりも重合開始剤を混合する工程（ＩＩ）の溶液温度を２０℃以上低いことが好ましく、３０℃以上低いことがより好ましい。

また、重合性液晶組成物を調製する際には分散攪拌機により攪拌混合することが好ましい。分散攪拌機として具体的には、ディスパー、プロペラ、タービン翼等攪拌翼を有する分散機、ペイントシェイカー、遊星式攪拌装置、振とう機、シェーカー又はロータリーエバポレーター等が使用できる。その他には、超音波照射装置が使用できる。

重合性溶液を調製する際の攪拌回転数は、用いる攪拌装置により適宜調整することが好ましいが、均一な重合性溶液とするために攪拌回転数を１０ｒｐｍ〜１０００ｒｐｍとするのが好ましく、５０ｒｐｍ〜８００ｒｐｍとするのがより好ましく、１５０ｒｐｍ〜６００ｒｐｍとするのが特に好ましい。
（重合禁止剤、酸化防止剤）
本発明の重合性溶液の溶液安定性を高めるため、重合禁止剤、及び／又は酸化防止剤等を添加することが好ましい。そのような化合物として、ヒドロキノン誘導体、ニトロソアミン系重合禁止剤、ヒンダードフェノール系酸化防止剤等が挙げられ、より具体的には、ｐ−メトキシフェノール、tert-ブチルハイドロキノン、メチルハイドロキノン、和光純薬工業社の「Ｑ−１３００」、「Ｑ−１３０１」、ＢＡＳＦ社の「ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１０３５」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１０７６」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１０９８」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１１３５」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１３３０」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１４２５」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１５２０」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１７２６」、「ＩＲＧＡＮＯＸ２４５」、「ＩＲＧＡＮＯＸ２５９」、「ＩＲＧＡＮＯＸ３１１４」、「ＩＲＧＡＮＯＸ３７９０」、「ＩＲＧＡＮＯＸ５０５７」、「ＩＲＧＡＮＯＸ５６５」等々があげられる。

重合禁止剤、酸化防止剤は、重合性化合物を有機溶剤に混合し加熱攪拌して重合性溶液を調製する工程において添加することが好ましいが、その後の、重合性溶液に重合開始剤を混合する工程において添加してもよいし、両方の工程において添加してもよい。

重合禁止剤、酸化防止剤の添加量は重合性組成物に対して、それぞれ、０．０１〜１．０質量％であることが好ましく、０．０５〜０．５質量％であることがより好ましい。
（光重合開始剤）
本発明の重合性液晶組成物の製造方法は、重合性化合物を有機溶剤に混合し加熱攪拌して重合性溶液を調製する工程の後に、重合性溶液に重合開始剤を混合することを特徴としている。重合性化合物を有機溶剤中に短時間で均一に溶解させるためには、加熱する必要があり、重合性溶液を調製する際に、重合開始剤を同時に混合してしまうと、熱による重合開始剤から発生したラジカルにより重合性化合物が重合反応することを防止するためである。

光重合開始剤は少なくとも１種類以上含有することが好ましい。具体的には、ＢＡＳＦ社の「イルガキュア６５１」、「イルガキュア１８４」、「イルガキュア９０７」、「イルガキュア１２７」、「イルガキュア３６９」、「イルガキュア３７９」、「イルガキュア８１９」、「イルガキュア２９５９」、「イルガキュアＯＸＥ０１」、「イルガキュアＯＸＥ０２」、「ルシリンＴＰＯ」、「ダロキュア１１７３」やＬＡＭＢＳＯＮ社の「エサキュア１００１Ｍ」、「エサキュアＫＩＰ１５０」、「スピードキュアＢＥＭ」、「スピードキュアＢＭＳ」、「スピードキュアＭＢＰ」、「スピードキュアＰＢＺ」、「スピードキュアＩＴＸ」、「スピードキュアＤＥＴＸ」、「スピードキュアＥＢＤ」、「スピードキュアＭＢＢ」、「スピードキュアＢＰ」や日本化薬社の「カヤキュアＤＭＢＩ」、等が挙げられる。

