JP5711150B2 - 被洗浄物の洗浄方法、および該洗浄方法に用いる洗浄装置 - Google Patents
被洗浄物の洗浄方法、および該洗浄方法に用いる洗浄装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5711150B2 JP5711150B2 JP2011547601A JP2011547601A JP5711150B2 JP 5711150 B2 JP5711150 B2 JP 5711150B2 JP 2011547601 A JP2011547601 A JP 2011547601A JP 2011547601 A JP2011547601 A JP 2011547601A JP 5711150 B2 JP5711150 B2 JP 5711150B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cleaning
- pressure
- composition
- tank
- kpa
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims description 508
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 200
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 255
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 122
- 230000004907 flux Effects 0.000 claims description 118
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 72
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 claims description 37
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 32
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 27
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 claims description 20
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 19
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims description 16
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 16
- -1 amine compound Chemical class 0.000 claims description 15
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 claims description 14
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 13
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 11
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 9
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 6
- 125000006353 oxyethylene group Chemical group 0.000 claims description 6
- 238000007654 immersion Methods 0.000 claims description 5
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 66
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 26
- 230000006837 decompression Effects 0.000 description 22
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 17
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 9
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 8
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 8
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 8
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 7
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 7
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 7
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 7
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 description 7
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 6
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 6
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 6
- BVKSYBQAXBWINI-LQDRYOBXSA-N (2s)-2-[[(2s)-2-[[(2s)-2-[[(2s)-2-[[(2s)-2-[[(2s)-6-amino-2-[[(2s)-2-amino-5-(diaminomethylideneamino)pentanoyl]amino]hexanoyl]amino]-5-(diaminomethylideneamino)pentanoyl]amino]-3-hydroxypropanoyl]amino]-5-(diaminomethylideneamino)pentanoyl]amino]propanoy Chemical compound OC(=O)CC[C@@H](C(O)=O)NC(=O)[C@H](C)NC(=O)[C@H](CCCN=C(N)N)NC(=O)[C@H](CO)NC(=O)[C@H](CCCN=C(N)N)NC(=O)[C@H](CCCCN)NC(=O)[C@@H](N)CCCN=C(N)N BVKSYBQAXBWINI-LQDRYOBXSA-N 0.000 description 5
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000006059 cover glass Substances 0.000 description 5
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 description 4
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 4
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 4
- 238000011086 high cleaning Methods 0.000 description 4
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 4
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- HYLLZXPMJRMUHH-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]butane Chemical compound CCCCOCCOCCOC HYLLZXPMJRMUHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- COBPKKZHLDDMTB-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-butoxyethoxy)ethoxy]ethanol Chemical compound CCCCOCCOCCOCCO COBPKKZHLDDMTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N Rosin Natural products O(C/C=C/c1ccccc1)[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 229940028356 diethylene glycol monobutyl ether Drugs 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 3
- 229910052751 metal Chemical class 0.000 description 3
- 239000002184 metal Chemical class 0.000 description 3
- JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N oxolane-2,4-dione Chemical compound O=C1COC(=O)C1 JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920002503 polyoxyethylene-polyoxypropylene Polymers 0.000 description 3
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 3
- KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N trans-cinnamyl beta-D-glucopyranoside Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC=CC1=CC=CC=C1 KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YFNKIDBQEZZDLK-UHFFFAOYSA-N triglyme Chemical compound COCCOCCOCCOC YFNKIDBQEZZDLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DJQULQXOZQDEBV-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]-2-methylpropane Chemical compound COCCOCCOCC(C)C DJQULQXOZQDEBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GZMAAYIALGURDQ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hexoxyethoxy)ethanol Chemical compound CCCCCCOCCOCCO GZMAAYIALGURDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WFSMVVDJSNMRAR-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-ethoxyethoxy)ethoxy]ethanol Chemical compound CCOCCOCCOCCO WFSMVVDJSNMRAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YJTIFIMHZHDNQZ-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-methylpropoxy)ethoxy]ethanol Chemical compound CC(C)COCCOCCO YJTIFIMHZHDNQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FETMDPWILVCFLL-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-propan-2-yloxyethoxy)ethoxy]ethanol Chemical compound CC(C)OCCOCCOCCO FETMDPWILVCFLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N Morpholine Chemical compound C1COCCN1 YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N Piperazine Chemical compound C1CNCCN1 GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001733 carboxylic acid esters Chemical class 0.000 description 2
- 239000006071 cream Substances 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940075557 diethylene glycol monoethyl ether Drugs 0.000 description 2
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 2
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 2
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 2
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 2
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 2
- CRVGTESFCCXCTH-UHFFFAOYSA-N methyl diethanolamine Chemical compound OCCN(C)CCO CRVGTESFCCXCTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- JLGLQAWTXXGVEM-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol monomethyl ether Chemical compound COCCOCCOCCO JLGLQAWTXXGVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MBRRDORCFVPYMA-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]propane Chemical compound CCCOCCOCCOC MBRRDORCFVPYMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KODLUXHSIZOKTG-UHFFFAOYSA-N 1-aminobutan-2-ol Chemical compound CCC(O)CN KODLUXHSIZOKTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-ethoxyethoxy)ethane Chemical compound CCOCCOCCOCC RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNJRPYFBORAQAU-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-methoxyethoxy)ethane Chemical compound CCOCCOCCOC CNJRPYFBORAQAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPIUIOXAFBGMNB-UHFFFAOYSA-N 1-hexoxyhexane Chemical compound CCCCCCOCCCCCC BPIUIOXAFBGMNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUXXCHAGQCBNTI-UHFFFAOYSA-N 1-n,1-n,2-n,2-n-tetramethylpropane-1,2-diamine Chemical compound CN(C)C(C)CN(C)C JUXXCHAGQCBNTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRWADRITRNUCIY-UHFFFAOYSA-N 2-(2-propan-2-yloxyethoxy)ethanol Chemical compound CC(C)OCCOCCO HRWADRITRNUCIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVCNXQOWACZAFN-UHFFFAOYSA-N 4-ethylmorpholine Chemical compound CCN1CCOCC1 HVCNXQOWACZAFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012935 Averaging Methods 0.000 description 1
- 238000004497 NIR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000003242 anti bacterial agent Substances 0.000 description 1
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 description 1
- 230000002421 anti-septic effect Effects 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 229940064004 antiseptic throat preparations Drugs 0.000 description 1
- 239000003899 bactericide agent Substances 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- YPHMISFOHDHNIV-FSZOTQKASA-N cycloheximide Chemical compound C1[C@@H](C)C[C@H](C)C(=O)[C@@H]1[C@H](O)CC1CC(=O)NC(=O)C1 YPHMISFOHDHNIV-FSZOTQKASA-N 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 229940019778 diethylene glycol diethyl ether Drugs 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 239000002563 ionic surfactant Substances 0.000 description 1
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- CXKWCBBOMKCUKX-UHFFFAOYSA-M methylene blue Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC2=[S+]C3=CC(N(C)C)=CC=C3N=C21 CXKWCBBOMKCUKX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229960000907 methylthioninium chloride Drugs 0.000 description 1
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 1
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 150000002780 morpholines Chemical class 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- UKODFQOELJFMII-UHFFFAOYSA-N pentamethyldiethylenetriamine Chemical compound CN(C)CCN(C)CCN(C)C UKODFQOELJFMII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/50—Solvents
- C11D7/5004—Organic solvents
- C11D7/5013—Organic solvents containing nitrogen
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
- B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
- B08B3/08—Cleaning involving contact with liquid the liquid having chemical or dissolving effect
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
