JP5846125B2

JP5846125B2 - アミノ基含有ホスホリルコリン化合物及びその製造方法

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Publication number: JP5846125B2
Application number: JP2012549874A
Authority: JP
Inventors: 伸行吉岡; 伸行坂元; 陽介松岡; 規郎岩切
Original assignee: NOF Corp
Current assignee: NOF Corp
Priority date: 2010-12-24
Filing date: 2011-12-22
Publication date: 2016-01-20
Anticipated expiration: 2031-12-22
Also published as: EP2669287B1; WO2012086762A1; EP2669287A1; US20130310591A1; JPWO2012086762A1; US8680314B2; CN103282368B; EP2669287A4; CN103282368A

Description

本発明は、医療機器、化粧品原料、薬物等の様々な基材に、ホスホリルコリン類似基を導入し、それに起因する機能性を付与しうる化合物又はその原料等として有用な、多種にわたる官能基等と効率良く反応させうるアミノ基含有ホスホリルコリン化合物及びその製造方法に関する。

従来より、ホスホリルコリン類似基含有化合物を、各種基材表面に反応させることにより、ホスホリルコリン類似基に起因する、生体適合性、保水性、吸水性等の各種機能性を基材に付与する技術が多く提案されている。例えば、各種ホスホリルコリン類似基化合物で処理された基材表面は、血液適合性に代表される優れた生体適合性を発現することが知られており、ホスホリルコリン類似基含有ポリマーで被覆した医療機器は優れた生体適合性を発現することが知られている（非特許文献１）。
このように各種基材表面に、ホスホリルコリン類似基含有化合物を反応させるための修飾剤を得るために、各種基材表面と反応させうる反応性基を導入した、修飾剤としてのホスホリルコリン類似基含有化合物の開発が盛んになされている。例えば、シラノール基を導入したホスホリルコリン類似基化合物(特許文献１)、カルボキシル基を導入したホスホリルコリン類似基含有化合物(特許文献２)、アルデヒド基を導入したホスホリルコリン類似基含有化合物(特許文献３)、ケタール基を導入したホスホリルコリン類似基含有化合物(特許文献４)が知られている。

しかし、上記特許文献２や３で示されるカルボキシル基やアルデヒド基を導入した化合物を使用して、基材表面に化学結合させる際には、該基材表面に、これらと相補的な官能基である、例えば、アミノ基を存在させる必要がある。このようなアミノ基が存在しない場合には、反応率が非常に低くなるため、長時間かつ高温の反応条件が必要となる。
一方、基材表面を、例えば、プラズマ処理や加水分解処理して、工業的に利用しやすいカルボキシル基を導入した場合、このような基剤表面と、上記特許文献１〜４に示されるホスホリルコリン類似基含有化合物とは反応性が低いという問題が生じる。
そこで、基材表面に存在する官能基等の種類の選択性が広い、高活性（高求核性）であるアミノ基やチオール基等を導入したホスホリルコリン類似基含有化合物を得ることは工業上非常に有用である。
そこで、特許文献５には、２−クロロ−２−オキサ−１，３，２−ジオキサホスホランとトリメチルアミンとを用いる方法が提案されている。
しかし、この方法によりアミノ基を導入したホスホリルコリン類似基含有化合物を製造する場合、アミノ基を保護する工程を行う必要があり、反応が複雑化し、しかも、副生成物も多量に発生するために、これまで該方法については十分な検討がなされていないのが実状である。

特開２００６−８６６１号公報特開２００６−８９８７号公報特開２００４−１７５６７６号公報特開２００８−１８９５８９号公報欧州特許出願公開第０４８６１００号明細書

人工臓器、２３（３），６５４−６５９，１９９４

本発明の課題は、多種にわたる官能基等と効率良く、温和な条件で反応させることが可能な高活性のアミノ基を有し、種々の基材表面にホスホリルコリン類似基を導入させて、該基の有する機能性を付与することが可能な化合物、もしくはその原料として有用なアミノ基含有ホスホリルコリン化合物を提供することにある。
本発明の別の課題は、上記本発明のアミノ基含有ホスホリルコリン化合物を、長時間かつ高温の反応条件を必要とせずに、容易にかつ高収率で得ることが可能なアミノ基含有ホスホリルコリン化合物の製造方法を提供することにある。

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、製法が確立され工業的に入手可能な２−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリンを出発物質とし、これに２−アミノエタンチオール及び／又は２−アミノエタンチオール塩酸塩を特定割合で添加し、チオール基を優先的にマイケル付加反応させることにより、上記アミノ基含有ホスホリルコリン化合物が得られることを見出し、本発明を完成させた。

本発明によれば、式（１）及び式（１'）で表される少なくとも１種のアミノ基含有ホスホリルコリン化合物(以下、ＡｍＰＣと略すことがある)が提供される。

また本発明によれば、(a)２−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリン(以下MPCと略す)と、(b)２−アミノエタンチオールと、(c)２−アミノエタンチオール塩酸塩とを、((上記(b)＋上記(c))／上記(a))が１．０〜３．０モル当量、かつ(上記(b)／上記(c))が０．０５〜１．００モル当量となる割合でアルコール存在下、反応させることを特徴とする上記ＡｍＰＣの製造方法が提供される。
更に本発明によれば、(a)MPCと、(b)２−アミノエタンチオール又は(c)２−アミノエタンチオール塩酸塩とを、((上記(b)＋上記(c))／上記(a))が１．０〜３．０モル当量となる割合でアルコール存在下、反応させることを特徴とするＡｍＰＣの製造方法が提供される。

本発明のＡｍＰＣは、ホスホリルコリン類似基と、高活性のアミノ基とを有する上記式（１）及び／又は式（１'）で表される構造であるので、カルボキシル基、アルデヒド基、イソシアネート基、ハロゲンなど多種の官能基と、温和な条件で、しかも高反応率で結合させることが可能である。従って、ＡｍＰＣは、医療機器、化粧品原料、薬物等の種々の基材表面に、ホスホリルコリン類似基を導入する化合物、もしくはその原料として有用である。また、表面処理剤の成分として用いることにより、その機能性を容易に基材に付与することが可能となる。例えば、医療機器表面にホスホリルコリン類似基を導入して生体適合性を向上させるために、本発明のＡｍＰＣを利用することにより、医療機器の材料の選択性が拡大し、かつ容易にホスホリルコリン類似基を導入することが可能となる。
本発明の製造方法は、MPCと、２−アミノエタンチオール及び／又は２−アミノエタンチオール塩酸塩とを、特定割合で反応させるので、温和な条件で容易にかつ高収率で本発明のＡｍＰＣを製造することができる。特に、MPCと、２−アミノエタンチオール及び２−アミノエタンチオール塩酸塩とを、特定割合で反応させることにより、式（１）で示されるＡｍＰＣを、より高収率で得ることができる。

実施例１で合成した化合物の¹Ｈ−ＮＭＲの測定結果を示すチャートである。実施例１で合成した化合物の¹³Ｃ−ＮＭＲの測定結果を示すチャートである。実施例１で合成した化合物のＩＲの測定結果を示すチャートである。実施例１で合成した化合物のＭＡＳＳスペクトルを示すチャートである。

以下、本発明を更に詳細に説明する。
本発明のアミノ基含有ホスホリルコリン化合物(ＡｍＰＣ)は、上記式（１）で表される、２'−［３−(２−アミノエチルスルファニル)−２−メチルプロピオニルオキシ］エチル−［２−(トリメチルアンモニオ)エチル］ホスファートヒドロクロライド及び／又は上記式（１'）で表される、２'−［３−(２−アミノエチルスルファニル)−２−メチルプロピオニルオキシ］エチル−［２−(トリメチルアンモニオ)エチル］ホスファートである。

本発明のＡｍＰＣは、例えば、(a)MPCと、(b)２−アミノエタンチオール及び／又は(c)２−アミノエタンチオール塩酸塩とを、特定割合でアルコール存在下、反応させる、本発明の製造方法により得ることができる。
(a)MPCは式（２）で示される化合物であり、(b)２−アミノエタンチオールは式（３）で表される化合物であり、(c)２−アミノエタンチオール塩酸塩は式（４）で表される化合物である。

本発明のＡｍＰＣの製造方法において、原料モノマーである上記(a)〜(c)を全て用いる場合の仕込み量の割合は、好ましくは((上記(b)＋上記(c))／上記(a))が１．０〜３．０モル当量、かつ(上記(b)／上記(c))が０．０５〜１．００モル当量となる割合（以下、割合(X)という）である。
また、本発明のＡｍＰＣの製造方法において、原料モノマーである上記(a)と、上記(b)又は上記(c)とを用いる場合の仕込み量の割合は、((上記(b)＋上記(c))／上記(a))が１．０〜３．０モル当量となる割合（以下、割合(Y)という）である。
上記割合(X)及び(Y)において、((上記(b)＋上記(c))／上記(a))が３．０モル当量を超える場合には、アミノ基がマイケル付加する可能性やMPCの分解が生じるおそれがある。

本発明のＡｍＰＣの製造方法において、原料モノマーを上記割合(X)で反応させる方法を採用する場合は、例えば、Langmuir，2010，26(16)，p13028−13032に記載されるようなジイソプロピルアミン等の触媒を必要とすることなく、極めて高純度の反応生成物が得られる。

本発明のＡｍＰＣの製造方法において用いるアルコールは、それぞれの上記原料モノマーが固体であるため、反応の際にこれらを溶解する溶媒として作用する。該アルコールとしては、例えば、メタノール、エタノールが挙げられ、特に、エタノールが低毒性、反応性の点から好ましい。この際、アルコールの使用量は、原料モノマーが溶解しうる量であれば特に限定されないが、反応時の溶液濃度が１０〜５０質量％となる量に調整することが好ましい。

本発明のＡｍＰＣの製造方法において反応は、チオール基がジスルフィド化することを防ぎ、チオール基の求核性を維持するために、窒素やアルゴンなどの不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。反応温度は、５０℃を超える場合、副反応としてアミノ基が二重結合にマイケル付加するか、あるいはチオール基がジスルフィドを形成するなどして目的のＡｍＰＣの収率が低下するおそれがある。従って、反応温度は１０〜５０℃が好ましい。反応時間は、任意の時間で良いが、長時間の反応は酸化劣化を伴うため、９６時間以内が好ましい。

本発明のＡｍＰＣの製造方法においては、生成物を高転化率化し、副生物の生成を抑えるために、触媒の存在下に反応させることもできる。特に、上記割合(Y)で反応させる製造方法の場合に特に好ましい。
上記触媒としては、例えば、第三級アミンまたは第二級アミンが使用できる。第三級アミンとしては、トリエチルアミンが挙げられ、第二級アミンとしてはジイソプロピルアミンが挙げられる。
触媒は、２−アミノエタンチオール及び／又は２−アミノエタンチオール塩酸塩に対して、通常５〜１００モル％の量を添加して使用できる。

本発明の製造方法により得られる生成物は、用途に応じて精製することが好ましく、例えば、医療機器や化粧料等の高安全用途には高度に精製することが好ましい。精製は、例えば、アセトニトリル等の非プロトン系極性溶媒中で結晶化させ、これを乾燥させて回収する方法、あるいはアセトンやアセトニトリル等の溶媒に沈殿させたものを回収して洗浄し溶媒留去して回収する方法が挙げられる。

本発明のＡｍＰＣは、アミノ基を有するため、縮合反応や求核置換反応、付加反応、共役置換反応、還元的アミノ化反応などにより他物質に化学結合させることができる。その組合せと反応としては、表１に示す場合が例示できる。

本発明のＡｍＰＣは、例えば、ソフトコンタクトレンズやカテーテル等の各種医療機器の表面改質処理、ファンデーション等の化粧品原料の表面改質処理、タンパク質や生体物質の表面修飾、あるいは薬物との結合によるドラッグデリバリー性向上に使用することができる。具体的には例えば、医療機器であるコンタクトレンズの表面改質処理に用いる場合、該コンタクトレンズ表面にはカルボキシル基が優位に存在するので、これを１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（ＥＤＣ）やジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）等で活性化させて、本発明のＡｍＰＣを付加反応させることでホスホリルコリン類似基をコンタクトレンズ表面に導入することができる。これにより、コンタクトレンズに、ホスホリルコリン類似基による機能性、例えば、タンパク吸着抑制などの防汚性を容易に付与することができる。

以下に実施例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
以下に実施例に使用した装置と条件を示す。
＜ＮＭＲ分析＞
測定装置：日本電子社製ＪＮＭ−ＡＬ４００
溶媒：Ｄ₂Ｏ（３-(トリメチルシリル)プロピオン酸ナトリウム塩基準０．０００５％）
試料濃度：１０ｍｇ／ｇ、積算回数：３２回（¹Ｈ−ＮＭＲ）、１０２４回（¹³Ｃ−ＮＭＲ）。
＜ＩＲ分析＞
測定装置：日本分光社製ＦＴ／ＩＲ−６１００
測定法：薄膜法、積算回数：１６回。
＜質量分析（ＥＳＩ−ＭＳ）＞
測定装置：Ｗａｔｅｒｓ社製、商品名Ｑ−ｍｉｃｒｏ２６９５
試料濃度：１００ｐｐｍ、検出モード：ＥＳＩ＋、キャピラリー電圧：３．５４Ｖ、コーン電圧；３０Ｖ、イオン源ヒーター：１２０℃、脱溶媒ガス：３５０℃。

実施例１−１
２'−［３−(２−アミノエチルスルファニル)−２−メチルプロピオニルオキシ］エチル−［２−(トリメチルアンモニオ)エチル］ホスファートヒドロクロライド(ＡｍＰＣ)の合成
ＭＰＣ２．００ｇ（６．７７ｍｍｏｌ)を３つ口フラスコに仕込み、これにエタノール１１．３３ｇを加えて、均一に攪拌した。これに窒素ガスをバブリングしてフラスコ内を窒素雰囲気とした後、２−アミノエタンチオール塩酸塩０．８０ｇ（７．０８ｍｍｏｌ）を加えて均一溶解した。さらに、２−アミノエタンチオール０．０３ｇ（０．３７ｍｍｏｌ）を加えて、室温で３時間攪拌反応させた。得られた反応液にアセトニトリルを１１．３３ｇ加え、共沸により溶媒を減圧留去し、白色固体の生成物を得た。
得られた白色固体について、¹Ｈ−ＮＭＲ分析、¹³Ｃ−ＮＭＲ分析、ＩＲ分析及び質量分析を行った。その結果を図１〜４並びに以下に示す。これらの結果から、得られた白色固体は、上記式（１）に示される目的化合物のＡｍＰＣであることがわかった。

¹Ｈ−ＮＭＲ測定により得られたピークの帰属は、Langmuir，2010，26(16)，p13028−13032を参考に行った。¹³Ｃ−ＮＭＲ測定により得られたピークの帰属は、Polymer Journal，1990，22(5)，p355−360を参考に行った。
¹Ｈ−ＮＭＲ（Ｄ₂Ｏ）：δ＝１．２（−ＣＨ（ＣＨ₃）Ｃ（＝Ｏ），３Ｈ），２．８−２．９（−（ＣＨ₃）ＣＨＣＨ₂ＳＣＨ₂ＣＨ₂−，５Ｈ），３．２（（−ＣＨ₂ＮＨ₂，２Ｈ）（−Ｎ（ＣＨ₃），９Ｈ）），３．７（Ｎ（ＣＨ₃）ＣＨ₂−，２Ｈ），４．１（−ＣＨ₂ＯＰ−，２Ｈ），４．３−４．４（−ＰＯＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ−，４Ｈ）。
¹³Ｃ−ＮＭＲ（Ｄ₂Ｏ）：δ＝１６．６（−ＣＨ（ＣＨ₃）Ｃ（＝Ｏ）），２９．６（−ＣＨ₂ＳＣＨ₂ＣＨ₂ＮＨ₂），３４．６（−ＣＨ₂ＳＣＨ₂ＣＨ₂ＮＨ₂），３９．１（−ＣＨ（ＣＨ₃）Ｃ（＝Ｏ）），４０．６（−ＳＣＨ₂ＣＨ₂ＮＨ₂），５４．６（−Ｎ（ＣＨ₃）），６０．０（ＣＨ₂Ｎ（ＣＨ₃）），６４．４（ＮＣＨ₂ＣＨ₂ＯＰ），６５．１（−ＯＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ−），６６．２（−ＯＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ−），１７８．１（Ｃ＝Ｏ）。
ＩＲ測定により得られたピークの帰属は、Langmuir，2010，26(16)，p13028−13032を参考に行った。
ＦＴ−ＩＲ（ｃｍ^-1）：３３９３（−ＮＨ₃ ⁺），２９２４（Ｃ−Ｈ），１７２７（Ｃ＝Ｏ），１２２６（Ｃ＝Ｏ），１０８２（−ＯＰＯＣＨ₂−），９６７（−Ｎ⁺（ＣＨ₃）₃−）。

¹Ｈ−ＮＭＲ分析の積分値から以下の方法に従ってＡｍＰＣの純度と副生成物率を求めた。その結果ＡｍＰＣの純度は１００％で、副生成物含有率は０％であった。結果を表２に示す。
AmPC純度(％)＝4.1ppmの積分値/[(1.9ppmの積分値＋1.2ppmの積分値)×2/3]×転化率
転化率(％)＝１００−（ＭＰＣ含有率）
MPC含有率(％)＝[1−1.9ppmの積分値/(1.9ppmの積分値＋1.2ppmの積分値)]×100
副生物率(％)＝転化率−（ＡｍＰＣ純度）

実施例１−２〜１−４
表２に示す原料仕込み比及び条件に変更した以外は、実施例１−１と同様に反応を行って、生成物を得、分析及び測定を行った。結果を表２に示す。

実施例１−５〜１−８
表３に示す原料仕込み比及び条件に変更した以外は、実施例１−１と同様に反応を行って、生成物を得、分析及び測定を行った。尚、触媒として実施例１−５ではジイソプロピルアミンを、実施例１−６ではトリエチルアミンを用いた。結果を表３に示す。また、実施例１−７及び実施例１−８で得られた主生成物は、分析の結果、式（１'）で示される２'−［３−(２−アミノエチルスルファニル)−２−メチルプロピオニルオキシ］エチル−［２−(トリメチルアンモニオ)エチル］ホスファートであった。

以上のように、本発明の製造方法により、目的のＡｍＰＣが高収率で得られることを確認した。特に、原料として、２−アミノエタンチオール塩酸塩と２−アミノエタンチオールとの混合物を特定割合で用いることにより(実施例１−１〜１−４)、温和な条件で、副生成物を発生させずに極めて効率的に反応を進行させうることがわかった。

実施例２−１
実施例１−１の合成法により得たアミノ基含有ホスホリルコリン化合物を用いて、カルボン酸基を表面に持つ基材へのホスホリルコリン基導入を試みた。カルボン酸を持つ基材として、グラフト重合によって表面にアクリル酸を導入したＰＥフィルムを選択し、縮合剤１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（ＷＳＣ）を用いてアミノ基含有ホスホリルコリン化合物と反応させた。反応処理後のフィルムをＸ線光電子分光法(X-ray Photoelectron Spectroscopy；ＸＰＳ)で調べ、ホスホリルコリン基の導入について確認した。以下にその方法を示す。

アクリル酸（ＡＡ）グラフト化ポリエチレン（ＰＥ）フィルムの作製
１×４ｃｍにカットしたポリエチレンフィルムを電極間距離３ｃｍ、電極間電圧１５キロボルトのコロナ放電処理装置の電極間に設置し、放電処理を行った。次いで、１０質量％アクリル酸水溶液中に浸漬し、脱気処理後、真空条件下、６０℃で６０分間グラフト重合を行った。重合後、十分に水洗することでＡＡグラフト化ＰＥフィルムを得た。

ホスホリルコリン基導入フィルムの作製
１５ｃｃのポリプロピレンチューブに、０．１４６４ｍｍｏｌのＷＳＣと、実施例１−１で合成したＡｍＰＣを０．１４６４ｍｍｏｌ秤量し、イオン交換水を添加して均一に溶解させた。ここへ０．５ｃｍ×０．５ｃｍの大きさに切断したＡＡグラフト化フィルムを入れた。これを攪拌が可能な恒温槽内へ投入し、３０℃で２４時間攪拌反応させた。反応させたフィルムを取り出し、イオン交換水５ｍＬで３回洗浄を施し、過剰量のＷＳＣおよび未反応のＡｍＰＣを除去した。乾燥し、ホスホリルコリン基導入フィルムを得た。
得られたフィルムについてＸＰＳを用いて表面分析を行い、ＡｍＰＣの導入率を測定した。また、ホスホリルコリン基の導入による表面親水化を確認するため、表面濡れ性の評価を実施した。

ＸＰＳ評価
作製した０．５ｃｍ×０．５ｃｍのフィルムサンプル表面の元素濃度をX線光電子分光法分析装置（ＸＰＳ、ＪＥＯＬ社製ＪＰＳ−９２００）を用いて評価した（分析径１ｍｍ）。各サンプルについて結合エネルギーが３０４ｅＶ〜２７４ｅＶ（炭素１ｓ軌道）、４１９ｅＶ〜３８９ｅＶ（リン２ｐ３／２軌道）、１５５ｅＶ〜１２５ｅＶ（窒素１ｓ軌道）、１８４ｅＶ〜１５４ｅＶ（硫黄２ｐ３／２軌道）の分析を行い、ＡｍＰＣの導入率を算出した。
ＡｍＰＣ導入率は、リン原子表面濃度（Ｃ_P）と炭素原子表面濃度（Ｃ_C）との比から以下の式（Ａ）により算出した。

表面濡れ性評価
作製したフィルム（０．５ｃｍ×０．５ｃｍ）を純水１００ｍＬに３０秒間浸漬したのち、ピンセットを用いて垂直に空気中へ引きあげた。このときフィルムを目視観察し、水膜層が途切れて表面が露出するまでの時間（Water break-up time；ＷＢＵＴ）を測定した。ＷＢＵＴの値により次のようにスコアを与え、表面濡れ性を評価した。
表面濡れ性評価スコア
３点：ＷＢＵＴ＞２０秒、２点：ＷＢＵＴ＝１０〜１９秒、１点：ＷＢＵＴ＝５〜９秒、０点：ＷＢＵＴ＝０〜４秒。
WBUTは、その秒数が多いほど親水性の傾向が高くなる。

ＸＰＳ分析の結果、上記実施例２−１で作製したフィルムへＡｍＰＣが１４．９％導入されたことがわかった。また、表面濡れ性評価ではスコア３点であり、得られたフィルムは表面親水性を有していることがわかった。

参考例２−１
表４に示す、使用フィルムおよび溶媒量を変更した以外は、実施例２−１と同様に反応を行ってフィルムを得、分析及び評価を行った。結果を表４に示す。

以上のように、ＡｍＰＣがフィルム表面に導入されることを確認した。特にカルボン酸を表面に持つフィルムへＡｍＰＣが導入された。その結果、フィルム表面の水濡れ性を向上させうることがわかった。このような物性を利用して、本発明で得られるアミノ基含有ホスホリルコリン化合物は、例えば、コンタクトレンズやカテーテルなどの医療機器への処理用途が考えられ、処理を施されたこれらの機器は、ホスホリルコリン基を表面に持つことから、表面濡れ性の向上を始め、優れた生体適合性が期待できる。

Claims

式（１）及び式（１'）で表される少なくとも１種のアミノ基含有ホスホリルコリン化合物。
(a)２−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリンと、(b)２−アミノエタンチオールと、(c)２−アミノエタンチオール塩酸塩とを、((上記(b)＋上記(c))／上記(a))が１．０〜３．０モル当量、かつ(上記(b)／上記(c))が０．０５〜１．００モル当量となる割合でアルコール存在下、反応させることを特徴とする請求項１記載のアミノ基含有ホスホリルコリン化合物の製造方法。
(a)２−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリンと、(b)２−アミノエタンチオール又は(c)２−アミノエタンチオール塩酸塩とを、((上記(b)＋上記(c))／上記(a))が１．０〜３．０モル当量となる割合でアルコール存在下、反応させることを特徴とする請求項１記載のアミノ基含有ホスホリルコリン化合物の製造方法。
前記反応を触媒存在下に行うことを特徴とする請求項３記載の製造方法。