JP5744991B2 - フェムト秒レーザー加工機 - Google Patents
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Description
また、上記集光レンズのレンズ中心位置を、上記統合ビームの光軸中心に対して水平方向に移動させて偏心させるためのレンズ偏心位置アジャストを備え、上記レンズ偏心位置アジャストは、ナットと、該ナットに螺合するアジャスト螺子と、を備え、上記集光レンズが装着されるレンズ保持具に、上記ナットを固着し、上記統合ビームの光軸中心に回転軸心を合わせて回転可能であって上記レンズ保持具が設置された回転ベースに、上記アジャスト螺子を設けているものである。
(a)はレンズ7の統合ビーム4に対する偏心量が零で、統合ビーム4の光軸中心201と保持具24の中心を一致させ、回転ベース9を回転させるか又は回転停止において、摺動テーブル40を移動させた場合の照射焦点軌跡で、従来方式の照射軌跡になる。
(b)はレンズ7の統合ビーム4に対して偏心させ、回転ベース9を回転させ、摺動テーブル40を移動させたときの照射軌跡で、その照射軌跡はスパイラル状になる。レンズ7の統合ビーム4に対する偏心量はレンズ偏心位置アジャスト25により調整する。偏心させた保持具24による照射において摺動テーブル40の進行速度106を落とすことにより照射焦点密度は焦点の重なり量が多くなる。此処により、ワーク41の照射密度は、摺動テーブル40の進行速度106によりコントロールされる。
(a) レンズ7を装着する保持具24のレンズ7の中心軸(中心位置)202と統合ビーム4の光軸中心201を合致させた時の照射軌跡。
(b) 保持具24を統合ビーム4に対し右に偏心移動させた時の照射軌跡。
(c) 保持具24を統合ビーム4に対し左に偏心移動させた時の照射軌跡。
(d) 保持具24を偏心させ回転ベース9にて回転させた時の保持具回転における円弧作成照射軌跡を示す。
(a)はシリンドリカルレンズの外型の基本形状を示す。
(b)は本来のシリンドリカルレンズにおける使用にて全面照射の状態を示し、照射焦点の結像が直線状に形成される軌跡を示す。
(c)は本発明のシリンドリカルレンズ72を使用した形状を示し、レンズ71との照射の組み合わせ焦点形態である。シリンドリカルレンズ形態はこの場合、保持具の実装として円筒型(a’)が好ましい。
(d)は図5の(c)図の照射面積拡大域の図である。照射焦点が偏心の位置の如何を問わず、(c)(d)のような焦点結像を行い、正常な照射焦点形状を得ることができる。焦点の輪郭部は通常円弧状を画くが、保持具24の偏心移動にともないフェムト秒レーザーの微細照射焦点による焦点の側傍がピンポイントのブレの如き状況を発生することがあり、これら焦点輪郭を補正する型を示したものである。
また、前記、照射面積拡大により、照射面積拡大域の表面の粗度は複数の分岐ビーム2,3の光路長の相違により照射時におけるタイムラグの発生をさせ、摺動テーブル40の同時進行にての照射において、前記スパイラル形状焦点軌跡による照射面積拡大の照射密度の均一化を成し得ることを特徴とし、表面粗度の所望密度が得られる。
また、前記主光軸ビーム1を主流とし、複数の分岐ビーム2,3に作成し、回帰集光後、該光路差にて照射時間差によるタイムラグを計り、前記照射面積拡大域の表面粗度の照射密度の均一化をコントロールするために、光路妨害シャッター45,46を構設し、偏心による照射焦点の移動にての焦点軌跡の重なり量の制御を行い、連続又は間隙の光軸調整を制御する機能を有してなることを特徴とする効果をもつものである。複数のシャッター45,46を用いることで、偏心による照射焦点の移動による焦点重なり量発生の制御及び照射密度の従来からの手法による微細加工のためのビームのレンズ通過にての制御コントロールをすることができる。
また、前記構成の受光ヘッド5内のレンズ7は第1レンズ71と第2レンズ72を積層状搭載により一体化し、第1レンズ71は極微の球面収差も押さえ、低屈折率レンズに高屈折率レンズを貼り合せた複合レンズであり、第2レンズ72は焦点の拡散性の制御を行う特殊レンズシリンドリカルレンズとしたことにより焦点輪郭の形成の確立化を得ることを特徴とする効果を有するものである。
また、照射面積拡大域作成において、受光ヘッド5のレンズ7を装着した保持具24を搭載した回転ベース9の回転軸心と統合ビーム4の光軸中心201を合致させた上、回転ベース9の回転軸心より受光ヘッド5の保持具24を離間移設する機構にて、レンズ保持具24に導光する統合ビーム4において、回転ベース9の回転によりレンズ通光のビームの屈折照射にて円弧作成となり、尚、偏心量により照射面積拡大域の調整をすること及び回転を止めることにおいて、従来からの加工方法と同一の超微細加工をなし得ることを特徴とする効果をもつものである。
また、前記統合ビーム4の偏心、回転により作成された拡大照射域は、偏心量の可変、回転ベースの回転速度制御、これ等に併用する被加工物の移動同時2軸自動制御を行う進行速度可変制御の摺動テーブル40を具備し、寸動による各作動の単一工程寸動テストを行い。適正数値の確保、記憶機能及び切替え自動制御機能を具備することを特徴とする。
2 分岐ビーム
3 分岐ビーム
4 統合ビーム
5 受光ヘッド
6 偏心ビームライン
7 レンズ
71 第1レンズ
72 第2レンズ
8 分岐器
9 回転ベース
10 分岐.ビーム照射光
11 偏心
13 焦点
14 摺動テーブル進行方向
18 フェムト秒レーザー発振アッセンブリ
19 フェムト秒レーザー発振器
20 励起レーザー
21 光源ビーム
23 101、102受光回転
24 保持具
25 レンズ偏心位置アジャスト
26 ナット
27 支持メタル
28 計測部
29 アジャスト螺子
30 ストレッチャー
31 コンプレッサー
32 回転ベルト
33 コントロールパネル
34 コントロールボックス
39 反射ミラー
40 摺動テーブル
41 ワーク
42 増幅システム
43 本機取付金具
44 テーブルスピード軌跡
45 シャッター
46 シャッター
47 分岐器
48 集光器
49 移動軌跡
50 直線型焦点
51 照射線
52 側傍補正
101 第1ビーム焦点
102 第2ビーム焦点
103 第3ビーム焦点
104 偏心による焦点位置
106 テーブル進行速度
107 回転による焦点軌跡
108 シリンドリカルレンズ焦点幅
109 偏心による焦点軌跡
200 ショット中心軌跡
201 ビーム光軸中心
202 レンズ中心位置
203 偏心巾(半径)
208 最大回転直径範囲
209 ショット軌跡径
210 秒間1000ショット軌跡
Claims (2)
- フェムト秒レーザー発振器(19)から発振された光源ビーム(21)を、主光軸ビーム(1)及び光路長が相互相違する複数の分岐ビーム(2)(3)に分流すると共に、該主光軸ビーム(1)及び分岐ビーム(2)(3)を回帰集光させた統合ビーム(4)を、集光レンズ(7)に導くようにして、上記複数の分岐ビーム(2)(3)の光路長の相違により照射時におけるタイムラグを発生させるフェムト秒レーザー加工機であって、
上記集光レンズ(7)に上記統合ビーム(4)を導く直前に、照射密度の均一化をコントロールするためのシャッター(46)を設け、
上記集光レンズ(7)は、低屈折率のクラウンガラスレンズに高屈折率メニスカスレンズを貼り合わせた複合レンズから成る第1レンズ(71)と、焦点の拡散性の制御を行うシリンドリカルレンズから成る第2レンズ(72)と、を積層状に配置したレンズであり、
上記統合ビーム(4)の光軸中心(201)に対して上記集光レンズ(7)のレンズ中心位置(202)を偏心させると共に、上記集光レンズ(7)を上記統合ビーム(4)の光軸中心(201)周りに回転させ、さらに、加工対象となるワーク(41)を移動させて、該ワーク(41)を連続照射することにより、照射軌跡を該ワーク(41)の被加工平面に沿って水平移動させた水平スパイラル形状に形成させると共に、円弧状に照射焦点面積を拡大させることを特徴とするフェムト秒レーザー加工機。 - 上記集光レンズ(7)のレンズ中心位置(202)を、上記統合ビーム(4)の光軸中心(201)に対して水平方向に移動させて偏心させるためのレンズ偏心位置アジャスト(25)を備え、
上記レンズ偏心位置アジャスト(25)は、ナット(26)と、該ナット(26)に螺合するアジャスト螺子(29)と、を備え、
上記集光レンズ(7)が装着されるレンズ保持具(24)に、上記ナット(26)を固着し、
上記統合ビーム(4)の光軸中心(201)に回転軸心を合わせて回転可能であって上記レンズ保持具(24)が設置された回転ベース(9)に、上記アジャスト螺子(29)を設けている請求項1記載のフェムト秒レーザー加工機。
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