光重合開始剤の使用量は重合性溶液に対して０．１〜１０質量％が好ましく、０．５〜５質量％が特に好ましい。これらは、単独で使用することもできるし、２種類以上混合して使用することもでき、また、増感剤等を添加しても良い。
（熱重合開始剤）
本発明の重合性液晶組成物の製造方法は、重合性化合物を有機溶剤に混合し加熱攪拌して重合性溶液を調製する工程の後に、重合性溶液に重合開始剤を混合する工程を要するが、光重合開始剤とともに、熱重合開始剤を併用してもよい。具体的には、和光純薬工業社製の「Ｖ−４０」、「ＶＦ−０９６」、日本油脂社製の「パーへキシルＤ」、「パーへキシルＩ」等が挙げられる。

熱重合開始剤の使用量は重合性溶液に対して０．１〜１０質量％が好ましく、０．５〜５質量％が特に好ましい。これらは、単独で使用することもできるし、２種類以上混合して使用することもできる。

本願発明の製造方法は、重合性溶液に重合開始剤を混合した後に、重合性液晶組成物をフィルターで濾過する工程を要するが、フィルターの孔径としては、０．０１μｍ超〜１０μｍ以下が好ましく、０．０１μｍ超〜１μｍ以下がより好ましく、０．０１μｍ超〜０．２μｍ以下が特に好ましい。

フィルターの材質は、紙、布、不織布、セルロース、ニトロセルロース、セルロース混合エステル、セルロースアセテート、ポリプロピレン、ナイロン、ポリ四フッ化エチレン（ＰＴＦＥ）、親水性ＰＴＦＥ、フッ化ポリビニリデン、ポリエーテルスルフォン（ＰＥＳ）、ガラス繊維等が挙げられるが、ＰＴＦＥ又はフッ化ポリビニリデンが好ましい。

本願発明の製造方法において、濾過をする際に濾過塔に吸着剤を充填して行うことも好ましい。吸着剤を使用する場合の濾過塔に充填する吸着剤の量は、製造する重合性液晶組成物の２０質量％から０．１質量％が好ましい。

吸着剤としてはアルミナ、シリカゲル、フロリジル、珪藻土、ゼオライト、活性炭等を用いることができるが、アルミナ又はシリカゲルが好ましい。これらの吸着剤を使用前にさらに精製処理を行ってから用いても良い。
（その他の成分）
本発明の重合性液晶組成物は、光学異方体とした場合の膜厚むらを低減させるために界面活性剤を少なくとも１種類以上含有してもよい。含有することができる界面活性剤としては、アルキルカルボン酸塩、アルキルリン酸塩、アルキルスルホン酸塩、フルオロアルキルカルボン酸塩、フルオロアルキルリン酸塩、フルオロアルキルスルホン酸塩、ポリオキシエチレン誘導体、フルオロアルキルエチレンオキシド誘導体、ポリエチレングリコール誘導体、アルキルアンモニウム塩、フルオロアルキルアンモニウム塩類、シリコーン誘導体等をあげることができ、特に含フッ素界面活性剤、シリコーン誘導体が好ましい。更に具体的には「メガファック Ｆ−２５１」、「メガファック Ｆ−４４４」、「メガファック Ｆ−４７７」、「メガファック Ｆ−５１０」、「メガファック Ｆ−５５２」、「メガファック Ｆ−５５３」、「メガファック Ｆ−５５４」、「メガファック Ｆ−５５５」、「メガファック Ｆ−５５６」、「メガファック Ｆ−５５７」、「メガファック Ｆ−５５８」、「メガファック Ｆ−５５９」、「メガファック Ｆ−５６０」、「メガファック Ｆ−５６１」、「メガファック Ｆ−５６２」、「メガファック Ｆ−５６３」、「メガファック Ｆ−５６５」、「メガファック Ｆ−５６７」、「メガファック Ｆ−５６８」、「メガファック Ｆ−５６９」、「メガファック Ｆ−５７０」、「メガファック Ｆ−５７１」、「メガファック Ｒ−４０」、「メガファック Ｒ−４１」、「メガファック Ｒ−４３」、「メガファック Ｒ−９４」、「メガファック ＲＳ−７２−Ｋ」、「メガファック ＲＳ−７５」、「メガファック ＲＳ−７６−Ｅ」、「メガファック ＲＳ−９０」、（以上、DIC株式会社製）、
「フタージェント１００」、「フタージェント１００Ｃ」、「フタージェント１１０」、「フタージェント１５０」、「フタージェント１５０ＣＨ」、「フタージェントＡ」、「フタージェント１００Ａ-Ｋ」、「フタージェント５０１」、「フタージェント３００」、「フタージェント３１０」、「フタージェント３２０」、「フタージェント４００ＳＷ」、「ＦＴＸ-４００Ｐ」、「フタージェント２５１」、「フタージェント２１５Ｍ」、「フタージェント２１２ＭＨ」、「フタージェント２５０」、「フタージェント２２２Ｆ」、「フタージェント２１２Ｄ」、「ＦＴＸ-２１８」、「ＦＴＸ-２０９Ｆ」、「ＦＴＸ-２１３Ｆ」、「ＦＴＸ-２３３Ｆ」、「フタージェント２４５Ｆ」、「ＦＴＸ-２０８Ｇ」、「ＦＴＸ-２４０Ｇ」、「ＦＴＸ-２０６Ｄ」、「ＦＴＸ-２２０Ｄ」、「ＦＴＸ-２３０Ｄ」、「ＦＴＸ-２４０Ｄ」、「ＦＴＸ-２０７Ｓ」、「ＦＴＸ-２１１Ｓ」、「ＦＴＸ-２２０Ｓ」、「ＦＴＸ-２３０Ｓ」、「ＦＴＸ-７５０ＦＭ」、「ＦＴＸ-７３０ＦＭ」、「ＦＴＸ-７３０ＦＬ」、「ＦＴＸ-７１０ＦＳ」、「ＦＴＸ-７１０ＦＭ」、「ＦＴＸ-７１０ＦＬ」、「ＦＴＸ-７５０ＬＬ」、「ＦＴＸ-７３０ＬＳ」、「ＦＴＸ-７３０ＬＭ」、「ＦＴＸ-７３０ＬＬ」、「ＦＴＸ-７１０ＬＬ」（以上、ネオス社製）、
「ＢＹＫ−３００」、「ＢＹＫ−３０２」、「ＢＹＫ−３０６」、「ＢＹＫ−３０７」、「ＢＹＫ−３１０」、「ＢＹＫ−３１５」、「ＢＹＫ−３２０」、「ＢＹＫ−３２２」、「ＢＹＫ−３２３」、「ＢＹＫ−３２５」、「ＢＹＫ−３３０」、「ＢＹＫ−３３１」、「ＢＹＫ−３３３」、「ＢＹＫ−３３７」、「ＢＹＫ−３４０」、「ＢＹＫ−３４４」、「ＢＹＫ−３７０」、「ＢＹＫ−３７５」、「ＢＹＫ−３７７」、「ＢＹＫ−３５０」、「ＢＹＫ−３５２」、「ＢＹＫ−３５４」、「ＢＹＫ−３５５」、「ＢＹＫ−３５６」、「ＢＹＫ−３５８Ｎ」、「ＢＹＫ−３６１Ｎ」、「ＢＹＫ−３５７」、「ＢＹＫ−３９０」、「ＢＹＫ−３９２」、「ＢＹＫ−ＵＶ３５００」、「ＢＹＫ−ＵＶ３５１０」、「ＢＹＫ−ＵＶ３５７０」、「ＢＹＫ−Ｓｉｌｃｌｅａｎ３７００」（以上、ビックケミー・ジャパン社製）、
「ＴＥＧＯ Ｒａｄ２１００」、「ＴＥＧＯ Ｒａｄ２２００Ｎ」、「ＴＥＧＯ Ｒａｄ２２５０」、「ＴＥＧＯ Ｒａｄ２３００」、「ＴＥＧＯ Ｒａｄ２５００」、「ＴＥＧＯ Ｒａｄ２６００」、「ＴＥＧＯ Ｒａｄ２７００」（以上、テゴ社製）、
「Ｎ２１５」、「Ｎ５３５」、「Ｎ６０５Ｋ」、「Ｎ９３５」（以上、ソルベイソレクシス社製）等の例をあげることができる。

界面活性剤の添加量は重合性溶液に対して、０．０１〜２質量％であることが好ましく、０．０５〜０．５質量％であることがより好ましい。

界面活性剤は、重合性化合物を有機溶剤に混合し加熱攪拌して重合性溶液を調製する工程において添加することが好ましいが、その後の、重合性溶液に重合開始剤を混合する工程において添加してもよいし、両方の工程において添加してもよい。

本発明の重合性組成物溶液は、光学異方体とした場合の空気界面のチルト角を効果的に減じるために下記一般式（５）で表される繰り返し単位を有する重量平均分子量が１００以上である化合物を少なくとも１種類以上含有することが好ましい。

（式中、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３及びＲ^１４はそれぞれ独立的に水素原子、ハロゲン原子又は炭素原子数1〜２０の炭化水素基を表し、該炭化水素基中の水素原子は１つ以上のハロゲン原子で置換されていても良い。）
該一般式（５）で表される好適な化合物として、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリイソブチレン、パラフィン、流動パラフィン、塩素化ポリプロピレン、塩素化パラフィン、塩素化流動パラフィン等を挙げることができる。

該一般式（５）で表される化合物は、重合性化合物を有機溶剤に混合し加熱攪拌して重合性溶液を調製する工程において添加することが好ましいが、その後の、重合性溶液に光重合開始剤を混合する工程において添加してもよいし、両方の工程において添加してもよい。

該一般式（５）で表される化合物の添加量は重合性溶液に対して、０．０１〜１質量％であることが好ましく、０．０５〜０．５質量％であることがより好ましい。

本発明の重合性組成物溶液は、光学異方体とした場合の基材との密着性をより向上させるため、連鎖移動剤を添加することも好ましい。連鎖移動剤としては、チオール化合物が好ましく、モノチオール、ジチオール、トリチオール、テトラチオール化合物がより好ましく、トリチオール化合物が更により好ましい。具体的には下記一般式（６−１）〜（６−１２）で表される化合物が好ましい。

（式中、Ｒ^６５は炭素原子数２〜１８のアルキル基を表し、該アルキル基は直鎖であっても分岐鎖であっても良く、該アルキル基中の１つ以上のメチレン基は酸素原子、及び硫黄原子が相互に直接結合しないものとして、酸素原子、硫黄原子、−ＣＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−、又は−ＣＨ＝ＣＨ−で置換されていてもよく、Ｒ^６６は炭素原子数２〜１８のアルキレン基を表し、該アルキレン基中の１つ以上のメチレン基は酸素原子、及び硫黄原子が相互に直接結合しないものとして、酸素原子、硫黄原子、−ＣＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−、又は−ＣＨ＝ＣＨ−で置換されていてもよい。）
連鎖移動剤は、重合性化合物を有機溶剤に混合し加熱攪拌して重合性溶液を調製する工程において添加することが好ましいが、その後の、重合性溶液に重合開始剤を混合する工程において添加してもよいし、両方の工程において添加してもよい。

連鎖移動剤の添加量は重合性溶液に対して、０．５〜１０質量％であることが好ましく、１．０〜５．０質量％であることがより好ましい。

更に物性調整のため、重合性でない液晶化合物、あるいは液晶性のない重合性化合物等も必要に応じて添加することも可能である。液晶性のない重合性化合物は、重合性化合物を有機溶剤に混合し加熱攪拌して重合性溶液を調製する工程において添加することが好ましいが、重合性でない液晶化合物等は、その後の、重合性溶液に重合開始剤を混合する工程において添加してもよいし、両方の工程において添加してもよい。これらの化合物の添加量は重合性溶液に対して、２０質量％以下が好ましく、１０質量％以下がより好ましく、５質量％以下が更により好ましい。
（光学異方体の製造方法）
（光学異方体）
本発明の重合性液晶組成物を用いて作製した光学異方体は、基材、必要に応じて配向膜、及び、重合性液晶組成物の重合体を順次積層したものである。

本発明の光学異方体に用いられる基材は、液晶デバイス、ディスプレイ、光学部品や光学フィルムに通常使用する基材であって、本発明の重合性液晶組成物の塗布後の乾燥時における加熱に耐えうる耐熱性を有する材料であれば、特に制限はない。そのような基材としては、ガラス基材、金属基材、セラミックス基材やプラスチック基材等の有機材料が挙げられる。特に基材が有機材料の場合、セルロース誘導体、ポリオレフィン、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリアリレート、ポリエーテルサルホン、ポリイミド、ポリフェニレンスルフィド、ポリフェニレンエーテル、ナイロン又はポリスチレン等が挙げられる。中でもポリエステル、ポリスチレン、ポリオレフィン、セルロース誘導体、ポリアリレート、ポリカーボネート等のプラスチック基材が好ましい。

本発明の重合性液晶組成物の塗布性や接着性向上のために、これらの基材の表面処理を行っても良い。表面処理として、オゾン処理、プラズマ処理、コロナ処理、シランカップリング処理などが挙げられる。また、光の透過率や反射率を調節するために、基材表面に有機薄膜、無機酸化物薄膜や金属薄膜等を蒸着など方法によって設ける、あるいは、光学的な付加価値をつけるために、基材がピックアップレンズ、ロッドレンズ、光ディスク、位相差フィルム、光拡散フィルム、カラーフィルター、等であっても良い。中でも付加価値がより高くなるピックアップレンズ、位相差フィルム、光拡散フィルム、カラーフィルターは好ましい。

また、上記基材には、本発明の重合性組成物溶液を塗布乾燥した際に重合性組成物が配向するように、通常配向処理が施されている、あるいは配向膜が設けられていても良い。配向処理としては、延伸処理、ラビング処理、偏光紫外可視光照射処理、イオンビーム処理等が挙げられる。配向膜を用いる場合、配向膜は公知慣用のものが用いられる。そのような配向膜としては、ポリイミド、ポリシロキサン、ポリアミド、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリフェニレンエーテル、ポリアリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルサルホン、エポキシ樹脂、エポキシアクリレート樹脂、アクリル樹脂、クマリン化合物、カルコン化合物、シンナメート化合物、フルギド化合物、アントラキノン化合物、アゾ化合物、アリールエテン化合物等の化合物が挙げられる。ラビングにより配向処理する化合物は、配向処理、もしくは配向処理の後に加熱工程を入れることで材料の結晶化が促進されるものが好ましい。ラビング以外の配向処理を行う化合物の中では光配向材料を用いることが好ましい。
（塗布）
本発明の光学異方体を得るための塗布法としては、アプリケーター法、バーコーティング法、スピンコーティング法、ロールコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、フレキソコーティング法、インクジェット法、ダイコーティング法、キャップコーティング法、ディップコーティング法、スリットコーティング法等、公知慣用の方法を行うことができる。重合性液晶組成物を塗布後、乾燥させる。
（重合工程）
乾燥した重合性液晶組成物の重合処理は、プレーナー配向した状態で一般に紫外線等の光照射、あるいは加熱によって行われる。重合を光照射で行う場合は、具体的には３９０ｎｍ以下の紫外光を照射することが好ましく、２５０〜３７０ｎｍの波長の光を照射することが最も好ましい。但し、３９０ｎｍ以下の紫外光により重合性液晶組成物が分解などを引き起こす場合は、３９０ｎｍ以上の紫外光で重合処理を行ったほうが好ましい場合もある。この光は、拡散光で、かつ偏光していない光であることが好ましい。

以下に本発明を合成例、実施例、及び、比較例によって説明するが、もとより本発明はこれらに限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」及び「％」は質量基準である。
（重合性液晶組成物（１）の調製）
式（Ａ-１）で表される化合物３０部、式（Ａ-２）で表される化合物３０部、式（Ｂ-１）で表される化合物１５部、式（Ｂ-２）で表される化合物１５部、式（Ｂ-３）で表される化合物１０部、式（Ｅ-１）で表される化合物０．１部、式（Ｇ-１）で表される化合物０．１部、及び、式（Ｈ-１）で表される化合物０．２部を有機溶剤であるメチルイソブチルケトン３００部に、攪拌プロペラを有する攪拌装置を用いて、攪拌速度が５００ｒｐｍ、溶液温度が８０℃の条件下で１時間攪拌し重合性溶液を作製した（工程Ｉ）。その後、溶液温度を５０℃にし、光重合開始剤である（Ｉ−１）を６部添加し、溶解混合した後（工程ＩＩ）、０．２μｍのメンブランフィルターで濾過して、本発明の重合性液晶組成物（１）を得た。
（重合性液晶組成物（２）〜（１８）の調製）
本発明の重合性液晶組成物（１）の調製と同様に、表１又は表２に示す化合物を、表１又は表２に示す工程（Ｉ）における溶液温度、攪拌速度の条件下で調製し、その後、表１又は表２に示す工程（ＩＩ）における溶液温度で、表１又は表２に示す光重合開始剤を添加し、溶解混合した後、０．２μｍのメンブランフィルターで濾過して、本発明の重合性液晶組成物（２）〜（１８）を得た。
（比較重合性液晶組成物（Ｃ１）の調製）
式（Ａ-１）で表される化合物３０部、式（Ａ-２）で表される化合物３０部、式（Ｂ-１）で表される化合物１５部、式（Ｂ-２）で表される化合物１５部、式（Ｂ-３）で表される化合物１０部、式（Ｅ-１）で表される化合物０．１部、式（Ｇ-１）で表される化合物０．１部、式（Ｈ-１）で表される化合物０．２部、及び、光重合開始剤である（Ｉ−１）６部を有機溶剤であるメチルイソブチルケトン３００部に、攪拌プロペラを有する攪拌装置を用いて、攪拌速度が１０００ｒｐｍ、溶液温度が８０℃の条件下で１時間攪拌後、０．２μｍのメンブランフィルターで濾過して比較用重合性液晶組成物（Ｃ１）を得た。
（比較重合性液晶組成物（Ｃ２）〜（Ｃ７）の調製）
比較重合性液晶組成物（Ｃ１）の調製と同様に、表３に示す式（Ａ−１）〜式（Ｉ−６）で表される化合物を、表３に示す割合で、有機溶剤であるメチルイソブチルケトン（Ｄ−１）に、表３に示す溶液温度、攪拌速度の条件下で１時間攪拌溶解後、０．２μｍのメンブランフィルターで濾過して比較用重合性液晶組成物（２）〜（７）を得た。

メチルイソブチルケトン（Ｄ−１）
ｐ−メトキシフェノール（Ｅ−１）
ＩＲＧＡＮＯＸ１０７６（Ｆ−１）
流動パラフィン（Ｇ−１）
メガファック Ｆ−５５４（Ｈ−１）
イルガキュア９０７（Ｉ−１）
イルガキュア６５１（Ｉ−２）
ルシリンＴＰＯ（Ｉ−３）
Ｖ−４０（Ｉ−４）

（実施例１〜１８、比較例１〜６）
（配向性１〜４）
調製した重合性液晶組成物を室温で、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）フィルム上にバーコーター♯４で塗布した後、８０℃で２分乾燥した。その後、室温で１５分放置した後に、コンベア式の高圧水銀ランプを使用して、照度が５００ｍＪ/ｃｍ^２となるようにセットしてＵＶ光を照射した（配向性１）。

配向膜用ポリイミド溶液を、室温で、厚さ０．７ｍｍのガラス基板にスピンコート法を用いて塗布し、１００℃で１０分乾燥した後、２００℃で６０分焼成することにより塗膜を得て、得られた塗膜をラビング処理して基材を得た。調製した重合性液晶組成物を、該基材にスピンコーターで塗布した後、８０℃で２分乾燥した。その後、すぐに照度が５００ｍＪ/ｃｍ^２となるようにセットしてＵＶ光を照射した（配向性２）。

ガラス基板上に、V1a-100（ＤＩＣ株式会社製）をスピンコーターで塗布し、８０℃で１分間乾燥し、乾燥膜厚１５ｎｍの塗膜に、超高圧水銀ランプに波長カットフィルター、バンドパスフィルター、及び、偏光フィルターを介して、波長３６５ｎｍ付近の可視紫外光（照射強度：２０ｍＷ/ｃｍ^２）の直線偏光でかつ平行光を、基材に対して垂直方向から照射し（照射量：１００ｍＪ/ｃｍ^２）光配向膜が積層した基材を得た。調整した重合性液晶組成物を、室温で、得られた基材にスピンコーターで塗布した後、８０℃で２分乾燥した。その後、すぐに照度が５００ｍＪ/ｃｍ^２となるようにセットしてＵＶ光を照射した（配向性３）。

ガラス基板上にスピンコーターで塗布した後、８０℃で２分乾燥した。その後、室温で２分放置した後に、照度が５００ｍＪ/ｃｍ^２となるようにセットしてＵＶ光を照射した（配向性４）。
○：目視で欠陥が全くなく、偏光顕微鏡観察でも欠陥が全くない
△：目視では欠陥がないが、偏光顕微鏡観察で全体的に無配向部分が存在している
×：目視で一部欠陥が生じており、偏光顕微鏡観察でも全体的に無配向部分が存在している
なお、配向性測定結果のうち、「−」で示される結果は、用いる重合性液晶組成物の組成が水平配向性を示す場合ラビングなどによる一軸配向規制力をもつ配向層上でないと配向性を評価できないため「−」とし、用いる重合性液晶組成物の組成が垂直配向性を示す場合ラビングなどによる一軸配向規制力をもつ配向層上では配向性を評価できないため「−」と表す。
（ハジキ評価）
ＴＡＣフィルム上にV1a-100（ＤＩＣ株式会社製）をスピンコーターで塗布し、８０℃で１分間乾燥し、乾燥膜厚１５ｎｍの塗膜に、超高圧水銀ランプに波長カットフィルター、バンドパスフィルター、及び、偏光フィルターを介して、波長３６５ｎｍ付近の可視紫外光（照射強度：２０ｍＷ/ｃｍ^２）の直線偏光でかつ平行光を、基材に対して垂直方向から照射し（照射量：１００ｍＪ/ｃｍ^２）光配向膜が積層した基材を得た。調整した重合性液晶組成物をバーコーター#4で塗布し、８０℃で２分間乾燥し、その後室温で１５分間保管した後に、コンベア式の高圧水銀ランプを使用して500mJ/cm2のＵＶ光を照射し、得られた塗膜のハジキ具合を目視にて観察した。
◎：塗膜表面にハジキ欠陥が全く観察されない。
○：塗膜表面にハジキ欠陥が極僅かに観察される。
△：塗膜表面にハジキ欠陥が少し観察される。
×：塗膜表面にハジキ欠陥が多数観察される。
（着色性）
ろ過後の重合性液晶組成物を紫外可視分光光度計にて着色度を測定した。
◎：着色度が３未満である。
○：着色度が３以上５未満である。
△：着色度が５以上１０未満である。
×：着色度が１０以上である。
（保存安定性）
調製した重合性液晶組成物を４０℃で１か月保管した後の溶液状態を観察した。
○：沈殿物が全くなく、均一溶液のままである
△：沈殿物がごく一部確認されるが、ほぼ均一溶液である。
×：沈殿物が確認され、白濁している。
得られた結果を以下の表に示す。

（実施例１〜１８、比較例１〜６）
その結果、本発明の重合性組成物の製造方法により製造した組成物は、いずれも着色しておらず、また、沈殿物は確認されず、調製した時点と同じ状態を維持していた。さらに、配向性試験結果、ハジキ性も良好であり、本発明の重合性液晶組成物の製造方法により製造した組成物は、生産性に優れているといえる。

一方、比較例１〜６の結果から、重合性化合物を有機溶媒に混合し重合性溶液を調製する際に、光重合開始剤を混合すると、得られる重合性液晶組成物には、着色や沈殿物が確認され、配向性試験結果、及び、ハジキ性が、本発明の重合性液晶組成物の製造方法により製造した組成物を用いた場合に比べ劣る結果となった。

Claims (9)

1. 少なくとも１つ以上の重合性官能基を有する少なくとも１種以上の重合性化合物、および、１種又は２種以上の有機溶剤を混合し、前記重合性化合物が有機溶剤に溶解する温度にて加熱攪拌して重合性溶液を調製する工程（Ｉ）と、前記重合性溶液の温度が１５℃〜５０℃、かつ工程（Ｉ）の加熱攪拌時の加熱温度よりも低い温度で重合開始剤を混合する工程（ＩＩ）とを含み、前記重合性化合物が一般式（１）
   

   

   （式中、Ｐは重合性官能基を表し、
   Ｓｐは炭素原子数０〜１８のアルキレン基を表し（該アルキレン基中の水素原子は１つ以上のハロゲン原子又はＣＮにより置換されていても良く、この基中に存在する１つのＣＨ ₂ 基又は隣接していない２つ以上のＣＨ ₂ 基はそれぞれ相互に独立して、酸素原子が相互に直接結合しない形で、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ _３ ）−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−、−ＳＣＯ−、−ＣＯＳ−又は−Ｃ≡Ｃ−により置き換えられていても良い。）、ｍは０又は１を表し、
   ＭＧはメソゲン基を表し、
   Ｒ ¹ は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基又は炭素原子数１〜１８のアルキル基を表すが、該アルキル基は１つ以上のハロゲン原子又はＣＮにより置換されていても良く、この基中に存在する１つのＣＨ ₂ 基又は隣接していない２つ以上のＣＨ ₂ 基はそれぞれ相互に独立して、酸素原子が相互に直接結合しない形で、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ _３ ）−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−、−ＳＣＯ−、−ＣＯＳ−又は−Ｃ≡Ｃ−により置き換えられていても良く、あるいはＲ ¹ は一般式（１−ａ）
   

   

   （式中、Ｐは反応性官能基を表し、Ｓｐは炭素原子数０〜１８のスペーサー基を表し、ｍは０又は１を表す。）で表される構造を表し、Ｐ、及びＳｐが複数存在する場合は、それぞれ、同一であっても、異なっていても良い。）
   で表される化合物である、重合性液晶組成物の製造方法。
2. 前記工程（ＩＩ）の後に、さらに、濾過を行う、請求項１に記載の重合性液晶組成物の製造方法。
3. 前記重合性溶液中の重合性化合物の濃度が５質量％〜５０質量％である、請求項１又は請求項２に記載の重合性液晶組成物の製造方法。
4. 前記加熱攪拌して重合性溶液を調製する工程における加熱撹拌時の加熱温度が１５℃〜１００℃である、請求項１〜請求項３のいずれか一項に記載の重合性液晶組成物の製造方法。
5. 前記加熱攪拌して重合性溶液を調製する工程における攪拌回転数が１０ｒｐｍ〜１０００ｒｐｍである、請求項１〜請求項４のいずれか一項に記載の重合性液晶組成物の製造方法。
6. 前記重合性溶液を調製する工程において重合禁止剤及び／又は酸化防止剤を混合することを特徴とする、請求項１〜請求項５のいずれか一項に記載の重合性液晶組成物の製造方法。
7. 前記一般式（１）において、ＭＧが一般式（１−ｂ）
   

   

   （式中、Ａ１、Ａ２及びＡ３はそれぞれ独立的に、１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、１，４−シクロヘキセニル基、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル基、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基、テトラヒドロチオピラン−２，５−ジイル基、１，４−ビシクロ（２，２，２）オクチレン基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ピラジン−２，５−ジイル基、チオフェン−２，５−ジイル基−、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、２，６−ナフチレン基、フェナントレン−２，７−ジイル基、９，１０−ジヒドロフェナントレン−２，７−ジイル基、１，２，３，４，４ａ，９，１０ａ−オクタヒドロフェナントレン−２，７−ジイル基、１，４−ナフチレン基、ベンゾ［１，２−ｂ：４，５−ｂ‘］ジチオフェン−２，６−ジイル基、ベンゾ［１，２−ｂ：４，５−ｂ‘］ジセレノフェン−２，６−ジイル基、［１］ベンゾチエノ［３，２−ｂ］チオフェン−２，７−ジイル基、［１］ベンゾセレノフェノ［３，２−ｂ］セレノフェン−２，７−ジイル基、又はフルオレン−２，７−ジイル基を表し、置換基として１個以上のＦ、Ｃｌ、ＣＦ₃、ＯＣＦ₃、ＣＮ基、炭素原子数１〜８のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、アルカノイルオキシ基、炭素原子数２〜８のアルケニル基、アルケニルオキシ基、アルケノイル基、アルケノイルオキシ基、及び/又は一般式（１−ａ）
   

   

   （式中、Ｐは反応性官能基を表し、Ｓｐは炭素原子数０〜１８のスペーサー基を表し、ｍは０又は１を表し、Ｐ、及びＳｐが複数存在する場合は、それぞれ、同一であっても、異なっていても良い。）を有していても良く、
   Ｚ０、Ｚ１、Ｚ２及びＺ３はそれぞれ独立して、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ₂ ＣＨ₂−、−ＯＣＨ₂−、−ＣＨ₂Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＯＯ−、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＯ−、−ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＯＣＯＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、ハロゲン原子を有してもよい炭素原子数２〜１０のアルキル基又は単結合を表し、
   ｎは０、１又は２を表し、Ａ１、及びＺ１が複数存在する場合は、それぞれ、同一であっても、異なっていても良い。）で表される化合物である、請求項１〜請求項６のいずれか一項に記載の重合性液晶組成物の製造方法。
8. 前記一般式（１）において、Ｒ¹が一般式（１−ａ）で表される化合物を含有する、請求項１〜請求項７のいずれか一項に記載の重合性液晶組成物の製造方法。
9. 前記一般式（１）で表される化合物のうち、融点が１００℃以上のものを含む請求項１〜請求項８のいずれか一項に記載の重合性液晶組成物の製造方法。