JP4591729B2 - Ｒ−ｔ−ｂ系永久磁石の表面処理方法 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は回転機（モータ、発電機）、アクチュエータ、スピーカまたはポンプ等に用いられる耐食性の良好なＲ−Ｔ−Ｂ系永久磁石およびその表面処理方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
希土類永久磁石のうち、Ｒ２Ｔ１４Ｂ型金属間化合物を主相とするＲ−Ｔ−Ｂ系系希土類焼結磁石（ＲはＹを含む希土類元素の１種または２種以上であり、ＴはＦｅまたはＦｅとＣｏである）は高い磁気特性を有しており、フェライト磁石に次いでコストパフォーマンスに優れることから、近年製造量が大きく伸びている。
しかしながら、その主要成分として希土類元素および鉄を多量に含有するために腐食しやすいという欠点を有しており、耐食性を向上するための種々の表面処理が施されて実用に供されている。
表面処理膜として、樹脂コーティング、クロメート膜あるいは金属めっきなどが採用されているが、特にＮｉめっきに代表される金属皮膜をめっきする方法が耐食性および耐磨耗性等に優れており多用されている。
例えば、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石体に金属皮膜をめっきする場合、表面の酸化物や汚れ等を除去するために前処理を行う必要がある。この前処理として塩酸または硫酸に浸漬する方法が一般的である。また、前記酸に浸漬後電解洗浄等により脱スマット処理を行うか、あるいは前処理として前記酸に浸漬する処理を行わずに電解洗浄等により脱スマット処理を行う方法も提案されている。これらの前処理はいずれも前記磁石体表面に付着しているスマットを排除し、金属被膜と前記磁石体との密着力を向上させることを目的としている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、Ｒ−Ｔ−Ｂ系永久磁石体のめっき前処理として、塩酸または硫酸に浸漬する方法を採用した場合、希土類リッチ相等からなる粒界相を選択的に深く腐食してしまうという問題を発生する。深く腐食された粒界相はその後めっき液によりさらに深く腐食される。このようにして形成され、拡大化した腐食痕上では金属皮膜と前記磁石体とが十分に密着しないので、最終的に得られるめっきしたＲ−Ｔ−Ｂ系永久磁石においてピンホールになったりあるいは金属皮膜が局部的に前記磁石体から剥離した「ふくれ」と呼ばれるめっき欠陥を発生し、耐食性の劣化を招いてしまうという問題がある。
次に、硫酸と硝酸塩水溶液との混合酸洗液を用いてめっき前処理を行うＲ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石の表面処理方法（特開平6-57480号公報）が提案されている。しかし、この提案に記載の条件でめっき前処理を行うと、最終的に得られるめっきしたＲ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石において主相部分にもエッチングピットが形成されるが、粒界相が優先的に深く腐食される傾向が顕著になるために耐食性が大きく劣化することが本発明者らの検討から明らかになった。また、硫酸を多く含むめっき前処理液を採用すると、めっき前処理液槽からめっきに供する磁石体を取り出した時点で瞬時に表面が黒く酸化され、その酸化部分が密着不良等のめっき欠陥品を発生する要因になることがわかった。
次に、電解洗浄等により前記磁石体表面のスマットを除去する方法によれば、粒界相は深く腐食されない反面、めっきに供する磁石体表面が非常に滑らかになるため、金属皮膜の密着力が顕著に低下して耐食性を向上することが困難であるという問題がある。
【０００４】
したがって、本発明の課題は、従来と同等以上の磁気特性を保持しつつ、従来に比べて金属皮膜とＲ−Ｔ−Ｂ系永久磁石体との密着性の均一性を高めて良好な耐食性を付与したＲ−Ｔ−Ｂ系永久磁石およびその表面処理方法を提供することである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、従来に比べてＲ−Ｔ−Ｂ系永久磁石体と金属皮膜との密着性の均一性を向上して、すなわち、従来に比べて金属皮膜とＲ−Ｔ−Ｂ系永久磁石体とが強固に密着するアンカーを主相および粒界相に略均一に形成するとともに腐食の起点となる粒界相のアンカーを浅く形成して、ピンホールやふくれの発生を抑えたＲ−Ｔ−Ｂ系永久磁石を得られるめっき前処理条件を鋭意検討した。その検討の過程で、硫酸または塩酸を含むめっき前処理液を用いると粒界相を必要以上に深くエッチングしてしまい、最終的にその深くエッチングされた部分がめっき不良部分となる傾向が顕著であることを発見した。そして、そのめっき不良（欠陥）部分の発生を抑えるには、下記のめっき前処理液を採用することが有効であることがわかった。
上記課題を解決した本発明は、Ｒ２Ｔ１４Ｂ型金属間化合物（ＲはＹを含む希土類元素の１種または２種以上であり、ＴはＦｅまたはＦｅとＣｏである）を主相とするＲ−Ｔ−Ｂ系永久磁石体を硝酸塩1〜100ｇ/リットルおよび硝酸0.05〜10vol.%からなる混合酸性液によりめっき前処理後、めっきを行うＲ−Ｔ−Ｂ系永久磁石の表面処理方法である。
前記めっき前処理液における硝酸塩の濃度は1〜100ｇ/リットルが好ましい。硝酸塩の濃度が1ｇ/リットル未満では主相に十分なエッチングピットを形成できず、最終的に得られるＲ−Ｔ−Ｂ系永久磁石のめっきの密着力が低くなり、耐食性の向上が困難である。硝酸塩の濃度が100ｇ/リットルを超えるとめっき前処理後の磁石体表面に変色部分を発生する現象が顕著になり、その変色部分がめっき不良部分の発生を誘発する。
次に、前記めっき前処理液における硝酸の濃度は0.05〜10vol.％が好ましい。硝酸の濃度が0.05vol%未満では前記磁石体表面の汚れを清浄化する作用に乏しく、かつ活性化が困難である。硝酸濃度が10vol.超では金属皮膜と前記磁石体との密着力の低下が顕著になり、耐食性が大きく低下する。
【０００６】
また本発明は、Ｒ２Ｔ１４Ｂ型金属間化合物（ＲはＹを含む希土類元素の１種または２種以上であり、ＴはＦｅまたはＦｅとＣｏである）を主相とするＲ−Ｔ−系永久磁石体表面にめっきを被覆してなるＲ−Ｔ−Ｂ系永久磁石であって、
前記Ｒ−Ｔ−Ｂ系永久磁石の断面組織におけるめっき層とＲ−Ｔ−Ｂ系永久磁石体とが形成する境界に沿って100μｍの直線を引いたとき、その直線に沿う主相部に形成されたエッチングピットの個数がその直線に沿う粒界相部に形成されたエッチングピットの個数よりも多いＲ−Ｔ−Ｂ系永久磁石である。
本発明の永久磁石では、腐食の起点となる粒界相を深くエッチングしたピットの形成を抑えるとともに比較的浅い主相および粒界相のエッチングピットを従来に比べて略均一な間隔で形成した。そして、その比較的浅くかつ略均一な間隔で形成されたエッチングピットにめっきが入り込んでアンカーが形成され、そのアンカー効果によって金属皮膜と前記磁石体との密着性の均一性が向上し、従来に比べて耐食性を顕著に向上したものである。
本発明に用いるめっきとして、Ｒ−Ｔ−Ｂ系永久磁石体に耐食性を付与可能な公知の金属または合金の電解および／または無電解によるめっきを採用することができる。実用上、Ｎｉ，Ｎｉ−Ｐ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ｃｒ，Ｓｎのいずれかの単層皮膜あるいはこれらの２種以上の多層皮膜からなるめっきを用いることが好ましい。さらに必要に応じて、前記めっき層の上に電着塗装、樹脂塗装またはクロメート処理（＋アルカリ処理）を施してもよく、耐食性をさらに向上することができる。
また、本発明の永久磁石の断面組織において観察されるエッチングピットは最大直径0.1〜10μｍ、平均深さ0.1〜5μｍのものである。そして、その断面組織において磁石体とめっき層との境界に沿って100μｍの直線を引いたとき、その直線に沿う主相部に形成されたエッチングピットが100μｍあたり5個以上であり、その直線に沿う粒界相部に形成されたエッチングピットが100μｍあたり5個未満になるようにめっき前処理条件を適宜選択することが耐食性を顕著に向上するために好ましい。
【０００７】
また本発明は、Ｒ２Ｔ１４Ｂ型金属間化合物（ＲはＹを含む希土類元素の１種または２種以上であり、ＴはＦｅまたはＦｅとＣｏである）を主相とするＲ−Ｔ−Ｂ系永久磁石体表面に３層Ｎｉめっきを被覆してなるＲ−Ｔ−Ｂ系永久磁石であって、
前記Ｒ−Ｔ−Ｂ系永久磁石の断面組織におけるＮｉめっき層とＲ−Ｔ−Ｂ系永久磁石体とが形成する境界に沿って100μｍの直線を引いたとき、その直線に沿う主相部に形成されたエッチングピットの個数がその直線に沿う粒界相部に形成されたエッチングピットの個数よりも多いＲ−Ｔ−Ｂ系永久磁石であり、実用性に富んでいる。
【０００８】
また本発明は、Ｒ２Ｔ１４Ｂ型金属間化合物（ＲはＹを含む希土類元素の１種または２種以上であり、ＴはＦｅまたはＦｅとＣｏである）を主相とするＲ−Ｔ−Ｂ系永久磁石体表面にＮｉめっき、Ｃｕめっき、Ｎｉめっきからなる３層めっきを被覆してなるＲ−Ｔ−Ｂ系永久磁石であって、
前記Ｒ−Ｔ−Ｂ系永久磁石の断面組織におけるＮｉめっき層とＲ−Ｔ−Ｂ系永久磁石体とが形成する境界に沿って100μｍの直線を引いたとき、その直線に沿う主相部に形成されたエッチングピットの個数がその直線に沿う粒界相部に形成されたエッチングピットの個数よりも多いＲ−Ｔ−Ｂ系永久磁石であり、実用性に富んでいる。
【０００９】
次に、めっき前処理条件について説明する。
めっき前処理（酸洗処理）用の混合酸性液の浴温度は特に限定しないが、経済的な面から室温から50℃程度が望ましい。めっき前処理は所定寸法に加工したＲ−Ｔ−Ｂ系永久磁石体をバレル等の容器に入れた後、前記混合酸性液の浴に浸漬した状態とし、前記磁石体を動かしながら酸洗処理を行うことが好ましい。あるいは網状容器に前記磁石体を入れた後、前記混合酸性液の浴に浸漬した状態とし、次に超音波あるいはエアーバブリングすることにより前記混合酸性液の浴を攪拌させるようにしてもよい。めっき前処理時間は30秒から10分程度が効率およびめっき品質の点から望ましいが、必要に応じて延長可能である。
めっき前処理後は純水またはイオン交換水などにより十分に洗浄し、その後各種めっきを行う。
【００１０】
本発明に用いる硝酸塩として、例えばＮａＮＯ３、ＫＮＯ３、Ｃｕ（ ＮＯ３）２、Ｃａ（ ＮＯ３）２、Ｂａ（ ＮＯ３）２、Ａｇ ＮＯ３、Ｎｉ（ ＮＯ３）２、Ｍｇ（ ＮＯ３）２、 Ｍｎ（ ＮＯ３）２のいずれかが実用性に富んでいるが、これらに限定されるものではなく公知の硝酸塩を用いることができる。
【００１１】
Ｒ２Ｔ１４Ｂ型金属間化合物を主相とするＲ−Ｔ−Ｂ系希土類焼結磁石体に適用する場合は、主要成分のＲとＢとＴとの総計を１００重量％として、Ｒ：２７〜３４％、Ｂ：０．５〜２％、残部Ｔとすることが好ましい。以下、％と単に記しているのは重量％を示す。さらに、前記Ｒ−Ｔ−Ｂ系希土類焼結磁石体の総重量を１００％として、不可避不純物成分として０．６％以下の酸素、０．２％以下の炭素、０．０８％以下の窒素、０．０２％以下の水素、０．２％以下のＣａの含有が許容される。
Ｒとして（Ｎｄ，Ｄｙ）またはＤｙまたはＰｒまたは（Ｄｙ，Ｐｒ）または（Ｎｄ，Ｄｙ、Ｐｒ）が実用上選択される。Ｒ量は２７〜３４％が好ましい。 Ｒ量が２７％未満では保磁力ｉＨｃが大きく低下し、３４％を超えると残留磁束密度Ｂｒが大きく低下する。
Ｂ量は０．５〜２％が好ましく、０．８〜１．５％がより好ましい。Ｂ量が０．５％未満では十分なｉＨｃが得られず、２％超ではＢｒが大きく低下する。
磁気特性を改善するために、Ｎｂ，Ａｌ，Ｃｏ，Ｇａ，Ｃｕの１種または２種以上を適量含有することが好ましい。
Ｎｂの含有量は０．１〜２％とされる。Ｎｂの添加により焼結過程でＮｂのほう化物が生成し、結晶粒の異常粒成長を抑制する。Ｎｂ含有量が０．１％未満では添加効果が認められず、２％超ではＮｂのほう化物の生成量が多くなりＢｒが大きく低下する。
Ａｌの含有量は０．０２〜２％とされる。Ａｌ含有量が０．０２％未満では添加効果が認められず、２％超ではＢｒが急激に低下する。
Ｃｏ含有量は０．３〜５％とされる。Ｃｏ含有量が０．３％未満ではキュリー点、Ｎｉめっきとの密着性の向上効果が実用上得られず、５％超ではＢｒ、ｉＨｃが低下する。
Ｇａ含有量は０．０１〜０．５％とされる。Ｇａ含有量が０．０１％未満ではｉＨｃの向上効果が認められず、０．５％超ではＢｒの低下が顕著になる。
Ｃｕ含有量は０．０１〜１％とされる。Ｃｕの微量添加はｉＨｃおよび耐食性の向上をもたらすが、Ｃｕ含有量が１％を超えると添加効果は飽和し、０．０１％未満では添加効果が認められない。
【００１２】
【発明の実施の形態】
以下、実施例により本発明を詳細に説明するが、それら実施例により本発明が限定されるものではない。
（実施例1）
主要成分組成が３０％Ｎｄ−６８．９％Ｆｅ−１．１％Ｂで示されるＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石体を加工して縦50ｍｍ×横30ｍｍ×厚み10ｍｍの寸法を有する直方体形状の磁石体を作製した。この磁石体を硝酸２vol.%の酸性水溶液中に２分間含浸後、水洗した。この含浸処理は前記磁石体の表面に存在する酸化物、Ｎｄリッチ相などを除去して表面を清浄化するために行う。
次に、ＮａＮＯ３ 10ｇ/リットルおよび硝酸0.5vol.%の混合酸性水溶液中に、表面を清浄化した前記磁石体を１分間浸漬した。続いて、純水で水洗後、３層のＮｉめっきを被覆した。３層Ｎｉめっきの被覆条件を下記に記す。
［第１層めっき］
めっき浴組成：硫酸ニッケル：240ｇ/リットル、塩化ニッケル：40ｇ/リットル、ホウ酸：30ｇ/リットル。浴温：50℃、電流密度：1A/ｄｍ2 、Ｎｉめっき時間：80分、平均めっき厚み：8μｍ。第１層のＮｉめっき処理後、水洗して第２めっき処理へ。
［第２層めっき］
めっき浴組成：硫酸ニッケル：250ｇ/リットル、塩化ニッケル：40ｇ/リットル、ホウ酸：30ｇ/リットル、サッカリン（一次光沢剤）：1.5ｇ/リットル。浴温：50℃、電流密度：1A/ｄｍ2 、Ｎｉめっき時間：80分、平均めっき厚み：8μｍ。第２層のＮｉめっき処理後、水洗して第３めっき処理へ。
［第３層めっき］
めっき浴組成：硫酸ニッケル：270ｇ/リットル、塩化ニッケル：40ｇ/リットル、ホウ酸：30ｇ/リットル、サッカリン（一次光沢剤）：1.5ｇ/リットル、ブチンジオール（二次光沢剤）：適量。浴温：50℃、電流密度：1A/ｄｍ2 、Ｎｉめっき時間：80分、平均めっき厚み：8μｍ。
前記条件で３層Ｎｉめっきを被覆後水洗し、続いて乾燥して本発明のＲ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石を得た。この３層Ｎｉめっき被覆磁石を試験片として、下記の密着性試験、耐食性試験および断面組織におけるエッチングピットの発生状況の評価を行った。
めっきの密着性試験はピールテストにより評価した。すなわち、試験片を縦4ｍｍ×横50ｍｍのサイズに切断したものを50個作製し、それら50個の各々においてめっきを長辺方向に沿って剥離するのに要する力をフォースゲージで求めた。そして求めた50個の測定値の平均を表1に示す。
耐食性試験は、P.C.T.試験（温度120℃、相対湿度100%R.H.、2.03×10５Pa（2気圧）で24時間放置）後室温の大気中に戻した状態の試験片20個の外観を観察して評価した。
断面組織は、前記試験片を埋め込んだ顕微鏡観察用試料を作製後、走査型電子顕微鏡によりその断面組織を撮影して評価した。図１（ａ）は、前記本発明の永久磁石の断面組織における代表的なエッチングピットの発生状況を示している。図１（ｂ）は図１（ａ）に対応した模式図である。図１（ｂ）において、２１が主相部表面に形成されたエッチングピット、２２が粒界相部表面に形成されたエッチングピット、２３が３層Ｎｉめっき層である。表１に示す100μｍあたりのエッチングピットの個数は以下のようにして求めた。まず、図１（ａ）に例示する如くの断面組織写真を、任意の10視野分について撮影した。続いて各写真において、Ｎｉめっき層とＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石体との境界に沿って100μｍの直線を引き、その直線に沿って存在する主相部表面および粒界相部表面に形成されたエッチングピットの個数を測定した。なお、図１（ａ）に例示する如く、各エッチングピットにはＮｉめっきが入り込んでアンカーが形成されている。このようにして10視野分の断面組織写真における、100μｍの直線に沿う主相部および粒界相部に形成されたエッチングピットの個数を求め、それらの平均値を表１に示す。
次に、前記３相Ｎｉめっき中のＳ含有量を分析したところ、第１Ｎｉめっき層のＳ＝0％、第２Ｎｉめっき層のＳ＝0.001％および第３Ｎｉめっき層のＳ＝0.003％であり、Ｓ含有量の増加とともにＮｉめっき相が平滑化する傾向が認められた。
【００１３】
（比較例１）
比較のため、実施例１と同様の縦50ｍｍ×横30ｍｍ×厚み10ｍｍの寸法を有する直方体形状の磁石体を用い、硝酸2vol.%の酸性水溶液中に浸漬して酸洗い後、水洗した。続いて、硫酸2vol.%の液でめっき前処理（エッチング）を行い、その後水洗した。次いで、実施例１と同様の３層Ｎｉめっきを被覆したものを作製し、以降は実施例１と同様の評価を行った。結果を表１に示す。
【００１４】
（比較例２）
比較のため、実施例１と同様の縦50ｍｍ×横30ｍｍ×厚み10ｍｍの寸法を有する直方体形状の磁石体を用い、電解洗浄による前処理を行った。すなわち、Ｎａ（ＯＨ）30g/リットル,Ｎａ２ＣＯ３20g/リットルおよびオルソけい酸ナトリウム50g/リットルの水溶液中で、前記磁石体を陰極とし、1A/dｍ２の電流密度で2分間通電処理を行った。その後、純水により十分に水洗した。続いて、実施例１と同様にして３層Ｎｉめっきを被覆後、このものにより実施例１と同様の評価を行った。結果を表１に示す。
【００１５】
（比較例３）
比較のため、実施例１と同様の縦50ｍｍ×横30ｍｍ×厚み10ｍｍの寸法を有する直方体形状の磁石体を用い、ＮａＮＯ３ 20ｇ/リットルおよび硫酸3vol.%の混合酸性水溶液中に１分間浸漬した。続いて水洗後、実施例１と同様にして３層Ｎｉめっきを被覆後、このものにより実施例１と同様の評価を行った。結果を表１に示す。
【００１６】
（実施例２）
実施例１の条件でめっき前処理を行ったＲ−Ｆｅ−Ｂ系磁石体を準備した。次に、下記のめっき条件に従い、前記磁石体表面に順次、電解Ｎｉめっき、電解Ｃｕめっき、電解Ｎｉめっきを被覆した。その後は実施例１と同様にして本発明のＲ−Ｔ−Ｂ系永久磁石を得、評価した。結果を表１に示す。
［第１層めっき］
めっき浴組成：硫酸ニッケル：240ｇ/リットル、塩化ニッケル：40ｇ/リットル、ホウ酸：30ｇ/リットル。浴温：50℃、電流密度：1A/ｄｍ2 、Ｎｉめっき時間：80分、平均めっき厚み：8μｍ。第１層のＮｉめっき処理後、水洗して第２めっき処理へ。
［第２層めっき］
ピロリン酸Ｃｕ浴による電解Ｃｕめっき処理（平均Ｃｕめっき厚み：8μｍ ）後、水洗して第３めっき処理へ。
［第３層めっき］
めっき浴組成：硫酸ニッケル：270ｇ/リットル、塩化ニッケル：40ｇ/リットル、ホウ酸：30ｇ/リットル、サッカリン（一次光沢剤）：1.5ｇ/リットル、ブチンジオール（二次光沢剤）：適量。浴温：50℃、電流密度：1A/ｄｍ2 、Ｎｉめっき時間：80分、
平均めっき厚み：8μｍ。
【００１７】
（実施例３）
実施例１の３層Ｎｉめっき処理後水洗したものを、引き続いてＣｒＯ３10g/リットル、50℃の水溶液中に5分間浸漬した後水洗した。次いで100℃で5分間乾燥した。
このものは表面に平均膜厚7μｍのクロメート被膜が形成されており、実施例１のものよりもさらに耐食性が向上していた。
【００１８】
（実施例４）
実施例２のＮｉめっき、Ｃｕめっき、Ｎｉめっきを被覆後水洗したものを、引き続いてＣｒＯ３10g/リットル、50℃の水溶液中に5分間浸漬後水洗した。次いで100℃で5分間乾燥した。
次に、Ｎａ２Ｃｒ２Ｏ７・２Ｈ２Ｏ10g/リットル、50℃の水溶液中で5分間浸漬後水洗し、次いで100℃で5分間乾燥した。このものは表面に平均膜厚7μｍのクロメート被膜が形成されておりかつこのクロメート被膜表面が前記アルカリ溶液により処理された結果有機物の付着がほとんどない清浄化した表面状態になっていた。このため、実施例１のものよりもさらに耐食性が向上しているとともに接着性に富んだ表面になっており、ボイスコイルモータ、リニアモータあるいはスピーカに代表される、強磁性ヨークに永久磁石を接着する磁石応用製品の用途に好適である。
【００１９】
【表１】
【００２０】
表１の実施例１，２と比較例３との比較から、１００μｍの長さあたりで評価した、主相部に形成されたエッチングピットの個数が、粒界相部に形成されたエッチングピットの個数よりも多いときに、Ｐ．Ｃ．Ｔ．試験における良好な耐食性を実現できていることがわかる。
また、実施例１，２および比較例１，３のいずれにおいても主相部に形成されたエッチングピットの最大深さは１〜２μｍであり優位差は認められなかった。しかし、粒界相部に形成されたエッチングピットの最大深さは、実施例１，２および比較例２の場合で１〜２μｍと浅いのに対して、比較例１，３の場合は３〜６μｍと深かった。このために、比較例１，３の密着力が実施例１，２に比べ大きくなっているが、Ｐ．Ｃ．Ｔ試験の耐食性が悪くなっていると判断される。また、実施例１、２のものは各比較例のものと同等以上の磁気特性を有していた。
【００２１】
上記実施例ではめっきの膜厚が8μｍの場合を記載したが、各めっき層の膜厚を1〜20μｍ、より好ましくは2〜10μｍとすることが耐食性を向上するために好ましい。
【００２２】
本発明はＲ−Ｔ−Ｂ系焼結磁石に限定されず、Ｒ２Ｔ１４Ｂ型金属間化合物を主相とし、かつ平均結晶粒径が0.01〜0.5μｍであるＲ−Ｔ−Ｂ系温間加工磁石体にめっきを被覆したものを包含する。あるいは、Ｒ２Ｔ１４Ｂ型金属間化合物を主相とする組成に調整した鋳造合金に熱間加工を施して異方性を付与したＲ−Ｔ−Ｂ系永久磁石体にめっきを施したものを包含する。
【００２３】
【発明の効果】
以上記述の通り、本発明によれば、従来と同等以上の磁気特性を保持しつつ、従来に比べて金属皮膜とＲ−Ｔ−Ｂ系永久磁石体との密着性の均一性を高めて良好な耐食性を付与したＲ−Ｔ−Ｂ系永久磁石およびその表面処理方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の永久磁石の断面を走査型電子顕微鏡により撮影した写真の一例を示す（ａ）、（ａ）に対応する模式図（ｂ）である。
【図２】本発明の永久磁石に形成されたエッチングピットの状況を模式的に説明する要部断面図（ａ）、 比較例の永久磁石に形成されたエッチングピットの状況を模式的に説明する要部断面図（ｂ）である。
【符号の説明】
1,11,21 主相部に形成されたエッチングピット、
2,12,22 粒界相部に形成されたエッチングピット、3,13,23 めっき。
【発明の属する技術分野】
本発明は回転機（モータ、発電機）、アクチュエータ、スピーカまたはポンプ等に用いられる耐食性の良好なＲ−Ｔ−Ｂ系永久磁石およびその表面処理方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
希土類永久磁石のうち、Ｒ２Ｔ１４Ｂ型金属間化合物を主相とするＲ−Ｔ−Ｂ系系希土類焼結磁石（ＲはＹを含む希土類元素の１種または２種以上であり、ＴはＦｅまたはＦｅとＣｏである）は高い磁気特性を有しており、フェライト磁石に次いでコストパフォーマンスに優れることから、近年製造量が大きく伸びている。
しかしながら、その主要成分として希土類元素および鉄を多量に含有するために腐食しやすいという欠点を有しており、耐食性を向上するための種々の表面処理が施されて実用に供されている。
表面処理膜として、樹脂コーティング、クロメート膜あるいは金属めっきなどが採用されているが、特にＮｉめっきに代表される金属皮膜をめっきする方法が耐食性および耐磨耗性等に優れており多用されている。
例えば、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石体に金属皮膜をめっきする場合、表面の酸化物や汚れ等を除去するために前処理を行う必要がある。この前処理として塩酸または硫酸に浸漬する方法が一般的である。また、前記酸に浸漬後電解洗浄等により脱スマット処理を行うか、あるいは前処理として前記酸に浸漬する処理を行わずに電解洗浄等により脱スマット処理を行う方法も提案されている。これらの前処理はいずれも前記磁石体表面に付着しているスマットを排除し、金属被膜と前記磁石体との密着力を向上させることを目的としている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、Ｒ−Ｔ−Ｂ系永久磁石体のめっき前処理として、塩酸または硫酸に浸漬する方法を採用した場合、希土類リッチ相等からなる粒界相を選択的に深く腐食してしまうという問題を発生する。深く腐食された粒界相はその後めっき液によりさらに深く腐食される。このようにして形成され、拡大化した腐食痕上では金属皮膜と前記磁石体とが十分に密着しないので、最終的に得られるめっきしたＲ−Ｔ−Ｂ系永久磁石においてピンホールになったりあるいは金属皮膜が局部的に前記磁石体から剥離した「ふくれ」と呼ばれるめっき欠陥を発生し、耐食性の劣化を招いてしまうという問題がある。
次に、硫酸と硝酸塩水溶液との混合酸洗液を用いてめっき前処理を行うＲ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石の表面処理方法（特開平6-57480号公報）が提案されている。しかし、この提案に記載の条件でめっき前処理を行うと、最終的に得られるめっきしたＲ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石において主相部分にもエッチングピットが形成されるが、粒界相が優先的に深く腐食される傾向が顕著になるために耐食性が大きく劣化することが本発明者らの検討から明らかになった。また、硫酸を多く含むめっき前処理液を採用すると、めっき前処理液槽からめっきに供する磁石体を取り出した時点で瞬時に表面が黒く酸化され、その酸化部分が密着不良等のめっき欠陥品を発生する要因になることがわかった。
次に、電解洗浄等により前記磁石体表面のスマットを除去する方法によれば、粒界相は深く腐食されない反面、めっきに供する磁石体表面が非常に滑らかになるため、金属皮膜の密着力が顕著に低下して耐食性を向上することが困難であるという問題がある。
【０００４】
したがって、本発明の課題は、従来と同等以上の磁気特性を保持しつつ、従来に比べて金属皮膜とＲ−Ｔ−Ｂ系永久磁石体との密着性の均一性を高めて良好な耐食性を付与したＲ−Ｔ−Ｂ系永久磁石およびその表面処理方法を提供することである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、従来に比べてＲ−Ｔ−Ｂ系永久磁石体と金属皮膜との密着性の均一性を向上して、すなわち、従来に比べて金属皮膜とＲ−Ｔ−Ｂ系永久磁石体とが強固に密着するアンカーを主相および粒界相に略均一に形成するとともに腐食の起点となる粒界相のアンカーを浅く形成して、ピンホールやふくれの発生を抑えたＲ−Ｔ−Ｂ系永久磁石を得られるめっき前処理条件を鋭意検討した。その検討の過程で、硫酸または塩酸を含むめっき前処理液を用いると粒界相を必要以上に深くエッチングしてしまい、最終的にその深くエッチングされた部分がめっき不良部分となる傾向が顕著であることを発見した。そして、そのめっき不良（欠陥）部分の発生を抑えるには、下記のめっき前処理液を採用することが有効であることがわかった。
上記課題を解決した本発明は、Ｒ２Ｔ１４Ｂ型金属間化合物（ＲはＹを含む希土類元素の１種または２種以上であり、ＴはＦｅまたはＦｅとＣｏである）を主相とするＲ−Ｔ−Ｂ系永久磁石体を硝酸塩1〜100ｇ/リットルおよび硝酸0.05〜10vol.%からなる混合酸性液によりめっき前処理後、めっきを行うＲ−Ｔ−Ｂ系永久磁石の表面処理方法である。
前記めっき前処理液における硝酸塩の濃度は1〜100ｇ/リットルが好ましい。硝酸塩の濃度が1ｇ/リットル未満では主相に十分なエッチングピットを形成できず、最終的に得られるＲ−Ｔ−Ｂ系永久磁石のめっきの密着力が低くなり、耐食性の向上が困難である。硝酸塩の濃度が100ｇ/リットルを超えるとめっき前処理後の磁石体表面に変色部分を発生する現象が顕著になり、その変色部分がめっき不良部分の発生を誘発する。
次に、前記めっき前処理液における硝酸の濃度は0.05〜10vol.％が好ましい。硝酸の濃度が0.05vol%未満では前記磁石体表面の汚れを清浄化する作用に乏しく、かつ活性化が困難である。硝酸濃度が10vol.超では金属皮膜と前記磁石体との密着力の低下が顕著になり、耐食性が大きく低下する。
【０００６】
また本発明は、Ｒ２Ｔ１４Ｂ型金属間化合物（ＲはＹを含む希土類元素の１種または２種以上であり、ＴはＦｅまたはＦｅとＣｏである）を主相とするＲ−Ｔ−系永久磁石体表面にめっきを被覆してなるＲ−Ｔ−Ｂ系永久磁石であって、
前記Ｒ−Ｔ−Ｂ系永久磁石の断面組織におけるめっき層とＲ−Ｔ−Ｂ系永久磁石体とが形成する境界に沿って100μｍの直線を引いたとき、その直線に沿う主相部に形成されたエッチングピットの個数がその直線に沿う粒界相部に形成されたエッチングピットの個数よりも多いＲ−Ｔ−Ｂ系永久磁石である。
本発明の永久磁石では、腐食の起点となる粒界相を深くエッチングしたピットの形成を抑えるとともに比較的浅い主相および粒界相のエッチングピットを従来に比べて略均一な間隔で形成した。そして、その比較的浅くかつ略均一な間隔で形成されたエッチングピットにめっきが入り込んでアンカーが形成され、そのアンカー効果によって金属皮膜と前記磁石体との密着性の均一性が向上し、従来に比べて耐食性を顕著に向上したものである。
本発明に用いるめっきとして、Ｒ−Ｔ−Ｂ系永久磁石体に耐食性を付与可能な公知の金属または合金の電解および／または無電解によるめっきを採用することができる。実用上、Ｎｉ，Ｎｉ−Ｐ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ｃｒ，Ｓｎのいずれかの単層皮膜あるいはこれらの２種以上の多層皮膜からなるめっきを用いることが好ましい。さらに必要に応じて、前記めっき層の上に電着塗装、樹脂塗装またはクロメート処理（＋アルカリ処理）を施してもよく、耐食性をさらに向上することができる。
また、本発明の永久磁石の断面組織において観察されるエッチングピットは最大直径0.1〜10μｍ、平均深さ0.1〜5μｍのものである。そして、その断面組織において磁石体とめっき層との境界に沿って100μｍの直線を引いたとき、その直線に沿う主相部に形成されたエッチングピットが100μｍあたり5個以上であり、その直線に沿う粒界相部に形成されたエッチングピットが100μｍあたり5個未満になるようにめっき前処理条件を適宜選択することが耐食性を顕著に向上するために好ましい。
【０００７】
また本発明は、Ｒ２Ｔ１４Ｂ型金属間化合物（ＲはＹを含む希土類元素の１種または２種以上であり、ＴはＦｅまたはＦｅとＣｏである）を主相とするＲ−Ｔ−Ｂ系永久磁石体表面に３層Ｎｉめっきを被覆してなるＲ−Ｔ−Ｂ系永久磁石であって、
前記Ｒ−Ｔ−Ｂ系永久磁石の断面組織におけるＮｉめっき層とＲ−Ｔ−Ｂ系永久磁石体とが形成する境界に沿って100μｍの直線を引いたとき、その直線に沿う主相部に形成されたエッチングピットの個数がその直線に沿う粒界相部に形成されたエッチングピットの個数よりも多いＲ−Ｔ−Ｂ系永久磁石であり、実用性に富んでいる。
【０００８】
また本発明は、Ｒ２Ｔ１４Ｂ型金属間化合物（ＲはＹを含む希土類元素の１種または２種以上であり、ＴはＦｅまたはＦｅとＣｏである）を主相とするＲ−Ｔ−Ｂ系永久磁石体表面にＮｉめっき、Ｃｕめっき、Ｎｉめっきからなる３層めっきを被覆してなるＲ−Ｔ−Ｂ系永久磁石であって、
前記Ｒ−Ｔ−Ｂ系永久磁石の断面組織におけるＮｉめっき層とＲ−Ｔ−Ｂ系永久磁石体とが形成する境界に沿って100μｍの直線を引いたとき、その直線に沿う主相部に形成されたエッチングピットの個数がその直線に沿う粒界相部に形成されたエッチングピットの個数よりも多いＲ−Ｔ−Ｂ系永久磁石であり、実用性に富んでいる。
【０００９】
次に、めっき前処理条件について説明する。
めっき前処理（酸洗処理）用の混合酸性液の浴温度は特に限定しないが、経済的な面から室温から50℃程度が望ましい。めっき前処理は所定寸法に加工したＲ−Ｔ−Ｂ系永久磁石体をバレル等の容器に入れた後、前記混合酸性液の浴に浸漬した状態とし、前記磁石体を動かしながら酸洗処理を行うことが好ましい。あるいは網状容器に前記磁石体を入れた後、前記混合酸性液の浴に浸漬した状態とし、次に超音波あるいはエアーバブリングすることにより前記混合酸性液の浴を攪拌させるようにしてもよい。めっき前処理時間は30秒から10分程度が効率およびめっき品質の点から望ましいが、必要に応じて延長可能である。
めっき前処理後は純水またはイオン交換水などにより十分に洗浄し、その後各種めっきを行う。
【００１０】
本発明に用いる硝酸塩として、例えばＮａＮＯ３、ＫＮＯ３、Ｃｕ（ ＮＯ３）２、Ｃａ（ ＮＯ３）２、Ｂａ（ ＮＯ３）２、Ａｇ ＮＯ３、Ｎｉ（ ＮＯ３）２、Ｍｇ（ ＮＯ３）２、 Ｍｎ（ ＮＯ３）２のいずれかが実用性に富んでいるが、これらに限定されるものではなく公知の硝酸塩を用いることができる。
【００１１】
Ｒ２Ｔ１４Ｂ型金属間化合物を主相とするＲ−Ｔ−Ｂ系希土類焼結磁石体に適用する場合は、主要成分のＲとＢとＴとの総計を１００重量％として、Ｒ：２７〜３４％、Ｂ：０．５〜２％、残部Ｔとすることが好ましい。以下、％と単に記しているのは重量％を示す。さらに、前記Ｒ−Ｔ−Ｂ系希土類焼結磁石体の総重量を１００％として、不可避不純物成分として０．６％以下の酸素、０．２％以下の炭素、０．０８％以下の窒素、０．０２％以下の水素、０．２％以下のＣａの含有が許容される。
Ｒとして（Ｎｄ，Ｄｙ）またはＤｙまたはＰｒまたは（Ｄｙ，Ｐｒ）または（Ｎｄ，Ｄｙ、Ｐｒ）が実用上選択される。Ｒ量は２７〜３４％が好ましい。 Ｒ量が２７％未満では保磁力ｉＨｃが大きく低下し、３４％を超えると残留磁束密度Ｂｒが大きく低下する。
Ｂ量は０．５〜２％が好ましく、０．８〜１．５％がより好ましい。Ｂ量が０．５％未満では十分なｉＨｃが得られず、２％超ではＢｒが大きく低下する。
磁気特性を改善するために、Ｎｂ，Ａｌ，Ｃｏ，Ｇａ，Ｃｕの１種または２種以上を適量含有することが好ましい。
Ｎｂの含有量は０．１〜２％とされる。Ｎｂの添加により焼結過程でＮｂのほう化物が生成し、結晶粒の異常粒成長を抑制する。Ｎｂ含有量が０．１％未満では添加効果が認められず、２％超ではＮｂのほう化物の生成量が多くなりＢｒが大きく低下する。
Ａｌの含有量は０．０２〜２％とされる。Ａｌ含有量が０．０２％未満では添加効果が認められず、２％超ではＢｒが急激に低下する。
Ｃｏ含有量は０．３〜５％とされる。Ｃｏ含有量が０．３％未満ではキュリー点、Ｎｉめっきとの密着性の向上効果が実用上得られず、５％超ではＢｒ、ｉＨｃが低下する。
Ｇａ含有量は０．０１〜０．５％とされる。Ｇａ含有量が０．０１％未満ではｉＨｃの向上効果が認められず、０．５％超ではＢｒの低下が顕著になる。
Ｃｕ含有量は０．０１〜１％とされる。Ｃｕの微量添加はｉＨｃおよび耐食性の向上をもたらすが、Ｃｕ含有量が１％を超えると添加効果は飽和し、０．０１％未満では添加効果が認められない。
【００１２】
【発明の実施の形態】
以下、実施例により本発明を詳細に説明するが、それら実施例により本発明が限定されるものではない。
（実施例1）
主要成分組成が３０％Ｎｄ−６８．９％Ｆｅ−１．１％Ｂで示されるＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石体を加工して縦50ｍｍ×横30ｍｍ×厚み10ｍｍの寸法を有する直方体形状の磁石体を作製した。この磁石体を硝酸２vol.%の酸性水溶液中に２分間含浸後、水洗した。この含浸処理は前記磁石体の表面に存在する酸化物、Ｎｄリッチ相などを除去して表面を清浄化するために行う。
次に、ＮａＮＯ３ 10ｇ/リットルおよび硝酸0.5vol.%の混合酸性水溶液中に、表面を清浄化した前記磁石体を１分間浸漬した。続いて、純水で水洗後、３層のＮｉめっきを被覆した。３層Ｎｉめっきの被覆条件を下記に記す。
［第１層めっき］
めっき浴組成：硫酸ニッケル：240ｇ/リットル、塩化ニッケル：40ｇ/リットル、ホウ酸：30ｇ/リットル。浴温：50℃、電流密度：1A/ｄｍ2 、Ｎｉめっき時間：80分、平均めっき厚み：8μｍ。第１層のＮｉめっき処理後、水洗して第２めっき処理へ。
［第２層めっき］
めっき浴組成：硫酸ニッケル：250ｇ/リットル、塩化ニッケル：40ｇ/リットル、ホウ酸：30ｇ/リットル、サッカリン（一次光沢剤）：1.5ｇ/リットル。浴温：50℃、電流密度：1A/ｄｍ2 、Ｎｉめっき時間：80分、平均めっき厚み：8μｍ。第２層のＮｉめっき処理後、水洗して第３めっき処理へ。
［第３層めっき］
めっき浴組成：硫酸ニッケル：270ｇ/リットル、塩化ニッケル：40ｇ/リットル、ホウ酸：30ｇ/リットル、サッカリン（一次光沢剤）：1.5ｇ/リットル、ブチンジオール（二次光沢剤）：適量。浴温：50℃、電流密度：1A/ｄｍ2 、Ｎｉめっき時間：80分、平均めっき厚み：8μｍ。
前記条件で３層Ｎｉめっきを被覆後水洗し、続いて乾燥して本発明のＲ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石を得た。この３層Ｎｉめっき被覆磁石を試験片として、下記の密着性試験、耐食性試験および断面組織におけるエッチングピットの発生状況の評価を行った。
めっきの密着性試験はピールテストにより評価した。すなわち、試験片を縦4ｍｍ×横50ｍｍのサイズに切断したものを50個作製し、それら50個の各々においてめっきを長辺方向に沿って剥離するのに要する力をフォースゲージで求めた。そして求めた50個の測定値の平均を表1に示す。
耐食性試験は、P.C.T.試験（温度120℃、相対湿度100%R.H.、2.03×10５Pa（2気圧）で24時間放置）後室温の大気中に戻した状態の試験片20個の外観を観察して評価した。
断面組織は、前記試験片を埋め込んだ顕微鏡観察用試料を作製後、走査型電子顕微鏡によりその断面組織を撮影して評価した。図１（ａ）は、前記本発明の永久磁石の断面組織における代表的なエッチングピットの発生状況を示している。図１（ｂ）は図１（ａ）に対応した模式図である。図１（ｂ）において、２１が主相部表面に形成されたエッチングピット、２２が粒界相部表面に形成されたエッチングピット、２３が３層Ｎｉめっき層である。表１に示す100μｍあたりのエッチングピットの個数は以下のようにして求めた。まず、図１（ａ）に例示する如くの断面組織写真を、任意の10視野分について撮影した。続いて各写真において、Ｎｉめっき層とＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石体との境界に沿って100μｍの直線を引き、その直線に沿って存在する主相部表面および粒界相部表面に形成されたエッチングピットの個数を測定した。なお、図１（ａ）に例示する如く、各エッチングピットにはＮｉめっきが入り込んでアンカーが形成されている。このようにして10視野分の断面組織写真における、100μｍの直線に沿う主相部および粒界相部に形成されたエッチングピットの個数を求め、それらの平均値を表１に示す。
次に、前記３相Ｎｉめっき中のＳ含有量を分析したところ、第１Ｎｉめっき層のＳ＝0％、第２Ｎｉめっき層のＳ＝0.001％および第３Ｎｉめっき層のＳ＝0.003％であり、Ｓ含有量の増加とともにＮｉめっき相が平滑化する傾向が認められた。
【００１３】
（比較例１）
比較のため、実施例１と同様の縦50ｍｍ×横30ｍｍ×厚み10ｍｍの寸法を有する直方体形状の磁石体を用い、硝酸2vol.%の酸性水溶液中に浸漬して酸洗い後、水洗した。続いて、硫酸2vol.%の液でめっき前処理（エッチング）を行い、その後水洗した。次いで、実施例１と同様の３層Ｎｉめっきを被覆したものを作製し、以降は実施例１と同様の評価を行った。結果を表１に示す。
【００１４】
（比較例２）
比較のため、実施例１と同様の縦50ｍｍ×横30ｍｍ×厚み10ｍｍの寸法を有する直方体形状の磁石体を用い、電解洗浄による前処理を行った。すなわち、Ｎａ（ＯＨ）30g/リットル,Ｎａ２ＣＯ３20g/リットルおよびオルソけい酸ナトリウム50g/リットルの水溶液中で、前記磁石体を陰極とし、1A/dｍ２の電流密度で2分間通電処理を行った。その後、純水により十分に水洗した。続いて、実施例１と同様にして３層Ｎｉめっきを被覆後、このものにより実施例１と同様の評価を行った。結果を表１に示す。
【００１５】
（比較例３）
比較のため、実施例１と同様の縦50ｍｍ×横30ｍｍ×厚み10ｍｍの寸法を有する直方体形状の磁石体を用い、ＮａＮＯ３ 20ｇ/リットルおよび硫酸3vol.%の混合酸性水溶液中に１分間浸漬した。続いて水洗後、実施例１と同様にして３層Ｎｉめっきを被覆後、このものにより実施例１と同様の評価を行った。結果を表１に示す。
【００１６】
（実施例２）
実施例１の条件でめっき前処理を行ったＲ−Ｆｅ−Ｂ系磁石体を準備した。次に、下記のめっき条件に従い、前記磁石体表面に順次、電解Ｎｉめっき、電解Ｃｕめっき、電解Ｎｉめっきを被覆した。その後は実施例１と同様にして本発明のＲ−Ｔ−Ｂ系永久磁石を得、評価した。結果を表１に示す。
［第１層めっき］
めっき浴組成：硫酸ニッケル：240ｇ/リットル、塩化ニッケル：40ｇ/リットル、ホウ酸：30ｇ/リットル。浴温：50℃、電流密度：1A/ｄｍ2 、Ｎｉめっき時間：80分、平均めっき厚み：8μｍ。第１層のＮｉめっき処理後、水洗して第２めっき処理へ。
［第２層めっき］
ピロリン酸Ｃｕ浴による電解Ｃｕめっき処理（平均Ｃｕめっき厚み：8μｍ ）後、水洗して第３めっき処理へ。
［第３層めっき］
めっき浴組成：硫酸ニッケル：270ｇ/リットル、塩化ニッケル：40ｇ/リットル、ホウ酸：30ｇ/リットル、サッカリン（一次光沢剤）：1.5ｇ/リットル、ブチンジオール（二次光沢剤）：適量。浴温：50℃、電流密度：1A/ｄｍ2 、Ｎｉめっき時間：80分、
平均めっき厚み：8μｍ。
【００１７】
（実施例３）
実施例１の３層Ｎｉめっき処理後水洗したものを、引き続いてＣｒＯ３10g/リットル、50℃の水溶液中に5分間浸漬した後水洗した。次いで100℃で5分間乾燥した。
このものは表面に平均膜厚7μｍのクロメート被膜が形成されており、実施例１のものよりもさらに耐食性が向上していた。
【００１８】
（実施例４）
実施例２のＮｉめっき、Ｃｕめっき、Ｎｉめっきを被覆後水洗したものを、引き続いてＣｒＯ３10g/リットル、50℃の水溶液中に5分間浸漬後水洗した。次いで100℃で5分間乾燥した。
次に、Ｎａ２Ｃｒ２Ｏ７・２Ｈ２Ｏ10g/リットル、50℃の水溶液中で5分間浸漬後水洗し、次いで100℃で5分間乾燥した。このものは表面に平均膜厚7μｍのクロメート被膜が形成されておりかつこのクロメート被膜表面が前記アルカリ溶液により処理された結果有機物の付着がほとんどない清浄化した表面状態になっていた。このため、実施例１のものよりもさらに耐食性が向上しているとともに接着性に富んだ表面になっており、ボイスコイルモータ、リニアモータあるいはスピーカに代表される、強磁性ヨークに永久磁石を接着する磁石応用製品の用途に好適である。
【００１９】
【表１】
表１の実施例１，２と比較例３との比較から、１００μｍの長さあたりで評価した、主相部に形成されたエッチングピットの個数が、粒界相部に形成されたエッチングピットの個数よりも多いときに、Ｐ．Ｃ．Ｔ．試験における良好な耐食性を実現できていることがわかる。
また、実施例１，２および比較例１，３のいずれにおいても主相部に形成されたエッチングピットの最大深さは１〜２μｍであり優位差は認められなかった。しかし、粒界相部に形成されたエッチングピットの最大深さは、実施例１，２および比較例２の場合で１〜２μｍと浅いのに対して、比較例１，３の場合は３〜６μｍと深かった。このために、比較例１，３の密着力が実施例１，２に比べ大きくなっているが、Ｐ．Ｃ．Ｔ試験の耐食性が悪くなっていると判断される。また、実施例１、２のものは各比較例のものと同等以上の磁気特性を有していた。
【００２１】
上記実施例ではめっきの膜厚が8μｍの場合を記載したが、各めっき層の膜厚を1〜20μｍ、より好ましくは2〜10μｍとすることが耐食性を向上するために好ましい。
【００２２】
本発明はＲ−Ｔ−Ｂ系焼結磁石に限定されず、Ｒ２Ｔ１４Ｂ型金属間化合物を主相とし、かつ平均結晶粒径が0.01〜0.5μｍであるＲ−Ｔ−Ｂ系温間加工磁石体にめっきを被覆したものを包含する。あるいは、Ｒ２Ｔ１４Ｂ型金属間化合物を主相とする組成に調整した鋳造合金に熱間加工を施して異方性を付与したＲ−Ｔ−Ｂ系永久磁石体にめっきを施したものを包含する。
【００２３】
【発明の効果】
以上記述の通り、本発明によれば、従来と同等以上の磁気特性を保持しつつ、従来に比べて金属皮膜とＲ−Ｔ−Ｂ系永久磁石体との密着性の均一性を高めて良好な耐食性を付与したＲ−Ｔ−Ｂ系永久磁石およびその表面処理方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の永久磁石の断面を走査型電子顕微鏡により撮影した写真の一例を示す（ａ）、（ａ）に対応する模式図（ｂ）である。
【図２】本発明の永久磁石に形成されたエッチングピットの状況を模式的に説明する要部断面図（ａ）、 比較例の永久磁石に形成されたエッチングピットの状況を模式的に説明する要部断面図（ｂ）である。
【符号の説明】
1,11,21 主相部に形成されたエッチングピット、
2,12,22 粒界相部に形成されたエッチングピット、3,13,23 めっき。
Claims (1)
- Ｒ２Ｔ１４Ｂ型金属間化合物（ＲはＹを含む希土類元素の１種または２種以上であり、ＴはＦｅまたはＦｅとＣｏである）を主相とするＲ−Ｔ−Ｂ系永久磁石体表面にめっきを被覆してなるＲ−Ｔ−Ｂ系永久磁石であって、前記Ｒ−Ｔ−Ｂ系永久磁石体を硝酸ナトリウム１〜１００ｇ／リットルおよび硝酸０．０５〜１０ｖｏｌ．％からなる混合酸性水溶液によりめっき前処理後、めっきを行なうことを特徴とするＲ−Ｔ−Ｂ系永久磁石の表面処理方法。
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