JP5847571B2 - 光照射装置 - Google Patents

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本発明は光照射装置に係り、例えば、光反応型の接着剤層を介して被着体に貼付された接着シートに光を照射することのできる光照射装置に関する。
半導体ウエハ(以下、単に、「ウエハ」と称する場合がある)等の板状部材は、表面に保護用の接着シートを貼付して各種の処理が施される。このような処理に使用される接着シートには、接着剤に紫外線硬化型(光反応型)のものが採用されており、所定の処理を施した後、紫外線照射装置により紫外線(光)を接着剤層に照射することで、当該接着剤層を硬化させて接着力を弱め、ウエハの破損を防止しつつ接着シートを容易に剥離できるようになっている。
特許文献1には、基板等の被照射体に紫外線を照射するに際し、紫外線の照射室と紫外線のランプハウスとの間に不活性ガスを供給可能に設け、当該不活性ガス雰囲気下で紫外線を照射する装置が開示されている。
特開2005−235869号公報
しかしながら、特許文献1に記載された紫外線照射装置にあっては、照射室に不活性ガスを充満させる構成となっているものの、被照射体の搬送口から不活性ガスが常時放出される構成となっている。従って、特許文献1記載の装置では、不活性ガスを照射室に供給し続けなければ大気中の酸素が搬送口を通じて照射室内に侵入してしまうことになり、酸素による紫外線の硬化阻害を生じさせてしまう、という不都合を招来する。
搬送口から不活性ガスを漏らさないために、搬送口にシャッターを設けることが考えられるが、装置が大きくなってしまったり、制御が煩雑になってしまう。
また、不活性ガスの連続供給は、経済的にも無駄を伴うものとなり、コスト的負担が重くなる。
[発明の目的]
本発明は、照射室内に供給される一定量のガス供給で、照射室内をガス雰囲気に保ち、期待する光反応を得ることができ、経済性にも優れた光照射装置を提供することにある。
前記目的を達成するため、本発明に係る光照射装置は、被照射体の被照射面に光を照射する光照射装置において、
前記被照射体の出し入れを可能とする開口を備えたチャンバと、当該チャンバ内にガスを供給するとともに、前記開口の面と平行な面内にガスを吹き出して当該開口を遮断するようにガスを吹き出す吹出手段を有する供給手段と、前記チャンバ内に位置して被照射体に光を照射する発光手段とを備え、
前記チャンバ内のガスを前記吹出手段に環流させる循環手段を備え、当該循環手段は、前記チャンバ内の空気を外部に排出するとともに、チャンバ内の空気を外部に排出した後にチャンバ内のガスを吸引しつつ還流させ、前記供給手段は、前記チャンバ内にガスを供給するものを備え、当該チャンバ内にガスを供給するものは、前記循環手段がチャンバ内の空気を外部に排出してからチャンバ内のガスを吸引しつつ還流させる状態になったとき、駆動を停止する、という構成を採っている。
また、前記吹出手段から吹き出すガスを吸引する吸引手段を更に備える構成とすることができる。
更に、前記被照射体と前記発光手段は相対移動可能に設けられ、前記吹出手段は、前記相対移動方向に直交し、被照射面と平行な方向からガスを吹き出すように設けられている。
本発明によれば、吹出手段が不活性ガスをチャンバ内に吹き出す他、開口を遮断するように作用するので、酸素が照射室内に侵入してしまうことを防ぎ、照射室内を不活性ガス雰囲気に保つことが可能となるとともに、光照射前の被照射体の表面に付着したゴミやコンタミを吹き飛ばし、効率のよい光照射が可能となる。
また、チャンバ内に供給された不活性ガスが循環手段を介して吹出手段に環流するように構成されているため、常時不活性ガスを供給するのに比べて不活性ガスの消費を抑制することができる。
更に、吸引手段を設けることで、吹出手段から吹き出すガスが吸引手段に向かう流れを形成することができ、開口を遮断する作用の確実性を担保することが可能となる。
また、吹出手段のガス吹出方向を前記相対移動方向に直交し、被照射体の表面と平行な方向とする構成により、被照射体が開口を横切るときでも、ガスカーテンの形成状態を維持することができる。
本実施形態に係る光照射装置の一部断面側面図。 前記光照射装置の一部断面平面図。
以下、本発明の好ましい実施の形態について図面を参照しながら説明する。なお、本明細書の方向若しくは位置を示す用語は、特に明示しない限り、図1を基準とし、「前」とは同図中手前側を示す一方、「後」とは、同奥行き側について用いられ、「左」、「右」、「上」、「下」も同様に図1を基準とする。
図1及び図2において、光照射装置10は、被照射体WKの出し入れ口となる開口11を備えているとともに、内部に光(紫外線)の照射室SPを形成するチャンバ12と、当該チャンバ12内で被照射体WKを保持する保持手段13と、この保持手段13をチャンバ12内で移動させる移動手段14と、チャンバ12内に不活性ガスを供給する供給手段15と、被照射体WKに光を照射する発光手段16と、開口11を遮断するように不活性ガスを吹き出す吹出手段17と、当該吹出手段17から吹き出す不活性ガスを吸引しつつチャンバ12内に吐出する吸引手段18と、チャンバ12内の不活性ガスを吹出手段17側に環流させる循環手段19とを備えて構成されている。
前記被照射体WKは、特に限定されるものではないが、本実施形態では、リングフレームRFにダイシングテープDTを介して半導体ウエハWFがマウントされたものであり、被照射面WK1は、ダイシングテープDTとウエハWFとの界面に位置する紫外線硬化型の接着剤層となる。なお、厳密には接着剤層は厚みを有するが、その厚みは数十μm程度であって、極端に薄いため面として表現する。
前記チャンバ12は、略直方体状のケースにより構成されており、前記開口11は、左側の側壁12Aに被照射体WKが通過可能な幅で形成されている。チャンバ12は、図示例では概略的に示されているが、例えば、上部開放型のケース本体と蓋体とにより形成することができる。
前記保持手段13は、左右方向に延びる移動手段14を構成する駆動機器としての直動モータ20のスライダ21に支持され、保持手段13に保持される被照射体WKが発光手段16に対して相対移動可能となっている。この保持手段13は、スライダ21の上面に位置する起立部材25を介して前後方向に向けられたアーム26と、このアーム26の先端側で左右方向に取り付けられた上部チャック27と、当該上部チャック27の下面側に位置する下部チャック30と、当該下部チャック30を上部チャック27に対して離間接近させる駆動機器としてのエアシリンダ31とを含み、これらチャック27、30間に被照射体WKを挟み込んで当該被照射体WKを保持可能となっている。なお、前記移動手段14は、チャンバ12の前壁12Bの内面側に取り付けられている。
前記供給手段15は、窒素ガス、ヘリウムガス、アルゴンガス等の不活性ガスを供給するポンプ32と、当該ポンプ32とチャンバ12とを接続する配管34とにより構成されている。配管34は、主管34A及び分岐管34Bを含み、主管34Aは、側壁12Aから吹出手段17に不活性ガスを供給可能とする一方、分岐管34Bは、第3の電磁弁56を介して上壁12Cからチャンバ12内に不活性ガスを供給可能となっている。不活性ガスを供給するものは、ポンプ32に限らず、タービンやタンクであってもよい。
前記発光手段16は、前後方向に延びる形状を備えた発光源としての水銀ランプ40と、当該水銀ランプ40を受容するとともに、光を集光可能な集光板41とを含む。集光板41は、上方に向かうに従って開放幅が次第に大きく設けられた略U字状の形状に設けられ、これにより、水銀ランプ40から発せられる紫外線(光)を集光して、前後方向に延びる帯状のライン光をダイシングテープDTの接着剤層に照射可能となっている。
前記吹出手段17は、ノズル42を含み、当該ノズル42は、前記側壁12Aに形成された開口11における奥行き側形成縁に沿って上下方向に配置されている。このノズル42は、開口11と平行な面内に不活性ガスを吹き出すスリット42Aを有している。スリット42Aは、開口11の上下幅に対応する長さを備えており、これにより、主管34Aを介してノズル42内に供給された不活性ガスが開口11と平行な面内で、且つ、開口11よりも内側でガスカーテンを形成するようになっている。
なお、ノズル42から不活性ガスを吹き出す方向は、被照射体WKと発光手段16との相対移動方向に直交する方向であって、被照射面WK1と平行な方向となるため、保持手段13が左右方向に移動してガスカーテンを被照射体WKが横切っても、ノズル42からの面的なガスの流れが阻害されることはなく、安定したガスカーテンを維持することができる。
前記吸引手段18は、スリット42Aの長さに対応する吸引口と、吸引した不活性ガスをチャンバ12内に戻す吐出口を備えたもので、図示しないファンや送風機等の送風手段でスリット42Aから開口11に沿って吹き出した不活性ガスを積極的に吸引し、これをチャンバ12内に吐出することでガスカーテンの形成と維持を図り、これにより、開口11がガスカーテンで塞がれる。
前記循環手段19は、側壁12Dに設けられた送気ファン50と、この送気ファン50と主管34Aとの間を接続する環流配管52と、当該環流配管52及び送気ファン50からの配管53の接続部に設けられた第1電磁弁54と、主管34A及び環流配管52の接続部に設けられた第2電磁弁55とを備えて構成されている。第1電磁弁54は、配管51を介してチャンバ12内の空気を装置外に排出可能になっている。
次に、前記光照射装置10を用いた光照射方法について説明する。
始めに、第3電磁弁56を開放し、ポンプ32から供給される不活性ガスをチャンバ12内に供給する。この際、第2電磁弁55は、主管34Aにおけるポンプ32から当該第2電磁弁55までの部分と主管34Aにおける当該第2電磁弁55からノズル42までの部分との連通及び、主管34Aと環流配管52との連通を遮断し、ノズル42側への不活性ガス供給は行わない。また、第1電磁弁54は、配管53と環流配管52との連通を遮断し、配管53と配管51とを連通させ、送気ファン50を駆動してチャンバ12内の空気を外部に積極的に排出するようにし、チャンバ12内の不活性ガスへの置換を促進する。
チャンバ12内に不活性ガスが充満して図示しない酸素濃度計が設定濃度以下を検出すると、第2電磁弁55を駆動し、主管34Aにおけるポンプ32から当該第2電磁弁55までの部分と主管34Aにおける当該第2電磁弁55からノズル42までの部分とを連通させ、ノズル42へのガス供給を行う。この際、吸引手段18を駆動し、スリット42Aから吹き出す不活性ガスを分散させることなく流れるように吸引して開口11に沿ったガスカーテンを形成させる。また、このタイミングに合わせて第1電磁弁54を駆動し、配管53と配管51との連通を遮断し、配管53を環流配管52に連通させる。これにより、チャンバ12内に外気が侵入することが防止される一方、チャンバ12内に満たされた不活性ガスが外部に流出することが防止される。
次いで、ポンプ32の駆動を停止し、第2電磁弁55を駆動し、主管34Aにおけるポンプ32から当該第2電磁弁55までの部分と主管34Aにおける当該第2電磁弁55からノズル42までの部分との連通を遮断し、環流配管52と主管34Aにおける当該第2電磁弁55からノズル42までの部分とを連通させ、送気ファン50でチャンバ12内の不活性ガスを吸引しつつノズル42に環流させてガスカーテンが連続的に形成される状態が維持される。これにより、ポンプ32による不活性ガスの供給を停止しても、チャンバ12内が一定量の不活性ガス雰囲気に保たれるようになっている。
このようにチャンバ12内が不活性ガスで置換された状態で、保持手段13が移動手段14を介して図1中二点鎖線で示される位置に移動する。そして、図示しない収容部に収容された被照射体WKを挟み込み、図1中実線位置よりも更に右側位置まで戻る。なお、図示しない移載アームに保持された被照射体WKを保持手段13が受け取る構成であってもよい。
次いで、発光手段13を発光させた状態で、保持手段13を右側から左側に移動させることで、ダイシングテープDTの接着剤層に紫外線のライン光が照射され、その後、光照射済みの被照射体WKが図示しない収容部若しくは移載アームに収容若しくは移載される。なお、紫外線照射は、保持手段13が収容部から被照射体WKを受け取ってチャンバ12内に移動するときに行ってもよい。
以後、送気ファン50でチャンバ12内の不活性ガスをノズル42側に環流させる運転状態を維持して順次被照射体WKに紫外線照射が行われる。
従って、このような実施形態によれば、チャンバ12内を不活性ガスで満たした後においては、チャンバ12内に外気が侵入したり、チャンバ内の不活性ガスが外部に漏れたりすることはなく、照射室SP内を不活性ガス雰囲気に保った状態で紫外線照射を行うことが可能となり、また、不活性ガスの無駄な消費を排して紫外線照射を行うことが可能となる。
以上のように、本発明を実施するための最良の構成、方法等は、前記記載で開示されているが、本発明は、これに限定されるものではない。
すなわち、本発明は、主に特定の実施形態に関して特に図示、説明されているが、本発明の技術的思想及び目的の範囲から逸脱することなく、以上説明した実施形態に対し、形状、位置若しくは配置等に関し、必要に応じて当業者が様々な変更を加えることができるものである。
例えば、前記実施形態では、発光手段16を固定して保持手段13が移動手段14を介して移動することで、被照射体WKと発光手段16とを相対移動可能としたが、保持手段を固定して発光手段16側を移動させてもよいし、両方を移動させてもよい。
また、チャンバ12内に不活性ガスを供給する初期段階において、不活性ガスを上壁12のみから供給する場合に限らず、ノズル42側からも不活性ガスをチャンバ12内に吹き出して供給してもよい。
また、分岐管34Bを設けずに、ノズル42のみから不活性ガスをチャンバ12内に供給するようにしてもよい。
更に、酸素濃度計を用いてチャンバ12内に不活性ガスを充満させる場合に限らず、タイマーを用いて一定時間後にポンプ32の駆動を停止させてもよいし、不活性ガス濃度計であってもよい。
更に、前記実施形態では、光が紫外線である場合を説明したが、紫外線以外の光、例えば、赤外線等、その他の光線であってもよい。
また、発光手段16の発光源は、水銀ランプ40以外にハロゲンランプ、蛍光灯、メタルハライドランプ、発光ダイオード等の採用を妨げない。また、前記実施形態では、発光手段16は、集光板41を用いてライン光を形成するように構成したが、単数又は複数の発光源を用いて接着剤層に対して全体的に光が照射されるように構成してもよい。
更に、被照射体WKとして半導体ウエハを含むものに限定されず、ガラス板、鋼板、陶器、木板または樹脂板等、その他の被着体も対象とすることができ、半導体ウエハは、シリコンウエハや化合物ウエハであってもよい。また、半導体ウエハに貼付するシートは、ダイシングテープ、保護シート、ダイアタッチフィルムに限らず、その他の光反応型の任意のシート、フィルム、テープ等、任意の用途、形状の接着シート等が適用できる。更に、半導体ウエハに貼付するシートは、基材シートと接着剤層との間に中間層を有するものや、基材シートの上面にカバー層を有するもの等3層以上のものでもよいし、接着剤層のみで構成された一層のものでもよい。
また、被照射体WKの下方からダイシングテープDTの接着剤層に光を照射するものを例示したが、被照射体WKの上方にも発光手段16を設け、ダイシングテープDTが貼付された面とは反対の面に貼付された、例えば、保護シートの接着剤層に光を照射してもよい。
更に、被照射体WKは、リングフレームFRを含むものに限定されず、半導体ウエハWFに半導体ウエハWFと同形状のダイシングテープDTや保護シート等の接着シートが貼付されたものでもよい。
また、開口11に対向するチャンバ12の側壁12Dに開口及び吹出手段17を更に設け、被照射体WKが照射室SPを通過するようにしてもよい。
更に、吹出手段17は、被照射体WKの面と直交又は斜め方向から不活性ガスを吹き出してもよい。
また、吹出手段17は、チャンバ12の外側に設けられていてもよい。
また、前記実施形態における駆動機器は、回動モータ、直動モータ、リニアモータ、単軸ロボット、多関節ロボット等の電動機器、エアシリンダ、油圧シリンダ、ロッドレスシリンダ及びロータリシリンダ等のアクチュエタ等を採用することができる上、それらを直接的又は間接的に組み合せたものを採用することもできる(実施形態で例示したものと重複するものもある)。
供給するガスは、実施例のものに限らず、光反応させる時に都合のよいガスであればよく、例えば、光によって酸化させるような装置の場合、酸素でもよい。
酸素濃度計や不活性ガス濃度計の検知結果を基に、チャンバ12内の酸素濃度が上昇した場合や、不活性ガス濃度が低下した場合に、ポンプ32を駆動し、主管34Aや分岐管34Bから不活性ガスを追加供給するようにしてもよい。
10 光照射装置
11 開口
12 チャンバ
15 供給手段
16 発光手段
17 吹出手段
18 吸引手段
19 循環手段
42 ノズル
SP 照射室
WK 被照射体

Claims (3)

  1. 被照射体の被照射面に光を照射する光照射装置において、
    前記被照射体の出し入れを可能とする開口を備えたチャンバと、当該チャンバ内にガスを供給するとともに、前記開口の面と平行な面内にガスを吹き出して当該開口を遮断するようにガスを吹き出す吹出手段を有する供給手段と、前記チャンバ内に位置して被照射体に光を照射する発光手段とを備え、
    前記チャンバ内のガスを前記吹出手段に環流させる循環手段を備え、当該循環手段は、前記チャンバ内の空気を外部に排出するとともに、チャンバ内の空気を外部に排出した後にチャンバ内のガスを吸引しつつ還流させ、前記供給手段は、前記チャンバ内にガスを供給するものを備え、当該チャンバ内にガスを供給するものは、前記循環手段がチャンバ内の空気を外部に排出してからチャンバ内のガスを吸引しつつ還流させる状態になったとき、駆動を停止することを特徴とする光照射装置。
  2. 前記吹出手段から吹き出すガスを吸引する吸引手段を更に備えていることを特徴とする請求項1記載の光照射装置。
  3. 前記被照射体と前記発光手段は相対移動可能に設けられ、前記吹出手段は、前記相対移動方向に直交し、被照射面と平行な方向からガスを吹き出すことを特徴とする請求項1又は2記載の光照射装置。
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JP2519400Y2 (ja) * 1991-04-26 1996-12-04 千住金属工業株式会社 はんだ付け装置の外気侵入防止装置
JP3071320B2 (ja) * 1992-01-28 2000-07-31 東京エレクトロン株式会社 真空装置
JP2005142185A (ja) * 2003-11-04 2005-06-02 Canon Inc 露光装置及びその環境制御方法

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