JP5855995B2 - 光電変換モジュール - Google Patents

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Description

本発明は光電変換モジュールに関する。
太陽光発電等に使用される光電変換モジュールは、様々な種類のものがある。その中でも、CIS系(銅インジウムセレナイド系)、CIGS系(銅インジウムガリウムセレナイド系)等のカルコパイライト系の材料は、比較的低コストで大面積の光電変換モジュールを容易に製造できる点から、研究開発が進められている。
このカルコパイライト系の光電変換モジュールは、ガラス基板などの第1基板上に、金属裏面電極層、光吸収層およびバッファ層から成る光電変換層、および窓層となる透明電極層を順次成膜した積層体を備えている。さらに、このような光電変換モジュールは、上記した積層体上に充填材としてエチレンビニルアセテート共重合体(以下、EVAという)と、このEVAの上に白色強化ガラスなどから成る第2基板を積層し、これらを減圧下で加熱加圧し、一体化されてなる(例えば、特許文献1参照)。
このような光電変換モジュールにおいては、外部から水分が浸入した場合、光電変換部などが劣化し、光電変換効率が低下する場合がある。そのため、このような光電変換モジュールでは、水分を吸着する吸着剤を含有させた封止部材を外周部に配置し、防水効果を高める場合がある(例えば、特許文献2参照)。
特開2007−123725号公報 特表2010−541265号公報
特許文献2に開示されているように、上述の吸着剤として、水分を物理吸着するゼオライトを用いた場合、光電変換モジュールの周囲の温度および湿度に応じて、ゼオライトが吸着した水分を放出する場合がある。そのため、この放出された水分は、光電変換部に浸入する可能性があった。
一方で、吸着剤として、水分を化学吸着する酸化カルシウム(CaO)のようなアルカリ土類金属酸化物を用いた場合、吸着剤が水分と化学反応を起こし他の物質に変化する。この化学反応は、主として不可逆反応として進行する。それゆえ、このような吸着剤では、一度水分を吸着してしまうと吸着効果が低下するため、長期的に水分の浸入を低減しにくくなる。
本発明の1つの目的は光電変換モジュールの内部への水分の浸入を低減し、信頼性の高い光電変換モジュールを提供することにある。
本発明の一実施形態に係る光電変換モジュールは、一主面同士が対向するように配置されている第1基板および第2基板と、前記第1基板および前記第2基板の間に配置されている光電変換部とを有する。さらに、本実施形態では、前記第1基板および前記第2基板の間において前記光電変換部を囲うように配置されている第1封止部材と、前記第1基板および前記第2基板の間において前記第1封止部材を囲うように配置されている第3封止部材と、前記第1基板および前記第2基板の間において前記第3封止部材を囲うように配置されている第2封止部材とを備えている。そして、本実施形態において、前記第2封止部材における水分の拡散係数は、前記第1封止部材における水分の拡散係数よりも大きく、前記第3封止部材の飽和吸水率は、前記第1封止部材の飽和吸水率よりも大きい
本発明の一実施形態に係る光電変換モジュールによれば、光電変換モジュールの内部に浸入してくる水分を外部に放出して、内部に位置する光電変換部に到達する水分の量を低減することができる。これにより、水分による光電変換部の劣化を低減し、光電変換モジュールの信頼性が向上する。
本発明の実施形態に係る光電変換モジュールの光電変換部の一例を示すものであり、(a)は斜視図、(b)は断面図である。 本発明の実施形態に係る光電変換モジュールを示すものであり、(a)は斜視図、(b)は(a)のA−A面における断面図である。 本発明の他の実施形態に係る光電変換モジュールの端部の構造の一例を示す断面図である。 本発明の他の実施形態に係る光電変換モジュールを示すものであり、(a)は斜視図、(b)は光電変換モジュール端部の構造の一例を示す断面図である。
本発明の光電変換モジュールの実施形態について図面を参照しつつ説明する。なお、図1には、後述する光電変換セルの配列方向をX軸とする右手系のXYZ座標が付してある。まず、光電変換モジュールの一部である光電変換部について説明する。
<光電変換部>
光電変換部1は、第1基板2の一主面上に設けられている。そして、この光電変換部1は、下部電極3と、光吸収層4およびバッファ層5を備えた光電変換層と、透光性導電層6および集電電極7を備えた上部電極とを有する。この光電変換部1では、下部電極3および上部電極で挟まれた光吸収層4およびバッファ層5により光電変換が行なわれる。
また、光電変換部1では、複数の光電変換セル1a、1bが電気的に接続される態様を成している。具体的には、図1に示すように、一方の光電変換セル1aの上部電極(集電電極7)と、一方の光電変換セル1aに隣り合う他方の光電変換セル1bの下部電極3とが電気的に接続されている。これにより、隣接する光電変換セル1a、1bは、図1中のX方向に沿って直列接続され、第1基板2上で集積化されている。
次に、光電変換部1の各部材について説明する。
下部電極3は、一方向(図1(a)(b)のX方向)に互いに間隔をあけて第1基板2の一主面上に複数配置されている。本実施形態では、図1(b)に示すように、上記間隔に対応する間隙P1によって互いに離間した3つの下部電極3が設けられている。なお、下部電極3の個数については、図1に示したものに限られない。このような下部電極3は、モリブデン(Mo)、アルミニウム(Al)、チタン(Ti)、タンタル(Ta)または金(Au)等の金属またはこれらの合金を含む薄膜であればよい。また、これらの金属が積層されてなる構造体であってもよい。この下部電極3は、例えば、第1基板2上にスパッタリング法または蒸着法等で厚さ0.2〜1μm程度に形成される。
光吸収層4は、下部電極3上に配置されている。光吸収層4は、例えば、化合物半導体を含んでいる。このような化合物半導体としては、例えば、カルコゲン化合物半導体が挙
げられる。カルコゲン化合物半導体は、カルコゲン元素である硫黄(S)、セレン(Se)またはテルル(Te)を含むものである。カルコゲン化合物半導体としては、例えば、I-III-VI化合物半導体がある。I-III-VI化合物半導体とは、I-B族元素(11族元素ともいう)とIII-B族元素(13族元素ともいう)とVI-B族元素(16族元素ともいう)
との化合物半導体であり、カルコパイライト構造を有し、カルコパイライト系化合物半導体と呼ばれる(CIS系化合物半導体ともいう)。I-III-VI化合物半導体としては、例えば、二セレン化銅インジウム(CuInSe)、二セレン化銅インジウム・ガリウム(Cu(In,Ga)Se)、二セレン・イオウ化銅インジウム・ガリウム(Cu(In,Ga)(Se,S))、二イオウ化銅インジウム・ガリウム(Cu(In,Ga)S)又は薄膜の二セレン・イオウ化銅インジウム・ガリウム層を表面層として有する二セレン化銅インジウム・ガリウム等の多元化合物半導体薄膜がある。なお、光吸収層4が含む化合物半導体は、上記したI-III-VI化合物半導体だけでなく、例えば、銅(Cu)、
亜鉛(Zn)、錫(Sn)、硫黄(S)を含む、CZTS系のものであってもよい。このようなCZTS系化合物半導体は、例えばCuZnSnSが挙げられる。CZTS系化合物半導体は、I-III-VI化合物半導体のようにレアメタルを使用していないため、材料を確保しやすい。また、光吸収層4は、例えば、p型の導電形を有し、厚さが1〜3μm程度である。
光吸収層4は、例えば、スパッタリング法または蒸着法等のような真空プロセスによって形成される。また、光吸収層4は、塗布法あるいは印刷法と称されるプロセスによっても形成される。塗布法または印刷法では、例えば、光吸収層4に主として含まれる元素の錯体溶液が下部電極層2の上に塗布され、その後、乾燥および熱処理が行われる。
バッファ層5は、光吸収層4の+Z側の主面の上に設けられており、光吸収層4の第1導電型とは異なる第2導電型(ここではn型の導電型)を有する半導体を主に含む。なお、導電型が異なる半導体とは、伝導担体(キャリア)が異なる半導体である。また、光吸収層4の導電型がn型であり、バッファ層5の導電型がp型であってもよい。ここでは、バッファ層5と光吸収層4との間にヘテロ接合領域が形成されている。このため、光電変換セルRaでは、ヘテロ接合領域を形成する光吸収層4とバッファ層5とにおいて光電変換が生じ得る。
バッファ層5は、化合物半導体を主に含む。バッファ層5に含まれる化合物半導体としては、例えば、硫化カドミウム(CdS)、硫化インジウム(In)、硫化亜鉛(ZnS)、酸化亜鉛(ZnO)、セレン化インジウム(InSe)、In(OH,S)、(Zn,In)(Se,OH)、および(Zn,Mg)O等が挙げられる。そして、バッファ層5が1Ω・cm以上の抵抗率を有していれば、リーク電流の発生が低減され得る。なお、バッファ層5は、例えば、ケミカルバスデポジション(CBD)法等によって形成され得る。
また、バッファ層5は、光吸収層4の一主面の法線方向(+Z方向)に厚さを有する。この厚さは、例えば、10nm以上で且つ200nm以下に設定される。バッファ層5の厚さが100nm以上で且つ200nm以下であれば、バッファ層5の上に透光性導電層6がスパッタリング法等で形成される際に、バッファ層5においてダメージが生じ難くなる。
透光性導電層6は、バッファ層5の+Z側の主面の上に設けられており、例えば、n型の導電型を有する透明の導電層(透明導電層とも言う)である。この透光性導電層6は、光吸収層4において生じた電荷を取り出す電極(取出電極とも言う)として働く。透光性導電層6は、バッファ層5よりも低い抵抗率を有する材料を主に含む。透光性導電層6には、いわゆる窓層と呼ばれるものが含まれてもよいし、窓層と透明導電層とが含まれても
よい。
透光性導電層6は、禁制帯幅が広く且つ透明で低抵抗の材料を主に含んでいる。このような材料としては、例えば、酸化亜鉛(ZnO)、酸化亜鉛の化合物、錫が含まれた酸化インジウム(ITO)、および酸化錫(SnO)等の金属酸化物半導体等が採用され得る。酸化亜鉛の化合物は、アルミニウム、ボロン、ガリウム、インジウム、およびフッ素のうちの何れか1つの元素等が含まれたものである。
透光性導電層6は、スパッタリング法、蒸着法または化学的気相成長(CVD)法等によって形成され得る。透光性導電層6の厚さは、例えば、0.05μm以上で且つ3.0μm以下である。ここで、透光性導電層6が、1Ω・cm未満の抵抗率と、50Ω/□以下のシート抵抗とを有していれば、透光性導電層6を介して光吸収層4から電荷が良好に取り出され得る。
バッファ層5および透光性導電層6が、光吸収層4が吸収し得る光の波長帯域に対して、光を透過させ易い性質(光透過性とも言う)を有していれば、光吸収層4における光の吸収効率の低下が低減され得る。また、透光性導電層6の厚さが0.05μm以上で且つ0.5μm以下であれば、透光性導電層6における光透過性が高められると同時に、光電変換によって生じた電流が良好に伝送され得る。更に、透光性導電層6の絶対屈折率とバッファ層5の絶対屈折率とが略同一であれば、透光性導電層6とバッファ層5との界面で光が反射することで生じる入射光のロスが低減され得る。
集電電極7は、透光性導電層6の+Z側の主面(一主面とも言う)の上に設けられている線状の線状部7a(線状電極部とも言う)と、線状部7aと電気的に接続されるとともにZ方向に延びる接続部7bを有している。そして、例えば、光電変換セル1aの透光性導電層6によって集められた電荷は、線状部7aによって更に集められ、接続部7bを介して隣接する光電変換セル1bに伝達され得る。
この線状部7aが設けられることで、透光性導電層6における導電性が補われるため、透光性導電層6の薄層化が可能となる。その結果、電荷の取り出し効率の確保と、透光性導電層6における光透過性の向上とが両立し得る。なお、線状部7aが、例えば、銀等の導電性が優れた金属を主に含んでいれば、光電変換部1における変換効率が向上し得る。なお、線状部7aに含まれる金属としては、例えば、銅、アルミニウム、ニッケル等であってもよい。
また、線状部7aの幅は、50〜400μm以下であれば、隣接する光電変換セル間における良好な導電が確保されつつ、光吸収層4への光の入射量の低下が低減され得る。1つの光電変換セルに複数の線状部7aが設けられる場合、該複数の線状部7aの間隔は、例えば、2.5mm程度であればよい。
なお、線状部7aの表面が、光吸収層4が吸収し得る波長領域の光を反射する性質を有していれば、光電変換部1がモジュール化された際に、線状部7aの表面で反射した光が、モジュール内で再び反射して光吸収層4に入射し得る。これにより、光電変換部1における変換効率が向上し得る。このような表面が形成されるためには、例えば、透光性の樹脂に光反射率の高い銀等の金属粒子が添加されたペーストが透光性導電層6の一主面上に塗布され、その後の乾燥によって該ペーストが固化されることで線状部7aが形成されればよい。また、例えば、アルミニウム等の光反射率の高い金属が線状部7aの表面に蒸着されてもよい。
接続部7bは、光吸収層4およびバッファ層5を分離する間隙P2内に配置されている
。この接続部7bは、線状部7aと電気的に接続している。そして、例えば、光電変換セル1a内に位置する接続部7bは、間隙P2を通って隣の光電変換セル1bから延伸されている下部電極3に接続するような垂下部を有している。これにより接続部7bは、図1(a)において、光電変換セル1aの上部電極(透光性導電層6および線状部7a)と、光電変換セル1bの下部電極3とを電気的に接続できる。なお、図1(a)(b)では、透光性導電層6に電気的に接続された光電変換セル1aの線状部7aと光電変換セル1bの下部電極3とを直に接続しているが、この形態に限られない。接続部7bは、例えば、間隙P2に配置されるバッファ層5および透光性導電層6の少なくとも一方を介して光電変換セル1aの上部電極と光電変換セル1bの下部電極3とを電気的に接続する形態であってもよい。
接続部7bは、線状部7aと同様の材質、方法で作製してもよい。そのため、接続部7bは、線状部7aの形成と同時に行なってもよい。それゆえ、接続部7bは、線状部7aの一部であってもよい。
次に、光電変換部1の製造方法の一例について説明する。
まず、洗浄した青板ガラスなどの第1基板2の外周部から内側に3〜20mm程度を除
く略全面にモリブデン等の金属をスパッタリング法で成膜し、下部電極3を形成する。次いで、下部電極3の所望の位置にYAG(イットリウム、アルミニウム、ガーネット)レーザ等を照射して間隙P1を形成し、下部電極3をパターニングする。その後、パターンニングされた下部電極3上に光吸収層4をスパッタ法、蒸着法または印刷法などを用いて成膜する。次に、光吸収層4上にバッファ層5をケミカルバスデポジション法(CBD法)等で成膜する。次いで、スパッタリング法または有機金属気相成長法(MOCVD法)等でバッファ層5上に透光性導電層6を成膜する。次に、メカニカルスクライビング等で間隙P2を形成して、光吸収層4、バッファ層5および透光性導電層6をパターニングする。次いで、透光性導電層6上にスクリーン印刷法等で金属ペーストを塗布した後、焼成して集電電極7を形成する。その後、メカニカルスクライビング等で間隙P3を形成し、複数の光電変換セルを構成するようにパターニングすることによって、光電変換部1が作製される。
<光電変換モジュール>
次に、本発明の実施形態に係る光電変換モジュールについて説明する。
本発明の一実施形態に係る光電変換モジュールMは、図2に示すように、光電変換部1、第1基板2、第2基板8、充填材9、第1封止部材10および第2封止部材11を備えている。
第1基板2は、光電変換部1を支持するためのものである。このような第1基板2としては、例えば、厚さ1〜3mm程度のソーダライムガラス(SLG)が挙げられる。
第2基板8は、光電変換部1等を外部から保護する機能を有している。また、本実施形態では、第2基板8側から光が入射される。それゆえ、第2基板8は、光透過率の良い白板強化ガラスなどが使用できる。なお、第2基板8の形状は、第1基板2とほぼ同等のものであればよい。第2基板8は、その一主面が第1基板2の一主面と対向するように配置されている。そして、第2基板8の一主面と第1基板2の一主面との間に光電変換部1が配置されている。
充填材9は、図2(b)に示すように、第1基板2および第2基板8の互いに対向する一主面間に充填されている。また、充填材9は、第1基板2の一主面上の光電変換部1と
、第2基板8の一主面との間にも充填されている。
充填材9は、主として光電変換部1を保護する機能を有しており、図2(b)に示すように、光電変換部1を覆うように配置されている。このような充填材9としては、例えば共重合したエチレンビニルアセテート(EVA)を主成分とする樹脂が挙げられる。なおEVAには、樹脂の架橋を促進すべく、トリアリルイソシアヌレート等の架橋剤が含まれていてもよい。また、EVAにより、第1基板2と第2基板8とを接着し、一体化することができる。
第1封止部材10および第2封止部材11は、第1基板2および第2基板8を平面視して、光電変換部1を取り囲むように、第1基板2および第2基板8の間に配置されている。これにより、第1封止部材10および第2封止部材11は、第1基板2と第2基板8との間から光電変換部1側に入ってくる異物の浸入を低減する機能を有している。このような異物としては、例えば、外部から浸入する水分が挙げられる。また、この第1封止部材10は、図2(b)に示すように、第2封止部材11よりも光電変換部1側に配置されている。換言すれば、第2封止部材11は、第1基板2および第2基板8を平面視して、第1封止部材10を囲うように配置されている。また、本実施形態において、第1封止部材10は、充填材9と接触するように配置されている。これにより、本実施形態では、第1封止部材10と充填材9との隙間の発生を低減することができるため、外部からの応力に対して略均一な剛性を維持することができる。
そして、本実施形態において、第2封止部材11における水分の拡散係数は、第1封止部材10における水分の拡散係数よりも大きい。これにより、例えば、光電変換モジュールMを屋外に配置した場合、気温の高い晴天時等において、第2封止部材11で吸着された水分が、再度、外部に放出されやすくなる。その結果、光電変換部1に到達する水分量、すなわち、光電変換モジュールM内に残存する水分量を低減できるため、光電変換モジュールMの信頼性が向上する。
一方で、第1封止部材10における水分の拡散係数は、第2封止部材11における水分の拡散係数よりも小さい。これにより、第2封止部材11側から第1封止部材10に浸透してきた水分が、第1封止部材10を介して光電変換部1側に拡散されにくい。その結果、上記水分の光電変換部1に到達する時間を遅らせることができる。そして、このような水分は、光電変換部1に到達する前に、上述したような晴天時に第1封止部材10から第2封止部材11側に拡散して外部に放出され得る。それゆえ、第1封止部材10に浸透した水分は、光電変換部1に到達しにくい。これにより、水分による光電変換部1の劣化が低減される。その結果、光電変換モジュールMの信頼性が向上する。
第1封止部材10を構成する母材としては、例えば、ブチルゴム系封止材(40℃における拡散係数:3.03×10−8cm/sec)、EVA(40℃における拡散係数:2.08×10−7cm/sec)、環状オレフィン系重合体(40℃における拡散
係数:1.37×10−5cm/sec)、ポリスチレン系封止材(40℃における拡
散係数:1.45×10−5cm/sec)が用いられる。なお、上述した水分の拡散
係数は、第1封止部材10の主成分となる母材の値を指す。また、第1封止部材10には、上記した母材が90質量%以上含有されていればよく、別途、他の材料が含有されていてもよい。
また、第1封止部材10には、吸湿剤が含有されていてもよい。この吸湿剤は、水分と化学反応を伴って、化学吸着する性質を有している。そのため、第1封止部材10に到達した水分は、吸湿剤の強い吸着力で吸着され、光電変換部1まで浸入しにくくなる。それゆえ、第1封止部材10は、光電変換部1への水分の浸入を低減できる。このような吸湿
剤としては、例えば、酸化カルシウム(CaO)、酸化ナトリウム(NaO)、酸化マグネシウム(MgO)、塩化カルシウム(CaCl)、硫酸ナトリウム無水塩(NaSO)、硫酸銅無水塩(CuSO)または硫酸カルシウム(CaSO)などが挙げられる。上記した酸化カルシウムは、低湿度での水分吸収容量が大きく、潮解しにくい性質を有しているため、低湿度の環境下においても吸着力を維持しやすい。このような吸湿剤の粒径は、例えば、0.5〜10μm程度であればよい。また、第1封止部材10の材料としてポリスチレン系封止材を用い、吸湿剤として酸化カルシウムを用いる場合、第1封止部材10は、ポリスチレン系封止材100重量部に対し、酸化カルシウムを10〜50重量部程度含有させればよい。これにより、第1封止部材10は、第1基板2および第2基板8とポリスチレン系封止材との接着強度を維持しつつ、水分の吸着効果を得やすくなる。
第2封止部材11の母材としては、例えば、環状オレフィン系重合体(40℃における拡散係数:1.37×10−5cm/sec)、ポリスチレン系封止材(40℃における拡散係数:1.45×10−5cm/sec)、ポリカーボネイト系封止材(40℃
における拡散係数:1.66×10−5cm/sec)が用いられる。なお、上述した水分の拡散係数は、第2封止部材11の主成分となる母材の値を指す。また、第1封止部材10には、上記した母材が90質量%以上含有されていればよく、別途、他の材料が含有されていてもよい。
また、第2封止部材11には、水分を物理吸着する吸着剤が含有されていてもよい。このような吸着剤は、表面において水分を物理吸着する。この物理吸着は、吸着剤の表面と水分との間に発生するファンデルワールス力により水分が吸着されるため、化学吸着に比べて吸着力が弱い。そのため、吸着剤は、温度と湿度などの条件により、水分を脱離する機能を有している。これは、吸着剤が水分を脱着しているとも言う。それゆえ、第2封止部材11内の吸着剤で吸着された水分は、所定の温度の条件下、例えば、晴天時のような高温時に吸着剤から脱離される。これにより、第2封止部材11から外部に水分が放出されやすくなる。このような吸着剤としては、例えば、多孔質表面を持つ無機物質などが用いられる。具体的には、ゼオライトなどのモレキュラーシーブ、シリカゲル(SiO・nHO)、アルミナ、アロフェンまたは活性炭などが挙げられる。例えば、ゼオライトは、60℃程度で水分を放出することができる。それゆえ、ゼオライトは、一般的な晴天時において、光電変換モジュール自体が発熱した温度で乾燥されることにより、水分を外部に放出することができる。また、ゼオライトは、吸湿、放湿の反応速度が上記した他の物質よりも速いため、効率良く水分の吸着および脱着ができる。このような吸着剤の粒径は、例えば、0.5〜10μm程度である。また、第2封止部材11としてとしてポリカーボネイト系封止材を用い、吸着剤としてゼオライトを用いる場合、第2封止部材11は、ポリカーボネイト系封止材100重量部に対し、ゼオライトを10〜50重量部程度含有させればよい。これにより、第2封止部材11は、第1基板2および第2基板8とポリカーボネイト系封止材との接着強度を維持しつつ、水分の吸着効果を得やすくなる。
第1封止部材10および第2封止部材11における水分の拡散係数は、以下のように測定できる。
まず、各封止部材の母材の一部を厚みtのシート状に成形して試験片を作製する。次い
で、JIS K 7192 Bに準拠した方法を用いて、試験片を透過する水分量を測定す
る。このとき、水分の透過開始からの時間(sec)を横軸とし、透過した水分量の積分値(g/cm)を縦軸として数値をプロットしたグラフを作成する。このグラフにおいて、数値をプロットして得られた線が略一定の傾きとなった領域について、最小二乗法を用いて直線近似を行ない、横軸と交差する時間を求める。この時間を遅れ時間θとする。そして、拡散係数Dの算出式であるD=t/(6θ)に遅れ時間θおよび厚みtの数値
を当てはめることによって、各封止部材の拡散係数が算出される。
また、第2封止部材11の飽和吸水率は、第1封止部材10の飽和吸水率よりも小さくてもよい。これにより、外部から第2封止部材11に取り込まれる水分量が低減される。一方で、第1封止部材10の飽和吸水率を高めることによって、第1封止部材10が取り込む水分量が高まり、第1封止部材10に水分が浸透してきても、光電変換部1側に浸透させてにくくできる。上述のような飽和吸水率の関係を満たす母材の材料の組み合わせとしては、例えば、第1封止部材10にブチルゴム系封止材(40℃における飽和吸水率:0.0192g/cm)、EVA(40℃における飽和吸水率:0.049g/cm
)を用いた場合、第2封止部材11としては、例えば、ポリカーボネイト系封止材(40℃における飽和吸水率:0.0024g/cm)を用いればよい。なお、上述した水分の飽和吸水率は、第1封止部材10または第2封止部材の主成分となる母材の値を指す。
また、第1封止部材10および第2封止部材11の飽和吸水率は、以下のように測定できる。
まず、各封止部材の母材の一部を厚みtのシート状に成形して試験片を作製する。次い
で、JIS K 7129 Bに準拠した方法を用いて、水蒸気透過度(WVTR)および
拡散係数Dを求める。次いで、飽和吸水率Cの算出式であるC=WVTR×t/Dに厚みtおよび拡散係数Dの数値を当てはめることによって、各封止部材の飽和吸水率が算出される。
次に、光電変換モジュールMの製造方法の一例について説明する。
まず、上述した製法により、第1基板2上に光電変換部1を形成する。次に、第1基板2の光電変換部1が形成されていない外周側部分に、光電変換部1を取り囲むように第1封止部材10を塗布する。次いで、第1封止部材10を囲むように第2封止部材11を塗布する。この第1封止部材10および第2封止部材11の塗布は、それぞれの封止部材の前駆体をディスペンサーなどの吐出装置に充填し、吐出口から所定量の前駆体を吐出して、第1基板2の外周部の所定部分に塗布する。このとき、各々の封止部材の前駆体は、第1基板2の外周側に2〜8mm程度の幅で設ければよいまた、各封止部材の前駆体の界面部には、両者が混ざり合う部分があってもよい。
次いで、光電変換部1上に、EVAなどの充填材9、第2基板8の順でそれぞれ載置する。次に、各部材が積層された積層体をラミネート装置にセットし、50〜150Pa程度の減圧下で100〜200℃程度の温度で15〜60分間程度加熱しながら加圧して一体化することにより、光電変換モジュールMを作製できる。なお、この第1封止部材10および第2封止部材11の前駆体は、テープ状に成型したものを、所定の位置に載置することで代用してもよい。
次に本発明の他の実施形態に係る光電変換モジュールについて説明する。
光電変換モジュールM1は、図3に示すように、第3封止部材12を備えている点で光電変換モジュールMの構成と異なっている。本実施形態において、第3封止部材12は、第1基板2および第2基板8の間において、第1封止部材10を囲うように配置されている。そのため、第1基板2および第2基板8の間において、第2封止部材11が第3封止部材12を囲うように配置されている。また、第1乃至第3封止部材は、互いに接着するように配置されている。このとき、第3封止部材12の飽和吸水率は、第1封止部材11の飽和吸水率よりも大きくてもよい。これにより、第1封止部材10に浸透し得る水分を第3封止部材12で取り込むことができる。その結果、光電変換部1に到達し得る水分量
が低減されるため、光電変換モジュールM1の信頼性がより向上する。
このような第3封止部材12の材質は、第1および第2封止部材の材質から上記した飽和吸水率の大小関係を満たすものを適宜選択すればよい。また、上述した水分の飽和吸水率は、第3封止部材12の主成分となる母材の値を指す。そのため、例えば、第1封止部材10にブチルゴム系封止材を用いた場合、第3封止部材12はEVAが用いられる。
また、本発明の他の実施形態に係る光電変換モジュールM2は、図4(a)に示すように、第1基板2および第2基板8の周囲を保持するフレーム13を有している点で、光電変換モジュールMと異なっている。そして、この光電変換モジュールM2において、フレーム13は、第1基板2および第2基板8を平面透視して、第2封止部材11と重なる部分を有するように配置されている。換言すれば、フレーム13は、図4(b)に示すように、Z方向において、第2封止部材11の直上および直下にそれぞれ重なり部13a、13bを有している。なお、図4において、第1基板2および第2基板8を平面透視するとは、XY平面で平面透視することを指す。さらに、光電変換モジュールM2において、フレーム13は、第2封止部材11との重なり部13a、13bが金属で形成されている。これにより、本実施形態では、比較的熱伝導率の高い金属で構成された重なり部13a、13bより第2封止部材11に熱が伝わりやすくなる。その結果、本実施形態では、上記熱によって第2封止部材11が温められることにより、第2封止部材11に取り込まれた水分が外部に放出されやすくなるため、光電変換部1への水分の浸入をより低減できる。また、本実施形態では、フレーム13を第1基板2および第2基板8の外周部に設ける点においてでも、水分の浸入を低減できる。
フレーム13は、第1基板2および第2基板8の外周における端部を重なり部13a、12bで挟み込むように固定する態様を成している。このようなフレーム13の材質としては、例えば、アルミニウムおよびステンレス等が挙げられる。なお、本実施形態では、少なくとも、フレーム13の重なり部13a、13bが金属で構成されていればよいが、フレーム13全体を金属で形成すれば、より多くの熱を重なり部13a、13bの近傍に位置する第2封止部材11に伝えることができる。
なお、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の範囲内で多くの修正及び変更を加えることができる。例えば、光電変換モジュールは、上述のCIS系などのカルコパイライト系光電変換モジュールに限定されるものではなく、アモルファスシリコンや微結晶シリコンを使用した薄膜太陽電池、カドミウムおよびテルルよりなる光電変換部を有するCdTe系の光電変換モジュールに適用できる。また、シリコン基板を用いた結晶系シリコン太陽電池等の光電変換モジュールにも適用可能である。
M、M1、M2:光電変換モジュール
1:光電変換部
1a、1b:光電変換セル
2:第1基板
3:下部電極
4:光吸収層
5:バッファ層
6:透光性導電層
7:集電電極
7a:線状部
7b:接続部
8:第2基板
9:充填材
10:第1封止部材
11:第2封止部材
12:第3封止部材
12:フレーム
12a、12b:重なり部分
P1〜P3:間隙

Claims (3)

  1. 一主面同士が対向するように配置されている第1基板および第2基板と、
    前記第1基板および前記第2基板の間に配置されている光電変換部と、
    前記第1基板および前記第2基板の間において前記光電変換部を囲うように配置されている第1封止部材と、
    前記第1基板および前記第2基板の間において前記第1封止部材を囲うように配置されている第3封止部材と、
    前記第1基板および前記第2基板の間において前記第3封止部材を囲うように配置されている第2封止部材とを備え、
    前記第2封止部材における水分の拡散係数は、前記第1封止部材における水分の拡散係数よりも大きく、前記第3封止部材の飽和吸水率は、前記第1封止部材の飽和吸水率よりも大きい、光電変換モジュール。
  2. 前記第2封止部材の飽和吸水率は、前記第1封止部材の飽和吸水率よりも小さい、請求項1に記載の光電変換モジュール。
  3. 前記第1封止部材および第3封止部材に、吸湿剤が含有されている、請求項1または2に記載の光電変換モジュール。
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