JP5812016B2 - めっき被膜を表面に有するR−Fe−B系焼結磁石の製造方法 - Google Patents
めっき被膜を表面に有するR−Fe−B系焼結磁石の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5812016B2 JP5812016B2 JP2012557854A JP2012557854A JP5812016B2 JP 5812016 B2 JP5812016 B2 JP 5812016B2 JP 2012557854 A JP2012557854 A JP 2012557854A JP 2012557854 A JP2012557854 A JP 2012557854A JP 5812016 B2 JP5812016 B2 JP 5812016B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnet
- barrel
- plating
- smut
- plating film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D7/00—Electroplating characterised by the article coated
- C25D7/001—Magnets
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/18—Pretreatment of the material to be coated
- C23C18/1803—Pretreatment of the material to be coated of metallic material surfaces or of a non-specific material surfaces
- C23C18/1824—Pretreatment of the material to be coated of metallic material surfaces or of a non-specific material surfaces by chemical pretreatment
- C23C18/1837—Multistep pretreatment
- C23C18/1844—Multistep pretreatment with use of organic or inorganic compounds other than metals, first
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G1/00—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts
- C23G1/02—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts with acid solutions
- C23G1/08—Iron or steel
- C23G1/085—Iron or steel solutions containing HNO3
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G1/00—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts
- C23G1/24—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts with neutral solutions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D17/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
- C25D17/16—Apparatus for electrolytic coating of small objects in bulk
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/34—Pretreatment of metallic surfaces to be electroplated
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F41/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
- H01F41/02—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets
- H01F41/0253—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets for manufacturing permanent magnets
- H01F41/026—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets for manufacturing permanent magnets protecting methods against environmental influences, e.g. oxygen, by surface treatment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/12—Electroplating: Baths therefor from solutions of nickel or cobalt
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F1/00—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties
- H01F1/01—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials
- H01F1/03—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity
- H01F1/032—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of hard-magnetic materials
- H01F1/04—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of hard-magnetic materials metals or alloys
- H01F1/047—Alloys characterised by their composition
- H01F1/053—Alloys characterised by their composition containing rare earth metals
- H01F1/055—Alloys characterised by their composition containing rare earth metals and magnetic transition metals, e.g. SmCo5
- H01F1/057—Alloys characterised by their composition containing rare earth metals and magnetic transition metals, e.g. SmCo5 and IIIa elements, e.g. Nd2Fe14B
- H01F1/0571—Alloys characterised by their composition containing rare earth metals and magnetic transition metals, e.g. SmCo5 and IIIa elements, e.g. Nd2Fe14B in the form of particles, e.g. rapid quenched powders or ribbon flakes
- H01F1/0575—Alloys characterised by their composition containing rare earth metals and magnetic transition metals, e.g. SmCo5 and IIIa elements, e.g. Nd2Fe14B in the form of particles, e.g. rapid quenched powders or ribbon flakes pressed, sintered or bonded together
- H01F1/0577—Alloys characterised by their composition containing rare earth metals and magnetic transition metals, e.g. SmCo5 and IIIa elements, e.g. Nd2Fe14B in the form of particles, e.g. rapid quenched powders or ribbon flakes pressed, sintered or bonded together sintered
Description
また、請求項2記載の製造方法は、請求項1記載の製造方法において、超音波洗浄における超音波の発振周波数を20kHz〜100kHzとすることを特徴とする。
また、請求項3記載の製造方法は、請求項1記載の製造方法において、めっき処理におけるめっき浴のpHが9以上であることを特徴とする。
縦:10mm×横:10mm×高さ:20mm寸法で重量が15gの30.9Nd−68.0Fe−1.1B組成(wt%)を有する焼結磁石410個を、全長:500mm×対角長さ:250mmで孔径が5mmの通液孔を有する塩化ビニル樹脂製の六角柱状のめっき用バレルに収容した後、3%硝酸に浸漬し、バレルを3rpmの回転数で回転させながら、磁石の表面に存在する加工変質層や焼結変質層を除去するための酸洗を3分間行った。
バレルを酸洗液から引き上げ、水槽に浸漬して磁石の水洗を行った後、特許第4159574号公報に記載の脱気装置を用いて調製した溶存酸素量が4ppmの脱気水(溶存酸素量は堀場製作所社の測定装置:HORIBA DOMETER OM−51を用いて測定、以下同じ)に浸漬し、バレルを3rpmの回転数で回転させながら、脱気水中に配した超音波振動子によって25kHzの超音波を発生させることで超音波洗浄を2分間行い、磁石の表面に付着しているスマットを除去した。
バレルを脱気水から引き上げた後、電気ニッケルめっき浴(硫酸ニッケル:250g/L、塩化ニッケル:45g/L、ホウ酸:30g/L、pH:4.2、液温:50℃)に浸漬し、バレルを3rpmの回転数で回転させながら、0.35A/dm2の電流密度で電気めっき処理を3.5時間行い、磁石の表面に膜厚が20μmのニッケルめっき被膜を形成した。
特許文献1に従った電解処理を行うことでスマットを除去すること以外は実施例1と同様にして、磁石の表面にニッケルめっき被膜を形成した。なお、電解処理は、アルカリ電解液(水酸化ナトリウム:70g/L、炭酸ナトリウム:30g/L、リン酸塩:10g/L、液温:30℃)にバレルを浸漬し、バレルを3rpmの回転数で回転させながら、電流密度:3A/dm2で3分間行った。
イオン交換水(溶存酸素量は8ppm)を用いた超音波洗浄を行うことでスマットを除去すること以外は実施例1と同様にして、磁石の表面にニッケルめっき被膜を形成した。
アルゴンガスをバブリングさせることによって溶存酸素量を3ppmとした水を用いた超音波洗浄を行うことでスマットを除去すること以外は実施例1と同様にして、磁石の表面にニッケルめっき被膜を形成した。
縦:10mm×横:10mm×高さ:20mm寸法で重量が15gの30.9Nd−68.0Fe−1.1B組成(wt%)を有する焼結磁石410個を、全長:500mm×対角長さ:250mmで孔径が5mmの通液孔を有する塩化ビニル樹脂製の六角柱状のめっき用バレルに収容した後、3%硝酸に浸漬し、バレルを3rpmの回転数で回転させながら、磁石の表面に存在する加工変質層や焼結変質層を除去するための酸洗を3分間行った。
バレルを酸洗液から引き上げ、水槽に浸漬して磁石の水洗を行った後、特許第4159574号公報に記載の脱気装置を用いて調製した溶存酸素量が3ppmの脱気水に浸漬し、バレルを3rpmの回転数で回転させながら、脱気水中に配した超音波振動子によって25kHzの超音波を発生させることで超音波洗浄を2分間行い、磁石の表面に付着しているスマットを除去した。
バレルを脱気水から引き上げた後、電気銅めっき浴(硫酸銅:60g/L、EDTA・2Na:150g/L、pH:12.5、液温:50℃)に浸漬し、バレルを3rpmの回転数で回転させながら、0.3A/dm2の電流密度で電気めっき処理を2時間行い、磁石の表面に膜厚が10μmの銅めっき被膜を形成した。
特許文献1に従った電解処理を行うことでスマットを除去すること以外は実施例2と同様にして、磁石の表面に銅めっき被膜を形成した。なお、電解処理は、アルカリ電解液(水酸化ナトリウム:70g/L、炭酸ナトリウム:30g/L、リン酸塩:10g/L、液温:30℃)にバレルを浸漬し、バレルを3rpmの回転数で回転させながら、電流密度:3A/dm2で3分間行った。
奥野製薬工業社の電気銅めっき液(商品名:ソフトカッパー)に水酸化ナトリウムを添加してpHを11.5に調整した電気銅めっき浴(液温:42℃)を用いて電気めっき処理を行うこと以外は実施例2と同様にして、磁石の表面に銅めっき被膜を形成した。
実施例1〜実施例3と比較例1〜比較例4のそれぞれにおけるスマット除去率とめっき被膜密着性の評価を行った。スマット除去率は、酸洗後の段階でバレルから任意に取り出した10個の磁石と、スマット除去後の段階でバレルから任意に取り出した10個の磁石について、磁石の表面に所定の大きさのセロハンテープをしっかりと張り付けた後、引き剥がしてその重量を測定し、(1−((スマット除去後の平均テープ重量−テープ自体の平均重量)/(酸洗後の平均テープ重量−テープ自体の平均重量)))×100(%)の計算式で求めた。めっき被膜密着性は、めっき処理後の10個の磁石について、Quad Group社の測定装置:Sevastian Vを用いて測定し、平均値を求めた。結果を表1に示す。表1から明らかなように、実施例1〜実施例3においては、優れたスマット除去率とめっき被膜密着性を得ることができた。しかしながら、比較例1と比較例4においては、スマット除去率は優れるものの、めっき被膜密着性は実施例1〜実施例3に比較して遥かに劣るものであった。比較例2と比較例3におけるスマット除去率とめっき被膜密着性は、いずれも実施例1〜実施例3に比較して遥かに劣るものであった。実施例2と比較例4のめっき処理後の磁石の磁石体と銅めっき被膜の界面付近の断面を透過型電子顕微鏡(日立ハイテクノロジー社:HF−2100)で観察した結果をそれぞれ図1と図2に示す(倍率:50000倍)。図1と図2から明らかなように、いずれの磁石についても、磁石体と銅めっき被膜の界面には非晶質の変質層が存在するが(この変質層の層厚は概ね10nm〜80nmであって非晶質であることはX線回折分析による)、実施例2の磁石が有する変質層は空隙がない密な構造であるのに対し、比較例4の磁石が有する変質層はスマット除去の際に磁石の表面に形成された酸化膜や水酸化膜に起因すると考えられる多数の空隙を有する構造であり、両者のめっき被膜密着性の相違はこの変質層の構造の相違によるものであると考えられた。
超音波洗浄を行う際の脱気水の溶存酸素量とスマット除去率との関係を実施例1と同様の工程を行うことで調べた。結果を表2に示す。表2から明らかなように、溶存酸素量が6ppm以下で80%以上の高いスマット除去率が得られ、とりわけ溶存酸素量が3ppm〜4ppmの場合の結果が優れていた。しかしながら、溶存酸素量が6ppmを超えるとスマット除去率は急激に低下した。これは、溶存酸素含量が多いことで超音波エネルギーの伝播が大きく妨げられて減衰したことに起因すると考えられた。
超音波洗浄を行う際の発振周波数とスマット除去率との関係を実施例1と同様の工程を行うことで調べた。結果を表3に示す。表3から明らかなように、発振周波数が小さくなるほどスマット除去率が向上し、発振周波数が38kHz以下で90%以上の高いスマット除去率が得られ、とりわけ発振周波数が25ppm〜27ppmの場合の結果が優れていた。
Claims (3)
- めっき被膜を表面に有するR−Fe−B系焼結磁石の製造方法であって、めっき処理の前処理としての磁石の酸洗およびスマット除去、そしてその後のめっき処理という一連の工程を、磁石を合成樹脂製バレルに収容した状態で一貫して行い、スマット除去を、脱気を行うことで溶存酸素量を0.1ppm〜6ppmとした水の中でバレルを回転させながら磁石を超音波洗浄することで行うことを特徴とする製造方法。
- 超音波洗浄における超音波の発振周波数を20kHz〜100kHzとすることを特徴とする請求項1記載の製造方法。
- めっき処理におけるめっき浴のpHが9以上であることを特徴とする請求項1記載の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012557854A JP5812016B2 (ja) | 2011-02-15 | 2012-01-04 | めっき被膜を表面に有するR−Fe−B系焼結磁石の製造方法 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011029986 | 2011-02-15 | ||
JP2011029986 | 2011-02-15 | ||
JP2012557854A JP5812016B2 (ja) | 2011-02-15 | 2012-01-04 | めっき被膜を表面に有するR−Fe−B系焼結磁石の製造方法 |
PCT/JP2012/050002 WO2012111353A1 (ja) | 2011-02-15 | 2012-01-04 | めっき被膜を表面に有するR-Fe-B系焼結磁石の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2012111353A1 JPWO2012111353A1 (ja) | 2014-07-03 |
JP5812016B2 true JP5812016B2 (ja) | 2015-11-11 |
Family
ID=46672296
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012557854A Active JP5812016B2 (ja) | 2011-02-15 | 2012-01-04 | めっき被膜を表面に有するR−Fe−B系焼結磁石の製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9267217B2 (ja) |
EP (1) | EP2677065B1 (ja) |
JP (1) | JP5812016B2 (ja) |
CN (1) | CN103370446B (ja) |
WO (1) | WO2012111353A1 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105239121A (zh) * | 2015-11-02 | 2016-01-13 | 天津市欣跃今朝科技发展有限公司 | 真空电镀前处理自动一体化系统 |
WO2018221797A1 (ko) * | 2016-06-01 | 2018-12-06 | 주식회사 천우테크 | 스테인레스 스틸 배관과 구조물의 용접부위 스케일과 녹을 제거하기 위한 산세와 부동태 피막 처리제 |
CN112452936A (zh) * | 2020-12-15 | 2021-03-09 | 中国电子科技集团公司第九研究所 | 一种铁氧体基片上金属薄膜电路电镀前清洗处理方法 |
JP2023010291A (ja) * | 2021-07-09 | 2023-01-20 | 信越化学工業株式会社 | 希土類焼結磁石のリサイクル方法 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60140713A (ja) * | 1983-12-27 | 1985-07-25 | Masanori Abe | フエライト膜作製方法 |
JP2617113B2 (ja) * | 1988-05-13 | 1997-06-04 | 株式会社トーキン | 耐食性に優れた希土類永久磁石及びその製造方法 |
JP2968605B2 (ja) * | 1991-03-12 | 1999-10-25 | ティーディーケイ株式会社 | 永久磁石の製造方法 |
JP3213157B2 (ja) * | 1994-02-17 | 2001-10-02 | 住友特殊金属株式会社 | Fe−B−R系磁石素材の表面処理方法 |
JPH11354361A (ja) * | 1998-06-09 | 1999-12-24 | Hitachi Metals Ltd | 表面清浄度の良好な希土類磁石およびその製造方法 |
JP4045530B2 (ja) | 2000-07-07 | 2008-02-13 | 日立金属株式会社 | R−t−b系磁石の電解銅めっき方法 |
JP3994847B2 (ja) | 2002-10-16 | 2007-10-24 | 日立金属株式会社 | 銅めっき被膜を表面に有する希土類系永久磁石の製造方法 |
JP2004249215A (ja) | 2003-02-20 | 2004-09-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | 液体の脱気システム及び液体の脱気方法 |
JP2004289021A (ja) * | 2003-03-24 | 2004-10-14 | Tdk Corp | 希土類磁石の製造方法 |
US7056648B2 (en) | 2003-09-17 | 2006-06-06 | International Business Machines Corporation | Method for isotropic etching of copper |
JP3972111B2 (ja) | 2004-08-10 | 2007-09-05 | 日立金属株式会社 | 銅めっき被膜を表面に有する希土類系永久磁石の製造方法 |
JP4159574B2 (ja) | 2005-06-21 | 2008-10-01 | 株式会社カイジョー | 脱気装置およびこれを用いた超音波洗浄装置 |
JP4033241B2 (ja) | 2006-02-07 | 2008-01-16 | 日立金属株式会社 | 銅めっき被膜を表面に有する希土類系永久磁石の製造方法 |
JP4978665B2 (ja) * | 2009-06-29 | 2012-07-18 | Tdk株式会社 | 金属磁石及びそれを用いたモータ |
-
2012
- 2012-01-04 CN CN201280008753.6A patent/CN103370446B/zh active Active
- 2012-01-04 JP JP2012557854A patent/JP5812016B2/ja active Active
- 2012-01-04 EP EP12747211.6A patent/EP2677065B1/en active Active
- 2012-01-04 WO PCT/JP2012/050002 patent/WO2012111353A1/ja active Application Filing
- 2012-01-04 US US13/984,943 patent/US9267217B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN103370446B (zh) | 2016-02-10 |
CN103370446A (zh) | 2013-10-23 |
EP2677065A1 (en) | 2013-12-25 |
EP2677065A4 (en) | 2017-07-26 |
WO2012111353A1 (ja) | 2012-08-23 |
EP2677065B1 (en) | 2018-06-20 |
JPWO2012111353A1 (ja) | 2014-07-03 |
US9267217B2 (en) | 2016-02-23 |
US20130313125A1 (en) | 2013-11-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5812016B2 (ja) | めっき被膜を表面に有するR−Fe−B系焼結磁石の製造方法 | |
JPWO2011081170A1 (ja) | 耐食性磁石およびその製造方法 | |
JP3213157B2 (ja) | Fe−B−R系磁石素材の表面処理方法 | |
JP5573663B2 (ja) | 耐食性磁石の製造方法 | |
CN111101173A (zh) | 钕铁硼永磁材料多层镀镍及除氢工艺 | |
JP4983619B2 (ja) | 永久磁石 | |
JP4045530B2 (ja) | R−t−b系磁石の電解銅めっき方法 | |
JP2008218647A (ja) | 希土類磁石の酸洗浄方法および前記方法によって酸洗浄された希土類磁石 | |
JP4696347B2 (ja) | R−Fe−B系永久磁石の電気めっき方法 | |
JP5516092B2 (ja) | 耐食性磁石およびその製造方法 | |
JP4949994B2 (ja) | 複数の金属層を有する金属板から該金属層を剥離する方法 | |
JP2968605B2 (ja) | 永久磁石の製造方法 | |
JP3740551B2 (ja) | 永久磁石の製造方法 | |
JP2009088206A (ja) | 希土類磁石の製造方法 | |
JP2617118B2 (ja) | 耐食性に優れた希土類永久磁石とその製造方法 | |
JP4591729B2 (ja) | R−t−b系永久磁石の表面処理方法 | |
JP3650141B2 (ja) | 永久磁石 | |
JP3734479B2 (ja) | 希土類磁石の製造方法 | |
JP3796567B2 (ja) | R−Fe−B系永久磁石及びその製造方法 | |
JP2004289021A (ja) | 希土類磁石の製造方法 | |
JP2006070280A (ja) | めっき方法 | |
JPH06318512A (ja) | 永久磁石およびその製造方法 | |
JP2023010291A (ja) | 希土類焼結磁石のリサイクル方法 | |
JPH0756849B2 (ja) | 耐食性希土類磁石の製造方法 | |
JPH069168B2 (ja) | 高耐食性希土類永久磁石 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20141027 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150825 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150907 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5812016 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |