JP5830176B2 - 省電力混合電圧不揮発性メモリ集積回路 - Google Patents

省電力混合電圧不揮発性メモリ集積回路 Download PDF

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Description

本発明は、異なる複数の電圧を受け取るための集積回路ダイに関し、より具体的には、省電力能力を有するダイに関する。
別々の電圧を使用する集積回路ダイは、当該技術において公知である。図1を参照すると、従来技術のフラッシュ(不揮発性)メモリの集積回路ダイ10のブロック図が示されている。フラッシュメモリ回路ダイ10は、複数のロー及びカラムに配列された複数のフラッシュメモリセルを有するフラッシュメモリアレイ100を含む。マイクロコントローラ20は、アドレスバス、データバス、及び制御バスを通じてフラッシュアレイ100の動作を制御する。最後に、混合IP回路30は、マイクロコントローラ20及びアレイ100の両方を、混合信号バスを通じて制御する。通常動作では、マイクロコントローラ20には、3.0ボルトの電圧源が供給され、フラッシュアレイ100には、1.8ボルトの電圧源が供給される。1.8ボルト電源は、外部供給される3.0ボルト電源に基づくDC-DCコンバータを用いて、混合IP回路30によって生成される。更に、外部供給される3.0ボルト電源は、マイクロコントローラ20に供給される。
図2を参照すると、図1に示したフラッシュメモリ回路ダイ10の一部分の概略ブロックレベルの回路図60が示されている。回路図では、ダイパッド21は、外部供給される3.0ボルトを受け取るように、ボンドワイヤ51を通じてボンドパッド41に接続される。次に、外部供給される3.0ボルトが、ダイ10において、IOバッファ回路36に、並びにTTL回路34(入力信号電圧レベルをCMOS電圧レベルに変換)、POR3V回路32(Vddが所定の電圧レベルに達することを検出)、及び図示していない他の回路などの他の公知の回路に供給される。これらの回路は、動作するために3.0ボルトを必要とする。3.0V電源は更に、DC-DC電圧調整器30に供給され、このDC-DC電圧調整器から、1.8ボルトの電源が生成される。1.8ボルト電源は次に、上述したフラッシュメモリアレイ100のようなダイ10の他の部分に供給される。
従来技術では、メモリ回路ダイ10が動作可能な場合、電力を必要とするすべての回路が動作可能とは限らない場合にも、外部供給される3.0ボルトからの電力は、常に、3.0ボルトを必要とするダイ10の部分に供給され、DC-DC調整器によって変換され、1.8ボルト回路に供給されることに留意されたい。例えば、マイクロコントローラ20が、アドレス、データ、及び制御信号をフラッシュメモリアレイ100に送信した後には、マイクロコントローラ20に電源を供給する必要はなく、更に、フラッシュメモリの長時間のチップ消去(erase)動作中などに、フラッシュメモリ100のみに電源を供給する必要がある。或いは、消去又はプログラミング動作中などの特定のチップ動作中には、フラッシュメモリ100内の特定の回路ブロック(図示せず)に電源を供給する必要がなく、読み出し(read)回路は、スタンバイ状態にすることができ、読み出し動作中には、消去及びプログラミング回路は、スタンバイ状態にすることができる。電力を必要としないダイ10内の回路部分への電力を低減及び/又は削減することにより、集積回路ダイ10の所要電力総量を少なくすることができる。
したがって、本発明において、集積回路ダイは、第1の電圧を受け取るためのダイパッドの第1のグループと、第1の電圧よりも低い第2の電圧を受け取るためのダイパッドの第2のグループと、を有する。第1の回路グループは、第1の電圧で動作可能である。第2の回路グループは、第2の電圧で動作可能である。回路は、第2の電圧からの電流フローを検出する。電圧調整器が、第1の電圧を第2の電圧に変換する。別の実施形態では、第2の電圧が外部から供給される。別の実施形態では、第1の回路グループ及び第2の回路グループが、第2の電圧を受け取る。第2の電圧による電流フローを検出するための回路が、電流フローの検出に応答して、電圧調整器を制御する。本発明は、最適な電力及び最適な寸法のための混合電圧及び混合酸化膜検知を含む。
従来技術のフラッシュメモリ回路ダイのブロック図である。 図1に示した従来技術のフラッシュメモリ回路部分の概略回路図である。 本発明の回路の第1の実施形態のブロックレベルの概略図である。 本発明の回路の第2の実施形態のブロックレベルの概略図である。 本発明の回路の第3の実施形態のブロックレベルの概略図である。 本発明の回路の第4の実施形態のブロックレベルの概略図である。 本発明の回路の第5の実施形態のブロックレベルの概略図である。 混合電源のパワーアップシーケンスのフローチャートである。 混合電源の電源シーケンスのブロック図及びタイミングを示す図である。 本発明の回路を用いるセンスアンプの第1の実施形態の詳細回路図である。 本発明の回路を用いるセンスアンプの第2の実施形態の詳細回路図である。 本発明の回路を用いるセンスアンプの第3の実施形態の詳細回路図である。 本発明の回路を用いるセンスアンプの第4の実施形態の詳細回路図である。 本発明のIOバッファの実施形態の詳細回路図である。 本発明の回路を用いる動作電力を示す表である。
図3を参照すると、本発明の回路62の第1の実施形態が示されている。回路62は、4つの(内部)ダイパッド23、25、27、29を有する。回路62は、1つのボンドパッド42を有する。ボンドパッドは、(パッケージピンに接続する)パッケージパッドのような外部パッドである。ダイパッド23及び25は、ボンディングワイヤ(52&54)を通じてボンドパッド42に接続する。ダイパッド23及び25は、3.0ボルトの第1の電圧源Vdd1を受け取るが、3.0Vの規格許容範囲内の任意の電圧(2.2Vから4.0Vのような)を供給することができる。ダイパッド27は、第1の電圧源よりも低い1.8ボルトの第2の電圧源Vdd2を受け取る。この場合、Vdd2は、DC-DC調整器30から供給される。しかしながら、ここでも、1.8Vの規格許容範囲内の任意の電圧源(1.2Vから2.0Vのような)を供給することができる。ダイパッド29は浮動状態のままであり、したがって、本実施形態では、ブロック46の抵抗器を通じて接地にプルダウンされる。
ボンドパッド42からの電圧は、動作するために3.0ボルトを必要とするIOバッファ回路36に、チャージポンプ回路38に、及びすべて上述の(TTL回路34、POR3V回路32のような)他の公知の回路に供給される。更に、このチップ構成では、3.0ボルトがDC-DC電圧調整器30に供給され、このDC-DC電圧調整器から、1.8ボルト電源が生成される。次に、1.8ボルト電源が、フラッシュメモリアレイ100のような上述のダイ10の他の部分に供給される。この場合、電流検知回路46は電流フローを検知せず、これに応答して、制御信号48を生成する。制御信号48は、DC-DC電圧調整器30に供給され、以下で説明するように、調整器30の動作を制御するために使用される。電圧源Vdd2は、電圧Vdd2を用いて動作する必要があるダイ10の内部回路に供給される。
本発明の回路62を含むダイ10の動作において、ダイ10は、電圧源Vdd1の使用を必要とする回路が、Vdd2からの電圧を必要とする回路と同時にオン状態にならないように設計される必要がある。したがって、3.0ボルトのトランジスタ又は他の回路要素は、Vdd2が動作可能になる前の特定の時点においてのみ、動作可能であるのに対し、トランジスタ及び他の回路要素はそれ以外の時点においてのみ、動作可能である。この場合、Vdd1を必要とする回路要素のみがオン状態となっていると仮定すると、外部供給されるVdd1が、電圧Vdd1をダイ10内の種々の回路要素に供給する。この間、電流検知要素46が全く電流フローを検出しないので(ダイパッド29は浮動状態であり、したがって、回路46には電流が供給されない)、DC-DC電圧調整器30がイネーブルにされる。このように、制御信号48がDC-DC調整器30をイネーブルにする。Vdd2の電圧を必要とするダイ10の部分がアクティブになっている場合に、Vdd2の電圧源がDC-DC調整器30から供給される。
図4を参照すると、本発明の第2の実施形態の回路図63が示されている。図3に示した実施形態と同様に、回路63は、4つのダイパッド23、25、27、29、並びに2つのボンドパッド42及び43を有する。この構成では、ダイパッド23及び25が、ボンドワイヤ52及び54を通じてボンドパッド42に、ダイパッド27及び29が、ボンドワイヤ56及び58を通じてボンドパッド43にそれぞれ接続される。ボンドパッド42は、3.0ボルトの第1の電圧源Vdd1を受け取るが、任意の電圧を供給することができる。ボンドパッド43は、第1の電圧源よりも低い1.8ボルトの第2の電圧源Vdd2を受け取る。しかしながら、ここでも、任意の電圧源を供給することができる。ダイパッド29がボンドパッド43から電圧を受け取るので、検知回路46はここで電流フローを検出する。次にこれが、制御信号48をアクティブにして、DC-DC調整器30をディセーブルにする。この実施形態では、3V回路は、Vdd1ボンドパッド42からの3.0ボルトで動作し、1.8V回路は、Vdd2ボンドパッド43からの1.8ボルトで動作する。
ボンドパッド42からの電圧は、動作に3.0ボルトを必要とするIOバッファ回路36に、チャージポンプ回路38に、及びすべて上述の他の公知の回路に供給される。1.8ボルト電源は、フラッシュメモリアレイ100のような、上述のダイ10の他の部分に供給される。
図5を参照すると、本発明の第3の実施形態の回路図64が示されている。図3に示した実施形態と同様に、回路64は、4つのダイパッド23、25、27、29、並びに1つのボンドパッド44を有する。この構成では、すべてのダイパッド23、25、27、及び29が、ボンドワイヤ52、54、56、及び58それぞれを通じてボンドパッド44に接続される。ボンドパッド44は、1.8ボルトの第2の電圧源Vdd2を外部から受け取る。ダイパッド29がボンドパッド44から電圧を受け取るので、回路46はここで電流フローを検出する。次にこれが、制御信号48をアクティブにし、DC-DC調整器30をディセーブルにする。この実施形態では、すべての回路がVdd2ボンドパッド44からの1.8ボルトで動作する。この場合には、TTL回路34、IOBUF回路36、及びチャージポンプ38が、1.8V電源で動作することになる。
図6を参照すると、本発明の第4の実施形態の回路図66が示されている。図3に示した実施形態と同様に、回路64は、4つのダイパッド23、25、27、及び28、並びに1つのボンドパッド46を有する。この構成では、ダイパッド23及び25が、ボンドワイヤ52及び54を通じてボンドパッド46に接続される。ボンドパッド46は、3.0ボルトの電圧源をVdd1から受け取る。
ボンドパッド46からの電圧は、動作するために3.0ボルトを必要とするIOバッファ回路36、チャージポンプ回路38、及びすべて上述の他の公知の回路に供給される。更に、このチップ構成では、3.0ボルトが、DC-DC電圧調整器30に供給されて、このDC-DC電圧調整器から、1.8ボルト電源が生成される。次に、1.8ボルト電源が、フラッシュメモリアレイ100のような上述のダイ10の他の部分に供給される。3.0ボルトは更に、DC−DC電圧調整器31に供給され、ここから1.8ボルト電源が生成され、これがフラッシュメモリの検知回路に供給される。この実施形態では、コンフィギュレーションビットを用いて、DC-DC調整器30及び31をイネーブルにする。コンフィギュレーションビットは、マイクロコンピュータ20によって又はパワーアップ時の初期化シーケンスによって提供される(図8及び9による説明と同様)。
本発明の回路66を含むダイ10の動作において、ダイ10は、電圧源Vdd1の使用を必要とする回路が電圧源Vdd1に接続され、Vdd2を用いた周期的又は断続的な動作のみである回路が第1の電圧調整器30に接続されるように設計される必要がある。Vdd2を必要とするが、Vdd1を必要とする回路と同時にオン状態にすることができる他のすべての回路は、第2の電圧調整器31に接続される。特に、フラッシュアレイメモリセル100は、電圧調整器30に接続され、Vdd2を必要とするセンスアンプ内の回路要素は、電圧調整器31に接続される。
このようにして、Vdd1動作を必要とする回路要素と同時にではなくVdd2動作を必要とする回路要素は、上述のように、調整器30により動作する。しかしながら、電圧源Vdd2を必要し、それと同時にVdd1が更に、他の回路要素に関してアクティブになる回路要素に関しては、Vdd2の電源は、調整器31である。このようにして、Vdd2を必要とする一部の回路要素が、Vdd1を必要とする回路要素と同時に動作可能な場合でさえ、上述のような省電力の利点が実現する。
図7を参照すると、本発明の第5の実施形態の回路図68が示されている。図3に示した実施形態と同様に、回路64は、4つのダイパッド23、25、27、及び28、並びに1つのボンドパッド46を有する。この構成では、ダイパッド23、25、27、及び28が、ボンドワイヤ52、54、56、及び59それぞれを通じてボンドパッド46に接続される。ボンドパッド46は、1.8ボルトの電圧源Vdd2を受け取る。この実施形態では、すべての回路が1.8ボルトで動作可能である必要がある。この実施形態では、コンフィギュレーションビットを用いて、DC-DC調整器30及び31をディセーブルにする。コンフィギュレーションビットは、マイクロコンピュータ20によって又はパワーアップ時の初期化シーケンスによって提供される(図8及び図9での説明と同様)。
図8は、混合電源の電源シーケンスのフロー及びタイミングである。ヒューズビットは、チップ動作用のコンフィギュレーションビットとして使用する。チップ動作は、種々の省電力モード及び不揮発性動作モード(消去、プログラム、読み出し、テスト、他)などの動作を含む。パワーアップシーケンスフローは、ヒューズビット・リコールシーケンス(又はフロー)とも称される。幾つかのコンフィギュレーションビットは、電源3V及び1.8V用などのダイパッド接続を構成することに関するものである。幾つかのコンフィギュレーションビットは、電源3V及び1.8Vで正確に作動するように回路を構成することに関するものである。パワーアップ時のような開始時には、3V電力検出回路をモニタして、3V電源が特定のトリップポイント(例えば、2.2V)まで増加しているかどうかをチェックして、次に1.8V電力検出回路をモニタして、1.8V電源が特定のトリップポイント(例えば、1.3V)まで増加しているかどうかをチェックする。この時点で、相補的な固定パターンチェック(「1」及び「0」などの、同じパターン及び次のパターンの反転データ)を用いて、チップ動作に信頼性があるかどうかを判定する(例えば、AAAA/5555/FFFE/0001データパターンの読み出し)。固定パターンチェックが真(true)である場合、ヒューズビットをリコールして(コンフィギュレーションビット)、チップ構成をセットアップする。ヒューズビットのリコールと同時に、並行のパターンチェック(A/5パターン及び/又はパリティビットなど)を用いて、ヒューズリコールに信頼性があることを保証する。一実施形態において、各ヒューズワード(例えば、ヒューズワードごとに16ヒューズビット)内の埋め込みパターン(A/5パターン及び/又はパリティビットなど)を実装して、ヒューズリコールに信頼性があることを保証する。一実施形態は、16ビットのリコールに関してA(Fs<7:0>)5/5(Fs<7:0>)Aであり、Fs<7:0>はヒューズビットであり、A及び5は、連続するリコールのための交互パターンビットである。別の実施形態は、1(Fs<13:0>)0/0(Fs<13:0>)1で、1、0が、連続的なリコール用の交互パターンビットである。ヒューズリコールが行われると、固定パターンチェックを再度用いて、チップ動作に信頼性があることをここでも保証する。このポストパターンチェックが真(true)の場合、パワーアップリコール動作が完了する。別の実施形態では、パターンビットに関してマージを行って(検知又はタイミング調整のトリップポイントの適合)、パターンビットがヒューズリコール動作の最悪ケースとなることを保証する。別の実施形態では、パターンビット及びヒューズビット用のパリティビットを実装して、別のレイヤの信頼性チェックを保証する。別の実施形態では、動作上の信頼性のために、各ヒューズビットに関して複数のメモリセルを使用する。
図9は、パワーアップシーケンス及びヒューズビット(コンフィギュレーションビット)のリコールタイミングに関する電源シーケンスコントローラのブロック図600を示している。ブロック620は、3.0V電源から1.8Vを供給するためのDC-DC調整器である。これは、1.8V LDO(線形調整器VDDREGp 1.8V)及びソフト調整器Soft-vddreg 1.8Vで構成される。線形調整器VDDREGp 1.8Vは、通常動作に関する正確な(ハード)調整をもたらす。ソフト調整器は、VDDREGp 1.8Vがまだ動作可能でない場合でパワーアップ中、又は省電力モード(通常動作中のレベルよりも低い電圧レベル)中に、約1.2−1.8Vを供給するために使用される。ブロック610のPOR3Vは、3V電源のためのトリップポイントを提供するものである。ブロック630のPOR1.8Vは、1.8V電源のためのトリップポイントを提供するものである。ブロック640のPORLOGは、パワーアップ中にロジックを提供するために使用される。ブロック666のPWRCALLは、ヒューズリコールロジック制御を提供するために使用される。信号シーケンスは、POR3V_N、次にPOR1.8V_N、及び最後にPOR_N(POR3V_N及びPOR1.8V_Nを結合)である。
図15の表Iは、3V及び1.8Vの電源が利用可能なStandby(スタンバイ)、Deep Power Down(ディープパワーダウン)、Read(読み出し)、Program(プログラム)、及びErase(消去)動作の動作モードを備えるフラッシュチップの更に効率的な電力利用に関するフラッシュチップ100の電力動作の実施形態を示している。種々の回路機能ブロックの電力動作の実施形態は、例えば、電源シーケンスのヒューズビット・リコールフローにおけるコンフィギュレーションビットによってイネーブルにされる。Standby(スタンバイ)モードでは、検知回路用のVdd(電源)は0Vであり、チャージポンプ(hv回路)のVddは0Vであり、ロジックコントローラ用のVddは3V及び/又は1.8Vであり、x−デコーディング(別名ローデコーダ)用のVddは3V及び/又は1.8Vであり、y−デコーディング回路(別名カラムデコーダ)用のVddは1.8V及び/又は3Vであり、IOBUF用のVddは3Vであり、VDDREG1.8V出力用の電圧レベルは1.8Vである(正確な(ハード)調整モードブロック620、ハード電力レベルとも)。Deep Power Down(ディープパワーダウン)モードでは、検知回路用のVdd(電源)は0Vであり、チャージポンプ(hv回路)用のVddは0Vであり、ロジックコントローラ用のVddは、3V及び/又は1.3−1.6Vのいずれかであり、x−デコーディング(別名ローデコーダ)用のVddは0Vであり、y−デコーディング回路用(別名カラムデコーダ)のVddは0Vであり、IOBUF用のVddは3Vであり、VDDREG1.8V出力用の電圧レベルは1.3−1.6Vである(図9のソフト調整モードブロック620、ソフト電力レベルとも)。Read(読み出し)/Prog(プログラム)/Erase(消去)では、検知回路用のVdd(電源)は、それぞれ(1.8V及び/又は3V)/0V/0Vであり、チャージポンプ(hv回路)用のVddはそれぞれ0V/3V/3Vであり、ロジックコントローラ用のVddは、Read/Prog/Eraseに関して3V及び/又は1.8Vであり、x−デコーディング(別名ローデコーダ)用のVddは、Read/Prog/Eraseに関して1.8Vであり、y−デコーディング回路用(別名カラムデコーダ)のVddは、Read/Prog/Eraseに関して1.8V及び/又は3Vであり、IOBUF用のVddは3Vであり、VDDREG1.8V出力用の電圧レベルは、Read/Prog/Eraseに関して1.8Vである(図9のハード(正確な)調整モードブロック620)。
図15の表IIは、1.8Vの電源が利用可能なStandby(スタンバイ)、Deep Power Down(ディープパワーダウン)、Read(読み出し)、Program(プログラム)、及びErase(消去)動作の動作モードを備えるフラッシュチップの更に効率的な電力利用のためのフラッシュチップ100の電力動作の実施形態を示している。Standby(スタンバイ)モードでは、検知回路用のVdd(電源)は0Vであり、チャージポンプ(hv回路)用のVddは0Vであり、ロジックコントローラ用のVddは1.8Vであり、x−デコーディング(別名ローデコーダ)用のVddは1.8Vであり、y−デコーディング回路(別名カラムデコーダ)用のVddは0Vであり、IOBUF用のVddは1.8Vであり、VDDREG1.8V出力用の電圧レベルは1.8Vである。Deep Power Down(ディープパワーダウン)モードでは、検知回路用のVdd(電源)は0Vであり、チャージポンプ(hv回路)用のVddは0Vであり、ロジックコントローラ用のVddは1.8Vであり、x−デコーディング(別名ローデコーダ)用のVddは0Vであり、y−デコーディング回路(別名カラムデコーダ)用のVddは0Vであり、IOBUF用のVddは1.8Vであり、VDDREG1.8V出力用の電圧レベルは1.0−1.3Vである(図9のソフト調整モードブロック620)。Read(読み出し)/Prog(プログラム)/Erase(消去)では、検知回路用のVdd(電源)は、それぞれ1.8V/0V/0Vであり、チャージポンプ(hv回路)用のVddは、それぞれ0V/1.8V/1.8Vであり、ロジックコントローラ用のVddは、Read/Prog/Eraseに関して1.8Vであり、x−デコーディング(別名ローデコーダ)用のVddは、Read/Prog/Eraseに関して1.8Vであり、y−デコーディング回路用(別名カラムデコーダ)のVddは、Read/Prog/Eraseに関して1.8Vであり、IOBUF用のVddは1.8Vであり、VDDREG1.8V出力用の電圧レベルは、Read/Prog/Eraseに関して1.8Vである(図9の正確な調整モードブロック620)。
図10を参照すると、本発明のセンスアンプ760の第1の実施形態が示されている。センスアンプ760は、混合電源混合酸化膜擬似差動増幅機構である。混合電源は、複数の電源、例えば、3V(又は5V)及び1.8V及び/又は1.2Vが同じセンスアンプ上で使用されることに言及する。混合酸化膜は、複数の酸化膜(例えば3V(又は5V)及び1.8V酸化膜(及び/又は1.2V酸化膜))が同じセンスアンプで使用されることに言及する。センスアンプ760は、約3.0ボルトの電圧Vdd1を第1のバス762に沿って受け取り、約1.8V(又は代替的に1.2V)の電圧Vdd2を第2のバス764に沿って受け取る。第1のバス762は、センスアンプの第1区間((メモリ)読み出し回路としても知られる)に属するPMOSトランジスタ770(a−c)に接続される。トランジスタ770(a−c)は更に、読み出し回路のプルアップ(負荷)トランジスタとも称される。センスアンプ760の第1区間は、参照カラム(SAL REF 792)及びデータカラム(SAL0−N 794)用の第1区間を含む。NMOSトランジスタ780(a−c)は、第1区間回路用のカスコード増幅機能として作用する。PMOSトランジスタ790(a−b)は、検知された出力ノードにおいて電圧レベルを約2Vよりも低くクランプして、センスアンプの次の区間(バス764に接続された回路)のゲート酸化膜にストレスを加える(又は機能停止)ことを防止するように作用する。第2のバス764は、センスアンプ760内のPMOSトランジスタの残りすべてに接続される。一実施形態において、Vdd1の電圧を受け取るトランジスタ770(a−c)は、Vdd2の電圧を受け取る残りのトランジスタ(1.8V酸化膜、例えば、32オングストローム)よりも厚い(ゲート)酸化膜(3V酸化膜、例えば、70オングストローム)を有する。別の実施形態では、トランジスタ770(a−c)は、1.8Vトランジスタ(1.8V酸化膜)であり、これは、その端子(ノード)の両端の電圧降下が所定の電圧、例えば、2Vを下回るように作用して、1.8V酸化膜の機能停止が防止されることになるからである。類似のトランジスタ780(a−c)は、3Vトランジスタ又は1.8Vトランジスタとして実装することができる。1.8V酸化膜の場合、その端子の両端の電圧降下が所定の電圧を下回るように作用して、1.8V酸化膜の機能停止が防止されることになる。
擬似差動増幅器760は、以下のように動作する。参照カラムSAL_REF792の第1区間が、ダイオード接続したPMOSトランジスタ770cの動作によって、メモリセル電流をカレントミラーに変換して、ここで、基準電流が、トランジスタ770cによって(そのドレイン上のバイアス電圧を介して)、データカラムSAL_0−N794のPMOSトランジスタ780(a−d)のゲートにミラーリングされる。センスアンプの第1区間(読み出し回路としても知られる)に供給される3.0v(Vdd1)を使用することによって、センスアンプの動的な動作範囲が、1.8V電源の範囲と比較してより広くなる。センスアンプの第2区間DIFA0−N798は、1.8V電源(Vdd2)を用いて、メモリセル電流DATA0−Nが、「high」であるか、或いは「low」であるかそれぞれに応じて、検知されたノード(トランジスタ780dのドレイン)をデジタル電圧レベル(出力VOUT0−N)「0」又は「1」に変換して、3Vから1.8Vへの電圧レベル変換を同時に実現する。第2区間DIFA0−N798は、1.8V電源を用いており、したがって、ここでは1.8Vトランジスタを使用することができる(3vトランジスタに対比してより小さい寸法及びより高い性能)。すべてが1.8vトランジスタで構成された差動増幅器798は、入力段NMOS721&722、及びPMOS負荷723&724、及びバイアスNMOS727で構成される。第2段は、PMOS725及びNMOS726で構成され、デジタル出力VOUTDに変換する。スイッチS1 702は、検知前の初期化用のものである。別の実施形態では、入力トランジスタ721及び722は、例えば、クランプトランジスタ790(a−b)が使用されない場合には、1.8vトランジスタではなく3.0vトランジスタである。
センスアンプに関する図10から13には、ymux(yデコーダ)は、略して図示していない。ymuxは、選択されたメモリセルをセンスアンプに接続するためのメモリセルカラム(ビット線)を選択するために使用される。
図11を参照すると、本発明のセンスアンプ761の第2の実施形態が示されている。センスアンプ761は、トランジスタ781c及び782c以外はセンスアンプ760に類似する(したがって、残りのトランジスタは同じである)。読み出し回路792は、出力ノード(プルアップトランジスタ770cのドレイン又はカスコードトランジスタ780cのドレイン)で、ドレインゲート絶縁の閉ループソースフォロワ構成のトランジスタ781c及び782cを利用して、読み出し回路のダイナミックレンジを拡大する。ドレインゲート絶縁は、プルアップ負荷トランジスタのドレイン及びゲートノードの絶縁に言及する。トランジスタ781cは、トランジスタ770cのドレイン及びゲートを絶縁するように作用するネイティブNMOSトランジスタ(約ゼロの閾値電圧)である。ここで、トランジスタ770cのドレインは、そのゲート電圧を超えることができ、カスコードトランジスタ780cに関してより広いダイナミックレンジを可能にする(そのドレインは以前よりも高い電圧に達することができる)。トランジスタ782cは、トランジスタ781cのバイアス電流として作用する。更に、トランジスタ770cのゲートは、トランジスタ781cのソースであり(ソースフォロワとして動作)、ここで、このノードは、効率的な低インピーダンスである(より大きい電流を駆動して、より高速度をもたらすことができる)。この技術は、基準セルの読み出しに加えて、データセルを読み出すために使用することができる。この技術は、図12及び13の他の検知回路上で使用することができる。
図12を参照すると、本発明のセンスアンプ860の第3の実施形態が示されている。センスアンプ860は、差動増幅機構である。センスアンプ860は、約3.0ボルトの電圧Vdd1を第1のバス762に沿って受け取り、約1.8Vの電圧Vdd2を第2のバス764に沿って受け取る。第1のバス762は、PMOSトランジスタ870(a−c)及び871(a−c)に接続される。第2のバス764は、センスアンプ860内の残りのPMOSトランジスタすべてに接続される。Vdd1の電圧を受け取るトランジスタ870(a−c)及び871(a−c)は、Vdd2の電圧を受け取る残りのトランジスタよりも厚い酸化膜を有する。差動増幅器860は、以下のように動作する。センスアンプの第1区間は、参照カラム(SAL REF 892)及びデータカラム(SAL0−N 894)用の第1区間を含む。NMOSトランジスタ880(a−c)は、第1区間回路用のカスコード増幅機能として作用する。PMOSトランジスタ870(a−c)は、PMOSトランジスタ871(a−c)へのプルアップ負荷及びミラーセル電流として作用し、次にこれらの電流が、(ダイオード接続した)NMOSトランジスタ872(a−c)によって出力電圧に変換される。次に、基準セル電圧及びデータセル電圧を、差動増幅器898によって比較して、デジタル出力VOUTDに変換する。センスアンプ760の場合と同様に、センスアンプは、3Vで動作し、より広いダイナミックレンジをもたらす読み出し回路(892、894)と、より低い電圧(例えば、1.8V)で動作し、より小さい寸法及びより高速度をもたらす差動増幅器(898)と、に分割される。
図13を参照すると、本発明のセンスアンプ960の第4の実施形態が示されている。センスアンプ960は、シングルエンド増幅機構である。センスアンプ960は、約3.0ボルトの電圧Vdd1を第1のバス762に沿って受け取り、約1.8Vの電圧Vdd2を第2のバス764に沿って受け取る。第1のバス762は、PMOSトランジスタ870(a−c)及び871(a−c)に接続される。第2のバス764は、センスアンプ960内の残りのPMOSトランジスタのすべてに接続される。Vdd1の電圧を受け取るトランジスタ870(a−c)及び871(a−c)は、Vdd2の電圧を受け取る残りのトランジスタよりも厚い酸化膜を有する。センスアンプ960は、以下のように動作する。センスアンプの第1区間は、参照カラム(SAL REF 892)及びデータカラム(SAL0−N 994)のための第1区間を含む。NMOSトランジスタ880(a−c)は、第1区間回路用のカスコード増幅機能として作用する。PMOSトランジスタ870(a−c)は、PMOSトランジスタ871(a−c)へのプルアップ負荷及びミラーセル電流として作用する。次に基準セル電流が、NMOSトランジスタ872cによって基準電圧に変換される。次にこの基準セル電圧が、データカラム994のトランジスタ872aへのセル電流をミラーリングする。次にこのミラーリングされた基準セル電流は、トランジスタ871aからのデータセル電流に対して比較される。電流比較出力が、トランジスタ871aのドレイン電圧である。次にこの出力電圧は、シングルエンド増幅器998によってデジタル出力VOUTDに増幅される。シングルエンド増幅器998は、それぞれ電流バイアス976及び977を有するPMOSトランジスタ974及びNMOS975の第1段で構成される。PMOS973は、弱帰還トランジスタである。NMOS972は、1.8V電圧から3.0Vを絶縁する絶縁トランジスタである。第2段は、PMOS978及びNMOS979で構成される。スイッチ962 S1及び964 S2は、検知前の初期化用のものである。センスアンプ960の利点は、読み出し回路892及び994に関しては、ダイナミックレンジがより広く、シングルエンド増幅器998に関しては。寸法及び電力がより小さいことである(第2区間上に差動増幅器を有するセンスアンプ860及び760に対比して)。
図14を参照すると、IOバッファ回路1000の詳細な概略回路図が示されている。回路1000は、IOプリドライバ回路1010と、2つのドライバ回路1020a及び1020bとを含む。プリドライバ回路1010は、メモリセルからデータ出力1002を受け取り、信号を出力ドライバ回路1020a又は出力ドライバ回路1020bのいずれかに向ける。スイッチ1004(a−c)が、データ出力信号1002をドライバ回路1020a又はドライバ回路1020bのいずれかに向ける。ドライバ回路1020aとドライバ回路1020bとの間の差異は、ドライバ回路1020aが3.0ボルトで電力供給されるのに対し、ドライバ出力回路1020bは1.8ボルトで電力供給されることである。3.0ボルト及び1.8ボルト用の別々の読み出し経路を有することにより、3.0V及び1.8V回路がそれぞれ3.0V及び1.8Vで最適に動作するので、読み出し性能が最適化される。3V又は1.8V読み出し経路は、製品規格による所望の3V又は1.8V出力に応じてイネーブルにされる。加えて、3.0ボルトのドライバ回路1020aは、1.8ボルトのドライバ回路1020b用のESD保護回路として作用する。
10 フラッシュメモリ集積回路ダイ
20 マイクロコントローラ
30 混合IP
100 フラッシュメモリ

Claims (9)

  1. 第1の電圧を受け取るための第1のダイパッドと、
    前記第1の電圧よりも低い第2の電圧を受け取るための第2のダイパッドと、
    前記第1の電圧で動作可能な第1の回路と、
    前記第2の電圧で動作可能で前記第2のダイパッドに接続された第2の回路と、
    前記第2のダイパッドからの電流フローを検出するための回路と、
    前記第1の電圧を前記第2の電圧に変換するための電圧調整器と、
    を備えた集積回路ダイであって、
    前記第2のダイパッドからの電流フローを検出するための前記回路は、前記電流フローの検出に応答して前記電圧調整器をアクティブにすることを特徴とする集積回路ダイ。
  2. 前記第2の回路は、不揮発性メモリセルアレイであり、前記第1の回路は、前記メモリセルアレイの周辺回路である、請求項1に記載の集積回路ダイ。
  3. 前記第1の回路は、前記不揮発性メモリセルアレイ用のマイクロコントローラ回路を含む、請求項2に記載の集積回路ダイ。
  4. 前記第1の回路は、アドレス信号を受け取り、デコードしたアドレス信号を前記不揮発性メモリセルアレイに供給するためのアドレスデコーダ回路を含む、請求項2に記載の集積回路ダイ。
  5. 前記第1の回路は、不揮発性メモリデバイス用のセンスアンプ回路の第1の部分であり、前記第2の回路は、前記不揮発性メモリデバイス用のセンスアンプの第2の部分である、請求項1に記載の集積回路ダイ。
  6. メモリフラッシュアレイと、
    第1のダイパッドと、
    前記第1のダイパッドに接続された第1の回路と、
    第2のダイパッドと、
    前記第2のダイパッドに接続された第2の回路と、
    コンフィギュレーションビットを提供して、パワーアップ中第1の電圧しきい値を超える第1の電圧供給源からの電圧に応答する前記第1の回路、パワーアップ中第2の電圧を超える第2の電圧供給源に応答する前記第2の回路、及び前記第1のダイパッドと前記第2のダイパッドとの接続、を構成するための電源シーケンスコントローラと、
    を備える集積回路フラッシュメモリシステム。
  7. 前記コンフィギュレーションビットが電源シーケンスから提供されるように制御するための電源シーケンスコントローラを更に備える、請求項に記載のシステム
  8. 前記電源シーケンスは、並行のパターンチェックを含む、請求項に記載のシステム
  9. 前記コンフィギュレーションビットは、消去、プログラム、読み出し、スタンバイ、及びディープパワーダウンに関する種々の省電力モードを、前記第1の回路及び前記第2の回路用のハード及びソフト調整電圧レベルで制御する、請求項に記載のシステム
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Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9124276B2 (en) * 2012-12-20 2015-09-01 Qualcomm Incorporated Sense amplifier including a level shifter
US9417675B2 (en) * 2014-05-29 2016-08-16 Silicon Storage Technology, Inc. Power sequencing for embedded flash memory devices
US10452594B2 (en) 2015-10-20 2019-10-22 Texas Instruments Incorporated Nonvolatile logic memory for computing module reconfiguration
US10043578B2 (en) * 2015-11-12 2018-08-07 Mediatek Inc. Sense amplifier circuits
US10331203B2 (en) * 2015-12-29 2019-06-25 Texas Instruments Incorporated Compute through power loss hardware approach for processing device having nonvolatile logic memory
JP2018133503A (ja) * 2017-02-16 2018-08-23 東芝メモリ株式会社 半導体記憶装置
US10388335B2 (en) 2017-08-14 2019-08-20 Micron Technology, Inc. Sense amplifier schemes for accessing memory cells
DE102018131711B3 (de) 2018-12-11 2020-06-10 Infineon Technologies Ag Abtastschaltung und Abtastverfahren
CN113348085B (zh) 2019-02-06 2022-12-13 惠普发展公司,有限责任合伙企业 流体分配设备部件、流体分配系统以及流体分配的方法
US11036581B2 (en) * 2019-08-08 2021-06-15 Apple Inc. Non-volatile memory control circuit with parallel error detection and correction
TWI714475B (zh) * 2020-03-17 2020-12-21 華邦電子股份有限公司 控制裝置以及記憶體系統
CN113448424B (zh) * 2020-03-27 2023-12-08 华邦电子股份有限公司 控制装置以及存储器系统
JP7259130B2 (ja) * 2020-08-06 2023-04-17 長江存儲科技有限責任公司 3次元メモリのためのマルチダイピーク電力管理

Family Cites Families (41)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0297058A (ja) * 1988-10-03 1990-04-09 Mitsubishi Electric Corp 半導体記憶装置
JPH03110650A (ja) * 1989-09-25 1991-05-10 Casio Comput Co Ltd Eepromチェック方式
US5519654A (en) * 1990-09-17 1996-05-21 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor memory device with external capacitor to charge pump in an EEPROM circuit
JPH04205887A (ja) * 1990-11-30 1992-07-28 Hitachi Ltd 半導体集積回路装置
US5103425A (en) 1991-03-11 1992-04-07 Motorola, Inc. Zener regulated programming circuit for a nonvolatile memory
JPH0684996A (ja) * 1992-09-07 1994-03-25 Nec Corp 半導体装置
JPH0729386A (ja) * 1993-07-13 1995-01-31 Hitachi Ltd フラッシュメモリ及びマイクロコンピュータ
JPH08125034A (ja) 1993-12-03 1996-05-17 Mitsubishi Electric Corp 半導体記憶装置
US5661690A (en) 1996-02-27 1997-08-26 Micron Quantum Devices, Inc. Circuit and method for performing tests on memory array cells using external sense amplifier reference current
US5646890A (en) 1996-03-29 1997-07-08 Aplus Integrated Circuits, Inc. Flexible byte-erase flash memory and decoder
JPH10144079A (ja) * 1996-11-07 1998-05-29 Mitsubishi Electric Corp 半導体記憶装置
JP4046383B2 (ja) * 1997-04-01 2008-02-13 株式会社ルネサステクノロジ 半導体集積回路装置
WO1998054727A2 (en) 1997-05-30 1998-12-03 Micron Technology, Inc. 256 Meg DYNAMIC RANDOM ACCESS MEMORY
JP3425340B2 (ja) * 1997-10-09 2003-07-14 株式会社東芝 不揮発性半導体記憶装置
US6009023A (en) * 1998-05-26 1999-12-28 Etron Technology, Inc. High performance DRAM structure employing multiple thickness gate oxide
JP4530464B2 (ja) * 2000-03-09 2010-08-25 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体集積回路
JP2001266572A (ja) * 2000-03-17 2001-09-28 Fujitsu Ltd 半導体集積回路
US6944056B2 (en) * 2001-04-02 2005-09-13 Renesas Technology Corp. Semiconductor non-volatile storage device
JP2002373495A (ja) * 2001-06-14 2002-12-26 Hitachi Ltd 半導体チップ、半導体集積回路装置及び半導体集積回路装置の製造方法
TW546840B (en) * 2001-07-27 2003-08-11 Hitachi Ltd Non-volatile semiconductor memory device
JP3866111B2 (ja) * 2002-01-18 2007-01-10 株式会社ルネサステクノロジ 半導体集積回路及びバーンイン方法
US6868024B2 (en) 2002-12-26 2005-03-15 Micron Technology, Inc. Low voltage sense amplifier for operation under a reduced bit line bias voltage
ITMI20030384A1 (it) * 2003-03-04 2004-09-05 St Microelectronics Srl Dispositivo di memoria non volatile differenziale e metodo di lettura di bit di detto dispositivo di memoria.
US6924702B2 (en) * 2003-06-17 2005-08-02 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Low supply voltage and self-biased high speed receiver
EP1566809B1 (en) * 2004-02-19 2006-11-29 STMicroelectronics S.r.l. Sensing circuit with regulated reference voltage
JP4703133B2 (ja) * 2004-05-25 2011-06-15 ルネサスエレクトロニクス株式会社 内部電圧発生回路および半導体集積回路装置
KR100674936B1 (ko) * 2005-01-10 2007-01-26 삼성전자주식회사 강화된 파우워를 갖는 반도체 메모리장치 및 이의 파우워강화 방법
US7864615B2 (en) * 2005-02-25 2011-01-04 Kingston Technology Corporation Flash memory controller utilizing multiple voltages and a method of use
US7499307B2 (en) * 2005-06-24 2009-03-03 Mosys, Inc. Scalable embedded DRAM array
US7355905B2 (en) * 2005-07-01 2008-04-08 P.A. Semi, Inc. Integrated circuit with separate supply voltage for memory that is different from logic circuit supply voltage
EP1905084A2 (en) * 2005-07-08 2008-04-02 Nxp B.V. Integrated circuit with electro-static discharge protection
JP2007066463A (ja) 2005-09-01 2007-03-15 Renesas Technology Corp 半導体装置
US7394637B2 (en) * 2005-12-15 2008-07-01 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Sense amplifier with leakage compensation for electrical fuses
US20070247915A1 (en) * 2006-04-21 2007-10-25 Intersil Americas Inc. Multiple time programmable (MTP) PMOS floating gate-based non-volatile memory device for a general-purpose CMOS technology with thick gate oxide
KR100816148B1 (ko) * 2006-09-29 2008-03-21 주식회사 하이닉스반도체 플래시 메모리 소자 및 이의 독출 방법
KR100781984B1 (ko) * 2006-11-03 2007-12-06 삼성전자주식회사 셀프 레퍼런스를 갖는 센스앰프 회로 및 그에 의한 센싱방법
US7738306B2 (en) * 2007-12-07 2010-06-15 Etron Technology, Inc. Method to improve the write speed for memory products
US7751250B2 (en) * 2008-06-27 2010-07-06 Sandisk Corporation Memory device with power noise minimization during sensing
US8325554B2 (en) * 2008-07-10 2012-12-04 Sanmina-Sci Corporation Battery-less cache memory module with integrated backup
US7764563B2 (en) * 2008-11-26 2010-07-27 Micron Technology, Inc. Adjustable voltage regulator for providing a regulated output voltage
CN101924536B (zh) * 2009-06-12 2012-05-02 昂宝电子(上海)有限公司 用于ccfl驱动系统的突发模式调光控制的低频振荡器

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