JP5725264B2 - 回路内蔵基板および複合モジュール - Google Patents

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Description

本発明は、RF信号が入力される電気回路が内蔵された回路内蔵基板およびこの回路内蔵基板を備える複合モジュールに関する。
従来、図6の電子部品の一例に示すように、セラミック積層体101の内部に形成された内部電極102と、当該セラミック積層体101の表面に形成された外部接続用の外部電極103とを備えるセラミック電子部品100が知られている(特許文献1)。この種のセラミック電子部品100の外部電極103は、主に、セラミック積層体101の表面に形成されたCuなどの下地金属層104と、該下地金属層104を被覆するニッケル(Ni)層105と、該Ni層を被覆する錫(Sn)層106とで構成されている。この場合、Ni層105は下地金属層104に対して拡散の少ない層として設けられ、Sn層106はセラミック電子部品100をマザー基板等に半田により接続するときの半田の濡れ性を向上するための層として設けられている。
特開2007−281400号(段落0013、図1等参照)
ところで、上記した電子部品100の中には、例えば、セラミック積層体101にキャパシタ素子やインダクタ素子で構成されるフィルタ回路等が形成された回路内蔵基板がある。この種の回路内蔵基板を、例えば、携帯電話等の高周波信号(RF信号)が用いられる電子機器に搭載した場合、回路内蔵基板に形成された外部電極にRF信号が流れる。
このように、外部電極にRF信号が流れる場合、RF信号はその表皮効果により、例えば、外部電極の最表層にあるSn層を流れようとするが、通常、Sn層の厚みは薄く形成されるため、Sn層の下層に位置するNi層にまでRF信号が流れる場合がある。
ところで、磁性体(強磁性体)であるNi層は、図7に示すような磁気ヒステリシス曲線で示される磁束密度―磁場特性(B−H特性)を有する。このとき、磁場に対して磁束密度が飽和する領域R1とそれ以外の非飽和領域R2が存在するが、当該非飽和領域R2でRF信号が流れると、特に、同時に複数の周波数の異なるRF信号が入力された場合、相互変調歪(IMD:Inter Modulation Distortion)が生じる。
したがって、上記したように、同時に複数の周波数の異なるRF信号を使用する通信システムにおいて、このような回路内蔵基板を使用する場合は、回路内蔵基板から発生したノイズにより通信特性が劣化するおそれがあるため、相互変調歪に起因するノイズを防止する技術が要求されていた。
本発明は、上記した課題に鑑みてなされたものであり、相互変調歪に起因するノイズを防止することができる回路内蔵基板を提供するとともに、当該回路内蔵基板を備える複合モジュールを提供することを目的とする。
上記した目的を達成するために、本発明の回路内蔵基板は、基板本体と、前記基板本体内に設けられた内部電極により形成され、RF信号が入力される電気回路と、前記基板本体に前記電気回路に接続して設けられ、下地金属層と該下地金属層の少なくとも一部を被覆するニッケル層とを有する外部電極と、前記基板本体の一方主面または他方主面に配置された磁石とを備え、前記基板本体の前記一方主面または前記他方主面に凹部が形成され、前記磁石が、前記凹部に配設されていることを特徴としている。
このように構成すると、外部電極のNi層が、その磁気ヒステリシス曲線における磁束密度の飽和領域まで磁化するための外部磁場を、基板本体に配置された磁石により印加することができるため、Ni層にRF信号が流れた場合であっても、相互変調歪が生じず、回路内蔵基板の外部電極で生じる相互変調歪に起因したノイズを防止することができる。また、磁石を基板本体の一方主面または他方主面に配置すると、外部電極のNi層が、磁束密度の飽和領域まで磁化するための外部磁場を磁石により印加することができるため、回路内蔵基板の外部電極で生じる相互変調歪に起因するノイズを防止することができる。また、磁石を凹部に配設することで、磁石の基板本体の主面から高さを低くできるため、回路内蔵基板の低背化を図ることができる。
また、前記電気回路がフィルタ回路であってもよい。このように構成することにより、フィルタ回路が内蔵された回路内蔵基板に本発明を適用することができる。
また、上記した目的を達成するために、本発明の複合モジュールは、上記した回路内蔵基板を備える複合モジュールであって、前記基板本体の一方主面に実装された電子部品を備えることを特徴としている。
このように構成することにより、相互変調歪に起因するノイズの発生を防止することができる回路内蔵基板を備えた複合モジュールを提供することができる。また、電子部品の端子電極に、Ni層が形成されている場合には、電子部品側で発生する相互変調歪に起因するノイズを防止することもできる。
また、基板本体の一方主面に配置される磁石を備える回路内蔵基板、あるいは、基板本体の一方主面に凹部が形成され該凹部に磁石が配置された回路内蔵基板であって、前記基板本体の前記一方主面に実装された電子部品を備え、前記磁石は、前記基板本体の前記一方主面側に前記電子部品を囲むように配置されていてもよい。
このように構成することにより、電子部品側で発生する相互変調歪に起因するノイズを効率よく防止することができる。また、基板本体の一方主面(凹部を形成せずに)に電子部品を囲むように磁石が配置されている場合には、磁石により電子部品が保護された状態になるため、外部衝撃により電子部品が破損するのを防止することもできる。
本発明によれば、基板本体に設けられた外部電極のNi層が、その磁気ヒステリシス曲線における磁束密度の飽和領域まで磁化するための外部磁場を基板本体に配置された磁石により印加することができるため、外部電極のNi層で発生する相互変調歪に起因するノイズを防止することができる。
本発明の第1実施形態にかかる回路内蔵基板の正面図である。 図1のA領域の拡大断面図である。 図1の回路内蔵基板を備える複合モジュールの一例を示す図である。 本発明の第2実施形態にかかる回路内蔵基板の正面図である。 本発明の第3実施形態にかかる回路内蔵基板の正面図である。 従来のセラミック電子部品の縦断面図である。 Ni層のB―H特性を示す図である。
(回路内蔵基板の構成)
本発明の一実施形態にかかる回路内蔵基板1について、図1および図2を参照して説明する。なお、図1は回路内蔵基板1の正面図であり、図2は図1のA領域の拡大断面図であり、外部電極の層構造を示している。
この実施形態にかかる回路内蔵基板1は、図1に示すように、基板本体2と、該基板本体2内に設けられた内部電極3により形成され高周波信号(RF信号)が入力される電気回路と、基板本体2に電気回路に接続して設けられた外部電極4と、基板本体2の一方主面2aに配置された永久磁石5(本発明における磁石に相当)とを備え、例えば、RF信号が用いられる携帯電話などの電子機器のマザー基板に搭載される。なお、この実施形態では、電気回路の一例としてフィルタ回路が基板本体2の内部電極3により形成されている。
基板本体2は、例えば、低温同時焼成セラミック(LTCC)多層基板、ガラスエポキシ樹脂多層基板などからなり、基板本体2内には内部電極3やビア導体(図示せず)などが形成されている。そして、基板本体2内に形成されたCuなどの導電性材料からなる内部電極3やビア導体により、キャパシタ素子やインダクタ素子が形成され、これらの各素子によりフィルタ回路が形成される。
なお、基板本体2に形成される電気回路は、フィルタ回路に限らず、例えば、増幅回路や、複数のフィルタ回路を組み合わせた分波回路(ダイプレクサ)であってもよい。また、必ずしも内部電極3のみでフィルタ回路を形成する必要はなく、基板本体2に例えばチップコンデンサ等を実装して、内部電極3により形成されたキャパシタ素子やインダクタ素子と当該チップコンデンサなどとを組み合わせてフィルタ回路を形成する構成であってもよい。さらに、基板本体2は多層構造のものでなくてもかまわない。
ところで、基板本体2は、複数の基板本体2の集合体を個々に分割して製造する。このとき、例えば、基板本体2がLTCC多層基板である場合、その製造方法は、アルミナおよびガラスなどの混合粉末が有機バインダおよび溶剤などと一緒に混合されたスラリーがシート化されたセラミックグリーンシートを形成し、このセラミックグリーンシートの所定位置に、レーザー加工などによりビアホールが形成され、形成されたビアホールにAgやCuなどを含む導体ペーストが充填されて、層間接続用のビア導体が形成され、導体ペーストによる印刷により種々の内部電極3が形成される。その後、各セラミックグリーンシートを積層、圧着することによりセラミック積層体を形成して、1000℃前後の低い温度で焼成する、所謂、低温焼成して基板本体2の集合体を製造する。このようにして製造した基板本体2の集合体を、ダイシングなどにより個々の基板本体2に分割して、該基板本体2の一方主面2aおよび他方主面2bを除く側面2cに後述する外部電極4を形成するとともに、基板本体2の一方主面2aに永久磁石5を配置して回路内蔵基板1を製造する。
外部電極4は、回路内蔵基板1を外部のマザー基板等と接続させたるための電極であり、図2に示すように、基板本体2の側面2cに形成されたCu層4a(本発明における下地金属層に相当)と、該Cu層4aを被覆するNi層4bと、さらにNi層4bを被覆するSn層4cとを有する。また、外部電極4の各層4a,4b,4cそれぞれは、めっき等で形成され、外部電極4は基板本体2の内部電極3により形成されたフィルタ回路に接続される。
なお、外部電極4を基板本体2の他方主面2bに形成してもよく、また、基板本体2の側面2cと他方主面2bの両面に外部電極4を形成する構成であってもよい。また、Cu層4aを被覆するNi層4bは、必ずしもCu層4aの全てを被覆しなくてもよく、少なくともCu層4aの一部を被覆していればよい。
永久磁石5は、外部電極4のNi層4bが、その磁気ヒステリシス曲線における磁束密度の飽和領域R1まで磁化するための外部磁場を印加するものであり、基板本体2の一方主面2aに配置される。このとき、固体の永久磁石5と基板本体2とを絶縁性接着剤を用いて接着することにより、永久磁石5を基板本体2に配置する。なお、粉末磁石入りのペースト樹脂を基板本体2に塗布・硬化し、その後、硬化した樹脂を研磨等により成形することにより、永久磁石5を基板本体2に配置してもよい。また、永久磁石5の形状は、平面視で矩形状、L字状、ロ字状、I字状など、種々の形状を選択することができる。
また、使用する永久磁石5の一例としては、フェライト磁石が挙げられるが、外部電極4のNi層4bが磁束密度の飽和領域まで磁化するための外部磁場を印加できるものであれば、どのような永久磁石を使用してもよい。また、Ni層4bに効率よく外部磁場を印加するために、永久磁石5を外部電極4に近接して配置することが好ましい。
(複合モジュールの構成)
次に、回路内蔵基板1に電子部品7が実装された複合モジュール6の一例について、図3を参照して説明する。なお、図3(a)は複合モジュール6の正面図であり、(b)は平面図である。
この複合モジュール6は、図3に示すように、回路内蔵基板1と、該回路内蔵基板1の基板本体2の一方主面2aに実装されたICやチップコンデンサ等の電子部品7とを備え、例えば、複数のフィルタ回路を組み合わせた分波器(ダイプレクサ)やフィルタ回路を基板本体2内部に備えたスイッチモジュールや無線LANモジュール、Bluetooth(登録商標)モジュールとして使用される。
このとき、外部電極4は、基板本体2の側面2cに設けられたものに加えて、一方主面2aにも電子部品7との接続用の実装電極(図示せず)として設けられる。また、回路内蔵基板1が備える永久磁石5は、図3(b)に示すように、平面視がロ字状に形成され、基板本体2の一方主面2a側に電子部品7を囲むように配置される。なお、その他の構成は、図1を参照して説明した回路内蔵基板1と同じであるため、同一符号を付すことにより説明を省略する。
なお、永久磁石5を、必ずしも平面視でロ字状に形成して電子部品7の周囲の全てを囲むように配置する必要はなく、例えば、永久磁石5を平面視でL字状やコの字状に形成して、電子部品7を部分的に囲うように配置してもよい。また、上記した形状を1つの永久磁石5で形成する必要はなく、例えば、それぞれ直方体や立方体等で形成された複数の永久磁石5を組み合わせて上記した形状にする構成であってもよい。
このように構成することにより、回路内蔵基板1の外部電極4(Ni層4b)で発生する相互変調歪に起因するノイズを防止することができるとともに、例えば、電子部品7の端子電極にNi層が形成されている場合は、電子部品7側で発生する相互変調歪に起因するノイズも防止することができる複合モジュール6を提供することができる。
また、永久磁石5を基板本体2の一方主面2a上に電子部品7を囲むように配置することにより、永久磁石5による外部磁場を効率よく電子部品7の端子電極に印加することができるため、さらにノイズの影響を抑制することができる。また、永久磁石5により電子部品7が保護された状態になるため、外部衝撃により電子部品7が破損するのを防止することもできる。
したがって、上記した実施形態によれば、基板本体2の一方主面2aに永久磁石5を配置することにより、外部電極4のNi層4bが、磁束密度の飽和領域まで磁化するための外部磁場を印加することができるため、Ni層4bにRF信号が流れた場合であっても、相互変調歪が生じず、回路内蔵基板1の外部電極4で生じる相互変調歪に起因したノイズを防止することができる。
また、永久磁石5を外部電極4に近接して配置した場合は、外部電極4のNi層4bに対して、効率よく外部磁場を印加できるため、基板本体2に配置する永久磁石5の選択自由度が向上する。
(第2実施形態)
本発明の第2実施形態にかかる回路内蔵基板1aについて、図4を参照して説明する。なお、図4は回路内蔵基板1aの正面図である。
この実施形態にかかる回路内蔵基板1aが、図1を参照して説明した第1実施形態の回路内蔵基板1と異なるところは、図4に示すように、永久磁石5aが基板本体2の一方主面2aおよび他方主面2bを除く側面2cに配置されている点である。その他の構成は第1実施形態の回路内蔵基板1と同じであるため、同一符号を付すことにより説明を省略する。
この場合、第1実施形態の回路内蔵基板1が、基板本体2の一方主面2a上に永久磁石5を配置しているのに対し、回路内蔵基板1aは、基板本体2の側面2cに永久磁石5aを配置しているため、回路内蔵基板1と比較して回路内蔵基板1aの厚みt1を薄くでき、これにより回路内蔵基板1aの低背化を図ることができる。
なお、図4に示す回路内蔵基板1aでは、永久磁石5aが、外部電極4が形成された基板本体2の側面2cと異なる側面2cに配置されているが、例えば、外部電極4が形成された基板本体2の側面2cと同一面に永久磁石5aを配置してもよく、かつ、当該外部電極4に接するように永久磁石5aを近接配置してもよい。このように構成することにより、外部電極4のNi層4bに効率よく外部磁場を印加できるため、永久磁石5aの選択自由度が向上する。
また、この実施形態においても、外部電極4を基板本体2の他方主面2bに形成してもよい。
(第3実施形態)
本発明の第3実施形態にかかる回路内蔵基板1bについて、図5を参照して説明する。なお、図5は回路内蔵基板1bの正面図である。
この実施形態にかかる回路内蔵基板1bが、図1を参照して説明した第1実施形態の回路内蔵基板1と異なるところは、図5に示すように、基板本体2の他方主面2bに凹部8が形成され、永久磁石5bが当該凹部8に配設されている点である。その他の構成は、第1実施形態の回路内蔵基板1と同じであるため、同一符号を付すことにより説明を省略する。
このように、永久磁石5bを基板本体2に形成された凹部8に配設することにより、回路内蔵基板1bの低背化を図ることができるとともに、回路内蔵基板1bのサイズ(平面視での面積)を小さくすることができる。なお、永久磁石5bを配設する箇所は、基板本体2の他方主面2bに限らず、一方主面2aや側面2cに形成された凹部に永久磁石5bを配設してもかまわない。
なお、本発明は上記した各実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて、上記したもの以外に種々の変更を行なうことが可能である。
例えば、上記した第2、第3実施形態の回路内蔵基板1a,1bの一方主面(基板本体2の一方主面2a)に電子部品7を実装して、複合モジュールとする構成でもよい。
また、図3に示す複合モジュール6において、第3実施形態の回路内蔵基板1bと同様に、基板本体2の一方主面2aに平面視がロ字状の凹部を形成して、該凹部に永久磁石5を配設する構成であってもかまわない。
また、基板本体2に配置する永久磁石5,5a,5bは、一箇所に限らず、例えば、基板本体2の一方主面2aと側面2cの両方に配置してもよく、また、基板本体2の同一面に複数個の永久磁石5,5a,5bを配置してもよい。
本発明は、RF信号が用いられるものであって、基板本体2の内部電極3や外部電極4にNi層を有するものであれば、どのような回路内蔵基板に対しても通用することができる。
1,1a,1b 回路内蔵基板
2 基板本体
2a 一方主面
2b 他方主面
2c 側面
3 内部電極
4 外部電極
4a Cu層(下地金属層)
4b Ni層(ニッケル層)
5,5a,5b 永久磁石(磁石)
6 複合モジュール
7 電子部品
8 凹部

Claims (4)

  1. 基板本体と、
    前記基板本体内に設けられた内部電極により形成され、RF信号が入力される電気回路と、
    前記基板本体に前記電気回路に接続して設けられ、下地金属層と該下地金属層の少なくとも一部を被覆するニッケル層とを有する外部電極と、
    前記基板本体の一方主面または他方主面に配置された磁石とを備え、
    前記基板本体の前記一方主面または前記他方主面に凹部が形成され、
    前記磁石が、前記凹部に配設されていることを特徴とする回路内蔵基板。
  2. 前記電気回路がフィルタ回路であることを特徴とする請求項1に記載の回路内蔵基板。
  3. 前記請求項1または2に記載の回路内蔵基板を備える複合モジュールであって、
    前記基板本体の一方主面に実装された電子部品を備えることを特徴とする複合モジュール。
  4. 前記請求項1に記載の回路内蔵基板を備える複合モジュールであって、
    前記基板本体の前記一方主面に実装された電子部品を備え、
    前記磁石は、前記基板本体の前記一方主面側に前記電子部品を囲むように配置されていることを特徴とする複合モジュール。
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