JP5731229B2 - アルカリ可溶性透明樹脂組成物 - Google Patents
アルカリ可溶性透明樹脂組成物 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5731229B2 JP5731229B2 JP2011034609A JP2011034609A JP5731229B2 JP 5731229 B2 JP5731229 B2 JP 5731229B2 JP 2011034609 A JP2011034609 A JP 2011034609A JP 2011034609 A JP2011034609 A JP 2011034609A JP 5731229 B2 JP5731229 B2 JP 5731229B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- alkali
- resin composition
- transparent resin
- soluble transparent
- acid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L63/00—Compositions of epoxy resins; Compositions of derivatives of epoxy resins
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/04—Oxygen-containing compounds
- C08K5/07—Aldehydes; Ketones
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/49—Phosphorus-containing compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L75/00—Compositions of polyureas or polyurethanes; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L75/04—Polyurethanes
- C08L75/14—Polyurethanes having carbon-to-carbon unsaturated bonds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
- G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
- G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
- G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
- H05K3/28—Applying non-metallic protective coatings
- H05K3/285—Permanent coating compositions
- H05K3/287—Photosensitive compositions
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Human Computer Interaction (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)
Description
カルボキシル基含有感光性樹脂は、特に限定されず、例えば、分子中にエポキシ基を2個以上有する多官能エポキシ樹脂のエポキシ基の少なくとも一部にアクリル酸又はメタクリル酸等のラジカル重合性不飽和モノカルボン酸を反応させてエポキシ(メタ)アクリレートを得て、生成した水酸基に多塩基酸又はその無水物を反応させて得られる多塩基酸変性エポキシ(メタ)アクリレートを挙げることができる。
光重合開始剤としてα‐ヒドロキシケトン系光重合開始剤を使用することにより、耐変色性に優れ、可視光線領域の全光線透過率の高い硬化物を形成することができる。α‐ヒドロキシケトン系光重合開始剤には、例えば、1‐ヒドロキシ‐シクロヘキシル‐フェニル‐ケトン、2‐ヒドロキシ‐2‐メチル‐1‐フェニル‐プロパン‐1‐オン、1‐[4‐(2‐ヒドロキシエトキシ)‐フェニル]‐2‐ヒドロキシ‐2‐メチル‐1‐プロパン‐1‐オン、2‐ヒドロキシ‐1‐{4‐[4‐(2‐ヒドロキシ‐2‐メチル‐プロピオニル)‐ベンジル]‐フェニル}‐2‐メチル‐プロパン‐1‐オン等を挙げることができる。これらは単独で使用してもよく2種以上を混合して使用してもよい。また、α‐ヒドロキシケトン系光重合開始剤として市販されているものには、例えば、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製のイルガキュア184、ダロキュア1173、イルガキュア2959、イルガキュア127などを挙げることができる。