- B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
- B08B3/10—Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration
- B08B3/12—Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration by sonic or ultrasonic vibrations
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K1/00—Soldering, e.g. brazing, or unsoldering
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K1/00—Soldering, e.g. brazing, or unsoldering
- B23K1/0008—Soldering, e.g. brazing, or unsoldering specially adapted for particular articles or work
- B23K1/0016—Brazing of electronic components
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K1/00—Soldering, e.g. brazing, or unsoldering
- B23K1/20—Preliminary treatment of work or areas to be soldered, e.g. in respect of a galvanic coating
- B23K1/206—Cleaning
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/22—Organic compounds
- C11D7/26—Organic compounds containing oxygen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/22—Organic compounds
- C11D7/32—Organic compounds containing nitrogen
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/0085—Apparatus for treatments of printed circuits with liquids not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46; conveyors and holding means therefor
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D2111/00—Cleaning compositions characterised by the objects to be cleaned; Cleaning compositions characterised by non-standard cleaning or washing processes
- C11D2111/10—Objects to be cleaned
- C11D2111/14—Hard surfaces
- C11D2111/22—Electronic devices, e.g. PCBs or semiconductors
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D2111/00—Cleaning compositions characterised by the objects to be cleaned; Cleaning compositions characterised by non-standard cleaning or washing processes
- C11D2111/40—Specific cleaning or washing processes
- C11D2111/46—Specific cleaning or washing processes applying energy, e.g. irradiation
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/30—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
- H05K3/32—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
- H05K3/34—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering
- H05K3/3489—Composition of fluxes; Methods of application thereof; Other methods of activating the contact surfaces
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Emergency Medicine (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
- Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
- Wire Bonding (AREA)
Description
0.1(kPa)≦P1≦7(kPa) (1)
50(kPa)≦P2≦120(kPa) (2)
前記洗浄剤組成物は、水(成分A)を2重量%以上10重量%以下、グリコールエーテル(成分B)を50重量%以上97.75重量%未満、及びアミン化合物(成分C)を0.05重量%以上5重量%以下含む。
前記成分Bは、下記一般式(1)で表される。
R1−O−(EO)m−R2 (1)
前記一般式(1)において、R1は炭素数1〜6のアルキル基、R2は水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基、EOはオキシエチレン基であり、mはEOの平均付加モル数を示し、2≦m≦3を満たす。
前記成分Cは、下記一般式(2)で表される。
前記一般式(2)において、R3は水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を示し、EOはオキシエチレン基であり、p、qは各々EOの平均付加モル数を示し、1≦p+q≦4を満たす。
前記洗浄槽内の前記洗浄剤組成物の前記水(成分A)の含有量を2重量%以上10重量%以下にするための水分制御機構を備える。
本発明の洗浄方法では、例えば、洗浄工程と、リンス剤組成物を用いて被洗浄物をすすぐリンス工程と、乾燥工程とをこの順で行う。
本発明の洗浄方法が好適に使用される被洗浄物としては、回路基板等と回路基板等にハンダ付けされた部品とを含む製造中間物であって、当該回路基板と部品との隙間にフラックス残渣を含むものが挙げられる。製造中間物は、半導体パッケージや半導体装置等の電子部品の製造工程における製造物中間であって、例えば、回路基板上にフラックスを使用したハンダ付けにより半導体チップ、チップ型コンデンサ、及び他の回路基板などが搭載された物を含む。
洗浄工程は、フラックス残渣が付着した被洗浄物を、圧力調整可能な洗浄槽内に収容された後述する洗浄剤組成物に浸漬する浸漬工程(浸漬工程は「第1工程」ともいう。)と、洗浄槽内の圧力が所定の値になるまで減圧する減圧工程(減圧工程は「第2工程」ともいう。)と、減圧工程で減圧された洗浄槽内の圧力を所定の圧力範囲内に、且つ、洗浄槽内の洗浄剤組成物の温度を所定の温度範囲内に、所定時間連続して保持する減圧保持工程(減圧保持工程は「第3工程」ともいう。)と、前記減圧保持工程を経た後、洗浄槽内の圧力を所定の値になるまで昇圧する昇圧工程(この工程は「第4工程」ともいう。)とを含む。
洗浄工程では、まず、洗浄剤組成物が収容された洗浄槽内にフラックス残渣が付着した被洗浄物を投入して、洗浄剤組成物に被洗浄物を浸漬する。
次に、洗浄槽内の圧力がP1(kPa)になるまで減圧する。P1は、関係式0.1(kPa)≦P1≦7(kPa)を満たす。
次に、減圧保持工程において、前記減圧工程で減圧された洗浄槽内の圧力を、P1±0.4kPaに、且つ、洗浄槽内の洗浄剤組成物の温度を50〜70℃に、8〜16秒間連続保持する。
時間平均保持温度Tx=Σ(Ti*ti)/Σti
[平均化する前の保持温度をTi、該温度で保持された時間をtiとする。]
次に、洗浄槽内の圧力がP2(kPa)になるまで昇圧する。P2は、関係式50≦P2≦120(kPa)を満たす。
本発明の洗浄方法は、狭い隙間に存在するフラックス残渣に対する洗浄性を高める観点から、第4工程後、後述する第5工程の前に行われ、洗浄槽内の圧力P3を、50〜120(kPa)の範囲内の圧力であって、P2±0.4(kPa)と等しいか又はP2±0.4(kPa)よりも高い圧力に8〜16秒間保持する昇圧後圧力保持工程(この工程は「第4a工程」ともいう。)をさらに含んでいると好ましい。特に、第4工程で洗浄剤組成物に超音波振動が印加される場合、本発明の洗浄方法は、洗浄性を向上させる観点から、前記第4a工程を含んでいると好ましい。
本発明の洗浄方法は、狭い隙間に存在するフラックス残渣に対する洗浄性の向上の観点から、前記第2工程〜第4工程をさらに1〜50回繰り返す工程(第5工程)を含むと好ましい。第5工程で繰り返し行われる第2〜第4工程は、第5工程の前に行われる前記第2〜第4工程と同じ条件で行えばよい。具体的には、狭い隙間に存在するフラックス残渣に対する洗浄性の向上と洗浄時間の短縮化の両立の観点から、繰り返し行われる第2工程では、洗浄槽内の圧力を0.1〜6(kPa)の範囲内の圧力に達するまで減圧することが好ましく、その減圧時間は減圧開始から1秒以上120秒以内であると好ましく、洗浄剤組成物の温度は50〜70℃であると好ましい。また、同様の観点から、繰り返し行われる第3工程では、洗浄槽内の圧力をP1±0.4(kPa)の圧力に保持することが好ましく、洗浄槽内の圧力をP1±0.1(kPa)の圧力に保持することがより好ましく、洗浄剤組成物の温度は、洗浄槽内の圧力がP1±0.4(kPa)である場合50〜70℃であると好ましく、洗浄剤組成物の温度は一定であるとより好ましく、減圧の保持時間は8〜16秒であると好ましい。同様の観点から、繰り返し行われる第4工程では、昇圧により達する圧力は常圧であることが好ましく、洗浄剤組成物の温度は50〜70℃であると好ましい。
本発明の洗浄方法では、1つの被洗浄物の洗浄のための洗浄工程の途中で、洗浄槽内の洗浄剤組成物に水を添加してもよい。また、複数の被洗浄物の洗浄のために洗浄槽が連続使用される場合、各被洗浄物の洗浄のための洗浄工程の途中及び/又は前に、洗浄槽内の洗浄剤組成物に水を添加してもよい。本発明の洗浄方法では、洗浄剤組成物を沸騰させるので、特に、第5工程において、第2工程〜第4工程を繰り返し行ううちに、洗浄剤組成物中の水の含有量が低減する場合がある。よって、本発明で使用する洗浄剤組成物中の各成分の配合割合の変動を抑制して高い洗浄性を維持するために、第1工程〜第5工程のうちの何れかの工程の前及び/又は途中で、洗浄槽内の洗浄剤組成物に水を添加して、洗浄剤組成物の組成の変動を抑制すると好ましい。
本発明の洗浄方法では、洗浄工程が、第1工程の前に、例えば、第1工程〜第5工程が行われる洗浄槽とは別の洗浄槽に収容された洗浄剤組成物中に被洗浄物を一定期間浸漬する工程をさらに含んでいてもよい。前記洗浄剤組成物は、第1工程〜第4工程で使用される後述する洗浄剤組成物と同じであってもよいし、後述する洗浄剤組成物以外の従来公知の、フラックス残渣が付着した被洗浄物を洗浄するための洗浄剤組成物であってもよい。洗浄剤組成物への浸漬時間は、例えば、1〜10分であると好ましい。
リンス工程は、被洗浄物に付着した洗浄剤組成物、残留したフラックス残渣、又は再付着したフラックス残渣等の汚れをすすぎ洗いする工程であり、本発明の洗浄方法が第4a工程および第5工程ともに含まない場合は、第4工程の後に、本発明の洗浄方法が第4a工程は含むが第5工程を含まない場合は、第4a工程の後に、本発明の洗浄方法が第5工程を含む場合は、第5工程の後に行われる。リンス工程は、1つのリンス槽を用いて行ってもよいし、2つ以上のリンス槽を用いて行ってもよい。
リンス工程の後に行われる乾燥工程では、例えば、リンス剤組成物から取り出された被洗浄物に温風を吹き付けることにより、表面に付着したリンス剤組成物を取り除いた後、真空乾燥容器内に搬送される。真空乾燥容器内の温度は、例えば、50〜100℃に設定され、真空乾燥容器内は、0.1〜5(kPa)に減圧される。真空乾燥容器による乾燥は、例えば、1〜30分間行えばよい。
次に、本発明の洗浄方法に使用される洗浄剤組成物について説明する。
成分Aは、蒸留水、イオン交換水、又は超純水等の水からなる。
成分Bは、下記一般式(1)で表されるグリコールエーテルからなる。
成分Cは、下記一般式(2)で表されるアミン化合物からなる。
洗浄剤組成物は、洗浄剤組成物を用いて被洗浄物を洗浄した場合に奏される、狭い隙間に存在するフラックス残渣に対する高い洗浄性、良好な水によるすすぎ性、および、低泡立ち性が損なわれない範囲で、成分C以外のアミン化合物として、モルホリン、エチルモルホリン等のモルホリン類;ピペラジン、トリエチルジアミン、ペンタメチルジエチレントリアミン、テトラメチルプロピレンジアミン等を含んでいてもよい。
洗浄剤組成物の調製方法は、何ら制限されず、成分A、成分B、及び成分Cを混合し、必要に応じて、成分Dおよび/又はその他の任意成分をさらに混合することによって調製できる。
洗浄剤組成物のpHは、被洗浄物の種類や洗浄後の被洗浄物の要求品質等に応じて適宜決定すればよいが、被洗浄物の腐食を抑制する観点から、8〜11が好ましく、9〜11がより好ましい。
本発明の電子部品の製造方法は、ハンダバンプを含む電子部品の製造方法であって、電子部品の基板上にハンダフラックスを使用してハンダバンプを形成する工程と、本発明の洗浄方法によりハンダフラックス由来のフラックス残渣を洗浄する工程とを含む。すなわち、本発明の電子部品の製造方法は、ハンダフラックスを用いて基板上に部品をハンダ付けし、次いで、リフローして、前記基板上にハンダバンプを介して前記部品が搭載された製造中間物(被洗浄物)を得る工程と、前記基板と前記部品との隙間に存在するハンダフラックス由来のフラックス残渣を、本発明の洗浄方法により洗浄する工程とを含む。ハンダバンプは、例えば、ペースト状のハンダフラックスを基板上に印刷塗布してその後加熱(リフロー)してハンダバンプを形成する印刷法や、基板上に形成したレジスト層の開口部に電気ハンダメッキを行いその後加熱(リフロー)してハンダバンプを形成するメッキ法、基板上に形成したレジスト層の開口部にペースト状のハンダフラックスを充填してその後加熱(リフロー)してハンダバンプを形成する方法など、従来公知のフラックスを用いるハンダバンプの形成方法により形成できる。
クリームハンダ(タムラ化研製LIFSOLDER LF-204-11)を銅板に塗布した後、これらを窒素雰囲気下で熱処理(250℃)して、フラックス残渣を調製した。即ち、前記熱処理によりクリームハンダ中のフラックスを融かしてハンダ金属から浮かせ、ハンダ金属とフラックス残渣とを分けた。フラックス残渣は銅板上において茶褐色のまくのような汚れとして観察できる。
図1Aおよび図1Bに示されるように、市販のMPU(micro processing unit)のPKG基板1の一方の主面に1対のアルミ板2をその間隔W4が3mmとなるよう相互に平行に配置し、1対のアルミ板2上にカバーガラス5を配置した。カバーガラス5とPKG基板1との間の空間の高さW3は50μmである。1対のアルミ板2のPKG基板1への固定、および、カバーガラス5の1対のアルミ板2への固定は、エポキシ樹脂3aを用いて行い、PKG基板1、1対のアルミ板2、カバーガラス5で囲まれた隙間17を形成した。
次に、テストピースを治具にセットした後、空気溜まり6が領域4よりも下になるように洗浄槽(容積:25L)内の洗浄剤組成物(60℃、5L)に浸漬した。次いで、洗浄槽内の圧力を、例えば19kPa/s(実施例1の場合)の速度で表1、表3、表5、および表6に示された圧力P1に達するまで減圧する減圧工程を経た後、その減圧された圧力を表1、表3、表5、および表6に示された時間保持し(「減圧保持時間」参照)、次いで、洗浄槽内の圧力を、例えば19kPa/s(実施例1の場合)の速度で表1、表3、表5、および表6に示された圧力P2に達するまで昇圧した。圧力P2が常圧(101.3(kPa))に等しい場合は、その後、洗浄槽内の圧力を表1、表3、表5、および表6に記載された時間(「昇圧後圧力保持時間」参照)常圧に保持した。圧力P2が常圧より低い場合は、その洗浄槽内の圧力を、表1、表3、表5、および表6に記載された時間(「昇圧後圧力保持時間」参照)保持した。減圧工程、減圧保持工程、昇圧工程、および昇圧後圧力保持工程からなる一連の工程は、表1、表3、表5、および表6に記載の回数行った(「サイクル数」参照)。ただし、比較例1では、減圧も昇圧も行わなかった。また、実施例16〜17、比較例2、20〜23については、昇圧後圧力保持工程は行わなかった。比較例13については、減圧保持工程および昇圧後圧力保持工程は行わなかった。
洗浄剤組成物に印加される超音波振動のエネルギー密度が0.5W/cm2であること以外は、隙間洗浄性試験1と同様の試験をした。尚、隙間洗浄性試験2(a)は、実施例1〜13の洗浄剤組成物および比較例1〜13の洗浄剤組成物について行った。
洗浄工程におけるサイクル数が、隙間洗浄性試験2(a)におけるそれの2倍であること以外は、隙間洗浄性試験2(a)と同様の試験をした。尚、隙間洗浄性試験2(b)は、実施例1〜13の洗浄剤組成物および比較例1〜13の洗浄剤組成物について行った。
実施例14〜15の洗浄剤組成物および比較例14〜19の洗浄剤組成物について、超音波振動は付与しなかったこと以外は隙間洗浄性試験1と同様にして試験を行った。ただし、比較例14では、減圧も昇圧も行わなかった。また、実施例14,15、比較例15〜19については、昇圧後圧力保持工程は行わなかった。
この試験には、図3に示されるように、洗浄工程が行われる洗浄槽11、プレリンスが行われる第1すすぎ槽12、仕上げリンス工程が行われる第2すすぎ槽13を含む洗浄装置を用いた。また、前記<テストピースの作成>と同じ方法で作成したテストピースを20個用意した。
<フラックス残渣の洗浄性の判定基準>
A:洗浄率が90%以上
B: 洗浄率が80%以上90%未満
C:洗浄率が70%以上80%未満
D:洗浄率が60%以上70%未満
E:洗浄率が50%以上60%未満
F:洗浄率が50%未満
すすぎ性試験では、前記テストピースにおける1対のガラス板間の隙間17に入った洗浄剤組成物を水でどの程度濯げるか、テストした。ただし、この試験に用いるテストピースについては、前記隙間17にフラックス残渣は充填していない。
A:すすぎ性が90%以上
B:すすぎ性が70%以上90%未満
C:すすぎ性が50%以上70%未満
D:すすぎ性が50%未満
(a)図2に示された容器7内に、洗浄剤組成物を2リットル入れ、容器7内を減圧(5kPa)した時の泡の高さ、(b)図2に示された容器7内に、洗浄剤組成物の濃度が10重量%となるように洗浄剤組成物を水で希釈して得た希釈液(プレリンス工程用のリンス剤組成物に相当)を2リットル入れ、容器7内を減圧(5kPa)した時の泡の高さを目視にて観察した。
A:泡高さが10cm未満
B:泡高さが10cm以上20cm未満
C:泡高さが20cm以上
[成分B]
シ゛エチレンク゛リコールモノフ゛チルエーテル(日本乳化剤社製)
トリエチレンク゛リコールモノフ゛チルエーテル(日本乳化剤社製)
シ゛エチレンク゛リコールモノヘキシルエーテル(日本乳化剤社製)
トリエチレンク゛リコールシ゛メチルエーテル(日本乳化剤社製)
[成分C]
シ゛エタノールアミン(和光純薬工業社製)
メチルシ゛エタノールアミン(和光純薬工業社製)
[成分D]
SecC12-14−O−(EO)7H(非イオン性界面活性剤、日本触媒社製)
SecC12-14−O−(EO)7Hは、SecC12−O−(EO)7HとSecC14−O−(EO)7Hとの混合物である。
[任意成分]
グリセリン(花王社製)
[その他]
ソルベントナフサ(和光純薬工業社製)
界面活性剤10%水溶液:BASF社 Lutensol XL-70(非イオン界面活性剤の10重量%水溶液)
Claims (10)
- 洗浄剤組成物を用いてフラックス残渣が付着した被洗浄物を洗浄する洗浄工程を含み、
前記洗浄工程は、
フラックス残渣が付着した被洗浄物を、圧力調整可能な洗浄槽内に収容された前記洗浄剤組成物に浸漬する浸漬工程(第1工程)と、
前記洗浄槽内の圧力を、下記式(1)を満たす圧力P1(kPa)に減圧して、前記洗浄剤組成物に含まれる水を沸騰させる減圧工程(第2工程)と、
0.1(kPa)≦P1≦4(kPa) (1)
前記減圧工程で減圧された前記洗浄槽内の圧力をP1±0.4(kPa)に、且つ、前記洗浄槽内の前記洗浄剤組成物の温度を50〜70℃に、8〜16秒間連続して保持して、前記水の沸騰状態を保持する減圧保持工程(第3工程)と、
前記減圧保持工程を経た後、前記洗浄槽内の圧力を下記式(2)を満たす圧力P2(kPa)にする昇圧工程(第4工程)とを含み、
50(kPa)≦P2≦120(kPa) (2)
前記第2工程〜第4工程までを、10〜220秒間で行い、
前記洗浄剤組成物は、
水(成分A)を2重量%以上10重量%以下、
グリコールエーテル(成分B)を50重量%以上97.75重量%未満及び、
アミン化合物(成分C)を0.05重量%以上5重量%以下含み、
前記成分Bは、下記一般式(1)で表され、
R1−O−(EO)m−R2 (1)
〔前記一般式(1)において、R1は炭素数1〜6のアルキル基、R2は水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基、EOはオキシエチレン基であり、mはEOの平均付加モル数を示し、2≦m≦3を満たす。〕
前記成分Cは、下記一般式(2)で表される、
被洗浄物の洗浄方法。 - 少なくとも前記第2工程〜前記第4工程をさらに1〜50回繰り返す工程(第5工程)をさらに含み、
前記第5工程で繰り返えされる前記第2工程〜前記第4工程までを各々10〜220秒間で行う、請求項1に記載の被洗浄物の洗浄方法。 - 前記第4工程の後に、前記洗浄槽内の圧力を、50〜120kPaの範囲内の圧力であって、P2±0.4(kPa)と等しいか又はP2±0.4(kPa)よりも高い圧力に8〜16秒間保持する昇圧後圧力保持工程(第4a工程)をさらに含む、請求項1または2に記載の、被洗浄物の洗浄方法。
- さらに、水を90〜99.9999重量%含むリンス剤組成物で前記被洗浄物をリンスするリンス工程を含む、請求項1〜3のいずれかの項に記載の、被洗浄物の洗浄方法。
- 前記リンス工程が、第5工程における、第2工程〜4工程で用いる前記洗浄剤組成物を前記リンス剤組成物に代えて行われる、請求項4に記載の被洗浄物の洗浄方法。
- 前記洗浄工程の前記第3工程を、前記洗浄剤組成物へ超音波振動を印加しながら行う、請求項1〜5のいずれかの項に記載の被洗浄物の洗浄方法。
- 前記リンス工程の第3工程を、前記リンス剤組成物へ超音波振動を印加しながら行う、請求項5に記載の被洗浄物の洗浄方法。
- 電子部品の基板上に、フラックスを含むハンダフラックスを使用してハンダバンプを形成する工程と、
請求項1〜7のいずれかの項に記載の前記被洗浄物の洗浄方法により前記フラックス由来の前記フラックス残渣を洗浄する工程とを含む、ハンダバンプを含む電子部品の製造方法。 - 請求項1〜7のいずれかの項に記載の被洗浄物の洗浄方法に使用される洗浄装置であって、
前記洗浄装置は、
内部に洗浄剤組成物を貯留可能とし、内部の圧力を調整可能とする圧力調整部と、内部に貯留された洗浄剤組成物の水の濃度を測定可能とする水分計とを含む、洗浄槽と、
洗浄剤組成物を貯留可能とするサブタンクと、
前記洗浄槽と前記サブタンクとを連通可能とし、前記水分計による測定値に応じて流路を開閉可能とするバルブを備えた循環管路と、
前記水分計による測定値に応じて前記洗浄槽内の洗浄剤組成物と前記サブタンク内の洗浄剤組成物とを前記循環管路を介して循環させる送液部とを含み、
前記サブタンクと前記水分計と前記バルブを備えた前記循環管路は、前記水分計による前記洗浄組成物の水の濃度の測定値が所定の範囲内の値でなくなると、前記バルブが開くとともに、前記送液部が動作し、前記洗浄槽内の前記洗浄組成物の水の濃度が前記所定の範囲内の値になるまで、前記サブタンク内の前記洗浄剤組成物と前記洗浄槽内の前記洗浄組成物とを前記循環管路を介して循環させうる、水分制御機構を構成しており、
前記所定の範囲が、2重量%以上10重量%以下である、洗浄装置。 - 前記水分制御機構は、前記サブタンクに設けられた水分計を更に含む、請求項9に記載の洗浄装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011547601A JP5711150B2 (ja) | 2009-12-28 | 2010-12-22 | 被洗浄物の洗浄方法、および該洗浄方法に用いる洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009298993 | 2009-12-28 | ||
JP2009298993 | 2009-12-28 | ||
PCT/JP2010/073177 WO2011081071A1 (ja) | 2009-12-28 | 2010-12-22 | 被洗浄物の洗浄方法、および該洗浄方法に用いる洗浄装置 |
JP2011547601A JP5711150B2 (ja) | 2009-12-28 | 2010-12-22 | 被洗浄物の洗浄方法、および該洗浄方法に用いる洗浄装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2011081071A1 JPWO2011081071A1 (ja) | 2013-05-09 |
JP5711150B2 true JP5711150B2 (ja) | 2015-04-30 |
Family
ID=44226478
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011547601A Active JP5711150B2 (ja) | 2009-12-28 | 2010-12-22 | 被洗浄物の洗浄方法、および該洗浄方法に用いる洗浄装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5711150B2 (ja) |
KR (1) | KR101824445B1 (ja) |
TW (1) | TWI504450B (ja) |
WO (1) | WO2011081071A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10062837B2 (en) | 2015-11-25 | 2018-08-28 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Method of forming magnetic patterns, and method of manufacturing magnetic memory devices |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013244447A (ja) * | 2012-05-25 | 2013-12-09 | Rix Corp | フラックス洗浄装置 |
JP6158060B2 (ja) * | 2013-12-10 | 2017-07-05 | 花王株式会社 | 半田フラックス残渣除去用洗浄剤組成物 |
JP6202678B2 (ja) * | 2014-02-03 | 2017-09-27 | 花王株式会社 | 半田フラックス残渣除去用洗浄剤組成物 |
JP6345512B2 (ja) * | 2014-06-30 | 2018-06-20 | 花王株式会社 | 半田フラックス残渣除去用洗浄剤組成物 |
CN105127535B (zh) * | 2015-09-25 | 2017-11-14 | 广东小天才科技有限公司 | 一种潮敏器件的取焊和焊接方法 |
KR101996370B1 (ko) * | 2018-10-17 | 2019-07-05 | 서영파일테크 주식회사 | 탄성부재의 플로킹공정 |
KR102266933B1 (ko) * | 2019-12-30 | 2021-06-21 | 주식회사 금호 | 도금액 제거용 초음파 세척장치 |
CN111180312B (zh) * | 2019-12-31 | 2023-08-11 | 贵州振华风光半导体股份有限公司 | 一种适用于集成电路的回流焊清洗方法 |
CN114101191A (zh) * | 2021-11-19 | 2022-03-01 | 横店集团东磁股份有限公司 | 一种太阳能单晶电池刻蚀工序所用行走滚轮的清洗方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07185484A (ja) * | 1993-12-24 | 1995-07-25 | Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd | 減圧洗浄方法及び装置 |
JPH0987668A (ja) * | 1995-09-27 | 1997-03-31 | Dai Ichi Kogyo Seiyaku Co Ltd | 洗浄剤組成物、及びこれの再処理方法 |
JP2001170577A (ja) * | 1999-12-21 | 2001-06-26 | Seiko Epson Corp | 洗浄方法 |
JP2004241754A (ja) * | 2002-07-16 | 2004-08-26 | Chem Art Technol:Kk | 基板処理方法及び基板処理装置 |
JP2009041094A (ja) * | 2007-08-10 | 2009-02-26 | Kao Corp | ハンダフラックス用洗浄剤組成物 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1098373C (zh) * | 1995-02-17 | 2003-01-08 | 松下电器产业株式会社 | 零件的洗净方法 |
TWI250206B (en) * | 2000-06-01 | 2006-03-01 | Asahi Kasei Corp | Cleaning agent, cleaning method and cleaning apparatus |
WO2002019406A1 (fr) * | 2000-09-01 | 2002-03-07 | Tokuyama Corporation | Solution de nettoyage destinee a l'elimination de residus |
-
2010
- 2010-12-22 KR KR1020127019758A patent/KR101824445B1/ko active IP Right Grant
- 2010-12-22 JP JP2011547601A patent/JP5711150B2/ja active Active
- 2010-12-22 WO PCT/JP2010/073177 patent/WO2011081071A1/ja active Application Filing
- 2010-12-28 TW TW099146660A patent/TWI504450B/zh active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07185484A (ja) * | 1993-12-24 | 1995-07-25 | Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd | 減圧洗浄方法及び装置 |
JPH0987668A (ja) * | 1995-09-27 | 1997-03-31 | Dai Ichi Kogyo Seiyaku Co Ltd | 洗浄剤組成物、及びこれの再処理方法 |
JP2001170577A (ja) * | 1999-12-21 | 2001-06-26 | Seiko Epson Corp | 洗浄方法 |
JP2004241754A (ja) * | 2002-07-16 | 2004-08-26 | Chem Art Technol:Kk | 基板処理方法及び基板処理装置 |
JP2009041094A (ja) * | 2007-08-10 | 2009-02-26 | Kao Corp | ハンダフラックス用洗浄剤組成物 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10062837B2 (en) | 2015-11-25 | 2018-08-28 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Method of forming magnetic patterns, and method of manufacturing magnetic memory devices |
US10833251B2 (en) | 2015-11-25 | 2020-11-10 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Composition for cleaning magnetic patterns |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI504450B (zh) | 2015-10-21 |
JPWO2011081071A1 (ja) | 2013-05-09 |
WO2011081071A1 (ja) | 2011-07-07 |
KR101824445B1 (ko) | 2018-02-01 |
KR20120108034A (ko) | 2012-10-04 |
TW201134562A (en) | 2011-10-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5711150B2 (ja) | 被洗浄物の洗浄方法、および該洗浄方法に用いる洗浄装置 | |
JP5152816B2 (ja) | 被洗浄物の洗浄方法 | |
JP5428859B2 (ja) | 鉛フリーハンダフラックス除去用洗浄剤組成物、および鉛フリーハンダフラックスの除去方法 | |
JP6412377B2 (ja) | 樹脂マスク層用洗浄剤組成物及び回路基板の製造方法 | |
JP5466836B2 (ja) | フラックス用洗浄剤組成物 | |
JP6707546B2 (ja) | 半導体基板からフォトレジストを除去するための剥離組成物 | |
WO2011027673A1 (ja) | 鉛フリーハンダ水溶性フラックス除去用洗浄剤、除去方法及び洗浄方法 | |
KR20190025667A (ko) | 스크린판용 세정제 조성물 | |
KR102323027B1 (ko) | 땜납이 고화된 회로 기판의 제조 방법, 전자 부품이 탑재된 회로 기판의 제조 방법 및 플럭스용 세정제 조성물 | |
TWI696693B (zh) | 助焊劑用清潔劑組合物 | |
JP5252853B2 (ja) | ハンダフラックス用洗浄剤組成物 | |
KR102225717B1 (ko) | 땜납 플럭스 잔사 제거용 세정제 조성물 | |
JP7385597B2 (ja) | フラックス残渣除去用洗浄剤組成物 | |
CN110741738B (zh) | 漂洗剂以及漂洗剂的使用方法 | |
JP6824719B2 (ja) | ネガ型樹脂マスク剥離用洗浄剤組成物 | |
JP4069396B2 (ja) | 洗浄剤組成物 | |
JP6316713B2 (ja) | 回路基板の製造方法 | |
JP6202678B2 (ja) | 半田フラックス残渣除去用洗浄剤組成物 | |
JP6345512B2 (ja) | 半田フラックス残渣除去用洗浄剤組成物 | |
JP2022044034A (ja) | フラックス用洗浄剤組成物 | |
JP2022072721A (ja) | 洗浄剤組成物及び洗浄剤組成物用原液 | |
JP2022104315A (ja) | フラックス用洗浄剤組成物 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20131016 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20141030 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20141222 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150226 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150305 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5711150 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |