JP5712949B2 - 発光装置の製造方法 - Google Patents
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Description
このため、従来例では、いずれもスプレー塗布時に、基板(被塗布物)を加熱することにより乾燥性を向上させていた。
また、請求項2に記載の発明は、請求項2に記載の発光装置の製造方法であって、前記溶剤は、沸点が100℃未満のアルコールを含んで構成された第1の溶剤と、沸点が100℃以上の水またはアルコールを含んで構成された第2の溶剤とを含むことを特徴とする。
また、請求項3に記載の発明は、請求項2に記載の発光装置の製造方法であって、前記溶剤は、沸点が100℃未満のアルコールを含んで構成された第1の溶剤と、沸点が100℃以上の水またはアルコールを含んで構成された第2の溶剤とを含むことを特徴とする。
また、請求項4に記載の発明は、請求項3に記載の発光装置の製造方法であって、前記第1の溶剤の成分重量M1と前記第2の溶剤の成分重量M2とが、M2≦M1≦M2×2の条件を満たすことを特徴とする。
また、請求項5に記載の発明は、請求項1〜請求項4のいずれか一つに記載の発光装置の製造方法であって、前記沈殿防止剤は、層状ケイ酸塩鉱物を含むことを特徴とする。
また、請求項6に記載の発明は、請求項1〜請求項5のいずれか一つに記載の発光装置の製造方法であって、前記工程では、前記蛍光体分散液を塗布した後に、有機金属化合物を含むセラミック前駆体液を、前記発光素子上に塗布する段階を含むことを特徴とする。
また、請求項7に記載の発明は、請求項1〜請求項6のいずれか一つに記載の発光装置の製造方法であって、前記工程では、前記蛍光体分散液の吐出とその停止とを繰り返すことで、前記間欠的に噴霧し、前記吐出の時間T1は、5[ms]≦T1≦1000[ms]の条件を満たすことを特徴とする。
また、請求項2に記載の発明は、請求項7に記載の発光装置の製造方法であって、前記蛍光体分散液の吐出を停止している期間中に、0[ms]<T2≦1000[ms]の条件を満たす時間T2の範囲で、前記発光素子上に空気を噴霧することを特徴とする。
また、請求項9に記載の発明は、請求項7または請求項8に記載の発光装置の製造方法であって、前記吐出と停止を繰り返す周期T3は、50[ms]≦T3≦2000[ms]を満たすことを特徴とする。
また、請求項10に記載の発明は、請求項1〜請求項9のいずれか一つに記載の発光装置の製造方法であって、前記発光素子は、上面と側面とを有する板状に形成され、前記工程では、前記上面の法線方向に対して所定の角度θ1だけ傾けられた方向に、前記蛍光体分散液を吐出することで、前記発光素子上に塗布することを特徴とする。
また、請求項11に記載の発明は、請求項10に記載の発光装置の製造方法であって、前記角度θ1は、20°≦θ1≦70°の条件を満たすことを特徴とする。
また、請求項12に記載の発明は、請求項10に記載の発光装置の製造方法であって、前記角度θ1は、45°≦θ1≦70°の条件を満たすことを特徴とする。
また、請求項13に記載の発明は、請求項10〜請求項12のいずれか一つに記載の発光装置の製造方法であって、前記発光素子は、前記上面が四角形の形状であって、前記上面の周囲に4つの側面を有し、前記工程では、前記蛍光体分散液が吐出される方向と、隣接する2つの側面の成す角の二等分線を延長した方向とが、前記法線方向に垂直な面上で成す角度θ2が、−25°≦θ2≦25°の条件を満たして噴霧することで、前記上面と前記2つの側面とに前記蛍光体分散液を塗布することを特徴とする。
また、請求項14に記載の発明は、請求項13に記載の発光装置の製造方法であって、前記上面と前記2つの側面とに前記蛍光体分散液が塗布した後に、前記発光素子の向きを、前記上面の法線方向を軸に180°回転させ、前記2つの側面とは反対側に位置する他の2つの側面と、前記上面とに前記蛍光体分散液を塗布することを特徴とする。
また、請求項15に記載の発明は、請求項13に記載の発光装置の製造方法であって、前記上面と前記2つの側面とに前記蛍光体分散液が塗布した後に、前記発光素子の向きを、前記上面の法線方向を軸に90°回転させ、前記2つの側面の組とは異なる他の2つの側面の組と、前記上面とに前記蛍光体分散液を塗布することを特徴とする。
図1を参照しながら、本発明に係る蛍光体塗布装置1を用いて生成された発光装置50の構成について説明する。発光装置50は、基板51を有しており、その底部にはメタル部52が設けられ、メタル部52上には直方体状の発光素子53が配置されている。この発光素子53は、所定波長の光を出射する発光素子の一例である。発光素子53のメタル部52に対向する面には、突起電極54が設けられており、メタル部52と発光素子53とが突起電極54を介して接続されている(フリップチップ型)。なお、ここでは、一つの基板51に対して一つの発光素子53が設けられる構成を図示しているが、一つの基板51上に複数の発光素子53を設けることとしてもよい。
1液処方の場合、予め蛍光体分散液にセラミック前駆体液を加える。本実施形態で用いる有機金属化合物としては、例えば、金属アルコキシド、金属アセチルアセトネート、金属カルボキシレート等が挙げられるが、加水分解と重合反応によりゲル化し易い金属アルコキシドが好ましい。これにより、蛍光体分散液をスプレー塗布後、加熱する工程において、ゲル化状態を経て、さらに焼成する、いわゆるゾル・ゲル法により、透明セラミック層(ガラス体)を得ることができる。その透明セラミック層中に蛍光体、層状ケイ酸塩鉱物、無機微粒子を含有することとなり、強固な蛍光体分散膜(波長変換部)が形成可能となる。蛍光体分散液と有機金属化合物とを別々に塗布する場合に比べて、製造工程の簡略化が可能となる。
そのため、蛍光体分散液を塗布し乾燥させた後に、有機金属化合物を含むゾル状の前駆体液を、前記発光素子上に塗布してもよい(2液処方)。このように、蛍光体分散液とセラミック前駆体液とを分離し、2回に分けて塗布する構成とすることで、蛍光体分散液の保存安定性を高めるとともに、セラミック前駆体材料の反応が進行した場合においても蛍光体粒子が無駄にならない。なお、以降では、蛍光体分散液と有機金属化合物を含む液とを分離する場合を「2液処方」、前述した分離しない場合を「1液処方」と呼ぶ場合がある。
次に、波長変換部55を形成するために、発光素子53に対して蛍光体分散液をスプレー塗布する方法と、これを実現する蛍光体塗布装置について説明する。従来の方法では、発光素子53に蛍光体分散液をスプレー塗布する際に、発光素子を加熱することで乾燥性を高め、波長変換部55を形成していた。本実施形態では、蛍光体分散液の吐出と停止を繰り返して、発光素子53に蛍光体分散液を間欠的に塗布する。このように動作させることで、吐出を停止している間に蛍光体分散液の乾燥を促進させて、蛍光体分散液の塗布中に発光素子を加熱することなく波長変換部55を形成する。以降では、図2A及び図2Bを参照しながら、本実施形態に係る蛍光体塗布装置の構成について説明する。図2Aは、本実施形態に係る蛍光体塗布装置の構成を示した概略図である。なお、図2Aにおける横方向はx方向を示しており、これに垂直な縦方向はz方向、x方向及びz方向の双方に垂直な奥行き方向はy方向を示している。また、図2Bは、本実施形態に係る蛍光体塗布装置を、x方向から見た概略的な側面図である。
エアー供給部2は、エアーを供給する供給部であり、例えば、ポンプ等により構成されている。エアー供給部2には、エアー供給管21、22および23それぞれの一端が接続されている。エアー供給管22の他端は、タンク123に接続されている。即ち、エアー供給管22を介して出力されたエアーは、タンク123に供給される。このエアーの圧力により、タンク123内の蛍光体分散液が、配管122を介してノズル121まで供給される。また、エアー供給管23の他端は、ノズル121に供給され、エアーの供給と停止を逐次切り替えることで、ノズル先端のバルブを開閉し、ノズル開時にタンク123より供給された蛍光体液が、ノズル121から噴霧される。また、エアー供給管21の他端は、ノズル121に接続されている。即ち、エアー供給管21を介して出力されたエアーは、ノズル121に供給されて、ノズル121からエアーのみが噴霧される。エアー供給部2は、エアー供給管21、22及び23それぞれに独立してエアーを供給し、それぞれへのエアーの供給タイミングは、後述する吐出制御部32により制御される。これにより、例えば、エアー供給管23へのエアーの供給と停止を遂次切り替えることで、ノズル121から蛍光体分散液を間欠的に噴霧することが可能となる。また、エアー供給管23へのエアー供給を停止している間に、エアー供給管21にエアーを供給することで、蛍光体分散液の噴霧を停止している間に、ノズル121からエアーのみを噴霧させて、塗布された蛍光体分散液の乾燥を促進させることが可能となる。
制御部3は、位置制御部31と、吐出制御部32とを含んで構成されている。
次に、蛍光体分散液の塗布方法について説明する。本実施形態に発光装置50では、発光素子53の上面及び側面を覆うように波長変換部55を設けている。そのため、波長変換部55を形成する際に、発光素子53の上面及び側面の双方に蛍光体分散液を塗布する必要がある。そこで、本実施形態に係る蛍光体塗布装置1は、軸部材124を軸にスプレー手段12の向きを調整することで、ステージ13上の発光素子53に対する蛍光体分散液の吐出方向を調整し、発光素子53の上面及び側面の双方に蛍光体分散液を塗布する。以降では、この動作について具体的に説明する。
まず、蛍光体分散液の被塗布物である発光素子53(厳密には、発光素子53が設置された基板51)をステージ13上に設置する。
ステージ13上に発光素子53が設置されると、位置制御部31は、あらかじめ記憶された制御情報に基づき支持部11の動作を制御して、ノズル121の傾斜角がα1となるように調整する。なお、この制御情報は、ノズル121の傾斜角α1が、20[°]≦α1≦70[°](より好ましくは、45[°]≦α1≦70[°])の範囲内で調整されるように生成されている。
ここで、図4Aを参照する。ノズル121の傾斜角が調整されたら、位置制御部31は、回転機構116の動作を制御してステージ13を回転させることで、ノズル121が、側面532a及び532bの双方を臨むように、発光素子53とノズル121との間の相対的な位置関係を調整する。なお、この制御情報は、側面532a及び532bが成す角度の二等分線L21と、蛍光体分散液の吐出方向L20との成す角βが、−25[°]≦β≦25[°]の範囲内(より好ましくは、β=0[°])で調整されるように生成されている。また、このとき、ノズル121の傾斜角はα1となるように調整されているため、ノズル121は、上面531と側面532a及び532bとの3面を臨むように配置される。
図4Aに示すように、発光素子53及びノズル121が配置されたら、吐出制御部32は、あらかじめ記憶された制御情報に基づくタイミングでエアー供給部2の動作を制御し、ノズル121から蛍光体分散液またはエアーを噴霧させる。なお、この制御情報には、ノズル121から蛍光体分散液及びエアーそれぞれを吐出するタイミングを示す情報、具体的には、蛍光体分散液を吐出する時間T1、エアーを噴霧する時間T2、及び、蛍光体分散液の吐出と停止を繰り返す周期T3を示す情報が含まれている。なお、時間T1は、5[ms]≦T1≦1000[ms]、時間T2は、0[ms]<T2≦1000[ms]、周期T3は、50[ms]≦T3≦2000[ms]とすることが望ましい。
全ての側面532に対して蛍光体分散液の塗布が完了していない場合(ステップ15、N)には、位置制御部31は、回転機構116の動作を制御して、ノズル121が他の側面532を臨むようにステージ13を回転させる。このようにして、ノズル121と発光素子53との間の相対的な位置関係を変更されたら、吐出制御部32は、エアー供給部2の動作を制御し、ノズル121から蛍光体分散液またはエアーを噴霧させる。このように動作させることで、上面531と全ての側面532とに対して蛍光体分散液が塗布される。全ての側面532に対して蛍光体分散液が塗布されたら(ステップS15、Y)、蛍光体塗布装置1は、一連の動作を終了する。
次に、実施例1として、ノズル121の傾斜角α1を20[°]〜70[°]の範囲で変更した場合における、上面531への蛍光体分散液の付着性を検証した。この検証にあたり、縦250[μm]、横500[μm]、厚さ100[μm]の発光素子53を、300[μm]間隔で8×50個アレイ状に配置し、これらを被塗布物とした。また、スプレーノズルには、アネスト岩田製、AS−80−011を用いた。また、塗布物の組成として、蛍光体液に、平均粒径10〜20[μm]のYAG蛍光体を150g、層状ケイ酸塩鉱物に親水性スメクタイトを4g、無機微粒子にRX300を5g用い、溶剤には、イソプロピルアルコール100gと、エチレングリコール50gと、1、4−ブタンジオール50gとを混合したものを用いた。また、セラミック前駆体液には、ポリシロキサンとイソプロピルアルコールとを1:6の割合で混合したものを用いている。また、蛍光体塗布装置1の動作条件として、霧化圧力を0.1[Mpa]、塗布液圧力を0.01[Mpa]、塗布液吐出時間を50[msec]、エアー吐出時間を50[msec]、塗布液の吐出及び停止を繰り返す周波数を5[Hz]、ステージ13に対するノズル121の塗布液吐出期間中における相対移動速度を5[mm/sec]とした。また、塗布環境の条件として、気温を25℃、湿度を40%とした。
付着性評価では、実施例ごとに上面531の膜厚が40[μm]、側面532の膜厚が30[μm]となるように発光素子53上に波長変換部55を形成する。そのうえで、上面531と側面532の境界に相当するコーナー部の膜厚を測定し、30〜40[μm]の範囲の場合には「○」、それ以外の場合には「×」とした。即ち、この評価では、各面に対して均一な膜厚で波長変換部55が形成されているかを評価する。
比較例1は、従来どおり蛍光体分散液の塗布中に基板加熱処理を施すことで、発光素子53に塗布された蛍光体分散液を乾燥させる例を示している。比較例1では、溶剤組成比を、低沸点成分の30に対して高沸点成分を60とした。なお、溶剤については、一般的に、溶剤の沸点が高いものほど粘度が高く、蛍光体分散液中の蛍光体粒子を沈降させないためには、所定の粘度を要するため、高沸点の溶剤がより好ましい。一方で、スプレー手段12により霧化させるためには、揮発性が比較的高い低沸点の溶剤を添加することが好ましい。この組成比の溶剤を用いて蛍光体分散液を生成し、これを発光素子53に塗布する際、基板加熱処理を施してこれを乾燥させたものを評価の対象とした。図6Bに示すように、比較例1の付着性評価の結果は「○」であった。
比較例2は、比較例1と同様の溶剤組成比で蛍光体分散液を生成し、これを間欠塗布するのだが、その際、塗布中に基板加熱処理を行わない場合を示している。図6Bに示すように、比較例2の付着性評価の結果は「×」であった。比較例2に係るサンプルの具体的な状態について図6Cに示す。図6Cは、比較例2に係るサンプルの概形を示している。図6Cに示すように、比較例2に係るサンプルは、十分な乾燥性を得られず、塗布膜中に多くの残留溶剤が残るため、その表面張力によりコーナー部分に十分な膜厚を確保することができなかった。
比較例3は、溶剤として低沸点の溶剤のみを使用して蛍光体分散液を生成し、これを間欠塗布することで、加熱処理を行わずにこれを乾燥させる場合を示している。図6Bに示すように、付着性評価の結果は「×」であった。具体的には、比較例3に示す溶剤組成比の場合には、粘度が低く蛍光体粒子が沈降してしまい、塗布量を安定させることが困難で、付着性評価の結果を「×」としている。このように、低沸点成分が多すぎる場合には、蛍光体分散液は、分散状態での保存安定性が低く、これを塗布するためには常時撹拌し続ける必要があり、本実施形態に係る蛍光体分散液を生成するための溶剤の組成としては望ましくない。
次に、実施例2−1について説明する。本実施例では溶剤組成比として、低沸点成分を60、高沸点成分を40とした。即ち、本実施例では、比較例1及び比較例2に比べて低沸点成分の比率を高くしている。この溶剤を使用して蛍光体分散液を生成し、これを発光素子53に間欠塗布することで、加熱処理を行わずに乾燥させたものを評価の対象とした。図6Bに示すように、本実施例の付着性評価の結果は「○」であった。
次に、実施例2−2について説明する。本実施例では実施例2−1の溶剤組成比を基本として、高沸点の溶剤の一部を中沸点の溶剤に置き換えている。具体的には、低沸点成分を60、中沸点成分を30、高沸点成分を30とした。この溶剤を使用して蛍光体分散液を生成し、これを発光素子53に間欠塗布することで、加熱処理を行わずに乾燥させたものを評価の対象とした。図6Bに示すように、本実施例の付着性評価の結果は、実施例2−1と同様に「○」であった。なお、実施例2−1に示す溶剤は、乾燥性が高まるが粘度が経時変化するという問題がある。しかしながら、本実施例のように、中沸点の溶剤を加えることにより、実施例2−1の場合に比べて、粘度の経時変化を小さくすることが可能となる。
また、本実施形態に係る蛍光体塗布装置1は、ステージ13に載置された発光素子53に対して、上面531及び側面532の双方を臨むようにノズル121を傾斜させて蛍光体分散液を塗布する。このように動作させることで、上面531及び側面532の双方に容易に蛍光体分散液を塗布することが可能となる。また、ステージ13に対してノズル121を相対的に回転させることで、他の側面532に対しても同様に蛍光体分散液を塗布することが可能である。また、ノズル121の傾斜角α1を適宜調整することで、上面531及び側面532に塗布される蛍光体分散液の膜厚を容易に調整することが可能となる。
次に、変形例に係る蛍光体分散液の塗布方法について説明する。前述した実施形態では、上面531と隣接する2つの側面532の3面に蛍光体分散液を塗布した後、ステージ13を180[°]回転させてノズル121に対する発光素子53の向きを変更することで、他の2つの側面532に蛍光体分散液を塗布していた。換言すると、発光素子53の向きをxy平面上で180[°]ずつ変更しながら、蛍光体分散液を2回に分けて塗布することで、全ての側面532に対して蛍光体分散液を塗布していた。変形例に係る蛍光体分散液の塗布方法では、蛍光体分散液の塗布ごとに、発光素子53の向きをxy平面上で90[°]ずつ変更しながら、4回に分けて、発光素子53に蛍光体分散液を塗布する。以下に、図7A及び図7Bを参照しながら、変形例に係る蛍光体分散液の塗布方法について説明する。図7A及び図7Bは、変形例における塗布方法について説明するための図であり、xy平面上における発光素子53とノズル121との間の相対的な位置関係を示している。図7Aは、ノズル121が側面532a及び532bを臨むように配置されている場合を示している。また、図7Bは、図7Aの状態から、ステージ13をxy平面上で90[°]回転させて、ノズル121が側面532b及び532cを臨むように配置されている場合を示している。
11 支持部
111 ベース部材
112、113、114、117 支持部材
115 移動機構
116 回転機構
12 スプレー手段
121 ノズル
122 配管
122’ 液供給部
123 タンク
124 軸部材
125 シリンジ型タンク
1251 シリンジ
1252 プランジャー
1253 シリンジ/供給管接続部
1254 シリンジ/ノズル接続部
13 ステージ
131 凹部
21 エアー供給管
22 エアー供給管
23 エアー供給管
31 位置制御部
32 吐出制御部
2 エアー供給部
3 制御部
50 発光装置
51 基板
52 メタル部
53 発光素子
54 突起電極
55 波長変換部
Claims (15)
- 所定波長の光を出射する発光素子と、前記発光素子から出射された光を受けて、前記所定波長とは異なる波長の蛍光を出射する波長変換部と、を備える発光装置の製造方法であって、
前記発光素子を加熱することなく、蛍光体、無機微粒子、沈殿防止剤、及び溶剤を含む蛍光体分散液を、前記発光素子に向けて間欠的に噴霧することで当該発光素子上に塗布する段階を含み、前記波長変換部を形成する工程を備えたことを特徴とする発光装置の製造方法。 - 前記溶剤は、水もしくはアルコール、または、その組み合わせを含んで構成されていることを特徴とする請求項1に記載の発光装置の製造方法。
- 前記溶剤は、沸点が100℃未満のアルコールを含んで構成された第1の溶剤と、沸点が100℃以上の水またはアルコールを含んで構成された第2の溶剤とを含むことを特徴とする請求項2に記載の発光装置の製造方法。
- 前記第1の溶剤の成分重量M1と前記第2の溶剤の成分重量M2とが、M2≦M1≦M2×2の条件を満たすことを特徴とする請求項3に記載の発光装置の製造方法。
- 前記沈殿防止剤は、層状ケイ酸塩鉱物を含むことを特徴とする請求項1〜請求項4のいずれか一つに記載の発光装置の製造方法。
- 前記工程では、前記蛍光体分散液を塗布した後に、有機金属化合物を含むセラミック前駆体液を、前記発光素子上に塗布する段階を含むことを特徴とする請求項1〜請求項5のいずれか一つに記載の発光装置の製造方法。
- 前記工程では、前記蛍光体分散液の吐出とその停止とを繰り返すことで、前記間欠的に噴霧し、前記吐出の時間T1は、5[ms]≦T1≦1000[ms]の条件を満たすことを特徴とする請求項1〜請求項6のいずれか一つに記載の発光装置の製造方法。
- 前記蛍光体分散液の吐出を停止している期間中に、0[ms]<T2≦1000[ms]の条件を満たす時間T2の範囲で、前記発光素子上に空気を噴霧することを特徴とする請求項7に記載の発光装置の製造方法。
- 前記吐出と停止を繰り返す周期T3は、50[ms]≦T3≦2000[ms]を満たすことを特徴とする請求項7または請求項8に記載の発光装置の製造方法。
- 前記発光素子は、上面と側面とを有する板状に形成され、
前記工程では、前記上面の法線方向に対して所定の角度θ1だけ傾けられた方向に、前記蛍光体分散液を吐出することで、前記発光素子上に塗布することを特徴とする請求項1〜請求項9のいずれか一つに記載の発光装置の製造方法。 - 前記角度θ1は、20°≦θ1≦70°の条件を満たすことを特徴とする請求項10に記載の発光装置の製造方法。
- 前記角度θ1は、45°≦θ1≦70°の条件を満たすことを特徴とする請求項10に記載の発光装置の製造方法。
- 前記発光素子は、前記上面が四角形の形状であって、前記上面の周囲に4つの側面を有し、
前記工程では、前記蛍光体分散液が吐出される方向と、隣接する2つの側面の成す角の二等分線を延長した方向とが、前記法線方向に垂直な面上で成す角度θ2が、−25°≦θ2≦25°の条件を満たして噴霧することで、前記上面と前記2つの側面とに前記蛍光体分散液を塗布することを特徴とする請求項10〜請求項12のいずれか一つに記載の発光装置の製造方法。 - 前記上面と前記2つの側面とに前記蛍光体分散液が塗布した後に、前記発光素子の向きを、前記上面の法線方向を軸に180°回転させ、前記2つの側面とは反対側に位置する他の2つの側面と、前記上面とに前記蛍光体分散液を塗布することを特徴とする請求項13に記載の発光装置の製造方法。
- 前記上面と前記2つの側面とに前記蛍光体分散液が塗布した後に、前記発光素子の向きを、前記上面の法線方向を軸に90°回転させ、前記2つの側面の組とは異なる他の2つの側面の組と、前記上面とに前記蛍光体分散液を塗布することを特徴とする請求項13に記載の発光装置の製造方法。
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