JP5779727B2 - 開口部の分布が非均一な研磨物品 - Google Patents
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Description
nは、中心から外側に数えた、小花の順次番号であり;
φは、リファレンス方向と、頭状花序の中心にて始まる極座標系における第n番目の小花の位置ベクトルとの間の角度であり、任意の連続する2つの小花の位置ベクトル間の開度αは一定であり、ヒマワリパターンに関して、137.508°であり;
rは、頭状花序の中心から第n番目の小花の中心までの距離であり;
cは、一定のスケーリングファクタである。
nは、アパーチャパターンの中心から外側に数えた、アパーチャの順次番号であり;
φは、リファレンス方向と、アパーチャパターンの中心にて始まる極座標系における第n番目のアパーチャの位置ベクトルとの間の角度であり、任意の連続する2つのアパーチャの位置ベクトル間の開度は一定の角度αであり;
rは、アパーチャパターンの中心から第n番目のアパーチャの中心までの距離であり;
cは、一定のスケーリングファクタである。
研磨材は、産業で、そして商業消費者によって一般的に用いられ、約小数インチの直径からフィートの直径にまで通常及ぶ種々のサイズがある。本アパーチャパターンは、ほとんどの任意のサイズの研磨材での使用に適しており、種々の標準サイズの研磨ディスクが挙げられる(例えば、3インチから20インチのもの)。実施形態において、研磨物品は、直径が少なくとも約0.25インチ、少なくとも約0.5インチ、少なくとも約1.0インチ、少なくとも約1.5インチ、少なくとも約2.0インチ、少なくとも約2.5インチ、または少なくとも約3.0インチの円形ディスクである。別の実施形態において、研磨物品は、直径が約72インチ以下、約60インチ以下、約48インチ以下、約36インチ以下、約24インチ以下、約20インチ以下、約18インチ以下、約12インチ以下、約10インチ以下、約9インチ以下、約8インチ以下、約7インチ以下、約6インチ以下の円形ディスクである。別の実施形態において、研磨物品は、サイズが、約0.5インチの直径から約48インチの直径、約1.0インチの直径から約20インチの直径、約1.5インチの直径から約12インチの直径の範囲である。
研磨物品のサイズおよび形状が、研磨物品の総ポテンシャル表面積を決定する。例えば、直径が1インチの研磨ディスクは、総ポテンシャル表面積が0.7854in2である。別の例として、2インチ×3インチと測定される矩形の研磨シートは、総ポテンシャル表面積が6in2であろう。
総アパーチャ面積は、削り屑抽出量に影響を及ぼす。通常、アパーチャ面積量が増大するにつれ、削り屑抽出量は増大し、これが、使用中の研磨物品の物質除去率(すなわち「カット」率)を維持する、または時折向上させる傾向がある。しかしながら、アパーチャ面積量の増大はまた、利用可能な研磨面積量を直接的に少なくし、ある点にて物質除去率を低下させることとなる。実施形態において、総アパーチャ面積は、研磨物品の表面上の全アパーチャ面積の合計に等しい。実施形態において、総アパーチャ面積は、研磨物品について、総ポテンシャル表面積の多くとも約0.5%、少なくとも約0.75%、少なくとも約1.0%、少なくとも約1.25%、少なくとも約1.5%、少なくとも約1.75%、少なくとも約2.0%、少なくとも約2.25%、少なくとも約2.5%、または少なくとも約3.0%である。別の実施形態において、総アパーチャ面積は、約50%以下、約45%以下、約40%以下、約35%以下、約30%以下、約25%以下、約20%以下、約15%以下、または約12%以下である。総アパーチャ面積の量は、先の上下限の任意の対を含む範囲内であってよい。別の実施形態において、総アパーチャ面積は、約0.5%から約35%、約1.0%から約25%、約1.5%から約15%、または約2.0%から約10%に及ぶ。特定の実施形態において、総アパーチャ面積の量は、約2.5%から約10%の範囲内である。総アパーチャは、パーセンテージの代わりに離散量と考えられてよい。例えば、研磨5インチディスクは、総アパーチャ面積が約0.0982in2から約9.8175in2に及んでよい。
総研磨表面積は、除去される表面物質の量に影響を及ぼす。通常、総研磨表面積の量が増大するにつれ、除去される表面物質の量は増大する。また、通常、除去される表面物質の量が増大するにつれ、削り屑が蓄積する(build−up)傾向が増大し、かつ表面粗さが増大する傾向にある。実施形態において、被覆研磨材の総研磨表面積は、研磨物品の総ポテンシャル表面(すなわち、アパーチャがなければ、研磨表面積)マイナス総アパーチャ面積(すなわち、全アパーチャ面積の合計)に等しい。従って、総研磨表面積の量は、総ポテンシャル表面積の約50%から約99.5%に及んでよく、これは、所望のアパーチャ面積の量によって決まる。例えば、5インチディスクは、総研磨表面積が約9.8175in2から約19.5368in2に及んでよい。
実施形態において、総アパーチャ面積の、総研磨表面積に対する比は、少なくとも約1:199、少なくとも約1:99、少なくとも約1:65.7;少なくとも約1:49、または少なくとも約1:39である。別の実施形態において、総アパーチャ面積の、総研磨面積に対する比は、約1:1.9以下、約1:2.0以下、約1:2.3以下、約1:3.0以下、約1:3.5以下、約1:4.0以下、約1:5.7以下、または約1:9.0以下である。総アパーチャ面積の、総研磨面積に対する比は、先の上下限の任意の対を含む範囲内であってよい。別の実施形態において、総アパーチャ面積の、総研磨面積に対する比は、約1:99から約1:1.9、約1:65.7から約1:2.0、約1:39.0から約1:3.0、または約1:32.3から約1:5.7に及ぶ。特定の実施形態において、総アパーチャ面積の、総研磨表面積に対する比は、約1:65.7から1:9.0の範囲内である。
アパーチャ数は、アパーチャ面積の総量および総研磨面積量に影響を与える。さらに、アパーチャ数は、研磨物品の表面上のアパーチャカバリッジの密度および分布に影響を及ぼし、これは同様に研磨物品の削り屑抽出効率に直接的に影響を及ぼす。実施形態において、アパーチャ数は、少なくとも約5、少なくとも約10、少なくとも約15;少なくとも約18、または少なくとも約21である。別の実施形態において、アパーチャ数は、約100,000以下;約50,000以下;約10,000以下;約1,000以下;約800以下;約750以下;約600以下;または約550以下である。アパーチャ数は、先の上下限の任意の対を含む範囲内であってよい。別の実施形態において、アパーチャ数は、約21から約10,000;約25から約1,000;約30から約750;または約35から約550の範囲である。特定の実施形態において、アパーチャ数は、約21から約550の範囲である。
開度αの増大または減少は、如何にアパーチャが、時計回り螺旋および反時計回り螺旋のパターン内および形状内に置かれるかに影響を及ぼす。開度は、360°を一定値または可変値で割ったものに等しいので、開度は一定値であってもよく、変化してもよい。開度の小さな変化が、アパーチャパターンを大きく変更し得ることが観察された。図5a、図5bおよび図5cは、開度の値が僅かに異なる葉序パターンを示す。図5aの開度は、137.3°である。図5bの開度は、137.5°である。図5cの開度は、137.6°である。実施形態において、開度は少なくとも約30°、少なくとも約45°、少なくとも約60°;少なくとも約90°、または少なくとも約120°である。別の実施形態において、開度は180°未満であり、約150°以下等である。開度は、先の上下限の任意の対を含む範囲内であってよい。別の実施形態において、開度は、約90°から約179°、約120°から約150°、約130°から約140°、または約135°から約139°に及ぶ。実施形態において、開度は、360°を無理数で割ることによって決定される。特定の実施形態において、開度は、360°を黄金比で割ることによって決定される。特定の実施形態において、開度は、約137°から約138°(約137.5°から約137.6°、約137.50°から約137.51°等)の範囲内である。特定の実施形態において、開度は137.508°である。
研磨物品のジオメトリおよびその意図する使用に従い、アパーチャパターンの全体寸法が決定されてよい。パターンの中心から最も外側のアパーチャまでの距離は、研磨物品の端部と境を接する距離にまで延びてよい。従って、最も外側のアパーチャの端部は、研磨物品の端部にまで延びてもよいし、研磨物品の端部と交差してもよい。あるいは、パターンの中心から最も外側のアパーチャまでの距離が延びて、最も外側のアパーチャの端部と研磨物品の端部との間のスペース量が、アパーチャをなくする距離にまでなってよい。最も外側のアパーチャの端部からの最小距離は、所望の通りに特定されてよい(can specified)。実施形態において、最も外側のアパーチャの端部から、研磨物品の外側の端部までの最小距離は、特定の距離であり、離散的長さとして、またはアパーチャパターンが現れる研磨物品の表面の長さのパーセンテージとして、識別される。実施形態において、最も外側のアパーチャの端部から、研磨物品の外側端部までの最小距離は、少なくとも約ゼロであってよく(すなわち、最も外側のアパーチャの端部は、研磨物品の端部と交差する、または研磨物品の端部と末端を共にする(co−terminus))、研磨物品の表面の長さの約15%に及ぶ。
アパーチャのサイズは、少なくとも部分的に、研磨物品にとって所望されるアパーチャ面積総量によって、決定される。アパーチャのサイズは、パターンの全体を通じて一定であってもよいし、パターン内で変化してもよい。実施形態において、アパーチャのサイズは一定である。別の実施形態において、アパーチャのサイズは、パターンの中心からのアパーチャの距離によって変化する。
スケーリングファクタは、アパーチャパターンの全体サイズおよび寸法に影響を与える。スケーリングファクタは、最も外側のアパーチャの端部が、研磨物品の外側端部の所望の距離内にあるように、調整されてよい。
アパーチャの数およびサイズの考慮と共に、最も近い隣接するアパーチャの中心間の距離が決定されてよい。任意の2つのアパーチャの中心間の距離は、他のアパーチャ設計を考慮した関数である。実施形態において、任意の2つのアパーチャの中心間の最短距離は、決して再現されない(すなわち、穴部から穴部の間隔は、決して同じ正確な距離ではない)。このタイプの間隔は、調節された非対称の例でもある。
アパーチャパターンは、それが全体的に、または連続的に、研磨物品に適用される必要がないことは、明らかであろう。研磨物品の表面の様々な区分または区域に、完全なアパーチャパターンがないように、アパーチャパターンの一部分が適用または省略されてよい。実施形態において、アパーチャパターンの2分の1、3分の1、4分の1、5分の1、6分の1、8分の1、10分の1が、省略されてよい。別の実施形態において、アパーチャパターンは、研磨物品の僅か1つまたは複数の同心環状領域に、適用されてよい。別の実施形態において、アパーチャパターンの個々の弧または螺旋型アームに沿うアパーチャシリーズにおいて通常現れるであろう1つまたは複数のアパーチャを省略することが可能である。実施形態において、アパーチャが第n番目毎、またはアパーチャが第n番目の倍数毎に、省略されてよい。別の実施形態において、個々のアパーチャ、アパーチャ群、または特定数のシリーズに従うアパーチャが、省略されてよい。逆に、ある量のさらなるアパーチャをアパーチャパターンに含めることも可能である。アパーチャの追加または減少は、アパーチャパターンに対する異形として考えられてよく、パターンに対するある程度の異形量は、プラスでもマイナスでも許容可能であり得る。実施形態において、アパーチャパターンに対する許容可能な異形量は、研磨物品の総アパーチャ面積の0.1%から10%に及んでよい。
カバリッジの量は、アパーチャの形状によって影響されてよい。アパーチャの形状は、規則的であっても不規則であってもよい。実施形態において、アパーチャの形状は、スリット、正多角形、不規則多角形、楕円、円、弧、螺旋、チャンネル、またはこれらの組合せの形態であってよい。特定の実施形態において、アパーチャは形状が円である。別の実施形態において、アパーチャの形状は、1つまたは複数のスリットの形態であってよく、複数のスリットが交差する。図6Aから図6Fは、そのようなスリット形状のアパーチャの実施例を示す。スリットは、真空が研磨物品の後ろに対して適用された場合に、スリットによってもたらされるフラップが後屈する(bend back)ことで、やや正確な端部を有し得る、多角形に似たオープンなアパーチャが生じるように構成されている。削り屑の除去は、フラップの後方への屈曲によって促進されることとなると考えられている。これは、削り屑が真空系中に直接的に導かれて、任意のオープンな繊維層(研磨物品の後方に取り付けられてよい、フックおよびループ材料層等)内への削り屑の引込みが防止されることとなるためである。
アパーチャは、標準的な変換技術によって生じてよく、スタンピング、打ち抜き(die−cutting)、レーザカット、またはこれらの組合せが挙げられる。実施形態において、アパーチャは打ち抜かれる。別の実施形態において、アパーチャはレーザカットされる。
研磨物品の形状は、所望のアパーチャパターンを収容し、かつ意図する研磨プロセスおよび製造材料によって決定されることとなる、任意の形状であってよい。実施形態において、研磨物品は、結合研磨物品である。別の実施形態において、研磨物品は、被覆研磨物品である。特定の実施形態において、研磨物品は、シート、ベルトまたは円形ディスクの1つである。
バッキング701は、可撓性であってもよいし、硬質であってもよい。バッキングは、任意の数の種々の材料から製造されてよく、被覆研磨材の製造においてバッキングとして従来から用いられているものが挙げられる。可撓性のあるバッキングの例として、ポリマーフィルム(例えば、プライム処理(primed)フィルム)(ポリオレフィンフィルム(例えば、二軸延伸ポリプロピレンが挙げられる、ポリプロピレン)、ポリエステルフィルム(例えば、ポリエチレンテレフタレート)、ポリアミドフィルム、またはセルロースエステルフィルム等);金属箔;メッシュ;発泡体(例えば、天然のスポンジ材料またはポリウレタンフォーム);クロス(例えば、繊維またはヤーン(yams)(ポリエステル、ナイロン、絹、ワタ、ポリ−ワタまたはレーヨンを含む)から製造されるクロス);紙;加硫紙;加硫ゴム;加硫繊維;不織布材料;これらの組合せ;またはこれらを処理したものが挙げられる。クロスバッキングは、編まれてもよいし、ステッチボンドされてもよい。特定の実施例において、バッキングは、紙、ポリマーフィルム、クロス、ワタ、ポリ−ワタ、レーヨン、ポリエステル、ポリ−ナイロン、加硫ゴム、加硫繊維、金属箔、およびこれらの組合せからなる群から選択される。他の実施例において、バッキングとして、ポリプロピレンフィルムまたはポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムが挙げられる。
研磨層707は、1つまたは複数のコートおよび複数の研磨粒から形成されてよい。例えば、研磨層は、メイクコート709を含み、そして任意でサイズコート715または特大サイズコートを含んでよい。研磨層は通常、バインダ上に配置された、バインダ内に埋められた、バインダ中に分散された、またはこれらが組み合わされた研磨粒711を含む。
研磨粒711として、本質的には、単一フェーズの無機材料(アルミナ、炭化シリコン、シリカ、セリア等)、およびより硬い高性能超研磨粒(立方窒化ホウ素およびダイヤモンド等)が挙げられ得る。付加的に、研磨粒として、複合微粒子材料が挙げられ得る。このような材料として、凝集体が挙げられ得、スラリープロセシング経路を通して形成されてよい。この経路は、揮発または蒸発による液体キャリアの除去を含み、これにより緑色の凝集体が残り、任意で高温処理(すなわち、火入れ)が続いて、使用可能な焼成凝集体が形成される。さらに、研磨領域は、マクロ構造および特定の3次元構造を含むよう設計された研磨材を含んでよい。
メイクコートまたはサイズコートのバインダは、単一のポリマーまたはポリマーの混合物から形成されてよい。例えば、バインダは、エポキシ、アクリルポリマー、またはこれらの組合せから形成されてよい。また、バインダは、充填剤(ナノサイズの充填剤、またはナノサイズの充填剤およびミクロンサイズの充填剤の組合せ等)を含んでよい。特定の実施形態において、バインダはコロイド状バインダであり、硬化されてバインダが形成される製剤は、微粒子充填剤を含むコロイド状懸濁液である。あるいは、または加えて、バインダは、サブミクロンの微粒子充填剤を含むナノコンポジットバインダであってよい。
研磨層はさらに、グラインディング効率およびカット率を上げるために、グラインディング助剤を含んでよい。有用なグラインディング助剤として、無機系の、ハライド塩(例えば、ナトリウムクリオライトおよびテトラフルオロホウ酸カリウム)等;または有機系の、塩素化ワックス(例えば、ポリ塩化ビニル)等があり得る。特定の実施形態は、粒子サイズが1ミクロンから80ミクロン、最も一般的には5ミクロンから30ミクロンに及ぶクリオライトおよびテトラフルオロホウ酸カリウムを含む。特大サイズコートは、抗グレージング特性および抗ローディング特性を付与するために、研磨粒を覆うように適用されるポリマー層であってよい。
被覆研磨物品は任意で、適応コートおよびバックコート(図示せず)を含んでよい。これらコートは、先に記載したように機能してよく、かつバインダ組成物から形成されてよい。
実施形態において、バックアップパッドは、パターン中に配置される複数のエアフロー経路を含んでよい。エアフロー経路のパターンは、正多角形、不規則多角形、楕円、弧、螺旋、葉序パターンまたはこれらの組合せを含んでよい。エアフロー経路のパターンは、放射円弧(arcurate)経路、放射螺旋経路、またはこれらの組合せを含んでよい。エアフロー経路のパターンは、内側放射螺旋経路および外側放射螺旋経路の組合せを含んでよい。エアフロー経路のパターンは、時計回り放射螺旋経路および反時計回り放射螺旋経路の組合せを含んでよい。エアフロー経路は、互いに離散的、または不連続であってよい。あるいは、1つまたは複数のエアフロー経路が、流動的に連結されてよい。
アパーチャパターンを有する被覆研磨物品を製造する方法に着目すると、バッキングは、ロールから分配されてよく、バッキングは、被覆装置から分注されるバインダ製剤で被覆されてよい。例示的な被覆装置として、ドロップダイコータ、ナイフコータ、カーテンコータ、真空ダイコータ、またはダイコータが挙げられる。被覆方法論として、接触方法または非接触方法の何れかが挙げられ得る。そのような方法として、2本ロール、3本ロールリバース、ナイフオーバーロール、スロットダイ、グラビア、押出し、またはスプレー被覆適用が挙げられる。
研磨ディスクアパーチャパターンのポテンシャル削り屑抽出効率を、選択したオービタルにおける研磨ディスクの回転によって規定される概念的な表面上の任意の点について、アパーチャからの平均距離を決定することによって、定量化することができる。比較サンプル1(図20A)および本発明のサンプル1からサンプル3(図20Bから図20D)の研磨表面(すなわち、研磨ディスクパターン)を、図20Aから図20Dの上側部分に示す。研磨ディスクの回転によって規定される概念的な表面上の任意の点について、アパーチャからの平均距離を、シミューレーションソフトウェアを用いて決定した。パワードハンドヘルドオービタルサンダーの標準的なオービタルに相当するオービタルを用いた。図20Aから図20Dの中央部分に示すように、各研磨パターンの平均距離をプロットした。アパーチャからの平均距離を、図20Aから図20Dの下側部分に、半径の関数としてグラフ化し、そして曲線下面積を積分し、各アパーチャパターンの値を比較した。積分値が低い程、アパーチャカバリッジがより良好であり、従って削り屑抽出効率がより良好であることが示される。本発明のアパーチャパターンは全て積分値がより低く、従って削り屑抽出効率は、比較サンプルよりも優れていた。これは、全サンプルがほぼ等しい量のアパーチャ面積を有することを考えると、驚くべきことであった。これは、研磨ディスクの表面について、アパーチャの分布がより優れていることを示す。本発明のサンプル3は特に、積分値が劇的に低かった(93%の減少)。
さらなる本発明の研磨アパーチャパターンを、上記したのと同じ手順を用いて、ポテンシャル削り屑抽出効率に関して調査した。比較サンプル1(図21A)および本発明のサンプル1からサンプル3(図21Bから図21D)の研磨ディスクパターンを、図21Aから図21Dの上側部分に示す。図21Aから図21Dの中央部分に示すように、各研磨パターンの平均距離をプロットした。アパーチャからの平均距離を半径の関数としてグラフ化し、図20Aから図20Dの下側部分に示した。曲線下面積を積分し、各アパーチャパターンの値を比較した。驚くべきことに、本発明の全サンプルは、アパーチャ面積が比較サンプルよりも2.7%から6.3%低いながらも、より良好な積分値に匹敵する積分値を達成した。これは、本発明の研磨ディスクの表面について、アパーチャの分布が望ましいことを示す。というのも、利用可能な研磨面積量が増大すると同時に、非常に高い削り屑抽出効率が維持され得るためである。本発明のサンプル3は、積分値が最も劇的に低かったが、利用可能な研磨面積は最も大きかった。
ハンドヘルドオービタルサンダーを用いてキャストアクリルパネルを研磨することによって、5インチの被覆研磨ディスクを試験した。各被覆研磨ディスクを、キャストアクリルパネルの全長にわたる直線において移動させた。各グラインディングサイクルの前および後に、スケールを用いてキャストアクリルパネルの重量を測定することによって、除去した物質の量を決定した。6回のグラインドの重量損失を合計することによって、除去した平均物質を決定した。3回のトライアルを平均することによって、平均材料除去を決定した。
図23は、比較サンプル1および本発明の3サンプルの累積カットおよび表面終値を比較したチャートを示す。
図24は、比較サンプル1および本発明の3サンプルの累積カットおよび表面終値を比較したチャートを示す。
図25は、比較サンプル1および本発明の3サンプルの累積カットおよび表面終値を比較したチャートを示す。
図26は、比較サンプル1および本発明の2サンプルの進行時間間隔(progressive time intervals)にてカットした物質のグラフを示す。
研磨性能試験を、ビークルサイドパネルに対して行った。サイドパネルはファイバーグラスであり、プライマーで電着被覆した。6インチの研磨ディスク、バックアップパッド、および真空アタッチメントを装備したハンドヘルドオービタルサンダーを用いて、ビークルサイドパネルを研磨した。コントロールの2サンプルおよび本発明の3サンプルを試験した。コントロールサンプルおよび本発明のサンプルの、研磨ディスクおよびバックアップパッドの組合せを表_に示し、以下でより詳細に記載する。
研磨性能試験をビークルサイドパネルに対して行い、研磨ディスクおよびバックアップパッドの種々の組合せのカット効率を推定した。ビークルサイドパネルは、実施例8において上記したように、ファイバーグラスであり、プライマーで電着被覆した。実施例8のように、6インチの研磨ディスク、バックアップパッド、および真空アタッチメントを装備したハンドヘルドオービタルサンダーを用いて、ビークルサイドパネルを研磨した。本発明の3サンプルおよびコントロールの1サンプルを試験した。MultiAirおよびヒマワリ研磨ディスクは、研磨グリットがサイズp80の酸化アルミニウムであること以外は、実施例8について上記したのと同じであった。コントロールサンプルおよび本発明のサンプルの、研磨ディスクおよびバックアップパッドの組合せを表10に示し、以下でより詳細に記載する。
研磨性能試験をビークルサイドパネルに対して行い、研磨ディスクおよびバックアップパッドの種々の組合せのカット効率を推定した。ビークルサイドパネルは、実施例9において上記したように、ファイバーグラスであり、プライマーで電着被覆した。実施例9のように、6インチの研磨ディスク、バックアップパッド、および真空アタッチメントを装備したハンドヘルドオービタルサンダーを用いて、ビークルサイドパネルを研磨した。本発明の3サンプルおよびコントロールの1サンプルを試験した。MultiAirおよびヒマワリ研磨ディスクは、研磨グリットがp80サイズのセラミック酸化アルミニウムおよびゾルゲル酸化アルミニウムの混合物であること以外は、実施例9について上記したのと同じであった。コントロールサンプルおよび本発明のサンプルの、研磨ディスクおよびバックアップパッドの組合せを表6_に示し、以下でより詳細に記載する。
Claims (11)
- アパーチャパターンに配置された複数のアパーチャを有する被覆研磨材を含み、アパーチャパターンは、いくつかの時計回り螺旋、およびいくつかの反時計回り螺旋を有し、時計回り螺旋の数および反時計回り螺旋の数は、フィボナッチ数、またはフィボナッチ数の倍数である、研磨物品。
- 時計回り螺旋の数および反時計回り螺旋の数は、黄金比に収束する比である、請求項1に記載の研磨物品。
- アパーチャパターンは、以下の式による極座標において記載され:
nは、アパーチャパターンの中心から外側に数えた、アパーチャの順次番号であり;
φは、リファレンス方向と、アパーチャパターンの中心にて始まる極座標系における第n番目のアパーチャの位置ベクトルとの間の角度であり、任意の連続する2つのアパーチャの位置ベクトル間の開度は一定の角度αであり;
rは、アパーチャパターンの中心から第n番目のアパーチャの中心までの距離であり;
cは、一定のスケーリングファクタである、請求項1に記載の研磨物品。 - アパーチャの少なくとも約51%、少なくとも約70%、少なくとも約85%は、式1と一致する、請求項3に記載の研磨物品。
- アパーチャパターンは、極座標において、開度が約100°から約170°に及ぶ、請求項3に記載の研磨物品。
- アパーチャパターンは、開度が137.508°である、請求項3に記載の研磨物品。
- 総アパーチャ面積の少なくとも約80%、少なくとも約85%、少なくとも約90%は、式1と一致する、請求項3に記載の研磨物品。
- アパーチャは、研磨表面の最長寸法の約0.25%から約5%に及ぶサイズを有する、請求項1に記載の研磨物品。
- 第1主要面および第2主要面を有するバッキング層と;
第1主要面に配置される研磨層であって、バインダおよび複数の研磨粒を含む研磨層と;
バッキング層および研磨層を突き通る複数のアパーチャであって、いくつかの時計回り螺旋、およびいくつかの反時計回り螺旋を有し、時計回り螺旋の数および反時計回り螺旋の数は、フィボナッチ数、またはフィボナッチ数の倍数であるアパーチャパターンに配置される、複数のアパーチャと
を含む被覆研磨物品。 - バッキング上に研磨層を配置する工程と;
研磨層およびバッキングを突き通して複数のアパーチャを生じさせる工程と
を含み、
アパーチャは、いくつかの時計回り螺旋、およびいくつかの反時計回り螺旋を有し、時計回り螺旋の数および反時計回り螺旋の数は、フィボナッチ数、またはフィボナッチ数の倍数であるアパーチャパターンに配置される、研磨物品を製造する方法。 - 被覆研磨材と;
バックアップパッドと:
を含む研磨系であって、
被覆研磨材は、アパーチャの分布がいくつかの時計回り螺旋、およびいくつかの反時計回り螺旋を有し、時計回り螺旋の数および反時計回り螺旋の数は、フィボナッチ数、またはフィボナッチ数の倍数であるパターンを含み、
バックアップパッドは、被覆研磨材のアパーチャと対応するように構成されたパターンに配置された、複数のエアフロー経路を含む、研磨系。
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