JP5759148B2 - レンズの製造方法および固体撮像素子の製造方法 - Google Patents
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Description
さらに、好ましくは、本発明のレンズにおける高屈折率材料はSiNまたはSiONである。
さらに、好ましくは、本発明のレンズにおける高屈折率材料をSiNで構成し、前記反射防止膜をSiON膜で構成する。
図1は、本発明の実施形態1におけるCCD固体撮像素子の要部構成例を模式的に示す縦断面図である。
上記実施形態1では、CCD固体撮像素子1に本発明のレンズ形成方法を適用して製造した場合について説明したが、本実施形態2では、CMOS固体撮像素子に本発明のレンズ形成方法を適用して製造した場合について説明する。
(実施形態3)
上記実施形態1,2では受光部の上方に入射光を導く導波路を設けていないが、本実施形態3では受光部の上方に入射光を導く導波路を設けた場合について説明する。
上記実施形態1〜3では、本発明の特徴構成の層内レンズ12が上に凸のレンズ形状とした場合について説明したが、本実施形態4では、層内レンズ12Cとして上下に凸のレンズ形状とした場合について説明する。
上記実施形態1〜4の層内レンズ12、12Cやマイクロレンズ16、37では、それらの表面に反射防止膜を形成していないが、上記実施形態1〜4の層内レンズ12、12Cやマイクロレンズ16、37の表面側に反射防止膜を形成することもできる。本実施形態5では、上記実施形態1の層内レンズ12の表面側に反射防止膜を形成する場合について詳細に説明する。
図9は、本発明の実施形態6として、本発明の実施形態1〜5の固体撮像素子を撮像部に用いた電子情報機器の概略構成例を示すブロック図である。
1A CMOS固体撮像素子
2 半導体基板
3 受光部
4 電荷転送部
5 ゲート絶縁膜
6 ゲート電極
7 画素部
8 ストップ層
9 遮光膜
9a 開口部
10 絶縁層
11、11A、11C、13 層間絶縁膜
11B 導波路
12、12C 層内レンズ(レンズ)
12a SiN膜(高屈折率膜)
14 カラーフィルタ
15 平坦化膜
16 マイクロレンズ(レンズ)
17、17a レンズ形状のレジスト膜
18 反射防止膜
21 半導体基板
22 受光部
23 電荷転送部
24 転送ゲート
25 ゲート絶縁膜
26 ロジックトランジスタ領域
27 画素部
28、30、34 層間絶縁膜
29 第1配線層
31 第2配線層
32、33 コンタクトプラグ
35 カラーフィルタ
36 平坦化膜
37 マイクロレンズ(レンズ)
90 電子情報機器
91 固体撮像装置
92 メモリ部
93 表示部
94 通信部
95 画像出力部
Claims (9)
- 下地膜上に高屈折率膜を形成する高屈折率膜形成工程と、
該高屈折率膜上に感光性レジスト膜を成膜し、透過率階調マスクを用いて照射光量を平面的に制御して、該感光性レジスト膜をレンズ形状に形成するレジストレンズ形状形成工程と、
該レンズ形状の該感光性レジスト膜と該高屈折率膜とを同時にエッチングすることにより、該感光性レジスト膜のレンズ形状を反映した同じ高屈折率膜のレンズ形状に形成する高屈折率膜レンズ形状形成工程とを有し、
該高屈折率材料のレンズ形状は、入射光の利用面積を広げるように隣接レンズ間の端部同士が接した状態でアレイ状に形成されており、該レンズ形状が平面視楕円形(平面視円形を除く)であるレンズの製造方法。 - 前記高屈折率膜レンズ形状形成工程の後に、前記高屈折率膜のレンズ形状上に反射防止膜を形成する反射防止膜形成工程を更に有する請求項1に記載のレンズの製造方法。
- 前記反射防止膜形成工程の後に、前記高屈折率膜のレンズ形状を反映した前記反射防止膜のレンズ形状上に、表面が平坦な層間絶縁膜を形成する層間絶縁膜形成工程を更に有する請求項2に記載のレンズの製造方法。
- 前記高屈折率膜のレンズ形状は、断面が上に凸形状かまたは上下に凸形状である請求項1に記載のレンズの製造方法。
- 前記透過率階調マスクは、遮光材のパターン密度によって透過光量が調整されている請求項1に記載のレンズの製造方法。
- 前記感光性レジスト膜は、前記透過光量である照射光量の増加に伴ってレジスト残膜量が、パターン形成用の感光性レジスト膜に比べて徐々に低下していく特性を有する請求項3に記載のレンズの製造方法。
- 前記高屈折率膜はSiN膜またはSiON膜である請求項1に記載のレンズの製造方法。
- 前記高屈折率膜をSiN膜で形成し、前記反射防止膜をSiON膜で形成する請求項2に記載のレンズの製造方法。
- 被写体からの入射光を光電変換して撮像する複数の受光部が2次元状に配設され、該複数の受光部のそれぞれに対して該入射光を集光するレンズがそれぞれ設けられた固体撮像素子の製造方法において、
該レンズを、請求項1〜8のいずれかに記載のレンズの製造方法により製造する固体撮像素子の製造方法。
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