希釈剤は、例えば、反応性希釈剤である光重合性モノマーであり、カルボキシル基含有感光性樹脂の光硬化を十分にして、耐酸性、耐熱性、耐アルカリ性などを有する硬化物を得るために使用する。光重合性モノマーとしては、例えば、1,4‐ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6‐ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールアジペートジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニルジ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジシクロペンテニルジ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性燐酸ジ(メタ)アクリレート、アリル化シクロヘキシルジ(メタ)アクリレート、イソシアヌレートジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等の反応性希釈剤が挙げられる。これらは単独で使用してもよく、2種以上を混合して使用してもよい。
エポキシ化合物はエポキシ基を有する化合物であり、アルカリ可溶性透明樹脂組成物の硬化物の架橋密度を上げるとともに、UV照射や熱履歴による変色を抑制するためのものである。エポキシ化合物には、例えば、エポキシ樹脂を挙げることができる。エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(ビスフェノールA型液状エポキシ樹脂、ビスフェノールA型変性柔軟性エポキシ樹脂、核水添ビスフェノールA型液状エポキシ樹脂など)、ノボラック型エポキシ樹脂(フェノールノボラック型エポキシ樹脂、o−クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、p−tert−ブチルフェノールノボラック型など)、ビスフェノールFやビスフェノールSにエピクロルヒドリンを反応させて得られたビスフェノールF型やビスフェノールS型エポキシ樹脂、さらにシクロヘキセンオキシド基、トリシクロデカンオキシド基、シクロペンテンオキシド基などを有する脂環式エポキシ樹脂、トリス(2,3−エポキシプロピル)イソシアヌレート、トリグリシジルトリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート等のトリアジン環を有するトリグリシジルイソシアヌレート、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、アダマンタン型エポキシ樹脂を挙げることができる。これらのうち、耐折性と高伸び率の点からビスフェノールA型エポキシ樹脂が好ましい。これらの化合物は単独で使用してもよく、2種以上混合して使用してもよい。
下記表1に示す各成分を下記表1に示す配合割合にて配合し、攪拌機にて予備混合した後、3本ロールを用いて室温にて混合分散させて、実施例1〜15、比較例1〜4にて使用するアルカリ可溶性透明樹脂組成物を調製した。そして、調製したアルカリ可溶性透明樹脂組成物を以下のように塗工して試験片を作成した。なお、表1中の配合割合の数値は質量部を示す。
(A)カルボキシル基含有感光性樹脂について
・ZFR−1124:日本化薬(株)製、ビスフェノールF構造の多官能性エポキシ樹脂を使用したカルボキシル基含有感光性樹脂。
・FLX−2089:日本化薬(株)製、ウレタン変性エポキシ構造の樹脂を使用した感光性カルボキシル基含有樹脂。
・サイクロマーP(ACA)Z−300:ダイセル化学工業(株)製、アクリル共重合構造の樹脂を使用した感光性カルボキシル基含有樹脂。
(B)α‐ヒドロキシケトン系光重合開始剤について
・イルガキュア184:チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、1‐ヒドロキシ‐シクロヘキシル‐フェニル‐ケトン。
・ダロキュア1173:チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、2‐ヒドロキシ‐2‐メチル‐1‐フェニル‐プロパン‐1‐オン。
・イルガキュア2959:チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、1‐[4‐(2‐ヒドロキシエトキシ)‐フェニル]‐2‐ヒドロキシ‐2‐メチル‐1‐プロパン‐1‐オン。
α‐ヒドロキシケトン系ではない光重合開始剤について
・イルガキュア651:チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、ベンジルジメチルケタール系光重合開始剤(2,2‐ジメトキシ‐1,2‐ジフェニルエタン‐1‐オン)。
・イルガキュア369:チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、α‐アミノケトン系光重合開始剤(2‐ベンジル‐2‐ジメチルアミノ‐1‐(4‐モルフォリノフェニル)‐ブタノン‐1)。
・イルガキュア907:チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、α‐アミノケトン系光重合開始剤(2‐メチル‐1[4‐(メチルチオ)フェニル]‐2‐モルフォリノプロパン‐1‐オン)。
(C)希釈剤について
・DPHA:日本化薬(株)製、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート。
・HDDA:ダイセル・サイテック(株)製、ヘキサンジオールジアクリレート。
・EBECRYL3708:ダイセル・サイテック(株)製、2官能、変性エポキシアクリレート。
(D)エポキシ化合物について
・EPICRON860:大日本インキ化学工業(株)製、半固形タイプのビスフェノールA型エポキシ樹脂、重量平均分子量480。
・JER1004:ジャパンエポキシレジン(株)製、固形タイプのビスフェノールA型エポキシ樹脂、重量平均分子量1650。
・ST−3000:東都化成(株)製、半固形タイプの水添型ビスフェノールA型エポキシ樹脂、重量平均分子量460。
・セロキサイド2021P:ダイセル化学工業(株)製、脂環式エポキシ樹脂。
(E)アクリル化ウレタン樹脂について
・EBECRYL8405:ダイセル・サイテック(株)製、4官能、重量平均分子量2700のアクリル化ウレタン樹脂。
・EBECRYL215:ダイセル・サイテック(株)製、2官能、重量平均分子量2700のアクリル化ウレタン樹脂。
・KRM8296:ダイセル・サイテック(株)製、3官能、脂肪族ウレタンアクリレート。
消泡剤について
・BYK354:BYKケミー(株)製、溶剤型用消泡剤。
・BYK055:BYKケミー(株)製、溶剤型用消泡剤。
添加剤について
・R−974:日本アエロジル(株)製、チキソ性付与剤。
・DICY−7:ジャパンエポキシレジン(株)製、潜在性硬化剤。
・メラミン:潜在性硬化剤。
・EDGAC:三洋化成(株)製、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート。
銅箔をエッチングして形成した回路パターンを有するフレキシブル配線板(ニッカン工業(株)製、「ニカフレックスF‐11VC」(ポリエステルフィルムからなる基材に銅箔をエッチングした基板))、フィルム厚さ50μm、銅箔厚み18μm)の表面をイソプロピルアルコールで脱脂処理した後、脱脂処理した表面にスクリーン印刷法にてアルカリ可溶性透明樹脂組成物を塗布した。次に、BOX炉にて80℃で20分(炉内:25分)の予備乾燥を行った。予備乾燥後、アルカリ可溶性透明樹脂組成物の塗膜上に回路パターンのはんだ付けランド以外は透光性にしたパターンのネガフィルムを密着させ、その上から露光装置(オーク社製HMW−680GW)にて紫外線(300〜450nm)を1000mJ/cm2(約40秒)露光した。露光後、30℃の1%Na2CO3水溶液を0.1MPaにて60秒間噴霧して、はんだ付けランドに対応する非露光領域を除去し、アルカリ可溶性透明樹脂組成物の塗膜を現像した。現像後、BOX炉にて120℃で60分(炉内:70分)のポストキュアを行ってフレキシブル配線板上にアルカリ可溶性透明樹脂組成物の透明な硬化塗膜を形成した。硬化塗膜の厚みは、20〜23μmであった。
(1)耐変色性
PETフィルムからなる基材に透明導電性層を形成した透明導電性フィルム(尾池工業社製、「テトライトTCF」、フィルム厚さ175μm)の導体膜表面に上記のように調製したアルカリ可溶性透明樹脂組成物を上記試験片作成工程と同様の方法で塗工して透明な硬化塗膜を形成し、試験片とした。上記試験片のポストキュア後における硬化塗膜の変色の程度を目視にて観察した。硬化塗膜に変色がないものを「○」、若干の黄変があるものを「△」、明らかな黄褐色への変色があるものを「×」と評価した。
(2)耐折性
上記試験片作成工程にて作成した試験片について、ハゼ折りにより180°折り曲げを数回繰り返して行い、その際の透明な硬化塗膜におけるクラック発生状況を目視及び×200の光学顕微鏡で観察し、クラックが発生しなかった回数を測定した。
(3)ヘイズ(曇価)(%)
石英ガラス基板(50×50×1mm)の表面に、上記のように調製したアルカリ可溶性透明樹脂組成物を上記試験片作成工程と同様の方法で塗工して透明な硬化塗膜を形成し、試験片とした。この試験片に対してJIS−K−7105に準じて、日立ハイテク社製U−3310分光光度計を用いてヘイズを測定した。
(4)全光線透過率(%)
石英ガラス基板(50×50×1mm)の表面に、上記のように調製したアルカリ可溶性透明樹脂組成物を上記試験片作成工程と同様の方法で塗工して透明な硬化塗膜を形成し、試験片とした。この試験片に対してJIS−K−7136に準じて、日立ハイテク社製U−3310分光光度計を用いて可視光線領域の全光線透過率を測定した。
(5)伸び率(%)
イソプロピルアルコールで脱脂処理したPETフィルム(ユニチカ製、フィルム厚さ125μm)表面に、上記のように調製したアルカリ可溶性透明樹脂組成物を厚さ50μm±10μmとなるようにバーコーターを用いて均一に塗布した後、上記試験片作成工程と同様の方法にて予備乾燥からポストキュアまでを行って硬化塗膜を形成した。次に、形成した硬化塗膜をPETフィルムから剥がして所定の大きさに切断したものついて、島津製作所製オートグラフ(AGS−G)を使用して、引っ張り速度5mm/minの条件で伸び率を測定した。
(6)絶縁抵抗
IPC−TM−650のIPC−SM840B B−25テストクーポンのくし形電極(導体厚20μm)をパターン形成した上記フレキシブル配線板(「ニカフレックスF‐11VC」)上に、上記のように調製したアルカリ可溶性透明樹脂組成物を上記試験片作成工程と同様の方法で塗工して透明な硬化塗膜を形成し、試験片とした。この試験片を、40℃、90%R.H.にて168時間加湿した後、DC50V印加して絶縁抵抗を測定した。
(7)解像性(μm)
所定のフォトマスク(ライン30〜130μm)を介して形成した露光部の残存ラインと抜けたスペースを目視にて確認、評価した。
(8)燃焼性
上記試験片作成工程にて作成した試験片について、UL94規格に準拠した垂直燃焼試験を行った。評価はUL94規格に基づいて、VTM−0〜燃焼で表した。
Claims (8)
- (A)カルボキシル基含有感光性樹脂、
(B)α‐ヒドロキシケトン系光重合開始剤、
(C)希釈剤、
(D)エポキシ化合物を含有するアルカリ可溶性透明樹脂組成物であって、
前記(A)カルボキシル基含有感光性樹脂が、ウレタン変性エポキシ構造の樹脂を含むことを特徴とするアルカリ可溶性透明樹脂組成物。 - 前記(B)α‐ヒドロキシケトン系光重合開始剤が、1‐ヒドロキシ‐シクロヘキシル‐フェニル‐ケトン、2‐ヒドロキシ‐2‐メチル‐1‐フェニル‐プロパン‐1‐オン及び1‐[4‐(2‐ヒドロキシエトキシ)‐フェニル]‐2‐ヒドロキシ‐2‐メチル‐1‐プロパン‐1‐オンからなる群から選択された少なくとも1種のα‐ヒドロキシケトンであることを特徴とする請求項1に記載のアルカリ可溶性透明樹脂組成物。
- 前記(B)α-ヒドロキシケトン系光重合開始剤を、前記(A)カルボキシル基含有感光性樹脂100質量部に対して、1.0〜20質量部含有することを特徴とする請求項1または2に記載のアルカリ可溶性透明樹脂組成物。
- 前記(D)エポキシ化合物が、ビスフェノールA型エポキシ樹脂であることを特徴とする請求項1に記載のアルカリ可溶性透明樹脂組成物。
- さらに、(E)アクリル化ウレタン樹脂を含有することを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載のアルカリ可溶性透明樹脂組成物。
- さらに、(F)リン元素含有有機化合物を含有することを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載のアルカリ可溶性透明樹脂組成物。
- 請求項1乃至6のいずれか1項に記載のアルカリ可溶性透明樹脂組成物を光硬化して得られた皮膜を有するフレキシブル配線板。
- 請求項1乃至6のいずれか1項に記載のアルカリ可溶性透明樹脂組成物を光硬化して得られた皮膜を有するタッチパネル用電極基板。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011034609A JP5731229B2 (ja) | 2010-08-20 | 2011-02-21 | アルカリ可溶性透明樹脂組成物 |
KR1020110081788A KR101587397B1 (ko) | 2010-08-20 | 2011-08-17 | 알칼리 가용성 투명 수지 조성물 |
CN2011102409885A CN102520585A (zh) | 2010-08-20 | 2011-08-18 | 碱溶性透明树脂组合物 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010184820 | 2010-08-20 | ||
JP2010184820 | 2010-08-20 | ||
JP2011034609A JP5731229B2 (ja) | 2010-08-20 | 2011-02-21 | アルカリ可溶性透明樹脂組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012063739A JP2012063739A (ja) | 2012-03-29 |
JP5731229B2 true JP5731229B2 (ja) | 2015-06-10 |
Family
ID=46059466
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011034609A Active JP5731229B2 (ja) | 2010-08-20 | 2011-02-21 | アルカリ可溶性透明樹脂組成物 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5731229B2 (ja) |
KR (1) | KR101587397B1 (ja) |
CN (1) | CN102520585A (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5865725B2 (ja) * | 2012-02-16 | 2016-02-17 | 富士フイルム株式会社 | パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜、並びにこれらを用いた電子デバイスの製造方法 |
JP6184094B2 (ja) * | 2012-12-27 | 2017-08-23 | 株式会社日本触媒 | 感光性樹脂組成物および該感光性樹脂組成物を用いたフォトスペーサー |
JP5695622B2 (ja) * | 2012-09-24 | 2015-04-08 | 株式会社タムラ製作所 | 黒色硬化性樹脂組成物 |
JP6234317B2 (ja) * | 2013-05-28 | 2017-11-22 | 株式会社タムラ製作所 | 感光性樹脂組成物 |
CN103788125B (zh) * | 2013-12-31 | 2015-02-11 | 邓娟 | 一种用于聚合物的添加剂及其制备方法 |
JP6345947B2 (ja) * | 2014-02-27 | 2018-06-20 | 株式会社タムラ製作所 | 感光性樹脂組成物 |
CN104808442A (zh) * | 2015-04-20 | 2015-07-29 | 北京欣奕华科技有限公司 | 组合物、透明树脂保护层及其制备方法、显示装置 |
JP2020100735A (ja) * | 2018-12-21 | 2020-07-02 | 太陽インキ製造株式会社 | 光硬化性熱硬化性接着剤組成物、ドライフィルム、硬化物及び構造体 |
JP2021089442A (ja) * | 2021-03-09 | 2021-06-10 | 昭和電工マテリアルズ株式会社 | 感光性樹脂組成物、感光性樹脂フィルム、硬化物の製造方法、積層体、及び電子部品 |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1306338C (zh) * | 2000-09-11 | 2007-03-21 | 昭和电工株式会社 | 感光组合物、固化制品以及利用它的印刷电路板 |
JP4623890B2 (ja) * | 2000-09-11 | 2011-02-02 | 昭和電工株式会社 | 感光性組成物及びその硬化物並びにそれを用いたプリント配線基板 |
ATE409708T1 (de) * | 2000-12-13 | 2008-10-15 | Ciba Holding Inc | Oberflächenaktive photoinitiatoren |
JP2003084429A (ja) * | 2001-07-04 | 2003-03-19 | Showa Denko Kk | レジスト用硬化性難燃組成物およびその硬化物 |
JP2003241369A (ja) * | 2002-02-19 | 2003-08-27 | Showa Denko Kk | ドライフィルムレジスト |
EP1560068B1 (en) * | 2002-11-06 | 2008-01-23 | Asahi Glass Company Ltd. | Barrier rib and its method of preparation |
JP4151397B2 (ja) * | 2002-12-04 | 2008-09-17 | チッソ株式会社 | 光硬化性樹脂組成物 |
WO2005076074A2 (en) * | 2004-02-02 | 2005-08-18 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Functionalized photoinitiators |
KR100720283B1 (ko) * | 2004-10-22 | 2007-05-22 | 주식회사 엘지화학 | 알칼리 가용성 수지 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물 |
JP4986059B2 (ja) | 2005-04-07 | 2012-07-25 | 日本化薬株式会社 | 反応性エポキシカルボキシレート化合物及びそれを用いた活性エネルギー線硬化性樹脂組成物 |
TWI413858B (zh) * | 2007-01-12 | 2013-11-01 | Toyo Ink Mfg Co | 彩色濾光片之製法 |
WO2008108357A1 (ja) * | 2007-03-05 | 2008-09-12 | Toagosei Co., Ltd. | 感光性組成物、ソルダーレジストおよび感光性ドライフィルム |
JP4994923B2 (ja) * | 2007-04-06 | 2012-08-08 | 太陽ホールディングス株式会社 | 黒色ソルダーレジスト組成物およびその硬化物 |
JP5294594B2 (ja) * | 2007-08-27 | 2013-09-18 | 株式会社Dnpファインケミカル | カラーフィルタ保護膜用樹脂組成物、及びカラーフィルタ |
JP2010000434A (ja) * | 2008-06-19 | 2010-01-07 | Jsr Corp | タッチパネルの製造方法 |
KR101148548B1 (ko) * | 2008-09-30 | 2012-05-21 | 코오롱인더스트리 주식회사 | 감광성 수지 조성물 |
KR101000327B1 (ko) * | 2008-10-28 | 2010-12-13 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | 감방사선성 수지 조성물, 층간 절연막 및 마이크로 렌즈, 그리고 그들의 형성 방법 |
JP5668348B2 (ja) * | 2009-07-24 | 2015-02-12 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | 感光性組成物 |
-
2011
- 2011-02-21 JP JP2011034609A patent/JP5731229B2/ja active Active
- 2011-08-17 KR KR1020110081788A patent/KR101587397B1/ko active IP Right Grant
- 2011-08-18 CN CN2011102409885A patent/CN102520585A/zh active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20120022640A (ko) | 2012-03-12 |
JP2012063739A (ja) | 2012-03-29 |
KR101587397B1 (ko) | 2016-01-21 |
CN102520585A (zh) | 2012-06-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5731229B2 (ja) | アルカリ可溶性透明樹脂組成物 | |
JP5613172B2 (ja) | 難燃性ソルダーレジスト組成物及びそれを用いて得られるフレキシブル配線板 | |
JP5996894B2 (ja) | 絶縁膜形成用透明樹脂組成物 | |
JP5650460B2 (ja) | 白色硬化性樹脂組成物 | |
JP5964608B2 (ja) | 紫外線硬化性透明樹脂組成物 | |
JP2013068867A (ja) | 感光性樹脂組成物並びに感光性樹脂組成物の硬化被膜を有するプリント配線板及び反射シート | |
JP5897915B2 (ja) | 紫外線硬化性透明樹脂組成物 | |
JP6222764B2 (ja) | 硬化性樹脂組成物並びに硬化性樹脂組成物の被膜を有するフレキシブル基板及び反射シート | |
JP6704425B2 (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
TW202112974A (zh) | 硬化性樹脂組成物、乾薄膜、硬化物、及印刷配線板 | |
JP7543567B2 (ja) | ソルダーレジスト組成物、ドライフィルム、印刷配線基板、及びそれらの製造方法 | |
JP6802207B2 (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
TWI749153B (zh) | 聚胺酯化合物、含有該化合物的活性能量線硬化型樹脂組成物及該組成物的用途 | |
JP2005173577A (ja) | 難燃感光性組成物およびその硬化物 | |
JP7066634B2 (ja) | 硬化性組成物、主剤および硬化剤、ドライフィルム、硬化物、および、プリント配線板 | |
JP2013029683A (ja) | 感光性樹脂組成物及びその用途 | |
JP4471149B2 (ja) | 感光性樹脂組成物及びその硬化物の製造法 | |
JP6114799B2 (ja) | 感光性樹脂組成物並びに感光性樹脂組成物の硬化被膜を有するプリント配線板及び反射シートの製造方法 | |
JP2018163336A (ja) | 黒色感光性樹脂組成物 | |
TW202146501A (zh) | 硬化性組成物、其乾膜及硬化物 | |
TW202035595A (zh) | 硬化性樹脂組成物、乾膜、硬化物及電子零件 | |
JP7202283B2 (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
WO2022050372A1 (ja) | 光硬化性熱硬化性樹脂組成物、ドライフィルム、硬化物および当該硬化物を有する電子部品 | |
TW202328815A (zh) | 感光性樹脂組成物、具有感光性樹脂組成物之乾薄膜及具有感光性樹脂組成物的硬化物之印刷配線板 | |
JP2023044637A (ja) | 感光性樹脂組成物、感光性樹脂組成物を有するドライフィルム及び感光性樹脂組成物の硬化物を有するプリント配線板 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20120130 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20131008 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140220 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20141209 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20141215 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20150212 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150213 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20150225 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150406 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150409 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5731229 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |