JP5673885B1 - 不飽和基を有する新規化合物及びこの化合物を含む組成物 - Google Patents
不飽和基を有する新規化合物及びこの化合物を含む組成物 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5673885B1 JP5673885B1 JP2014157051A JP2014157051A JP5673885B1 JP 5673885 B1 JP5673885 B1 JP 5673885B1 JP 2014157051 A JP2014157051 A JP 2014157051A JP 2014157051 A JP2014157051 A JP 2014157051A JP 5673885 B1 JP5673885 B1 JP 5673885B1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- group
- composition
- sheet
- metal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims abstract description 170
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title description 149
- 125000004169 (C1-C6) alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 15
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 15
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 claims abstract description 15
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 38
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 33
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 24
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 16
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 11
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 claims description 10
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 claims description 10
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims description 10
- 125000004170 methylsulfonyl group Chemical group [H]C([H])([H])S(*)(=O)=O 0.000 claims description 10
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 claims description 10
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 claims description 10
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 claims description 10
- 125000001425 triazolyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract description 126
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 126
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 103
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 87
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 25
- 238000005536 corrosion prevention Methods 0.000 abstract description 13
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 abstract description 9
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- 150000002367 halogens Chemical group 0.000 abstract description 5
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 96
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 89
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 86
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 86
- BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 1,1-Difluoroethene Chemical compound FC(F)=C BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 84
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 69
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 63
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 63
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 53
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 51
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 50
- -1 benzotriazole compound Chemical class 0.000 description 49
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 48
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 45
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 43
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 43
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 43
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 40
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 38
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 33
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 33
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 28
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 27
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 26
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 26
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 24
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 23
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 22
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 22
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 21
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 21
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 20
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 20
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 20
- HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N hexafluoropropylene Chemical compound FC(F)=C(F)C(F)(F)F HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 20
- 239000000463 material Substances 0.000 description 19
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 description 18
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 14
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 14
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 13
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 12
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 11
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 11
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 11
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 11
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 10
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 10
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 10
- 239000002082 metal nanoparticle Substances 0.000 description 10
- 239000002070 nanowire Substances 0.000 description 10
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 10
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 9
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 9
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 8
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 8
- ZSUXOVNWDZTCFN-UHFFFAOYSA-L tin(ii) bromide Chemical compound Br[Sn]Br ZSUXOVNWDZTCFN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 8
- JMXKSZRRTHPKDL-UHFFFAOYSA-N titanium ethoxide Chemical compound [Ti+4].CC[O-].CC[O-].CC[O-].CC[O-] JMXKSZRRTHPKDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229920000089 Cyclic olefin copolymer Polymers 0.000 description 7
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 7
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 7
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 7
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 7
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 7
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 7
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 7
- 230000003449 preventive effect Effects 0.000 description 7
- 229920002818 (Hydroxyethyl)methacrylate Polymers 0.000 description 6
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical class C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 6
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 6
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 6
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 6
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 6
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 6
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 6
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 6
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 6
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(dodecanoyloxy)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 5
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000012975 dibutyltin dilaurate Substances 0.000 description 5
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 5
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 5
- 229920003145 methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 5
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 5
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- TXUICONDJPYNPY-UHFFFAOYSA-N (1,10,13-trimethyl-3-oxo-4,5,6,7,8,9,11,12,14,15,16,17-dodecahydrocyclopenta[a]phenanthren-17-yl) heptanoate Chemical compound C1CC2CC(=O)C=C(C)C2(C)C2C1C1CCC(OC(=O)CCCCCC)C1(C)CC2 TXUICONDJPYNPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxybutane Chemical compound CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HCFAJYNVAYBARA-UHFFFAOYSA-N 4-heptanone Chemical compound CCCC(=O)CCC HCFAJYNVAYBARA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005033 Fourier transform infrared spectroscopy Methods 0.000 description 4
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 4
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910021626 Tin(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 4
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 4
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N butan-1-olate;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-] YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 4
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 4
- KYKAJFCTULSVSH-UHFFFAOYSA-N chloro(fluoro)methane Chemical compound F[C]Cl KYKAJFCTULSVSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UUAGAQFQZIEFAH-UHFFFAOYSA-N chlorotrifluoroethylene Chemical group FC(F)=C(F)Cl UUAGAQFQZIEFAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JGFBRKRYDCGYKD-UHFFFAOYSA-N dibutyl(oxo)tin Chemical compound CCCC[Sn](=O)CCCC JGFBRKRYDCGYKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003759 ester based solvent Substances 0.000 description 4
- FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N ethenoxyethane Chemical compound CCOC=C FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JBTWLSYIZRCDFO-UHFFFAOYSA-N ethyl methyl carbonate Chemical compound CCOC(=O)OC JBTWLSYIZRCDFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 4
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 4
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 4
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N octanoic acid Chemical compound CCCCCCCC(O)=O WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N pentan-3-one Chemical compound CCC(=O)CC FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 4
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 4
- 235000011150 stannous chloride Nutrition 0.000 description 4
- 239000001119 stannous chloride Substances 0.000 description 4
- 150000003606 tin compounds Chemical class 0.000 description 4
- 150000003609 titanium compounds Chemical class 0.000 description 4
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 4
- 229920003067 (meth)acrylic acid ester copolymer Polymers 0.000 description 3
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 3
- 235000002597 Solanum melongena Nutrition 0.000 description 3
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 3
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 3
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 3
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 3
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 3
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M methacrylate group Chemical group C(C(=C)C)(=O)[O-] CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000010702 perfluoropolyether Substances 0.000 description 3
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 3
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 3
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 3
- HJIAMFHSAAEUKR-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound OC1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 HJIAMFHSAAEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VBZPIGKEEYHBHH-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxy-2-propylphenyl)-phenylmethanone Chemical compound CCCC1=C(O)C=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 VBZPIGKEEYHBHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MIZLGWKEZAPEFJ-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-trifluoroethene Chemical group FC=C(F)F MIZLGWKEZAPEFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FKTHNVSLHLHISI-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(isocyanatomethyl)benzene Chemical compound O=C=NCC1=CC=CC=C1CN=C=O FKTHNVSLHLHISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GJZFGDYLJLCGHT-UHFFFAOYSA-N 1,2-diethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=C(CC)C(CC)=CC=C3SC2=C1 GJZFGDYLJLCGHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UYEDESPZQLZMCL-UHFFFAOYSA-N 1,2-dimethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=C(C)C(C)=CC=C3SC2=C1 UYEDESPZQLZMCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenyl-2-propan-2-yloxyethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC(C)C)C(=O)C1=CC=CC=C1 MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VNQXSTWCDUXYEZ-UHFFFAOYSA-N 1,7,7-trimethylbicyclo[2.2.1]heptane-2,3-dione Chemical compound C1CC2(C)C(=O)C(=O)C1C2(C)C VNQXSTWCDUXYEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKEGCUDAFWNSSO-UHFFFAOYSA-N 1,8-dibromooctane Chemical compound BrCCCCCCCCBr DKEGCUDAFWNSSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNSNJGRCQCDRDM-UHFFFAOYSA-N 1-chlorothioxanthen-9-one Chemical compound S1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2Cl YNSNJGRCQCDRDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XVEDWGDCDJUXSW-UHFFFAOYSA-N 1-methylxanthen-9-one Chemical compound O1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2C XVEDWGDCDJUXSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PIZHFBODNLEQBL-UHFFFAOYSA-N 2,2-diethoxy-1-phenylethanone Chemical compound CCOC(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 PIZHFBODNLEQBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEQOJEGTZCTHCF-UHFFFAOYSA-N 2-amino-1-phenylethanone Chemical compound NCC(=O)C1=CC=CC=C1 HEQOJEGTZCTHCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FGTYTUFKXYPTML-UHFFFAOYSA-N 2-benzoylbenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 FGTYTUFKXYPTML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 2-ethylanthraquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC=C3C(=O)C2=C1 SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TYCFGHUTYSLISP-UHFFFAOYSA-N 2-fluoroprop-2-enoic acid Chemical group OC(=O)C(F)=C TYCFGHUTYSLISP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WLVPRARCUSRDNI-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1-phenyl-1-propanone Chemical compound CC(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 WLVPRARCUSRDNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IEVADDDOVGMCSI-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxybutyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCC(O)COC(=O)C(C)=C IEVADDDOVGMCSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NJRHMGPRPPEGQL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxybutyl prop-2-enoate Chemical compound CCC(O)COC(=O)C=C NJRHMGPRPPEGQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VHSHLMUCYSAUQU-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropyl methacrylate Chemical compound CC(O)COC(=O)C(C)=C VHSHLMUCYSAUQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWZMWHWAWHPNHN-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropyl prop-2-enoate Chemical compound CC(O)COC(=O)C=C GWZMWHWAWHPNHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DPNXHTDWGGVXID-UHFFFAOYSA-N 2-isocyanatoethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCN=C=O DPNXHTDWGGVXID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JWUJQDFVADABEY-UHFFFAOYSA-N 2-methyltetrahydrofuran Chemical compound CC1CCCO1 JWUJQDFVADABEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- GNSFRPWPOGYVLO-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCO GNSFRPWPOGYVLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QZPSOSOOLFHYRR-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl prop-2-enoate Chemical compound OCCCOC(=O)C=C QZPSOSOOLFHYRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TXFPEBPIARQUIG-UHFFFAOYSA-N 4'-hydroxyacetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 TXFPEBPIARQUIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Diphenylmethane Diisocyanate Chemical compound C1=CC(N=C=O)=CC=C1CC1=CC=C(N=C=O)C=C1 UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YKXAYLPDMSGWEV-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybutyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCO YKXAYLPDMSGWEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NDWUBGAGUCISDV-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybutyl prop-2-enoate Chemical compound OCCCCOC(=O)C=C NDWUBGAGUCISDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDSULTPOCMWJCM-UHFFFAOYSA-N 4h-chromene-2,3-dione Chemical compound C1=CC=C2OC(=O)C(=O)CC2=C1 CDSULTPOCMWJCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XFOFBPRPOAWWPA-UHFFFAOYSA-N 6-hydroxyhexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCCCO XFOFBPRPOAWWPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OCIFJWVZZUDMRL-UHFFFAOYSA-N 6-hydroxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound OCCCCCCOC(=O)C=C OCIFJWVZZUDMRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- OIFBSDVPJOWBCH-UHFFFAOYSA-N Diethyl carbonate Chemical compound CCOC(=O)OCC OIFBSDVPJOWBCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 2
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQSMEZJWJJVYOI-UHFFFAOYSA-N Methyl 2-benzoylbenzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 NQSMEZJWJJVYOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- FOIXSVOLVBLSDH-UHFFFAOYSA-N Silver ion Chemical compound [Ag+] FOIXSVOLVBLSDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 2
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 2
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 2
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000008062 acetophenones Chemical class 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 2
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 2
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 2
- 238000007611 bar coating method Methods 0.000 description 2
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 2
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 2
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 2
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930006711 bornane-2,3-dione Natural products 0.000 description 2
- 235000019437 butane-1,3-diol Nutrition 0.000 description 2
- 229940043232 butyl acetate Drugs 0.000 description 2
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- 238000004581 coalescence Methods 0.000 description 2
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 2
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 2
- 150000004292 cyclic ethers Chemical class 0.000 description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 2
- IEJIGPNLZYLLBP-UHFFFAOYSA-N dimethyl carbonate Chemical compound COC(=O)OC IEJIGPNLZYLLBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 2
- VUPKGFBOKBGHFZ-UHFFFAOYSA-N dipropyl carbonate Chemical compound CCCOC(=O)OCCC VUPKGFBOKBGHFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000002003 electrode paste Substances 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl butanoate Chemical compound CCCC(=O)OC=C MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GFJVXXWOPWLRNU-UHFFFAOYSA-N ethenyl formate Chemical compound C=COC=O GFJVXXWOPWLRNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LZWYWAIOTBEZFN-UHFFFAOYSA-N ethenyl hexanoate Chemical compound CCCCCC(=O)OC=C LZWYWAIOTBEZFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFSIMBWBBOJPJG-UHFFFAOYSA-N ethenyl octadecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OC=C AFSIMBWBBOJPJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N ethenyl propanoate Chemical compound CCC(=O)OC=C UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 2
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 2
- 238000007765 extrusion coating Methods 0.000 description 2
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 2
- 239000003205 fragrance Substances 0.000 description 2
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 2
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 2
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 238000007759 kiss coating Methods 0.000 description 2
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 2
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 2
- 239000006224 matting agent Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N methyl vinyl ether Chemical compound COC=C XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002816 methylsulfanyl group Chemical group [H]C([H])([H])S[*] 0.000 description 2
- YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N n-Propyl acetate Natural products CCCOC(C)=O YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- IMACFCSSMIZSPP-UHFFFAOYSA-N phenacyl chloride Chemical compound ClCC(=O)C1=CC=CC=C1 IMACFCSSMIZSPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LYXOWKPVTCPORE-UHFFFAOYSA-N phenyl-(4-phenylphenyl)methanone Chemical compound C=1C=C(C=2C=CC=CC=2)C=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 LYXOWKPVTCPORE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003495 polar organic solvent Substances 0.000 description 2
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 2
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 2
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 2
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 2
- YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N propane-1,3-diol Chemical compound OCCCO YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940090181 propyl acetate Drugs 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000003226 pyrazolyl group Chemical group 0.000 description 2
- NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N silver oxide Chemical compound [O-2].[Ag+].[Ag+] NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- 238000010345 tape casting Methods 0.000 description 2
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 2
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 2
- NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N valeric acid Chemical compound CCCCC(O)=O NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N (1-hydroxycyclohexyl)-phenylmethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1(O)CCCCC1 QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940058015 1,3-butylene glycol Drugs 0.000 description 1
- VZXPHDGHQXLXJC-UHFFFAOYSA-N 1,6-diisocyanato-5,6-dimethylheptane Chemical compound O=C=NC(C)(C)C(C)CCCCN=C=O VZXPHDGHQXLXJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALVZNPYWJMLXKV-UHFFFAOYSA-N 1,9-Nonanediol Chemical compound OCCCCCCCCCO ALVZNPYWJMLXKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSSNTDFYBPYIEC-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylimidazole Chemical compound C=CN1C=CN=C1 OSSNTDFYBPYIEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical group CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-hydroxypropoxy)propoxy]propan-1-ol Chemical compound CC(O)COC(C)COC(C)CO LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 0 C*(C)(N)[N+](C)[O-] Chemical compound C*(C)(N)[N+](C)[O-] 0.000 description 1
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005751 Copper oxide Substances 0.000 description 1
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 229920002367 Polyisobutene Polymers 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZNMRPQBBZBTSW-UHFFFAOYSA-N [Au]=O Chemical compound [Au]=O KZNMRPQBBZBTSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000001253 acrylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- DQXBYHZEEUGOBF-UHFFFAOYSA-N but-3-enoic acid;ethene Chemical class C=C.OC(=O)CC=C DQXBYHZEEUGOBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CXKCTMHTOKXKQT-UHFFFAOYSA-N cadmium oxide Inorganic materials [Cd]=O CXKCTMHTOKXKQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFEAAQFZALKQPA-UHFFFAOYSA-N cadmium(2+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Cd+2] CFEAAQFZALKQPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 229910000428 cobalt oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N cobalt(ii) oxide Chemical compound [Co]=O IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229910000431 copper oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002788 crimping Methods 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- FOTKYAAJKYLFFN-UHFFFAOYSA-N decane-1,10-diol Chemical compound OCCCCCCCCCCO FOTKYAAJKYLFFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 1
- HTXDPTMKBJXEOW-UHFFFAOYSA-N dioxoiridium Chemical compound O=[Ir]=O HTXDPTMKBJXEOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 229920006228 ethylene acrylate copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229920006242 ethylene acrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229920006226 ethylene-acrylic acid Polymers 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- ZYMKZMDQUPCXRP-UHFFFAOYSA-N fluoro prop-2-enoate Chemical group FOC(=O)C=C ZYMKZMDQUPCXRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001922 gold oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012510 hollow fiber Substances 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000457 iridium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 125000003099 maleoyl group Chemical group C(\C=C/C(=O)*)(=O)* 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000480 nickel oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910000487 osmium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N oxonickel Chemical compound [Ni]=O GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIWAALDUIFCBLV-UHFFFAOYSA-N oxoosmium Chemical compound [Os]=O JIWAALDUIFCBLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HBEQXAKJSGXAIQ-UHFFFAOYSA-N oxopalladium Chemical compound [Pd]=O HBEQXAKJSGXAIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MUMZUERVLWJKNR-UHFFFAOYSA-N oxoplatinum Chemical compound [Pt]=O MUMZUERVLWJKNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJLOMQIUPFZJAN-UHFFFAOYSA-N oxorhodium Chemical compound [Rh]=O SJLOMQIUPFZJAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003445 palladium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920006287 phenoxy resin Polymers 0.000 description 1
- 239000013034 phenoxy resin Substances 0.000 description 1
- 229910003446 platinum oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001084 poly(chloroprene) Polymers 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000346 polystyrene-polyisoprene block-polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920001289 polyvinyl ether Polymers 0.000 description 1
- 229910003450 rhodium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 1
- 229910001925 ruthenium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- WOCIAKWEIIZHES-UHFFFAOYSA-N ruthenium(iv) oxide Chemical compound O=[Ru]=O WOCIAKWEIIZHES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 1
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 1
- 229910001923 silver oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013638 trimer Substances 0.000 description 1
- 150000004072 triols Chemical class 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D249/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having three nitrogen atoms as the only ring hetero atoms
- C07D249/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having three nitrogen atoms as the only ring hetero atoms not condensed with other rings
- C07D249/08—1,2,4-Triazoles; Hydrogenated 1,2,4-triazoles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D249/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having three nitrogen atoms as the only ring hetero atoms
- C07D249/16—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having three nitrogen atoms as the only ring hetero atoms condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D249/18—Benzotriazoles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F259/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of halogen containing monomers as defined in group C08F14/00
- C08F259/08—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of halogen containing monomers as defined in group C08F14/00 on to polymers containing fluorine
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F265/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of unsaturated monocarboxylic acids or derivatives thereof as defined in group C08F20/00
- C08F265/04—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of unsaturated monocarboxylic acids or derivatives thereof as defined in group C08F20/00 on to polymers of esters
- C08F265/06—Polymerisation of acrylate or methacrylate esters on to polymers thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L51/00—Compositions of graft polymers in which the grafted component is obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Compositions of derivatives of such polymers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D127/00—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D127/02—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Coating compositions based on derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment
- C09D127/12—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Coating compositions based on derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment containing fluorine atoms
- C09D127/16—Homopolymers or copolymers of vinylidene fluoride
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D4/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; Coating compositions, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09D183/00 - C09D183/16
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
- C09D5/08—Anti-corrosive paints
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
- C08F220/10—Esters
- C08F220/34—Esters containing nitrogen, e.g. N,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylate
- C08F220/36—Esters containing nitrogen, e.g. N,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylate containing oxygen in addition to the carboxy oxygen, e.g. 2-N-morpholinoethyl (meth)acrylate or 2-isocyanatoethyl (meth)acrylate
- C08F220/365—Esters containing nitrogen, e.g. N,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylate containing oxygen in addition to the carboxy oxygen, e.g. 2-N-morpholinoethyl (meth)acrylate or 2-isocyanatoethyl (meth)acrylate containing further carboxylic moieties
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Preventing Corrosion Or Incrustation Of Metals (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
【課題】塗膜中に存在することによって、塗膜による金属の腐食防止効果を改善することができ、かつ、塗膜と金属との密着性も改善することができる、新規化合物を提供する。【解決手段】式(1)で示される化合物。[化1]式(1)において、環Aは置換されていてもよい5員又は6員の含窒素芳香族複素環であり、L1はn1+1価の連結基であり、R1は水素原子、ハロゲン原子又はC1−6アルキル基であり、n1は1〜6の整数であり、Q1は−O−又は−NH−であり、l1は0又は1であり、環Bは置換されていてもよい芳香族環である。【選択図】 なし
Description
本発明は、不飽和基を有する新規化合物及びこの化合物を含む組成物に関する。
金属の腐食を防止したり、汚れの付着を防止したりするために、金属の表面に塗膜を設ける技術が知られている。
特許文献1には、パーフルオロポリエーテルベンゾトリアゾール化合物およびパーフルオロポリエーテルベンゾトリアゾール化合物を含む組成物が記載されており、パーフルオロポリエーテルベンゾトリアゾール化合物が、金属基材に結合して、汚れ防止特性および染み防止特性、クリーニングの容易特性、撥水性、疎水性または疎油性の特性の少なくとも1つを提供することが可能であることが記載されている。
特許文献2には、1−ビニルイミダゾールのようなモノマーの構成単位から合成されるコポリマーが、腐食制御塗膜を与えることが記載されている。
本発明は、塗膜中に存在することによって、塗膜による金属の腐食防止効果を改善することができ、かつ、塗膜と金属との密着性も改善することができる、新規化合物を提供する。
本発明は、また、金属の腐食を防止する効果が高く、金属との密着性及び透明性にも優れる塗膜を形成することができる組成物を提供する。
本発明は、また、金属の腐食を防止する効果が高く、金属との密着性及び透明性にも優れる塗膜を形成することができる組成物を提供する。
本発明は、式(1)又は(2)で示される化合物である。
式(1)において、環Aは置換されていてもよい5員又は6員の含窒素芳香族複素環であり、L1はn1+1価の連結基であり、R1は水素原子、ハロゲン原子又はC1−6アルキル基であり、n1は1〜6の整数であり、Q1は−O−又は−NH−であり、l1は0又は1であり、環Bは置換されていてもよい芳香族環である。
式(2)において、環Cは置換されていてもよい5員又は6員の含窒素芳香族複素環であり、L2はn2+1価の連結基であり、R2は水素原子、ハロゲン原子又はC1−6アルキル基であり、n2は1〜6の整数であり、Q2は−O−又は−NH−であり、l2は0又は1である。
式(1)において、環Aは、2個又は3個の窒素原子を含む、5員の含窒素芳香族複素環であることが好ましい。
また、式(1)において、L1は、式(3)で示されるものであることが好ましい。
式(3)において、m1は1〜20の整数であり、n1は1〜6の整数である。但し、m1が1のときは、n1は1〜3の整数であり、m1が2のときは、n1は1〜5の整数である。
更に、式(1)において、環Bは、水酸基、アミノ基、カルボン酸基、ニトロ基、ハロゲン基、チオール基、シアノ基、アシル基、スルホン酸基、メシル基、アルキル基、又は、式(4)で示される置換基により置換された芳香族環であることが好ましい。
式(4)において、L3は−CO−NH−、−CO−O−、−O−CO−NH−又は−NH−CO−NH−で示される結合を含むn3+1価の連結基であり、R3は水素原子、ハロゲン原子又はC1−6アルキル基であり、n3は1〜6の整数である。
そして、式(1)において、環Bは、ベンゼン環であることが好ましい。
また、式(1)において、L1は、式(3)で示されるものであることが好ましい。
更に、式(1)において、環Bは、水酸基、アミノ基、カルボン酸基、ニトロ基、ハロゲン基、チオール基、シアノ基、アシル基、スルホン酸基、メシル基、アルキル基、又は、式(4)で示される置換基により置換された芳香族環であることが好ましい。
そして、式(1)において、環Bは、ベンゼン環であることが好ましい。
式(2)において、環Cは、2個又は3個の窒素原子を含む、5員の含窒素芳香族複素環であることが好ましい。
また、式(2)において、L2は式(5)で示されるものであることが好ましい。
式(5)において、m2は1〜20の整数であり、n2は1〜6の整数である。但し、m2が1のときは、n2は1〜3の整数であり、m2が2のときは、n2は1〜5の整数である。
また、式(2)において、L2は式(5)で示されるものであることが好ましい。
本発明はまた、重合性官能基を含有する含窒素芳香族複素環化合物、フッ化ビニリデン系樹脂(B)、並びに、アクリルモノマー及びアクリルポリマーからなる群より選択される少なくとも1種のアクリル成分(A)を含むことを特徴とする組成物でもある。
本発明はまた、上述の重合性官能基を含有する含窒素芳香族複素環化合物、及び、光学接着剤を含むことを特徴とする組成物でもある。
重合性官能基を含有する含窒素芳香族複素環化合物は、式(14)又は式(15)で示される化合物であることが好ましい。
式(14)において、環Aは置換されていてもよい5員又は6員の含窒素芳香族複素環であり、R1は水素原子、ハロゲン原子又はC1−6アルキル基であり、n1は1〜6の整数であり、L4は−CO−NH−、−CO−O−、−O−CO−NH−又は−NH−CO−NH−で示される結合を含むn1+1価の連結基であり、環Bは置換されていてもよい芳香族環である。
式(15)において、環Cは置換されていてもよい5員又は6員の含窒素芳香族複素環であり、R2は水素原子、ハロゲン原子又はC1−6アルキル基であり、n2は1〜6の整数であり、L5は−CO−NH−、−CO−O−、−O−CO−NH−又は−NH−CO−NH−で示される結合を含むn1+1価の連結基である。
式(14)において、環Aは、2個又は3個の窒素原子を含む5員の含窒素芳香族複素環であることが好ましい。
また、式(14)において、L4は、式(16)で示されるものであることが好ましい。
式(16)において、Q1は−O−又は−NH−であり、l1は0又は1であり、m1は1〜20の整数であり、n1は1〜6の整数である。但し、m1が1のときは、n1は1〜3の整数であり、m1が2のときは、n1は1〜5の整数である。
更に、式(14)において、環Bは、水酸基、アミノ基、カルボン酸基、ニトロ基、ハロゲン基、チオール基、シアノ基、アシル基、スルホン酸基、メシル基、アルキル基、又は、式(17)で示される置換基により置換された芳香族環であることが好ましい。
式(17)において、L6は−CO−NH−、−CO−O−、−O−CO−NH−又は−NH−CO−NH−で示される結合を含むn3+1価の連結基であり、R3は水素原子、ハロゲン原子又はC1−6アルキル基であり、n3は1〜6の整数である。
そして、式(14)において、環Bは、ベンゼン環であることが好ましい。
また、式(14)において、L4は、式(16)で示されるものであることが好ましい。
更に、式(14)において、環Bは、水酸基、アミノ基、カルボン酸基、ニトロ基、ハロゲン基、チオール基、シアノ基、アシル基、スルホン酸基、メシル基、アルキル基、又は、式(17)で示される置換基により置換された芳香族環であることが好ましい。
そして、式(14)において、環Bは、ベンゼン環であることが好ましい。
式(15)において、環Cは、2個又は3個の窒素原子を含む5員の含窒素芳香族複素環であることが好ましい。
また、式(15)において、L5は式(18)で示されるものであることが好ましい。
式(18)において、Q2は−O−又は−NH−であり、l2は0又は1であり、m2は1〜20の整数であり、n2は1〜6の整数である。但し、m2が1のときは、n2は1〜3の整数であり、m2が2のときは、n2は1〜5の整数である。
また、式(15)において、L5は式(18)で示されるものであることが好ましい。
上記組成物は、重合性官能基を含有する含窒素芳香族複素環化合物の含有量が組成物の0.1〜30質量%であることが好ましい。
アクリル成分(A)は、(メタ)アクリル酸エステル単量体、多官能アクリル系単量体、不飽和カルボン酸単量体、(メタ)アクリル酸エステルの単独重合体、(メタ)アクリル酸エステルの共重合体からなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましい。
また、アクリル成分(A)は、(メタ)アクリル酸エステル単量体と多官能(メタ)アクリル酸エステル単量体との共重合体、(メタ)アクリル酸エステルの単独重合体、(メタ)アクリル酸エステルと不飽和カルボン酸との共重合体からなる群より選択される少なくとも1種であることも好ましい。
また、アクリル成分(A)は、(メタ)アクリル酸エステル単量体と多官能(メタ)アクリル酸エステル単量体との共重合体、(メタ)アクリル酸エステルの単独重合体、(メタ)アクリル酸エステルと不飽和カルボン酸との共重合体からなる群より選択される少なくとも1種であることも好ましい。
フッ化ビニリデン系樹脂(B)は、フッ化ビニリデンと、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、クロロトリフルオロエチレン及びパーフルオロ(アルキルビニルエーテル)からなる群より選択される少なくとも1種のモノマーとの共重合体であることが好ましい。
フッ化ビニリデン系樹脂(B)は、フッ化ビニリデンとテトラフルオロエチレンとの共重合体であることが好ましい。
上記組成物は、塗料であることが好ましく、防錆塗料であることがより好ましい。
本発明は更に、基材と、上記組成物から上記基材上に形成された塗膜と、を含むことを特徴とする塗装物品でもある。上記基材は、金属から形成されたものであることが好ましい。
本発明は、上記組成物から形成されることを特徴とするシートでもある。
本発明は、剥離シートと、上記組成物から上記剥離シート上に形成されたシートと、
を含むことを特徴とする積層シートでもある。
を含むことを特徴とする積層シートでもある。
本発明の新規化合物は、樹脂をビヒクルとする塗料に添加して使用することができる。得られた塗料を金属に塗布することにより形成された塗膜は、本発明の新規化合物を含まない塗膜と比べて、金属の腐食を防止する効果が高く、金属との密着性にも優れる。
本発明の組成物は、金属の腐食を防止する効果が高く、金属との密着性にも優れる塗膜を形成することができる。得られる塗膜は、透明性にも優れる。
本発明の塗装物品は、基材が金属であっても、基材が腐食しにくく、塗膜と基材との密着性に優れ、塗膜の透明性が高い。
本発明のシートは、金属の腐食を防止する効果が高く、金属との密着性にも優れる。また、透明性にも優れる。
本発明の組成物は、金属の腐食を防止する効果が高く、金属との密着性にも優れる塗膜を形成することができる。得られる塗膜は、透明性にも優れる。
本発明の塗装物品は、基材が金属であっても、基材が腐食しにくく、塗膜と基材との密着性に優れ、塗膜の透明性が高い。
本発明のシートは、金属の腐食を防止する効果が高く、金属との密着性にも優れる。また、透明性にも優れる。
以下、本発明を具体的に説明する。
〔式(1)で示される化合物〕
本発明は、式(1)で示される化合物である。
本発明は、式(1)で示される化合物である。
式(1)において、環Aは置換されていてもよい5員又は6員の含窒素芳香族複素環であり、L1はn1+1価の連結基であり、R1は水素原子、ハロゲン原子又はC1−6アルキル基であり、n1は1〜6の整数であり、Q1は−O−又は−NH−であり、l1は0又は1であり、環Bは置換されていてもよい芳香族環である。
式(1)において、環Aは、2個又は3個の窒素原子を含む、5員の含窒素芳香族複素環であることが好ましく、イミダゾール環、ピラゾール環又はトリアゾール環であることがより好ましい。式(1)において、l1は、0であることが好ましい。
式(3)において、m1は1〜20の整数であり、n1は1〜6の整数である。但し、m1が1のときは、n1は1〜3の整数であり、m1が2のときは、n1は1〜5の整数である。
m1は、1又は2であることが好ましい。
m1は、1又は2であることが好ましい。
式(1)及び(3)において、n1は1又は2であることが好ましい。
式(1)において、環Bは、水酸基、アミノ基、カルボン酸基、ニトロ基、ハロゲン基、チオール基、シアノ基、アシル基、スルホン酸基、メシル基、アルキル基、又は、式(4)で示される置換基により置換された芳香族環であってもよい。
式(4)において、L3は−CO−NH−、−CO−O−、−O−CO−NH−又は−NH−CO−NH−で示される結合を含むn3+1価の連結基であり、R3は水素原子、ハロゲン原子又はC1−6アルキル基であり、n3は1〜6の整数である。
式(4)において、L3は式(6)で示されることが好ましい。
式(6)において、Q3は−O−又は−NH−であり、m3は1〜20の整数であり、n3は1〜6の整数である。但し、m3が1のときは、n3は1〜3の整数であり、m3が2のときは、n3は1〜5の整数である。m3は、1又は2であることが好ましい。
式(4)及び(6)において、n3は1又は2であることが好ましい。
式(1)において、環Bは、ベンゼン環であることが好ましい。
上記式において、Z1は、水酸基、アミノ基、カルボン酸基、ニトロ基、ハロゲン基、チオール基、シアノ基、アシル基、スルホン酸基、メシル基、アルキル基、又は、式(4)で表される置換基である。Z1は、水酸基、アミノ基又は式(4)で表される置換基であることが好ましい。
〔式(1)で示される化合物の製造方法〕
式(1)で示される化合物は、式(7)で示される化合物と、式(8)で示される化合物とを反応させて製造することができる。
式(1)で示される化合物は、式(7)で示される化合物と、式(8)で示される化合物とを反応させて製造することができる。
式(7)で示される化合物は、式
で示される化合物であることが好ましく、式
で示される化合物のいずれかであることがより好ましく、式
で示される化合物のいずれかであることが更に好ましく、式
で示される化合物のいずれかであることが特に好ましい。環A’は置換されていてもよい5員又は6員の含窒素芳香族複素環である。環A”は置換されていてもよい。Z2は水酸基、アミノ基、カルボン酸基、ニトロ基、ハロゲン基、チオール基、シアノ基、アシル基、スルホン酸基、メシル基又はアルキル基であり、水酸基又はアミノ基であることが好ましい。
式(9)において、m1、n1及びR1は、式(1)及び(3)のm1、n1及びR1として上述したとおりである。
式(7)で示される化合物及び式(8)で示される化合物は、式(7)で示される化合物の1モルに対して、式(8)で示される化合物が0.1〜5モルとなるように、系中に2つの化合物を添加して反応させることが好ましい。
式(7)で示される化合物の1モルに対して、式(8)で示される化合物が0.1〜1モルであっても、式(7)で示される化合物と式(8)で示される化合物とを反応させるには十分である。
Z2が水酸基又はアミノ基である場合であっても、式(7)で示される化合物の1モルに対して、式(8)で示される化合物を0.1〜1モルとすると、式(7)で示される化合物の環Aと式(8)で示される化合物とが優先的に反応する。
Z2が水酸基又はアミノ基である場合、式(7)で示される化合物の1モルに対して、式(8)で示される化合物が1モルより多くなるように、系中に2つの化合物を添加することにより、式(8)で示される化合物が式(7)で示される化合物の環Aだけでなく、環Bにおける水酸基又はアミノ基とも反応して、式(1)において、式
が、式
である化合物を製造することができる。Z3は、式(4)で示される置換基である。
Z2が水酸基又はアミノ基である場合であっても、式(7)で示される化合物の1モルに対して、式(8)で示される化合物を0.1〜1モルとすると、式(7)で示される化合物の環Aと式(8)で示される化合物とが優先的に反応する。
Z2が水酸基又はアミノ基である場合、式(7)で示される化合物の1モルに対して、式(8)で示される化合物が1モルより多くなるように、系中に2つの化合物を添加することにより、式(8)で示される化合物が式(7)で示される化合物の環Aだけでなく、環Bにおける水酸基又はアミノ基とも反応して、式(1)において、式
式(7)で示される化合物と式(8)で示される化合物との反応は、15〜100℃で進行させることができ、好ましくは15〜70℃であり、より好ましくは20〜30℃である。反応時間は、通常1〜10時間である。
式(7)で示される化合物と式(8)で示される化合物との反応は、触媒の存在下で進行させてもよい。触媒としては、テトラエチルチタネート、テトラブチルチタネート等の有機チタン系化合物、オクチル酸スズ、ジブチルスズオキサイド、ジブチルスズジラウレート等の有機スズ系化合物、塩化第一スズ、臭化第一スズ等のハロゲン系第一スズ等を挙げることができる。触媒の使用量は、特に限定されず、適宜調整すればよいが、例えば、式(8)で表される化合物100質量部に対して、通常0.00001〜3質量部程度、好ましくは0.0001〜1質量部程度である。
式(7)で示される化合物と式(8)で示される化合物との反応は、溶媒中で行うことができる。溶媒としては、反応の進行を妨げない溶媒であって、一般的に使用される従来公知の溶媒を使用すればよい。例えば、アセトン、メチルイソブチルケトン(MIBK)、メチルエチルケトン(MEK)等のケトン系溶媒;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒;HCFC225(CF3CF2CHCl2/CClF2CF2CHClF混合物)等のフッ素系の溶媒等を使用すればよい。OH基を有するアルコール系の溶媒は、反応の進行を妨げるため好ましくない。また、系内に水があっても反応の進行が妨げられるため、各溶媒は使用前に脱水することがより好ましい。
〔式(2)で示される化合物〕
本発明の化合物は、式(2)で示される化合物でもある。
本発明の化合物は、式(2)で示される化合物でもある。
式(2)において、環Cは置換されていてもよい5員又は6員の含窒素芳香族複素環であり、L2はn2+1価の連結基であり、R2は水素原子、ハロゲン原子又はC1−6アルキル基であり、n2は1〜6の整数であり、Q2は−O−又は−NH−であり、l2は0又は1である。
式(2)において、環C及び環C’は、2個又は3個の窒素原子を含む、置換されていてもよい5員の含窒素芳香族複素環であることが好ましい。l2は、0であることが好ましい。
式(2)において、L2は式(5)で示されることが好ましい。
式(5)において、m2は1〜20の整数であり、n2は1〜6の整数である。m2は1又は2であることが好ましい。但し、m2が1のときは、n2は1〜3の整数であり、m2が2のときは、n2は1〜5の整数である。
式(2)及び(5)において、n2は1又は2であることが好ましい。
〔式(2)で示される化合物の製造方法〕
式(2)で示される化合物は、式(11)で示される化合物と、式(12)で示される化合物とを反応させて製造することができる。
式(2)で示される化合物は、式(11)で示される化合物と、式(12)で示される化合物とを反応させて製造することができる。
式(11)で示される化合物は、式
で示される化合物であることが好ましく、式
で示される化合物のいずれかであることがより好ましい。環C’は置換されていてもよい5員又は6員の含窒素芳香族複素環である。環C及び環C’は、2個又は3個の窒素原子を含む、置換されていてもよい5員の含窒素芳香族複素環であることが好ましい。
式(13)において、m2、n2及びR2は、式(2)及び(5)のm2、n2及びR2として上述したとおりである。
式(11)で示される化合物及び式(12)で示される化合物は、式(11)で示される化合物の1モルに対して、式(12)で示される化合物が0.1〜5モル、好ましくは0.1〜1モルとなるように、系中に2つの化合物を添加して反応させることが好ましい。
式(11)で示される化合物と式(12)で示される化合物との反応は、15〜100℃で進行させることができ、好ましくは15〜70℃であり、より好ましくは20〜30℃である。反応時間は、通常1〜10時間である。
式(11)で示される化合物と式(12)で示される化合物との反応は、触媒の存在下で進行させてもよい。触媒としては、テトラエチルチタネート、テトラブチルチタネート等の有機チタン系化合物、オクチル酸スズ、ジブチルスズオキサイド、ジブチルスズジラウレート等の有機スズ系化合物、塩化第一スズ、臭化第一スズ等のハロゲン系第一スズ等を挙げることができる。触媒の使用量は、特に限定されず、適宜調整すればよいが、例えば、式(12)で表される化合物100質量部に対して、通常0.00001〜3質量部程度、好ましくは0.0001〜1質量部程度である。
式(11)で示される化合物と式(12)で示される化合物との反応は、溶媒中で行うことができる。溶媒としては、反応の進行を妨げない溶媒であって、一般的に使用される従来公知の溶媒を使用すればよい。例えば、アセトン、メチルイソブチルケトン(MIBK)、メチルエチルケトン(MEK)等のケトン系溶媒;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒;HCFC225(CF3CF2CHCl2/CClF2CF2CHClF混合物)等のフッ素系の溶媒等を使用すればよい。OH基を有するアルコール系の溶媒は、反応の進行を妨げるため好ましくない。また、系内に水があっても反応の進行が妨げられるため、各溶媒は使用前に脱水することがより好ましい。
本発明の新規化合物は、樹脂をビヒクルとする塗料に添加して使用することができる。得られた塗料を金属に塗布することにより形成された塗膜は、本発明の新規化合物を含まない塗膜と比べて、金属の腐食を防止する効果が高く、金属との密着性にも優れる。
また、本発明の新規化合物は、塗料に添加して使用することで、プリント基板、多層基板の導電部、コネクターの電極、銀または銅パターン、銀または銅メッシュの導電膜等、各種導電部に対してマイグレーション発生を抑制することもできる。マイグレーションとは、電子機器の導電部に水分が付着し、該水分に銀の導電部や銅の導電部が接触して隣接した導電部間に電圧がかかったときに、陽極から陰極へ金属イオンの移行が起こり、陰極に金属が析出する現象で、条件によっては導電部間の短絡といった事故も発生する。特に銀や銅はマイグレーションを生じやすい金属として知られている。
また、本発明の新規化合物は、塗料に添加して使用することで、プリント基板、多層基板の導電部、コネクターの電極、銀または銅パターン、銀または銅メッシュの導電膜等、各種導電部に対してマイグレーション発生を抑制することもできる。マイグレーションとは、電子機器の導電部に水分が付着し、該水分に銀の導電部や銅の導電部が接触して隣接した導電部間に電圧がかかったときに、陽極から陰極へ金属イオンの移行が起こり、陰極に金属が析出する現象で、条件によっては導電部間の短絡といった事故も発生する。特に銀や銅はマイグレーションを生じやすい金属として知られている。
本発明は、式(1)又は(2)で示される化合物、フッ化ビニリデン系樹脂(B)及びアクリル成分(A)を含むことを特徴とする組成物(以下「本発明の組成物1」ともいう)でもある。
なお、後述する本発明の組成物2において記載した事項は、式(14)又は式(15)で示される化合物を式(1)又は(2)で示される化合物に置き換えて、本発明の組成物1に適用できる。
なお、後述する本発明の組成物2において記載した事項は、式(14)又は式(15)で示される化合物を式(1)又は(2)で示される化合物に置き換えて、本発明の組成物1に適用できる。
本発明の組成物1は、上記新規化合物を含むものであるので、金属の腐食を防止する効果が高く、金属との密着性にも優れる塗膜又はシートを形成することができる。得られる塗膜又はシートは、透明性及び絶縁性にも優れる。
更に、プリント基板、多層基板の導電部、コネクターの電極、銀または銅パターン、銀または銅メッシュの導電膜等、各種導電部に対してマイグレーション発生を抑制することもできる。
更に、プリント基板、多層基板の導電部、コネクターの電極、銀または銅パターン、銀または銅メッシュの導電膜等、各種導電部に対してマイグレーション発生を抑制することもできる。
本発明の組成物1は、優れた腐食防止効果、透明性及び金属密着性を備える塗膜を形成することができることから、金属表面を保護するために使用する防錆塗料として特に好適である。
上記金属としては、銅、銀、アルミ、鉄、SUS、ニッケル、モリブデン、クロム、亜鉛、その他各種鋼板等が挙げられる。特に優れた金属密着性及び防錆性が発揮されることから、銅または銀が好ましい。さらには銅が特に好ましい。従って、本発明の組成物は、銅または銀の防錆用塗料組成物としてより好適である。銅は銅板だけでなく、基材に銅が蒸着されたもの、基材に銅箔が積層されたものでもよい。銀は銀板だけでなく、基材に銀が蒸着されたもの、基材に銀箔が積層されたものでもよい。
本発明の組成物1は、プリント基板、多層基板の導電部、コネクターの電極、銀または銅パターン、銀または銅メッシュの導電膜、銀または銅などの金属微粒子、金属ナノワイヤーからなる導電膜等、各種導電部に対してマイグレーション発生を抑制することができることから、マイグレーション発生を抑制するための塗料組成物としても好適である。
本発明は、基材と、上述の組成物1から基材上に形成された塗膜と、を含むことを特徴とする塗装物品でもある。
上記金属としては、銅、銀、アルミ、鉄、SUS、ニッケル、モリブデン、クロム、亜鉛、その他各種鋼板等が挙げられる。特に優れた金属密着性及び防錆性が発揮されることから、銅または銀が好ましい。さらには銅が特に好ましい。従って、本発明の組成物は、銅または銀の防錆用塗料組成物としてより好適である。銅は銅板だけでなく、基材に銅が蒸着されたもの、基材に銅箔が積層されたものでもよい。銀は銀板だけでなく、基材に銀が蒸着されたもの、基材に銀箔が積層されたものでもよい。
本発明の組成物1は、プリント基板、多層基板の導電部、コネクターの電極、銀または銅パターン、銀または銅メッシュの導電膜、銀または銅などの金属微粒子、金属ナノワイヤーからなる導電膜等、各種導電部に対してマイグレーション発生を抑制することができることから、マイグレーション発生を抑制するための塗料組成物としても好適である。
本発明は、基材と、上述の組成物1から基材上に形成された塗膜と、を含むことを特徴とする塗装物品でもある。
本発明はまた、重合性官能基を含有する含窒素芳香族複素環化合物、フッ化ビニリデン系樹脂(B)、並びに、アクリルモノマー及びアクリルポリマーからなる群より選択される少なくとも1種のアクリル成分(A)を含むことを特徴とする組成物(以下「本発明の組成物2」ともいう)でもある。
本発明の組成物2は、金属の腐食を防止する効果が高く、金属との密着性にも優れる塗膜又はシートを形成することができる。得られる塗膜又はシートは、透明性及び絶縁性にも優れる。
更に、本発明の組成物2から得られる塗膜又はシートは、プリント基板、多層基板の導電部、コネクターの電極、銀または銅パターン、銀または銅メッシュの導電膜等、各種導電部に対してマイグレーション発生を抑制することもできる。
マイグレーションとは、電子機器の導電部に水分が付着し、該水分に銀の導電部や銅の導電部が接触して隣接した導電部間に電圧がかかったときに、陽極から陰極へ金属イオンの移行が起こり、陰極に金属が析出する現象で、条件によっては導電部間の短絡といった事故も発生する。特に銀や銅はマイグレーションを生じやすい金属として知られている。
更に、本発明の組成物2から得られる塗膜又はシートは、プリント基板、多層基板の導電部、コネクターの電極、銀または銅パターン、銀または銅メッシュの導電膜等、各種導電部に対してマイグレーション発生を抑制することもできる。
マイグレーションとは、電子機器の導電部に水分が付着し、該水分に銀の導電部や銅の導電部が接触して隣接した導電部間に電圧がかかったときに、陽極から陰極へ金属イオンの移行が起こり、陰極に金属が析出する現象で、条件によっては導電部間の短絡といった事故も発生する。特に銀や銅はマイグレーションを生じやすい金属として知られている。
重合性官能基を含有する含窒素芳香族複素環化合物としては、例えば、後述する式(20)で示される化合物や、式(24)で示される化合物の一部が、重合性官能基を含む有機基で置換されているものが挙げられる。
重合性官能基を含有する含窒素芳香族複素環化合物において、重合性官能基としては、炭素−炭素二重結合、ビニル基、ビニロキシ基、アリル基、(メタ)アクリロイル基、マレオイル基、スチリル基、シンナモイル基等が挙げられる。重合性官能基としては、炭素−炭素二重結合が好ましい。
重合性官能基を含有する含窒素芳香族複素環化合物は、式(14)又は式(15)で示される化合物であることが好ましい。
〔式(14)で示される化合物〕
式(14)において、環Aは置換されていてもよい5員又は6員の含窒素芳香族複素環であり、R1は水素原子、ハロゲン原子又はC1−6アルキル基であり、n1は1〜6の整数であり、L4は−CO−NH−、−CO−O−、−O−CO−NH−又は−NH−CO−NH−で示される結合を含むn1+1価の連結基であり、環Bは置換されていてもよい芳香族環である。
式(14)において、環Aは、2個又は3個の窒素原子を含む、5員の含窒素芳香族複素環であることが好ましく、イミダゾール環、ピラゾール環又はトリアゾール環であることがより好ましい。
式(16)において、Q1は−O−又は−NH−であり、l1は0又は1であり、m1は1〜20の整数であり、n1は1〜6の整数である。但し、m1が1のときは、n1は1〜3の整数であり、m1が2のときは、n1は1〜5の整数である。m1は、1又は2であることが好ましい。l1は、0であることが好ましい。
式(14)及び(16)において、n1は1又は2であることが好ましい。
式(14)において、環Bは、水酸基、アミノ基、カルボン酸基、ニトロ基、ハロゲン基、チオール基、シアノ基、アシル基、スルホン酸基、メシル基、アルキル基、又は、式(17)で示される置換基により置換された芳香族環であってもよい。
式(17)において、L6は−CO−NH−、−CO−O−、−O−CO−NH−又は−NH−CO−NH−で示される結合を含むn3+1価の連結基であり、R3は水素原子、ハロゲン原子又はC1−6アルキル基であり、n3は1〜6の整数である。
式(17)において、L6は式(19)で示されることが好ましい。
式(19)において、Q3は−O−又は−NH−であり、m3は1〜20の整数であり、n3は1〜6の整数である。m3は、1又は2であることが好ましい。
式(17)及び(19)において、n3は1又は2であることが好ましい。
式(14)において、環Bは、ベンゼン環であることが好ましい。
上記式において、Z1は、水酸基、アミノ基、カルボン酸基、ニトロ基、ハロゲン基、チオール基、シアノ基、アシル基、スルホン酸基、メシル基、アルキル基、又は、式(17)で表される置換基である。Z1は、水酸基、アミノ基又は式(17)で表される置換基であることが好ましい。
〔式(14)で示される化合物の製造方法〕
式(14)で示される化合物は、式(20)で示される化合物と、式(21)で示される化合物とを反応させて製造することができる。
式(14)で示される化合物は、式(20)で示される化合物と、式(21)で示される化合物とを反応させて製造することができる。
式(20)で示される化合物は、式
で示される化合物であることが好ましく、式
で示される化合物のいずれかであることがより好ましく、式
で示される化合物のいずれかであることが更に好ましく、式
で示される化合物のいずれかであることが特に好ましい。環A’は置換されていてもよい5員又は6員の含窒素芳香族複素環である。環A”は置換されていてもよい。Z2は水酸基、アミノ基、カルボン酸基、ニトロ基、ハロゲン基、チオール基、シアノ基、アシル基、スルホン酸基、メシル基又はアルキル基であり、水酸基又はアミノ基であることが好ましい。
式(22)において、m1、n1及びR1は、式(14)及び(16)のm1、n1及びR1として上述したとおりである。
式(20)で示される化合物及び式(21)で示される化合物は、式(20)で示される化合物の1モルに対して、式(21)で示される化合物が0.1〜5モルとなるように、系中に2つの化合物を添加して反応させることが好ましい。
式(20)で示される化合物の1モルに対して、式(21)で示される化合物が0.1〜1モルであっても、式(20)で示される化合物と式(21)で示される化合物とを反応させるには十分である。
Z2が水酸基又はアミノ基である場合であっても、式(20)で示される化合物の1モルに対して、式(21)で示される化合物を0.1〜1モルとすると、式(20)で示される化合物の環Aと式(21)で示される化合物とが優先的に反応する。
Z2が水酸基又はアミノ基である場合、式(20)で示される化合物の1モルに対して、式(21)で示される化合物が1モルより多くなるように、系中に2つの化合物を添加することにより、式(21)で示される化合物が式(20)で示される化合物の環Aだけでなく、環Bにおける水酸基又はアミノ基とも反応して、式(14)において、式
が、式
である化合物を製造することができる。Z3は、式(17)で示される置換基である。
Z2が水酸基又はアミノ基である場合であっても、式(20)で示される化合物の1モルに対して、式(21)で示される化合物を0.1〜1モルとすると、式(20)で示される化合物の環Aと式(21)で示される化合物とが優先的に反応する。
Z2が水酸基又はアミノ基である場合、式(20)で示される化合物の1モルに対して、式(21)で示される化合物が1モルより多くなるように、系中に2つの化合物を添加することにより、式(21)で示される化合物が式(20)で示される化合物の環Aだけでなく、環Bにおける水酸基又はアミノ基とも反応して、式(14)において、式
式(20)で示される化合物と式(21)で示される化合物との反応は、15〜100℃で進行させることができ、好ましくは15〜70℃であり、より好ましくは20〜30℃である。反応時間は、通常1〜10時間である。
式(20)で示される化合物と式(21)で示される化合物との反応は、触媒の存在下で進行させてもよい。触媒としては、テトラエチルチタネート、テトラブチルチタネート等の有機チタン系化合物、オクチル酸スズ、ジブチルスズオキサイド、ジブチルスズジラウレート等の有機スズ系化合物、塩化第一スズ、臭化第一スズ等のハロゲン系第一スズ等を挙げることができる。触媒の使用量は、特に限定されず、適宜調整すればよいが、例えば、式(21)で表される化合物100質量部に対して、通常0.00001〜3質量部程度、好ましくは0.0001〜1質量部程度である。
式(20)で示される化合物と式(21)で示される化合物との反応は、溶媒中で行うことができる。溶媒としては、反応の進行を妨げない溶媒であって、一般的に使用される従来公知の溶媒を使用すればよい。例えば、アセトン、メチルイソブチルケトン(MIBK)、メチルエチルケトン(MEK)等のケトン系溶媒;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒;HCFC225(CF3CF2CHCl2/CClF2CF2CHClF混合物)等のフッ素系の溶媒等を使用すればよい。OH基を有するアルコール系の溶媒は、反応の進行を妨げるため好ましくない。また、系内に水があっても反応の進行が妨げられるため、各溶媒は使用前に脱水することがより好ましい。
〔式(15)で示される化合物〕
式(15)において、環Cは置換されていてもよい5員又は6員の含窒素芳香族複素環であり、R2は水素原子、ハロゲン原子又はC1−6アルキル基であり、n2は1〜6の整数であり、L5は−CO−NH−、−CO−O−、−O−CO−NH−又は−NH−CO−NH−で示される結合を含むn1+1価の連結基である。
式(15)において、環C及び環C’は、2個又は3個の窒素原子を含む、置換されていてもよい5員の含窒素芳香族複素環であることが好ましい。
式(15)において、L5は式(18)で示されることが好ましい。
式(18)において、Q2は−O−又は−NH−であり、l2は0又は1であり、m2は1〜20の整数であり、n2は1〜6の整数である。但し、m2が1のときは、n2は1〜3の整数であり、m2が2のときは、n2は1〜5の整数である。
式(15)及び(18)において、n2は1又は2であることが好ましい。
〔式(15)で示される化合物の製造方法〕
式(15)で示される化合物は、式(24)で示される化合物と、式(25)で示される化合物とを反応させて製造することができる。
式(15)で示される化合物は、式(24)で示される化合物と、式(25)で示される化合物とを反応させて製造することができる。
式(24)で示される化合物は、式
で示される化合物であることが好ましく、式
で示される化合物のいずれかであることがより好ましい。環C’は置換されていてもよい5員又は6員の含窒素芳香族複素環である。環C及び環C’は、2個又は3個の窒素原子を含む、置換されていてもよい5員の含窒素芳香族複素環であることが好ましい。
式(26)において、m2、n2及びR2は、式(15)及び(18)のm2、n2及びR2として上述したとおりである。
式(24)で示される化合物及び式(25)で示される化合物は、式(24)で示される化合物の1モルに対して、式(25)で示される化合物が0.1〜5モル、好ましくは0.1〜1モルとなるように、系中に2つの化合物を添加して反応させることが好ましい。
式(24)で示される化合物と式(25)で示される化合物との反応は、15〜100℃で進行させることができ、好ましくは15〜70℃であり、より好ましくは20〜30℃である。反応時間は、通常1〜10時間である。
式(24)で示される化合物と式(25)で示される化合物との反応は、触媒の存在下で進行させてもよい。触媒としては、テトラエチルチタネート、テトラブチルチタネート等の有機チタン系化合物、オクチル酸スズ、ジブチルスズオキサイド、ジブチルスズジラウレート等の有機スズ系化合物、塩化第一スズ、臭化第一スズ等のハロゲン系第一スズ等を挙げることができる。触媒の使用量は、特に限定されず、適宜調整すればよいが、例えば、式(25)で表される化合物100質量部に対して、通常0.00001〜3質量部程度、好ましくは0.0001〜1質量部程度である。
式(24)で示される化合物と式(25)で示される化合物との反応は、溶媒中で行うことができる。溶媒としては、反応の進行を妨げない溶媒であって、一般的に使用される従来公知の溶媒を使用すればよい。例えば、アセトン、メチルイソブチルケトン(MIBK)、メチルエチルケトン(MEK)等のケトン系溶媒;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒;HCFC225(CF3CF2CHCl2/CClF2CF2CHClF混合物)等のフッ素系の溶媒等を使用すればよい。OH基を有するアルコール系の溶媒は、反応の進行を妨げるため好ましくない。また、系内に水があっても反応の進行が妨げられるため、各溶媒は使用前に脱水することがより好ましい。
本発明の組成物2は、腐食防止効果及び密着性に優れた塗膜を形成でき、かつマイグレーション発生をより抑制できることから、上記重合性官能基を含有する含窒素芳香族複素環化合物を0.1〜30質量%含むことが好ましく、1〜10質量%含むことがより好ましい。
腐食防止効果及び密着性により優れた塗膜を形成でき、かつマイグレーション発生をより抑制できることから、上記重合性官能基を含有する含窒素芳香族複素環化合物の含有量は2質量%以上であることが更に好ましく、3質量%以上であることが特に好ましい。
腐食防止効果及び密着性により優れた塗膜を形成でき、かつマイグレーション発生をより抑制できることから、上記重合性官能基を含有する含窒素芳香族複素環化合物の含有量は2質量%以上であることが更に好ましく、3質量%以上であることが特に好ましい。
(A)アクリル成分
アクリル成分は、アクリルモノマー及びアクリルポリマーからなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましい。
アクリル成分は、アクリルモノマー及びアクリルポリマーからなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましい。
アクリルモノマーとしては、(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリル酸、水酸基含有(メタ)アクリル酸エステル、アミノ基含有(メタ)アクリル酸エステル及び多官能アクリル系単量体からなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましい。
本明細書において、「(メタ)アクリル酸エステル」と単に記載したときには、水酸基含有(メタ)アクリル酸エステル、アミノ基含有(メタ)アクリル酸エステル及び多官能アクリル系単量体を含まない。
アクリルモノマーとしては、(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリル酸及び多官能アクリル系単量体からなる群より選択される少なくとも1種であることがより好ましく、(メタ)アクリル酸エステル及び多官能アクリル系単量体からなる群より選択される少なくとも1種であることが更に好ましい。特に好ましくは、(メタ)アクリル酸エステルを単独で使用するか、又は(メタ)アクリル酸エステル及び多官能アクリル系単量体の両方を使用することである。
(メタ)アクリル酸エステルとしては、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、(メタ)アクリル酸イソプロピル、(メタ)アクリル酸n−ブチル、(メタ)アクリル酸i−ブチル、(メタ)アクリル酸t−ブチル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸オクチル、(メタ)アクリル酸ラウリル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル及び(メタ)アクリル酸ベンジルからなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましく、(メタ)アクリル酸メチルが更に好ましい。
多官能アクリル系単量体としては、ジオール、トリオール、テトラオール等の多価アルコール類のヒドロキシル基をアクリレート基、メタアクリレート基、α−フルオロアクリレート基に置き換えた化合物が一般的に知られている。具体的には、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、トリプロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール等のそれぞれの多価アルコール類の2個以上のヒドロキシル基がアクリレート基、メタクリレート基、α−フルオロアクリレート基のいずれかに置き換えられた化合物が挙げられる。また、含フッ素アルキル基、エーテル結合を含む含フッ素アルキル基、含フッ素アルキレン基又はエーテル結合を含む含フッ素アルキレン基を有する多価アルコールの2個以上のヒドロキシル基をアクリレート基、メタアクリレート基、α−フルオロアクリレート基に置き換えた多官能アクリル系単量体も利用でき、特に硬化物の屈折率を低く維持できる点で好ましい。
多官能アクリル系単量体としては、多官能(メタ)アクリル酸エステルが好ましく、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,2−プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,3−プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,3−ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、1,10−デカンジオールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート及びアリル(メタ)アクリレートからなる群より選択される少なくとも1種であることがより好ましく、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート及びジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートであることが更に好ましい。
アクリル成分は、アクリルポリマーであってもよい。アクリルポリマーとしては、(メタ)アクリル酸エステルの単独重合体又は(メタ)アクリル酸エステルの共重合体が好ましい。
(メタ)アクリル酸エステルの共重合体としては、(メタ)アクリル酸エステルと、(メタ)アクリル酸、水酸基含有(メタ)アクリル酸エステル、アミノ基含有(メタ)アクリル酸エステル、多官能アクリル系単量体、アルキルビニルエーテル、アルキルビニルエステル、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、(メタ)アクリロニトリル、塩化ビニル、塩化ビニリデン及び(メタ)アクリルアミドからなる群より選択される少なくとも1種のモノマーとの共重合体が好ましい。
アルキルビニルエーテルとしては、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル等が挙げられる。
アルキルビニルエステルとしては、ギ酸ビニル、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、カプロン酸ビニル、ステアリン酸ビニル等が挙げられる。
水酸基含有(メタ)アクリル酸エステルとしては、ヒドロキシエチルメタクリレート(HEMA)、ヒドロキシエチルアクリレート(HEA)、3−ヒドロキシプロピルメタクリレート、3−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレート、4−ヒドロキシブチルメタクリレート、2−ヒドロキシブチルアクリレート、2−ヒドロキシブチルメタクリレート、6−ヒドロキシヘキシルアクリレート、6−ヒドロキシヘキシルメタクリレート等が挙げられ、なかでも、HEMA、HEAが好ましい。
(メタ)アクリル酸エステルの単独重合体及び(メタ)アクリル酸エステルの共重合体としては、全重合単位に対して、(メタ)アクリル酸エステルに基づく重合単位が1〜100モル%であることが好ましく、(メタ)アクリル酸エステルに基づく重合単位が50〜100モル%であることがより好ましい。
アクリルポリマーの重量平均分子量は、10000〜500000の範囲が好ましい。重量平均分子量が小さすぎると、ガスバリア性(水蒸気バリア性)が劣るおそれがあり、重量平均分子量が大きすぎると、フッ化ビニリデン系樹脂(B)との相溶性が劣るおそれがある。
上記重量平均分子量は、15000〜300000であることがより好ましい。
アクリルポリマー(A)の重量平均分子量は、例えば、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により算出することができる。
上記重量平均分子量は、15000〜300000であることがより好ましい。
アクリルポリマー(A)の重量平均分子量は、例えば、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により算出することができる。
アクリル成分(A)は、(メタ)アクリル酸エステル単量体、多官能アクリル系単量体、不飽和カルボン酸単量体、(メタ)アクリル酸エステルの単独重合体及び(メタ)アクリル酸エステルの共重合体からなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましく、(メタ)アクリル酸エステル単量体と多官能(メタ)アクリル酸エステル単量体との共重合体、(メタ)アクリル酸エステルの単独重合体、及び、(メタ)アクリル酸エステルと(メタ)アクリル酸との共重合体からなる群より選択される少なくとも1種であることがより好ましい。
また、アクリル成分(A)は、(メタ)アクリル酸エステル単量体と多官能(メタ)アクリル酸エステル単量体との共重合体、(メタ)アクリル酸エステルの単独重合体、(メタ)アクリル酸エステルと不飽和カルボン酸との共重合体からなる群より選択される少なくとも1種であることも好ましい。
また、アクリル成分(A)は、(メタ)アクリル酸エステル単量体と多官能(メタ)アクリル酸エステル単量体との共重合体、(メタ)アクリル酸エステルの単独重合体、(メタ)アクリル酸エステルと不飽和カルボン酸との共重合体からなる群より選択される少なくとも1種であることも好ましい。
(B)フッ化ビニリデン(VdF)系樹脂
VdF系樹脂(B)は、VdFの単独重合体(PVdF)、又は、VdFと、VdFと共重合可能な他の単量体の1種または2種以上との共重合体である。
VdF系樹脂(B)を含むことによって、本発明の組成物2から得られる塗膜が優れたガスバリア性を有する。
VdF系樹脂(B)は、VdFの単独重合体(PVdF)、又は、VdFと、VdFと共重合可能な他の単量体の1種または2種以上との共重合体である。
VdF系樹脂(B)を含むことによって、本発明の組成物2から得られる塗膜が優れたガスバリア性を有する。
VdFと共重合可能な他の単量体としては、たとえば、テトラフルオロエチレン(TFE)、クロロトリフルオロエチレン(CTFE)、トリフルオロエチレン(TrFE)、モノフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン(HFP)、パーフルオロ(アルキルビニルエーテル)(PAVE)等の含フッ素オレフィン類;含フッ素アクリレート、官能基含有含フッ素単量体等が挙げられる。これらのうち、溶剤溶解性が良好な点から、TFE、CTFE及びHFPからなる群より選択される少なくとも1種が好ましい。
すなわち、VdF系樹脂(B)としては、VdFと、TFE、HFP、CTFE及びPAVEからなる群より選択される少なくとも1種のモノマーとの共重合体であることが好ましい。
すなわち、VdF系樹脂(B)としては、VdFと、TFE、HFP、CTFE及びPAVEからなる群より選択される少なくとも1種のモノマーとの共重合体であることが好ましい。
また、VdF系樹脂(B)は、VdF単位が50モル%以上、好ましくは60モル%以上であることが、溶剤溶解性が高い点から好ましい。
VdF系樹脂(B)において、VdF単位の割合の上限は、例えば、100モル%であってよい。透明性が良好であることから、VdF単位の割合は95モル%以下であることが好ましく、90モル%以下であることがより好ましい。
VdF系樹脂(B)において、VdF単位の割合の上限は、例えば、100モル%であってよい。透明性が良好であることから、VdF単位の割合は95モル%以下であることが好ましく、90モル%以下であることがより好ましい。
VdF系樹脂(B)としては、VdFの単独重合体(PVdF)、VdF/TFE系共重合体、VdF/TFE/HFP系共重合体、VdF/HFP系共重合体、VdF/CTFE系共重合体等が例示できる。
VdF系樹脂(B)としては、透明性が良好な点から、なかでも、VdF単位50〜95モル%、TFE単位0〜50モル%およびHFP単位0〜50モル%を含む重合体が好ましい。より好ましくは、VdF単位70〜90モル%、TFE単位5〜30モル%およびHFP単位5〜30モル%を含む重合体である。
VdF系樹脂(B)は、透明性が良好な点から、VdF/TFE系共重合体、VdF/HFP系共重合体及び、VdF/TFE/HFP系共重合体からなる群より選択される少なくとも1種がより好ましく、VdF/TFE系共重合体が更に好ましい。
VdF/TFE系共重合体は、VdF単位とTFE単位との合計に対して、VdF単位が50〜95モル%でTFE単位が5〜50モル%であることが好ましく、水蒸気バリア性に優れることから、VdF単位が70〜95モル%でTFE単位が5〜30モル%であることがより好ましく、VdF単位が70〜90モル%でTFE単位が10〜30モル%であることが更に好ましい。
また、VdF/TFE系共重合体は、VdF単位及びTFE単位のみからなる重合体であってもよいし、透明性、溶剤溶解性の観点から、VdF単位及びTFE単位以外の重合単位(但し、HFPに基づく重合単位は除く)、例えば、エチレン、プロピレン、アルキルビニルエーテル、酢酸ビニル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、CH2=CHCF3、CH2=CFCF3等に基づく重合単位を有するものであってもよい。
VdF単位及びTFE単位以外の重合単位は、VdF/TFE系共重合体を構成する全重合単位に対して、0〜10モル%である。
また、VdF/TFE系共重合体は、VdF単位及びTFE単位のみからなる重合体であってもよいし、透明性、溶剤溶解性の観点から、VdF単位及びTFE単位以外の重合単位(但し、HFPに基づく重合単位は除く)、例えば、エチレン、プロピレン、アルキルビニルエーテル、酢酸ビニル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、CH2=CHCF3、CH2=CFCF3等に基づく重合単位を有するものであってもよい。
VdF単位及びTFE単位以外の重合単位は、VdF/TFE系共重合体を構成する全重合単位に対して、0〜10モル%である。
VdF/HFP系共重合体は、VdF単位とHFP単位との合計に対して、VdF単位が50〜95モル%でHFP単位が5〜50モル%であることが好ましく、水蒸気バリア性に優れることから、VdF単位が70〜95モル%でHFP単位が5〜30モル%であることがより好ましく、VdF単位が70〜90モル%でHFP単位が10〜30モル%であることが更に好ましい。
また、VdF/HFP系共重合体は、VdF単位及びHFP単位のみからなる重合体であってもよいし、透明性、溶剤溶解性の観点から、VdF単位及びHFP単位以外の重合単位(但し、HFPに基づく重合単位は除く)、例えば、エチレン、プロピレン、アルキルビニルエーテル、酢酸ビニル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、CH2=CHCF3、CH2=CFCF3等に基づく重合単位を有するものであってもよい。
VdF単位及びHFP単位以外の重合単位は、VdF/HFP系共重合体を構成する全重合単位に対して、0〜10モル%である。
また、VdF/HFP系共重合体は、VdF単位及びHFP単位のみからなる重合体であってもよいし、透明性、溶剤溶解性の観点から、VdF単位及びHFP単位以外の重合単位(但し、HFPに基づく重合単位は除く)、例えば、エチレン、プロピレン、アルキルビニルエーテル、酢酸ビニル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、CH2=CHCF3、CH2=CFCF3等に基づく重合単位を有するものであってもよい。
VdF単位及びHFP単位以外の重合単位は、VdF/HFP系共重合体を構成する全重合単位に対して、0〜10モル%である。
VdF/TFE/HFP系共重合体は、VdF単位とTFE単位とHFP単位との合計に対して、VdF単位が50〜95モル%でTFE単位が1〜50モル%でHFP単位が1〜50モル%であることが好ましく、溶剤溶解性に優れることから、VdF単位が70〜90モル%でTFE単位が10〜30モル%でHFP単位が10〜30モル%であることがより好ましい。
また、VdF/TFE/HFP系共重合体は、VdF単位、TFE単位及びHFP単位のみからなる重合体であってもよいし、透明性、溶剤溶解性の観点から、VdF単位、TFE単位及びHFP単位以外の重合単位、例えば、エチレン、プロピレン、アルキルビニルエーテル、酢酸ビニル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、CH2=CHCF3、CH2=CFCF3等に基づく重合単位を有するものであってもよい。
VdF単位、TFE単位及びHFP単位以外の重合単位は、VdF/TFE/HFP系共重合体を構成する全重合単位に対して、0〜10モル%である。
また、VdF/TFE/HFP系共重合体は、VdF単位、TFE単位及びHFP単位のみからなる重合体であってもよいし、透明性、溶剤溶解性の観点から、VdF単位、TFE単位及びHFP単位以外の重合単位、例えば、エチレン、プロピレン、アルキルビニルエーテル、酢酸ビニル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、CH2=CHCF3、CH2=CFCF3等に基づく重合単位を有するものであってもよい。
VdF単位、TFE単位及びHFP単位以外の重合単位は、VdF/TFE/HFP系共重合体を構成する全重合単位に対して、0〜10モル%である。
VdF系樹脂(B)の重量平均分子量は、10000〜100000000の範囲が好ましい。重量平均分子量が小さすぎると、塗膜強度が劣るおそれがあり、重量平均分子量が大きすぎると、溶剤溶解性が劣るおそれがある。
上記重量平均分子量は、50000〜10000000であることがより好ましい。
VdF系樹脂(B)の重量平均分子量は、例えば、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により算出することができる。
上記重量平均分子量は、50000〜10000000であることがより好ましい。
VdF系樹脂(B)の重量平均分子量は、例えば、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により算出することができる。
本発明の組成物2は、アクリル成分(A)とVdF系樹脂(B)との質量比(A)/(B)が1/99〜99/1であることが好ましい。上記特定の範囲でアクリルポリマー(A)を含むことによって、腐食防止効果及び密着性に優れた塗膜を形成できる。質量比(A)/(B)は、1/99〜70/30であることが好ましく、1/99〜50/50であることがより好ましく、5/95〜30/70であることが特に好ましい。
本発明の組成物2は、アクリル成分(A)とVdF系樹脂(B)との合計質量が、ポリマー成分の全量(アクリル成分がモノマーである場合にはアクリル成分の量を含む)に対して、90質量%以上であることが好ましく、95質量%以上であることがより好ましい。本発明の組成物は、ポリマー成分がアクリル成分(A)とVdF系樹脂(B)のみからなるものであってもよい。
本発明の組成物2は、塗料として好適に使用することができる。塗料の形態としては、溶剤型塗料、水性型塗料、粉体型塗料等が挙げられる。これらの形態には、常法により調製することができる。
本発明の組成物2は、成膜の容易さ、硬化性、乾燥性の良好さ等の点から溶剤型塗料であることが好ましい。
本発明の組成物2は、成膜の容易さ、硬化性、乾燥性の良好さ等の点から溶剤型塗料であることが好ましい。
本発明の組成物2が溶剤型塗料である場合、本発明の組成物は、更に溶剤を含む。アクリル成分(A)とVdF系樹脂(B)を溶剤に溶解又は分散させることによって溶剤型塗料を得ることができる。
溶剤としては、極性有機溶媒が好ましく、ケトン系溶剤、エステル系溶媒、カーボネート系溶媒、環状エーテル系溶媒、アミド系溶剤がより好ましい。具体的には、メチルエチルケトン(MEK)、メチルイソブチルケトン(MIBK)、アセトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、酢酸エチル、酢酸メチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、乳酸エチル、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジプロピルカーボネート、メチルエチルカーボネート、テトラヒドロフラン、メチルテトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド(DMAc)、ジアセトンアルコール等が挙げられる。
本発明の組成物2が溶剤型塗料である場合、塗料の総量100質量%に対するアクリル成分(A)及びVdF系樹脂(B)の合計量は1〜95質量%であることが好ましく、5〜70質量%であることがより好ましい。
本発明の組成物2を塗料として塗装する場合、塗装温度は、塗装の形態に応じて、通常の温度条件で行えばよい。
コーティング方法としては、ナイフコーティング法、ロールコーティング法、グラビアコーティング法、ブレードコーティング法、リバース法、ロッドコーティング法、エアドクタコーティング法、カーテンコーティング法、ファクンランコーティング法、キスコーティング法、スクリーンコーティング法、スピンコーティング法、スプレーコーティング法、押出コーティング法、マイクログラビアコート法、フローコート法、バーコート法、ダイコート法、ディップコート法等が採用でき、基材の種類、形状、生産性、膜厚のコントロール性等を考慮して選択できる。
溶剤型塗料の場合、硬化及び乾燥は、10〜300℃、通常は10〜200℃で、30秒から3日間行う。硬化及び乾燥させた後、養生してもよく、養生は、通常、10〜200℃にて1分間〜3日間で完了する。
硬化は、加熱以外にも、紫外線、電子線又は放射線等の活性エネルギー線を照射することによって光硬化させる方法により行うことができる。
硬化は、加熱以外にも、紫外線、電子線又は放射線等の活性エネルギー線を照射することによって光硬化させる方法により行うことができる。
本発明の組成物2は、アクリル成分(A)、VdF系樹脂(B)以外に、硬化剤、硬化促進剤、硬化遅延剤、顔料、顔料分散剤、消泡剤、レベリング剤、紫外線吸収剤、光安定剤、増粘剤、密着改良剤、つや消し剤、活性エネルギー線硬化開始剤等を含むものであってもよい。
活性エネルギー線硬化開始剤は、例えば350nm以下の波長領域の電磁波、つまり紫外光線、電子線、X線、γ線等が照射されることによって初めてラジカルやカチオン等を発生し、含フッ素重合体の炭素−炭素二重結合を硬化(架橋反応)を開始させる触媒として働くものであり、通常、紫外光線でラジカルやカチオンを発生させるもの、特にラジカルを発生するものを使用する。例えばつぎのものが例示できる。
アセトフェノン系:アセトフェノン、クロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、ヒドロキシアセトフェノン、α−アミノアセトフェノン、ヒドロキシプロピオフェノン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリンプロパン−1−オン等。
ベンゾイン系:ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジルジメチルケタール等。
ベンゾフェノン系:ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、4−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ヒドロキシ−プロピルベンゾフェノン、アクリル化ベンゾフェノン、ミヒラーズケトン等。
チオキサンソン類:チオキサンソン、クロロチオキサンソン、メチルキサンソン、ジエチルチオキサンソン、ジメチルチオキサンソン等。
その他:ベンジル、α−アシルオキシムエステル、アシルホスフィンオキサイド、グリオキシエステル、3−ケトクマリン、2−エチルアンスラキノン、カンファーキノン、アンスラキノン等。
本発明の組成物2は、優れた腐食防止効果、透明性及び金属密着性を備える塗膜を形成することができることから、金属表面を保護するために使用する防錆塗料として特に好適である。
上記金属としては、銅、銀、アルミ、鉄、SUS、ニッケル、モリブデン、クロム、亜鉛、その他各種鋼板等が挙げられる。特に優れた金属密着性及び防錆性が発揮されることから、銅または銀が好ましい。さらには銅が特に好ましい。従って、本発明の組成物2は、銅または銀の防錆用塗料組成物としてより好適である。銅は銅板だけでなく、基材に銅が蒸着されたもの、基材に銅箔が積層されたものでもよい。銀は銀板だけでなく、基材に銀が蒸着されたもの、基材に銀箔が積層されたものでもよい。
上記金属としては、銅、銀、アルミ、鉄、SUS、ニッケル、モリブデン、クロム、亜鉛、その他各種鋼板等が挙げられる。特に優れた金属密着性及び防錆性が発揮されることから、銅または銀が好ましい。さらには銅が特に好ましい。従って、本発明の組成物2は、銅または銀の防錆用塗料組成物としてより好適である。銅は銅板だけでなく、基材に銅が蒸着されたもの、基材に銅箔が積層されたものでもよい。銀は銀板だけでなく、基材に銀が蒸着されたもの、基材に銀箔が積層されたものでもよい。
本発明の組成物2は、プリント基板、多層基板の導電部、コネクターの電極、銀または銅パターン、銀または銅メッシュの導電膜、銀または銅などの金属微粒子、金属ナノワイヤーからなる導電膜等、各種導電部に対してマイグレーション発生を抑制することができることから、マイグレーション発生を抑制するための塗料組成物としても好適である。
本発明の組成物2の用途としては、タッチパネル、LED、太陽電池、有機EL、屋外で使用する電子装置、その他電子機器類の配線、電線、電気接点、電子デバイス、アンテナ、素子の金属部の保護が挙げられる。より具体的には、銅または銀からなる、タッチパネル取り出し配線の保護、タッチパネル透明電極の保護、LEDリードフレームの保護、太陽電池取り出し配線の保護が挙げられる。
本発明の組成物2は、フッ化ビニリデン系樹脂(B)を含む。フッ化ビニリデン系樹脂(B)を含むと、撥水性、防湿性、耐環境性、耐薬品性が向上し、従って、本発明の組成物2は、後述する本発明の組成物3よりも、金属の腐食を防止する効果が高く、マイグレーション発生を抑制する効果も高いことが期待できる。
本発明はまた、上述の新規化合物、及び、光学接着剤を含むことを特徴とする組成物(以下「組成物3」ともいう)でもある。
上記組成物3は、金属の腐食を防止する効果が高く、金属との密着性にも優れる塗膜又はシートを形成することができる。得られる塗膜又はシートは、透明性にも優れる。
更に、上記組成物3から得られる塗膜又はシートは、プリント基板、多層基板の導電部、コネクターの電極、銀または銅パターン、銀または銅メッシュの導電膜等、各種導電部に対してマイグレーション発生を抑制することもできる。
更に、上記組成物3から得られる塗膜又はシートは、プリント基板、多層基板の導電部、コネクターの電極、銀または銅パターン、銀または銅メッシュの導電膜等、各種導電部に対してマイグレーション発生を抑制することもできる。
上記組成物3が含む新規化合物は、式(1)又は(2)で示される化合物として上記に詳述したとおりである。
上記組成物3は、腐食防止効果及び密着性に優れた塗膜を形成でき、かつマイグレーション発生をより抑制できることから、上記重合性官能基を含有する含窒素芳香族複素環化合物を0.1〜30質量%含むことが好ましく、1〜10質量%含むことがより好ましい。
腐食防止効果及び密着性により優れた塗膜を形成でき、かつマイグレーション発生をより抑制できることから、上記重合性官能基を含有する含窒素芳香族複素環化合物の含有量は2質量%以上であることが更に好ましく、3質量%以上であることが特に好ましい。
腐食防止効果及び密着性により優れた塗膜を形成でき、かつマイグレーション発生をより抑制できることから、上記重合性官能基を含有する含窒素芳香族複素環化合物の含有量は2質量%以上であることが更に好ましく、3質量%以上であることが特に好ましい。
上記光学接着剤としては、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体変性物、ポリエチレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−アクリル酸共重合体、エチレン−アクリル酸エステル共重合体、エチレン−アクリル酸塩共重合体、アクリル酸エステル系ゴム、ポリイソブチレン、アタクチックポリプロピレン、ポリビニルブチラール、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、スチレン−ブタジエンブロック共重合体、スチレン−イソプレンブロック共重合体、ポリブタジエン、エチルセルロース、フェノキシ樹脂、ポリエステル、エポキシ樹脂、ポリアミド、ポリビニルエーテル、ポリウレタン、ポリイソブレン、シリコーン系ゴム、ポリクロロプレン、(メタ)アクリル酸エステルの共重合体等を挙げることができる。
上記光学接着剤としては、優れた透明性、光学特性を有することから、なかでも、(メタ)アクリル酸エステルの共重合体が好ましい。
本明細書において、「(メタ)アクリル酸エステル」と単に記載したときには、水酸基含有(メタ)アクリル酸エステル、アミノ基含有(メタ)アクリル酸エステル及び多官能アクリル系単量体を含まない。
(メタ)アクリル酸エステルとしては、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、(メタ)アクリル酸イソプロピル、(メタ)アクリル酸n−ブチル、(メタ)アクリル酸i−ブチル、(メタ)アクリル酸t−ブチル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸オクチル、(メタ)アクリル酸ラウリル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル及び(メタ)アクリル酸ベンジルからなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましく、(メタ)アクリル酸n−ブチル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシルが更に好ましい。
(メタ)アクリル酸エステルの共重合体としては、(メタ)アクリル酸エステルと、(メタ)アクリル酸、水酸基含有(メタ)アクリル酸エステル、アミノ基含有(メタ)アクリル酸エステル、多官能アクリル系単量体、アルキルビニルエーテル、アルキルビニルエステル、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、(メタ)アクリロニトリル、塩化ビニル、塩化ビニリデン及び(メタ)アクリルアミドからなる群より選択される少なくとも1種のモノマーとの共重合体が好ましい。
アルキルビニルエーテルとしては、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル等が挙げられる。
アルキルビニルエステルとしては、ギ酸ビニル、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、カプロン酸ビニル、ステアリン酸ビニル等が挙げられる。
水酸基含有(メタ)アクリル酸エステルとしては、ヒドロキシエチルメタクリレート(HEMA)、ヒドロキシエチルアクリレート(HEA)、3−ヒドロキシプロピルメタクリレート、3−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレート、4−ヒドロキシブチルメタクリレート、2−ヒドロキシブチルアクリレート、2−ヒドロキシブチルメタクリレート、6−ヒドロキシヘキシルアクリレート、6−ヒドロキシヘキシルメタクリレート等が挙げられ、なかでも、HEMA、HEAが好ましい。
(メタ)アクリル酸エステルの共重合体としては、全重合単位に対して、(メタ)アクリル酸エステルに基づく重合単位が1〜100モル%であることが好ましく、(メタ)アクリル酸エステルに基づく重合単位が50〜100モル%であることがより好ましい。
(メタ)アクリル酸エステルの共重合体の重量平均分子量は、5000〜200万の範囲であり、1万〜170万の範囲が好ましく、50万〜150万の範囲がより好ましい。重量平均分子量が小さすぎると、ガスバリア性、水蒸気バリア性が劣る恐れがあり、重量平均分子量が大きすぎると、溶剤への溶解性、塗布性が劣る恐れがある。
アクリルポリマー(A)の重量平均分子量は、例えば、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により算出することができる。
アクリルポリマー(A)の重量平均分子量は、例えば、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により算出することができる。
上記組成物3は、塗料として好適に使用することができる。塗料の形態としては、溶剤型塗料、水性型塗料、粉体型塗料等が挙げられる。これらの形態には、常法により調製することができる。
上記組成物3は、成膜の容易さ、硬化性、乾燥性の良好さ等の点から溶剤型塗料であることが好ましい。
上記組成物3は、成膜の容易さ、硬化性、乾燥性の良好さ等の点から溶剤型塗料であることが好ましい。
上記組成物3が溶剤型塗料である場合、上記組成物は、更に溶剤を含む。上記光学接着剤を溶剤に溶解又は分散させることによって溶剤型塗料を得ることができる。また、上記の重合性官能基を含有する含窒素芳香族複素環化合物の存在下に、溶液中で光学接着剤を構成するモノマーを重合させて溶液を得ることによっても調製可能である。
溶剤としては、極性有機溶媒が好ましく、ケトン系溶剤、エステル系溶媒、カーボネート系溶媒、環状エーテル系溶媒、アミド系溶剤がより好ましい。具体的には、メチルエチルケトン(MEK)、メチルイソブチルケトン(MIBK)、アセトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、酢酸エチル、酢酸メチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、乳酸エチル、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジプロピルカーボネート、メチルエチルカーボネート、テトラヒドロフラン、メチルテトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド(DMAc)、ジアセトンアルコール等が挙げられる。
上記組成物3が溶剤型塗料である場合、塗料の総量100質量%に対する光学接着剤の合計量は1〜95質量%であることが好ましく、5〜70質量%であることがより好ましい。
上記組成物3を塗料として塗装する場合、塗装温度は、塗装の形態に応じて、通常の温度条件で行えばよい。
コーティング方法としては、ナイフコーティング法、ロールコーティング法、グラビアコーティング法、ブレードコーティング法、リバース法、ロッドコーティング法、エアドクタコーティング法、カーテンコーティング法、ファクンランコーティング法、キスコーティング法、スクリーンコーティング法、スピンコーティング法、スプレーコーティング法、押出コーティング法、マイクログラビアコート法、フローコート法、バーコート法、ダイコート法、ディップコート法等が採用でき、基材の種類、形状、生産性、膜厚のコントロール性等を考慮して選択できる。
溶剤型塗料の場合、硬化及び乾燥は、10〜300℃、通常は10〜200℃で、30秒から3日間行う。硬化及び乾燥させた後、養生してもよく、養生は、通常、10〜200℃にて1分間〜3日間で完了する。
硬化は、加熱以外にも、紫外線、電子線又は放射線等の活性エネルギー線を照射することによって光硬化させる方法により行うことができる。
硬化は、加熱以外にも、紫外線、電子線又は放射線等の活性エネルギー線を照射することによって光硬化させる方法により行うことができる。
上記組成物3は、光学接着剤以外に、硬化剤、硬化促進剤、硬化遅延剤、顔料、顔料分散剤、消泡剤、レベリング剤、紫外線吸収剤、光安定剤、増粘剤、密着改良剤、つや消し剤、活性エネルギー線硬化開始剤等を含むものであってもよい。
上記組成物3は、硬化剤を含むことができる。上記硬化剤としては、イソシアネート系硬化剤、メラミン樹脂、シリケート化合物、イソシアネート基含有シラン化合物などが好ましく例示できる。
上記イソシアネート系硬化剤としては、例えば、トリレンジイソシアネート(TDI)、ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)、キシリレンジイソシアネート(XDI)、イソホロンジイソシアネート(IPDI)、リジンメチルエステルジイソシアネート、メチルシクロヘキシルジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)、n−ペンタン−1,4−ジイソシアネート等、これらの三量体、これらのアダクト体、ヌレート体、ビュウレット体等が挙げられる。
活性エネルギー線硬化開始剤は、例えば350nm以下の波長領域の電磁波、つまり紫外光線、電子線、X線、γ線等が照射されることによって初めてラジカルやカチオン等を発生し、含フッ素重合体の炭素−炭素二重結合を硬化(架橋反応)を開始させる触媒として働くものであり、通常、紫外光線でラジカルやカチオンを発生させるもの、特にラジカルを発生するものを使用する。例えばつぎのものが例示できる。
アセトフェノン系:アセトフェノン、クロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、ヒドロキシアセトフェノン、α−アミノアセトフェノン、ヒドロキシプロピオフェノン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリンプロパン−1−オン等。
ベンゾイン系:ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジルジメチルケタール等。
ベンゾフェノン系:ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、4−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ヒドロキシ−プロピルベンゾフェノン、アクリル化ベンゾフェノン、ミヒラーズケトン等。
チオキサンソン類:チオキサンソン、クロロチオキサンソン、メチルキサンソン、ジエチルチオキサンソン、ジメチルチオキサンソン等。
その他:ベンジル、α−アシルオキシムエステル、アシルホスフィンオキサイド、グリオキシエステル、3−ケトクマリン、2−エチルアンスラキノン、カンファーキノン、アンスラキノン等。
上記組成物3は、優れた腐食防止効果、透明性及び密着性を備える塗膜を形成することができることから、光学用部材の接着のために用いられる接着剤として、好適に利用可能である。また、金属基材との接着にも優れることから、金属表面を保護するための防錆塗料としても好適である。上記組成物3は、光学用部材の接着のために限らず、接着剤として好適に利用可能である。
更に、上記組成物3からは、優れた腐食防止効果、透明性及び密着性を備えるシートを形成することができ、得られるシートは、光学用部材の接着のために用いられる粘着シート又は接着用シートとして、好適に利用可能である。また、金属基材との接着にも優れることから、金属表面を保護するための防錆シートとしても好適である。得られるシートは、光学用部材の接着のために限らず、粘着シート又は接着用シートとして好適に利用可能である。
上記金属としては、銅、銀、アルミ、鉄、SUS、ニッケル、モリブデン、クロム、亜鉛、その他各種鋼板等が挙げられる。特に優れた金属密着性及び防錆性が発揮されることから、銅または銀が好ましい。さらには銅が特に好ましい。従って、上記組成物3は、銅または銀の防錆用塗料組成物としてより好適である。銅は銅板だけでなく、基材に銅が蒸着またはスパッタされたもの、基材に銅箔が積層されたものでもよい。銀は銀板だけでなく、基材に銀が蒸着またはスパッタされたもの、基材に銀箔が積層されたものでもよい。
更に、上記組成物3からは、優れた腐食防止効果、透明性及び密着性を備えるシートを形成することができ、得られるシートは、光学用部材の接着のために用いられる粘着シート又は接着用シートとして、好適に利用可能である。また、金属基材との接着にも優れることから、金属表面を保護するための防錆シートとしても好適である。得られるシートは、光学用部材の接着のために限らず、粘着シート又は接着用シートとして好適に利用可能である。
上記金属としては、銅、銀、アルミ、鉄、SUS、ニッケル、モリブデン、クロム、亜鉛、その他各種鋼板等が挙げられる。特に優れた金属密着性及び防錆性が発揮されることから、銅または銀が好ましい。さらには銅が特に好ましい。従って、上記組成物3は、銅または銀の防錆用塗料組成物としてより好適である。銅は銅板だけでなく、基材に銅が蒸着またはスパッタされたもの、基材に銅箔が積層されたものでもよい。銀は銀板だけでなく、基材に銀が蒸着またはスパッタされたもの、基材に銀箔が積層されたものでもよい。
上記組成物3は、プリント基板、多層基板の導電部、コネクターの電極、銀または銅パターン、銀または銅メッシュの導電膜、銀または銅などの金属微粒子、金属ナノワイヤーからなる導電膜等、各種導電部に対してマイグレーション発生を抑制することができることから、マイグレーション発生を抑制するための塗料組成物としても好適である。
上記組成物3の用途としては、タッチパネル、LED、太陽電池、有機EL、屋外で使用する電子装置、その他電子機器類の配線、電線、電気接点、電子デバイス、アンテナ、素子の金属部の保護が挙げられる。より具体的には、銅または銀からなる、タッチパネル取り出し配線の保護、タッチパネル透明電極の保護、LEDリードフレームの保護、太陽電池取り出し配線の保護が挙げられる。
上記組成物3は、フッ化ビニリデン系樹脂(B)を含む必要がない。上記組成物3がフッ化ビニリデン系樹脂(B)を含まない場合、上述の組成物2よりも他の層との接着性に優れ、各種溶剤への溶解性に優れ、また光学特性に優れることが期待できる。
本発明は、基材と、上述の組成物2から上記基材上に形成された塗膜と、を含むことを特徴とする塗装物品でもある。上記基材は、金属、金属が分散あるいは一部分散してなる樹脂、樹脂表面の全体あるいは一部が金属で覆われた金属/樹脂の積層体、ガラス、ポリエチレンテレフタレート、シクロオレフィンポリマー、ポリイミドポリマー、ウレタンポリマー、アクリルポリマー、又は、ウレタンポリマーとアクリルポリマーの混合ポリマーから形成されたものであることが好ましく、金属が分散あるいは一部分散してなる樹脂、樹脂表面の全体あるいは一部が金属で覆われた金属/樹脂の積層体であることがより好ましい。上記金属としては、銅、銀、アルミ、鉄、SUS、ニッケル、モリブデン、クロム、亜鉛等が挙げられる。特に優れた腐食防止効果及び密着性が発揮されることから、銅または銀が好ましい。さらには銅が特に好ましい。
本発明の塗装物品としては、タッチパネル、LED、太陽電池、有機EL、屋外で使用する電子装置、その他電子機器類の金属配線、電子デバイス、アンテナ、素子等が挙げられる。より具体的には、銅または銀からなる、タッチパネル取り出し配線、タッチパネル透明電極、LEDリードフレーム、太陽電池取り出し配線等が挙げられる。
本発明の塗装物品としては、タッチパネル、LED、太陽電池、有機EL、屋外で使用する電子装置、その他電子機器類の金属配線、電子デバイス、アンテナ、素子等が挙げられる。より具体的には、銅または銀からなる、タッチパネル取り出し配線、タッチパネル透明電極、LEDリードフレーム、太陽電池取り出し配線等が挙げられる。
本発明は、上記組成物2又は上記組成物3から形成されることを特徴とするシートでもある。
本発明のシートは、基材上に上記組成物2又は上記組成物3を塗布し、得られた塗膜を乾燥し、所望により硬化させることにより、製造することができる。乾燥及び硬化させたシートを基材から引き剥がして単層のシートを製造することもできる。
上記組成物2及び3が溶剤型塗料の場合、硬化及び乾燥は、10〜300℃、通常は10〜200℃で、30秒から3日間行う。硬化及び乾燥させた後、養生してもよく、養生は、通常、10〜200℃にて1分間〜3日間で完了する。
硬化は、加熱以外にも、紫外線、電子線又は放射線等の活性エネルギー線を照射することによって光硬化させる方法により行うことができる。
硬化は、加熱以外にも、紫外線、電子線又は放射線等の活性エネルギー線を照射することによって光硬化させる方法により行うことができる。
本発明のシートは、他の層の上に設置するか、他の2つの層の間に設置した後、圧着することにより他の層と接着させることができる。
上記組成物2から形成されるシートと上記組成物3から形成されるシートとを重ねあわせて使用することも可能である。予め重ね合わせておいた2つのシートを、他の層の上に設置するか、他の2つの層の間に設置した後、圧着することにより他の層と接着させることができる。
本発明は、剥離シートと、上記組成物2又は上記組成物3から上記剥離シート上に形成されたシートと、を含むことを特徴とする積層シートでもある。剥離シートは、塗膜の片面に設けられていてもよし、塗膜の両面に設けられていてもよい。
本発明の積層シートは、剥離シート上に上記組成物2又は上記組成物3を塗布し、得られた塗膜を乾燥し、所望により硬化させることにより、製造することができる。乾燥及び硬化の条件は上述したとおりである。
上記剥離シートとしては、基材に離型剤を塗布して得られるシート、フッ素樹脂シート等を使用することができる。基材としてはポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル系樹脂からなるものが挙げられ、離型剤としては、シリコーン系、フルオロ系、フルオロシリコーン系、またシリコーンを含まないオレフィン系、アルキド系、アルキル系、長鎖アルキル系を挙げることができる。
本発明の積層シートは、使用時に剥離シートを剥離して、上記組成物2又は上記組成物3から形成されるシートを他の層と貼り合わせることにより使用することができる。また、上記組成物2又は上記組成物3から形成されるシートは、他の層の上に設置するか、他の2つの層の間に設置した後、圧着することにより他の層と接着させることができる。
本発明の積層シートは、剥離シートと、上記組成物2から上記剥離シート上に形成されたシートと、上記組成物2から形成されたシートの上に形成されており、上記組成物3から形成されたシートと、を含むものであってもよい。また、本発明の積層シートは、剥離シートと、上記組成物3から上記剥離シート上に形成されたシートと、上記組成物3から形成されたシートの上に形成されており、上記組成物2から形成されたシートと、を含むものであってもよい。
上記組成物2又は上記組成物3から形成されたシートは、金属の腐食を防止する効果が高く、金属との密着性にも優れ、透明性にも優れる。
更に、上記シートは、プリント基板、多層基板の導電部、コネクターの電極、銀または銅パターン、銀または銅メッシュの導電膜等、各種導電部に対してマイグレーション発生を抑制することもできる。
更に、上記シートは、プリント基板、多層基板の導電部、コネクターの電極、銀または銅パターン、銀または銅メッシュの導電膜等、各種導電部に対してマイグレーション発生を抑制することもできる。
上記シートのうち、特に上記組成物2から形成されるシートは、フッ化ビニリデン系樹脂(B)を含む。従って、上記組成物3から形成されるシートよりも、金属の腐食を防止する効果が高く、マイグレーション発生を抑制する効果も高いことが期待できる。従って、金属表面を保護するために使用する防錆シートとして好適に利用できる。
上記のシートのうち、特に上記組成物3から形成されるシートは、フッ化ビニリデン系樹脂(B)を含む必要がない。上記組成物3から形成されるシートがフッ化ビニリデン系樹脂(B)を含まない場合、上記組成物2から形成されるシートよりも他の層との接着性に優れることが期待できる。従って、光学用部材の接着に使用する接着用シートとして好適に利用できる。
上述した組成物2及び3、並びに、上述したシート及び積層シートを使用して、図1〜6に示す積層構造を有する積層体を製造することができる。
図1に示す実施態様では、絶縁層11、上記組成物3から形成されたシート12、金属層13、及び、絶縁層14がこの順に設けられている。上記組成物3から形成されたシートは、光学的に透明な粘着シート(OCAシート)として使用されている。すなわち、シート12は、絶縁層11と金属層13とを強固に接着させており、同時に金属層13を腐食から保護している。絶縁層11及び14は、透明基板であることが好ましく、ガラス、ポリエチレンテレフタレート、シクロオレフィンポリマー、ポリイミドポリマー、ウレタンポリマー、アクリルポリマー、又は、ウレタンポリマーとアクリルポリマーの混合ポリマー等から形成することができる。金属層13は、銅、銀、アルミ、鉄、SUS、ニッケル、モリブデン、クロム、亜鉛等から形成することができ、なかでも、銅又は銀から形成することが好ましい。絶縁層11及び14の片面あるいは両面に密着性を向上させるプライマー層を設けてもよい。そのプライマー層は本発明の組成物から形成されたシートであってもよい。
図2に示す実施態様では、絶縁層21、上記組成物2から形成されたシート22、金属層23、及び、絶縁層24がこの順に設けられている。上記組成物2から形成されたシート22は、金属層23を腐食から保護していると同時に、絶縁層21と金属層23とを強固に接着させている。絶縁層21及び24は、透明基板であることが好ましく、ガラス、ポリエチレンテレフタレート、シクロオレフィンポリマー、ポリイミドポリマー、ウレタンポリマー、アクリルポリマー、又は、ウレタンポリマーとアクリルポリマーの混合ポリマー等から形成することができる。金属層23は、銅、銀、アルミ、鉄、SUS、ニッケル、モリブデン、クロム、亜鉛等から形成することができ、なかでも、銅又は銀から形成することが好ましい。絶縁層21及び24の片面あるいは両面に密着性を向上させるプライマー層を設けてもよい。そのプライマー層は本発明の組成物から形成されたシートであってもよい。
図3に示す実施態様では、絶縁層31、上記組成物3から形成されたシート32、金属層33、絶縁層34、金属層35及び上記組成物3から形成されたシート36がこの順に設けられている。このように絶縁層を介して2つの金属層を設けることもできる。上記組成物3から形成されたシートは、光学的に透明な粘着シート(OCAシート)として使用されている。すなわち、シート32及び36は、絶縁層31と金属層33とを強固に接着させており、同時に金属層33及び35を腐食から保護している。また、シート36を介して他の光学部材と接着させることができる。絶縁層31及び34は、透明基板であることが好ましく、ガラス、ポリエチレンテレフタレート、シクロオレフィンポリマー、ポリイミドポリマー、ウレタンポリマー、アクリルポリマー、又は、ウレタンポリマーとアクリルポリマーの混合ポリマー等から形成することができる。金属層33及び35は、銅、銀、アルミ、鉄、SUS、ニッケル、モリブデン、クロム、亜鉛等から形成することができ、なかでも、銅又は銀から形成することが好ましい。絶縁層31及び34の片面あるいは両面に密着性を向上させるプライマー層を設けてもよい。そのプライマー層は本発明の組成物から形成されたシートであってもよい。
図4に示す実施態様では、絶縁層41、上記組成物2から形成されたシート42、金属層43、絶縁層44、金属層45及び上記組成物2から形成されたシート46がこの順に設けられている。このように絶縁層を介して2つの金属層を設けることもできる。
上記組成物2から形成されたシート42及び46は、金属層43及び45を腐食から保護していると同時に、絶縁層41と金属層43とを強固に接着させている。また、シート46を介して、この実施態様の積層体を他の光学部材と接着させることができる。絶縁層41及び44は、透明基板であることが好ましく、ガラス、ポリエチレンテレフタレート、シクロオレフィンポリマー、ポリイミドポリマー、ウレタンポリマー、アクリルポリマー、又は、ウレタンポリマーとアクリルポリマーの混合ポリマー等から形成することができる。金属層43及び45は、銅、銀、アルミ、鉄、SUS、ニッケル、モリブデン、クロム、亜鉛等から形成することができ、なかでも、銅又は銀から形成することが好ましい。絶縁層41及び44の片面あるいは両面に密着性を向上させるプライマー層を設けてもよい。そのプライマー層は本発明の組成物から形成されたシートであってもよい。
上記組成物2から形成されたシート42及び46は、金属層43及び45を腐食から保護していると同時に、絶縁層41と金属層43とを強固に接着させている。また、シート46を介して、この実施態様の積層体を他の光学部材と接着させることができる。絶縁層41及び44は、透明基板であることが好ましく、ガラス、ポリエチレンテレフタレート、シクロオレフィンポリマー、ポリイミドポリマー、ウレタンポリマー、アクリルポリマー、又は、ウレタンポリマーとアクリルポリマーの混合ポリマー等から形成することができる。金属層43及び45は、銅、銀、アルミ、鉄、SUS、ニッケル、モリブデン、クロム、亜鉛等から形成することができ、なかでも、銅又は銀から形成することが好ましい。絶縁層41及び44の片面あるいは両面に密着性を向上させるプライマー層を設けてもよい。そのプライマー層は本発明の組成物から形成されたシートであってもよい。
図5に示す実施態様では、絶縁層51、上記組成物3から形成されたシート52、上記組成物2から形成されたシート53、金属層54及び絶縁層55がこの順に設けられている。上記組成物3から形成されたシート52は、光学的に透明な粘着シート(OCAシート)として使用されており、絶縁層51とシート53とを強固に接着させている。シート52は、上記組成物3から形成されたシートに限らず、市販の光学接着剤、OCAシートでもよい。上記組成物2から形成されたシート53は、金属層54を腐食から保護していると同時に、シート52と金属層54とを強固に接着させている。絶縁層51及び55は、透明基板であることが好ましく、ガラス、ポリエチレンテレフタレート、シクロオレフィンポリマー、ポリイミドポリマー、ウレタンポリマー、アクリルポリマー、又は、ウレタンポリマーとアクリルポリマーの混合ポリマー等から形成することができる。金属層54は、銅、銀、アルミ、鉄、SUS、ニッケル、モリブデン、クロム、亜鉛等から形成することができ、なかでも、銅又は銀から形成することが好ましい。絶縁層51及び55の片面あるいは両面に密着性を向上させるプライマー層を設けてもよい。そのプライマー層は本発明の組成物から形成されたシートであってもよい。
図6に示す実施態様では、絶縁層61、上記組成物3から形成されたシート62、上記組成物2から形成されたシート63、金属層64、絶縁層65、金属層66、上記組成物2から形成されたシート67及び上記組成物3から形成されたシート68がこの順に設けられている。このように絶縁層を介して2つの金属層を設けることもできる。上記組成物3から形成されたシート62及び68は、光学的に透明な粘着シート(OCAシート)として使用されている。シート62及び68は、上記組成物3から形成されたシートに限らず、市販の光学接着剤、OCAシートでもよい。すなわち、シート62は絶縁層61とシート63とを強固に接着させており、また、シート68を介してこの実施態様の積層体を他の光学部材と接着させることができる。上記組成物2から形成されたシート63及び67は、金属層64及び66を腐食から保護していると同時に、シート62と金属層64とを強固に接着させており、金属層66とシート68とを強固に接着させている。絶縁層61及び65は、透明基板であることが好ましく、ガラス、ポリエチレンテレフタレート、シクロオレフィンポリマー、ポリイミドポリマー、ウレタンポリマー、アクリルポリマー、又は、ウレタンポリマーとアクリルポリマーの混合ポリマー等から形成することができる。金属層64及び66は、銅、銀、アルミ、鉄、SUS、ニッケル、モリブデン、クロム、亜鉛等から形成することができ、なかでも、銅又は銀から形成することが好ましい。絶縁層61及び65の片面あるいは両面に密着性を向上させるプライマー層を設けてもよい。そのプライマー層は本発明の組成物から形成されたシートであってもよい。
以上に記載した各実施態様における「上記組成物2から形成されたシート」は「上記組成物2から形成された塗膜」であってもよく、「上記組成物3から形成されたシート」は「上記組成物3から形成された塗膜」であってもよい。
上述の重合性官能基を含有する含窒素芳香族複素環化合物は、また、導電性ペースト、導電性インク、導電性塗料又は電極ペーストに添加して使用することができる。
重合性官能基を含有する含窒素芳香族複素環化合物、並びに、金属ナノワイヤー、金属ナノ粒子及び金属ゾル粒子からなる群より選択される少なくとも1種を含む組成物も、好適な実施態様として例示できる。上記組成物は、導電性ペースト、導電性インク、導電性塗料又は電極ペーストとして好適に利用することができる。
重合性官能基を含有する含窒素芳香族複素環化合物としては、上述の組成物2及び3において使用できるものが、この組成物でも同様に使用できる。
上記金属ナノワイヤーとは、導電性を有し、且つ長軸方向長さが直径(短軸方向長さ)に比べて十分に長い形状を持つものをいう。金属ナノワイヤーは、中実繊維であっても、中空繊維であってもよい。
上記金属ナノワイヤーの材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、長周期律表(IUPAC1991)の第4周期、第5周期、及び第6周期よりなる群から選ばれる少なくとも1種の金属が好ましく、第4周期、第5周期、及び第6周期よりなる群から選ばれる少なくとも1種の金属、かつ第2族〜第14族から選ばれる少なくとも1種の金属がより好ましく、第4周期、第5周期、及び第6周期よりなる群から選ばれる少なくとも1種の金属、かつ第2族、第8族、第9族、第10族、第11族、第12族、第13族、及び第14族から選ばれる少なくとも1種の金属が更に好ましく、主成分として含むことが特に好ましい。
上記金属としては、例えば、銅、銀、金、白金、パラジウム、ニッケル、スズ、コバルト、ロジウム、イリジウム、鉄、ルテニウム、オスミウム、マンガン、モリブデン、タングステン、ニオブ、タンテル、チタン、ビスマス、アンチモン、鉛、これらの合金などが挙げられる。これらの中でも、導電性に優れる点で、銀、及び銀との合金が特に好ましい。
上記銀との合金で使用する金属としては、白金、オスミウム、パラジウム、イリジウム、スズ、ビスマス、ニッケルなどが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。
上記銀との合金で使用する金属としては、白金、オスミウム、パラジウム、イリジウム、スズ、ビスマス、ニッケルなどが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。
上記金属ナノワイヤーの形状としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、円柱状、直方体状、断面が多角形となる柱状など任意の形状をとることができるが、高い透明性が必要とされる用途では、円柱状や断面が多角形となる柱状の多角形の角が丸まっている形状であることが好ましい。
上記金属ナノワイヤーの断面形状は、基板上に金属ナノワイヤー水分散液を塗布し、ミクロトームにより作製した断面切片を透過型電子顕微鏡(TEM)で観察することにより調べることができる。
上記金属ナノワイヤーの断面形状は、基板上に金属ナノワイヤー水分散液を塗布し、ミクロトームにより作製した断面切片を透過型電子顕微鏡(TEM)で観察することにより調べることができる。
上記金属ナノ粒子は、銀、銅、金、亜鉛、カドミウム、パラジウム、イリジウム、ルテニウム、オスミウム、ロジウム、白金、鉄、ニッケル、コバルト、インジウム、酸化銀、酸化銅、酸化金、酸化亜鉛、酸化カドミウム、酸化パラジウム、酸化イリジウム、酸化ルテニウム、酸化オスミウム、酸化ロジウム、酸化白金、酸化鉄、酸化ニッケル、酸化コバルト、酸化インジウム、或いはそれらのあらゆる組み合わせを含む。
金属ナノ粒子集団は個々のナノ粒子、2若しくはそれ以上の個々のナノ粒子から成る粒子凝集体、2若しくはそれ以上の個々のナノ粒子から成る粒子フロック、或いはそれらのあらゆる組み合わせを有することができる。個々の金属ナノ粒子の集団の粒子凝集体に対する重量による比は約1:99から99:1の範囲であり、個々の金属ナノ粒子の集団の粒子フロックに対する重量による比は一般的に約1:99から99:1の範囲である。他の実施形態において、実質上全ての前記ナノ粒子は凝集体である。他の実施形態において、実質上全ての前記ナノ粒子は、分離した個々のナノ粒子である。
上記金属ナノ粒子を金属粒子ゾルとしてもよい。上記金属粒子ゾルは、好ましくは、銀ナノ粒子、並びに、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム及び白金よりなる群から選択される少なくとも1種の金属0.1〜10重量%(該金属ナノ粒子の銀含有量により表される)を、金属の形態及び/又は少なくとも1種の金属化合物の形態で含有する。
最も好ましい実施形態では、金属粒子ゾル中における銀ナノ粒子は、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム及び白金よりなる群から選択される少なくとも1種の金属の含有量の少なくとも80%、好ましくは少なくとも90%を占める。金属粒子ゾルは、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム及び白金よりなる群から選択されるこの金属の銀を有しない金属ナノ粒子又は金属化合物ナノ粒子を少量しか含有しない。好ましくは、金属粒子ゾルは、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム及び白金よりなる群から選択されるこの金属の含有量の20%未満、特に好ましくは10%未満(この金属の含有量により表される)を、この金属の銀を有しない金属ナノ粒子又は金属化合物ナノ粒子の形態で含有する。
上記導電性インクは、上記金属ナノ粒子、バインダ樹脂、および溶媒を含むことが好ましい。また、必要に応じて、還元剤、分散剤、消泡剤、その他各種添加剤類を配合することができる。
つぎに本発明を実施例をあげて説明するが、本発明はかかる実施例のみに限定されるものではない。
実施例の各数値は以下の方法により測定した。
Hazeの測定
実施例1〜10、13、14及び比較例1〜4で得たコーティング液を、PETフィルム(東レ製、ルミラー U−46 100μm)上にバーコートNo.10で塗布し、70℃で20分間乾燥させた。
また、実施例11及び12で得たコーティング液を、PETフィルム(東レ製、ルミラー U−46 100μm)上にバーコートNo.10で塗布し、70℃で20分間乾燥させた後、乾燥塗膜にUVを照射した(ウシオ電機社製 条件;積算光量:615mJ/cm2)。
次に、PET上に形成された膜それぞれについて、Hazeメーター(東洋精機製作所製 HazeGardII)を用いてHaze値を測定した。
実施例1〜10、13、14及び比較例1〜4で得たコーティング液を、PETフィルム(東レ製、ルミラー U−46 100μm)上にバーコートNo.10で塗布し、70℃で20分間乾燥させた。
また、実施例11及び12で得たコーティング液を、PETフィルム(東レ製、ルミラー U−46 100μm)上にバーコートNo.10で塗布し、70℃で20分間乾燥させた後、乾燥塗膜にUVを照射した(ウシオ電機社製 条件;積算光量:615mJ/cm2)。
次に、PET上に形成された膜それぞれについて、Hazeメーター(東洋精機製作所製 HazeGardII)を用いてHaze値を測定した。
銅密着性試験
実施例1〜10、13、14及び比較例1〜4で得たコーティング液を、PETの上に銅が蒸着されたフィルムの銅蒸着面上にバーコートNo.10で塗布し、120℃で5分間乾燥させて銅基材コーティングサンプルを得た。
また、実施例11及び12で得たコーティング液を、PETの上に銅が蒸着されたフィルムの銅蒸着面上にバーコートNo.10で塗布し、120℃で5分間乾燥させた後、乾燥塗膜にUVを照射して(ウシオ電機社製 条件;積算光量:615mJ/cm2)、銅基材コーティングサンプルを得た。
PETの上に銅が蒸着されたフィルムの銅蒸着面上に形成された膜それぞれについて、JIS K5600に従い、碁盤目テープ法により、100マスのうち密着が維持できているマス目の数を調べた。100マスのうち70マス以上剥離せず塗膜が密着しているものを○とし、剥離せず密着しているものが70マス未満であるものを×とした。
実施例1〜10、13、14及び比較例1〜4で得たコーティング液を、PETの上に銅が蒸着されたフィルムの銅蒸着面上にバーコートNo.10で塗布し、120℃で5分間乾燥させて銅基材コーティングサンプルを得た。
また、実施例11及び12で得たコーティング液を、PETの上に銅が蒸着されたフィルムの銅蒸着面上にバーコートNo.10で塗布し、120℃で5分間乾燥させた後、乾燥塗膜にUVを照射して(ウシオ電機社製 条件;積算光量:615mJ/cm2)、銅基材コーティングサンプルを得た。
PETの上に銅が蒸着されたフィルムの銅蒸着面上に形成された膜それぞれについて、JIS K5600に従い、碁盤目テープ法により、100マスのうち密着が維持できているマス目の数を調べた。100マスのうち70マス以上剥離せず塗膜が密着しているものを○とし、剥離せず密着しているものが70マス未満であるものを×とした。
銅腐食防止の評価
銅基材との密着性試験で作成した銅基材コーティングサンプルと同様のサンプルについて、条件;高温高湿試験(85℃、85%RH、240時間)を行った。金属の表面抵抗値について、非接触式表面抵抗測定装置(ナプソン製 EC−80P)を用いて測定を行った。
銅基材との密着性試験で作成した銅基材コーティングサンプルと同様のサンプルについて、条件;高温高湿試験(85℃、85%RH、240時間)を行った。金属の表面抵抗値について、非接触式表面抵抗測定装置(ナプソン製 EC−80P)を用いて測定を行った。
マイグレーション抑制の評価
銅櫛形電極(L/S=300um/300um)、銀櫛形電極(L/S=300um/300um)の電極部に、実施例1〜10、13、14及び比較例1〜4で得たコーティング液を、バーコートNo.10で塗布し、120℃で5分間乾燥させ、櫛形電極コーティングサンプルを得た。
また、実施例11及び12で得たコーティング液を、No.10で塗布し、120℃で5分乾燥させた後、塗膜にUVを照射(ウシオ電機社製 条件;積算光量:615mJ/cm2)し、櫛型電極コーティングサンプルを得た。これらにハンダで配線を付け、塗布部位に18.2MΩ/cmの超純水をスポイトで1滴、滴下し、直流電圧5Vを印加した。印加後、電流(0.001mA以上)が流れ始めるまでの時間(秒)を計測した。40秒未満に電流が流れ始め短絡したものを×、40秒以上900秒未満で短絡したものを△、900秒以上経過しても短絡しないものを◎とした。
銅櫛形電極(L/S=300um/300um)、銀櫛形電極(L/S=300um/300um)の電極部に、実施例1〜10、13、14及び比較例1〜4で得たコーティング液を、バーコートNo.10で塗布し、120℃で5分間乾燥させ、櫛形電極コーティングサンプルを得た。
また、実施例11及び12で得たコーティング液を、No.10で塗布し、120℃で5分乾燥させた後、塗膜にUVを照射(ウシオ電機社製 条件;積算光量:615mJ/cm2)し、櫛型電極コーティングサンプルを得た。これらにハンダで配線を付け、塗布部位に18.2MΩ/cmの超純水をスポイトで1滴、滴下し、直流電圧5Vを印加した。印加後、電流(0.001mA以上)が流れ始めるまでの時間(秒)を計測した。40秒未満に電流が流れ始め短絡したものを×、40秒以上900秒未満で短絡したものを△、900秒以上経過しても短絡しないものを◎とした。
合成例1 不飽和基を有する化合物 化合物a〜fの合成
化合物a
30mlナスフラスコに、1,2,3−ベンゾトリアゾール0.5g、アセトン10gを秤量し、室温で30分攪拌させ1,2,3−ベンゾトリアゾールを溶解させた後、2−アクリロイルオキシエチルイソシアネート(昭和電工株式会社製 カレンズAOI)を0.59g(1,2,3−ベンゾトリアゾールに対し1当量)滴下した。室温で4時間攪拌した後、反応溶液をKBr板に0.1g滴下し、FT−IR(フーリエ変換赤外分光光度計 株式会社パーキンエルマージャパン製Perkin Elmer precisely Spectrum 100 FT−IR Spectrometer)にて測定し、アクリロイルオキシエチルイソシアネート由来のイソシアネート基が残存していないことを確認した。
化合物a
30mlナスフラスコに、1,2,3−ベンゾトリアゾール0.5g、アセトン10gを秤量し、室温で30分攪拌させ1,2,3−ベンゾトリアゾールを溶解させた後、2−アクリロイルオキシエチルイソシアネート(昭和電工株式会社製 カレンズAOI)を0.59g(1,2,3−ベンゾトリアゾールに対し1当量)滴下した。室温で4時間攪拌した後、反応溶液をKBr板に0.1g滴下し、FT−IR(フーリエ変換赤外分光光度計 株式会社パーキンエルマージャパン製Perkin Elmer precisely Spectrum 100 FT−IR Spectrometer)にて測定し、アクリロイルオキシエチルイソシアネート由来のイソシアネート基が残存していないことを確認した。
化合物b、化合物d、化合物f
化合物aと同様の方法で、表1で示す含窒素化合物に対しイソシアネートモノマが1当量になるように反応させた。
化合物aと同様の方法で、表1で示す含窒素化合物に対しイソシアネートモノマが1当量になるように反応させた。
化合物c
30mlナスフラスコに、1,2,3−ベンゾトリアゾール0.5g、アセトン10g、さらにジブチルスズジラウレートを0.01gを秤量し、室温で30分攪拌させ1,2,3−ベンゾトリアゾールを溶解させた後、冷却環を取付け、ウォーターバスを用いて70度に過熱した。1,1−(ビスアクリロイルオキシメチル)エチルイソシアネートを1.0g滴下後、70度で10時間攪拌させた後、化合物aと同様の方法でFT−IR測定し、イソシアネート基が残存していないことを確認した。
30mlナスフラスコに、1,2,3−ベンゾトリアゾール0.5g、アセトン10g、さらにジブチルスズジラウレートを0.01gを秤量し、室温で30分攪拌させ1,2,3−ベンゾトリアゾールを溶解させた後、冷却環を取付け、ウォーターバスを用いて70度に過熱した。1,1−(ビスアクリロイルオキシメチル)エチルイソシアネートを1.0g滴下後、70度で10時間攪拌させた後、化合物aと同様の方法でFT−IR測定し、イソシアネート基が残存していないことを確認した。
化合物e
含窒素化合物に対しイソシアネートモノマが2当量になるように反応させたことを除いて、化合物aと同様の方法で反応させた。
含窒素化合物に対しイソシアネートモノマが2当量になるように反応させたことを除いて、化合物aと同様の方法で反応させた。
実施例で使用したフッ化ビニリデン系樹脂を表2に示す。
実施例1〜10、13、14、比較例1〜4
不飽和基を有する化合物、フッ化ビニリデン系樹脂、アクリル成分、酢酸ブチル及びメチルエチルケトンを混合し、表4又は5に示す組成を有する固形分濃度が30質量%のコーティング液(酢酸ブチル/メチルエチルケトン=1/1)を調製した。
不飽和基を有する化合物、フッ化ビニリデン系樹脂、アクリル成分、酢酸ブチル及びメチルエチルケトンを混合し、表4又は5に示す組成を有する固形分濃度が30質量%のコーティング液(酢酸ブチル/メチルエチルケトン=1/1)を調製した。
実施例11、12
不飽和基を有する化合物、フッ化ビニリデン系樹脂、アクリル成分、酢酸ブチル及びメチルエチルケトンを混合し、表5に示す組成を有する固形分濃度が30質量%の組成物(酢酸ブチル/メチルエチルケトン=1/1)を調製した。その後、得られるコーティング液の固形分(溶剤である酢酸ブチルとメチルエチルケトンを除いたもの)に対して3質量%となるようにイルガキュア184(BASF社製)を添加して、コーティング液を調製した。
不飽和基を有する化合物、フッ化ビニリデン系樹脂、アクリル成分、酢酸ブチル及びメチルエチルケトンを混合し、表5に示す組成を有する固形分濃度が30質量%の組成物(酢酸ブチル/メチルエチルケトン=1/1)を調製した。その後、得られるコーティング液の固形分(溶剤である酢酸ブチルとメチルエチルケトンを除いたもの)に対して3質量%となるようにイルガキュア184(BASF社製)を添加して、コーティング液を調製した。
実施例C
250mLナスフラスコに、アクリル酸−2−エチルヘキシルを25質量部、アクリル酸−n−ブチルエステルを30質量部、アクリル酸−2−ヒドロキシエチルを30質量部、アクリル酸メチルを10質量部、合成例1で作成した化合物aを5質量部、酢酸エチル150質量部、重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル(AIBN)0.15質量部を加え、窒素雰囲気下80℃で6時間攪拌した。得られた溶液に酢酸エチルを加えて、ポリマー固形分濃度を20質量%に調整した。次に、架橋剤としてコロネートL(日本ポリウレタン工業社製)を1質量部加えて攪拌し、コーティング液を作成した。コーティング液は化合物aを固形分に対して4.9質量%含むものであった。
250mLナスフラスコに、アクリル酸−2−エチルヘキシルを25質量部、アクリル酸−n−ブチルエステルを30質量部、アクリル酸−2−ヒドロキシエチルを30質量部、アクリル酸メチルを10質量部、合成例1で作成した化合物aを5質量部、酢酸エチル150質量部、重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル(AIBN)0.15質量部を加え、窒素雰囲気下80℃で6時間攪拌した。得られた溶液に酢酸エチルを加えて、ポリマー固形分濃度を20質量%に調整した。次に、架橋剤としてコロネートL(日本ポリウレタン工業社製)を1質量部加えて攪拌し、コーティング液を作成した。コーティング液は化合物aを固形分に対して4.9質量%含むものであった。
得られたコーティング液を、片面にシリコーン系離型剤が施されたPET(リンテック社製 GS38)からなる剥離シートの離型剤面にバーコーターにて塗布し、80℃3分乾燥させ、剥離シート/接着用シートからなる積層シートを得た。その後、膜厚100μmのPETの上に銅が蒸着されたフィルムの銅蒸着面に、上記積層シートの接着シート面を貼り合せ、剥離シート/接着シート/銅蒸着層/PETの4層の積層体を作製した。
実施例A
実施例1で得たコーティング液を、片面にシリコーン系離型剤が施されたPET(リンテック社製 GS38)からなる剥離シートの離型剤面にバーコーターにて塗布し、80℃3分乾燥させ、剥離シート/防錆シートからなる積層シートを得た。その後、膜厚100μmのPETの上に銅が蒸着されたフィルムの銅蒸着面に、上記積層シートの防錆シート面を貼り合せ、剥離シート/防錆シート/銅蒸着層/PETの4層の積層体を作製した。
実施例1で得たコーティング液を、片面にシリコーン系離型剤が施されたPET(リンテック社製 GS38)からなる剥離シートの離型剤面にバーコーターにて塗布し、80℃3分乾燥させ、剥離シート/防錆シートからなる積層シートを得た。その後、膜厚100μmのPETの上に銅が蒸着されたフィルムの銅蒸着面に、上記積層シートの防錆シート面を貼り合せ、剥離シート/防錆シート/銅蒸着層/PETの4層の積層体を作製した。
実施例B
実施例11で得たコーティング液を、片面にシリコーン系離型剤が施されたPET(リンテック社製 GS38)からなる剥離シートの離型剤面にバーコーターにて塗布し、80℃3分乾燥させた。乾燥させたコーティング面に、片面にシリコーン系離型剤が施されたPET(リンテック社製 GS38)からなる剥離シートの離型剤面が接着面になるように貼り合せ、積算光量800mJ/m2のUVを照射して、剥離シート/防錆シート/剥離シートからなる積層シートB−1を得た。次に、B−1の片面の剥離シートを引き剥がし、防錆シート上に市販のOCA(3M社製8146−3高透明性接着剤転写テープ)を貼り合せ、剥離シート/防錆シート/OCAの3層の積層体を作製し、さらにOCA上にガラスを貼り合せ、剥離シート/防錆シート/OCA/ガラスの4層の積層体を作製した。さらに防錆シート面の剥離シートを引き剥がし、膜厚100μmのPETの上に銅が蒸着されたフィルムの銅面に、上記積層シートの接着シート面を貼り合せ、PET/銅蒸着層/防錆シート/OCA/ガラスの5層の積層体を作製した。
実施例11で得たコーティング液を、片面にシリコーン系離型剤が施されたPET(リンテック社製 GS38)からなる剥離シートの離型剤面にバーコーターにて塗布し、80℃3分乾燥させた。乾燥させたコーティング面に、片面にシリコーン系離型剤が施されたPET(リンテック社製 GS38)からなる剥離シートの離型剤面が接着面になるように貼り合せ、積算光量800mJ/m2のUVを照射して、剥離シート/防錆シート/剥離シートからなる積層シートB−1を得た。次に、B−1の片面の剥離シートを引き剥がし、防錆シート上に市販のOCA(3M社製8146−3高透明性接着剤転写テープ)を貼り合せ、剥離シート/防錆シート/OCAの3層の積層体を作製し、さらにOCA上にガラスを貼り合せ、剥離シート/防錆シート/OCA/ガラスの4層の積層体を作製した。さらに防錆シート面の剥離シートを引き剥がし、膜厚100μmのPETの上に銅が蒸着されたフィルムの銅面に、上記積層シートの接着シート面を貼り合せ、PET/銅蒸着層/防錆シート/OCA/ガラスの5層の積層体を作製した。
本発明の新規化合物は、樹脂をビヒクルとする塗料に添加して利用することができる。新規化合物を含有する塗料は、金属の腐食を防止する効果に優れ、金属との密着性にも優れる塗膜を形成することができる。
本発明の組成物は、金属の表面に塗膜を形成するために使用する塗料として利用でき、得られる塗膜は、金属の腐食を防止する効果に優れ、金属との密着性及び透明性にも優れる。
本発明の組成物は、金属の表面に塗膜を形成するために使用する塗料として利用でき、得られる塗膜は、金属の腐食を防止する効果に優れ、金属との密着性及び透明性にも優れる。
12、32、36、52、62、68 組成物3から形成された塗膜又はシート
22、42、46、53、63、67 組成物2から形成された塗膜又はシート
22、42、46、53、63、67 組成物2から形成された塗膜又はシート
Claims (2)
- 式(1)で示される化合物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014157051A JP5673885B1 (ja) | 2013-08-02 | 2014-07-31 | 不飽和基を有する新規化合物及びこの化合物を含む組成物 |
Applications Claiming Priority (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013161812 | 2013-08-02 | ||
JP2013161812 | 2013-08-02 | ||
JP2013195980 | 2013-09-20 | ||
JP2013195980 | 2013-09-20 | ||
JP2014038926 | 2014-02-28 | ||
JP2014038926 | 2014-02-28 | ||
JP2014157051A JP5673885B1 (ja) | 2013-08-02 | 2014-07-31 | 不飽和基を有する新規化合物及びこの化合物を含む組成物 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014260877A Division JP2015178593A (ja) | 2013-08-02 | 2014-12-24 | 不飽和基を有する新規化合物及びこの化合物を含む組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP5673885B1 true JP5673885B1 (ja) | 2015-02-18 |
JP2015178484A JP2015178484A (ja) | 2015-10-08 |
Family
ID=52431855
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014157051A Active JP5673885B1 (ja) | 2013-08-02 | 2014-07-31 | 不飽和基を有する新規化合物及びこの化合物を含む組成物 |
JP2014260877A Pending JP2015178593A (ja) | 2013-08-02 | 2014-12-24 | 不飽和基を有する新規化合物及びこの化合物を含む組成物 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014260877A Pending JP2015178593A (ja) | 2013-08-02 | 2014-12-24 | 不飽和基を有する新規化合物及びこの化合物を含む組成物 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (2) | JP5673885B1 (ja) |
TW (1) | TW201509917A (ja) |
WO (1) | WO2015016330A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112805337A (zh) * | 2018-10-03 | 2021-05-14 | 柯尼卡美能达株式会社 | 树脂组合物和电子设备 |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2015016329A1 (ja) | 2013-08-02 | 2015-02-05 | ダイキン工業株式会社 | 重合性官能基及び架橋性官能基からなる群より選択される少なくとも1種の基を含有する含フッ素重合体を含む組成物及び塗装物品 |
JP6331397B2 (ja) * | 2014-01-06 | 2018-05-30 | 大日本印刷株式会社 | タッチパネルセンサ及びその製造方法 |
JP2016141782A (ja) * | 2015-02-04 | 2016-08-08 | ダイキン工業株式会社 | 組成物及び成形品 |
KR102302309B1 (ko) * | 2016-05-13 | 2021-09-17 | 알케마 인코포레이티드 | 불소중합체, 불소중합체 혼화성 중합체 및 자유 라디칼 경화성 성분에 기반하는 조성물 |
KR20210018153A (ko) * | 2019-08-08 | 2021-02-17 | 주식회사 엘지화학 | 고분자 전해질용 공중합체, 이를 포함하는 겔 폴리머 전해질 및 리튬 이차전지 |
Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10337954A (ja) * | 1997-06-05 | 1998-12-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感熱記録材料 |
JP2002212444A (ja) * | 2001-01-23 | 2002-07-31 | Osaka Gas Co Ltd | 抗菌性ポリマー粒子及びその製造方法 |
JP2006151967A (ja) * | 2004-10-29 | 2006-06-15 | Showa Denko Kk | ブロックイソシアネート化合物の製造方法 |
JP2007523894A (ja) * | 2004-01-30 | 2007-08-23 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | パーフルオロポリエーテルベンゾトリアゾール誘導体および塗料としてのその用途 |
JP2009120700A (ja) * | 2007-11-14 | 2009-06-04 | Niigata Univ | 機能性微粒子及びその製造方法、並びにこれを配合してなる被覆性組成物 |
JP2009534540A (ja) * | 2006-04-26 | 2009-09-24 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | 金属表面に耐食性の層を形成する方法 |
WO2009145234A1 (ja) * | 2008-05-28 | 2009-12-03 | 旭硝子株式会社 | 防汚剤組成物とその製造方法、およびこれを用いて処理された物品 |
JP2010010608A (ja) * | 2008-06-30 | 2010-01-14 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 有機薄膜トランジスタ及びその製造方法、並びにこの有機トランジスタを用いたディスプレイ用部材及びディスプレイ |
JP2012077225A (ja) * | 2010-10-04 | 2012-04-19 | Asahi Glass Co Ltd | 水性塗料用低汚染化剤ならびにこれを用いた水性塗料用組成物および水性塗料用キット |
WO2013051831A2 (ko) * | 2011-10-07 | 2013-04-11 | 동우화인켐 주식회사 | 배향막 형성용 조성물, 그로부터 제조된 배향막 및 위상차 필름 |
JP2013523881A (ja) * | 2010-04-14 | 2013-06-17 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | イソシアネートの製造方法 |
WO2013115195A1 (ja) * | 2012-01-31 | 2013-08-08 | 旭硝子株式会社 | 化合物、重合体、硬化性組成物、塗布用組成物、ならびに硬化膜を有する物品、親液性領域と撥液性領域とのパターンを有する物品およびその製造方法 |
-
2014
- 2014-07-31 WO PCT/JP2014/070280 patent/WO2015016330A1/ja active Application Filing
- 2014-07-31 JP JP2014157051A patent/JP5673885B1/ja active Active
- 2014-08-01 TW TW103126411A patent/TW201509917A/zh unknown
- 2014-12-24 JP JP2014260877A patent/JP2015178593A/ja active Pending
Patent Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10337954A (ja) * | 1997-06-05 | 1998-12-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感熱記録材料 |
JP2002212444A (ja) * | 2001-01-23 | 2002-07-31 | Osaka Gas Co Ltd | 抗菌性ポリマー粒子及びその製造方法 |
JP2007523894A (ja) * | 2004-01-30 | 2007-08-23 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | パーフルオロポリエーテルベンゾトリアゾール誘導体および塗料としてのその用途 |
JP2006151967A (ja) * | 2004-10-29 | 2006-06-15 | Showa Denko Kk | ブロックイソシアネート化合物の製造方法 |
JP2009534540A (ja) * | 2006-04-26 | 2009-09-24 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | 金属表面に耐食性の層を形成する方法 |
JP2009120700A (ja) * | 2007-11-14 | 2009-06-04 | Niigata Univ | 機能性微粒子及びその製造方法、並びにこれを配合してなる被覆性組成物 |
WO2009145234A1 (ja) * | 2008-05-28 | 2009-12-03 | 旭硝子株式会社 | 防汚剤組成物とその製造方法、およびこれを用いて処理された物品 |
JP2010010608A (ja) * | 2008-06-30 | 2010-01-14 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 有機薄膜トランジスタ及びその製造方法、並びにこの有機トランジスタを用いたディスプレイ用部材及びディスプレイ |
JP2013523881A (ja) * | 2010-04-14 | 2013-06-17 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | イソシアネートの製造方法 |
JP2012077225A (ja) * | 2010-10-04 | 2012-04-19 | Asahi Glass Co Ltd | 水性塗料用低汚染化剤ならびにこれを用いた水性塗料用組成物および水性塗料用キット |
WO2013051831A2 (ko) * | 2011-10-07 | 2013-04-11 | 동우화인켐 주식회사 | 배향막 형성용 조성물, 그로부터 제조된 배향막 및 위상차 필름 |
WO2013115195A1 (ja) * | 2012-01-31 | 2013-08-08 | 旭硝子株式会社 | 化合物、重合体、硬化性組成物、塗布用組成物、ならびに硬化膜を有する物品、親液性領域と撥液性領域とのパターンを有する物品およびその製造方法 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
JPN6014038036; Macromolecules 35(6), 2002, pp.2050〜2054 * |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112805337A (zh) * | 2018-10-03 | 2021-05-14 | 柯尼卡美能达株式会社 | 树脂组合物和电子设备 |
CN112805337B (zh) * | 2018-10-03 | 2022-10-28 | 柯尼卡美能达株式会社 | 树脂组合物和电子设备 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2015178484A (ja) | 2015-10-08 |
WO2015016330A1 (ja) | 2015-02-05 |
JP2015178593A (ja) | 2015-10-08 |
TW201509917A (zh) | 2015-03-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5673885B1 (ja) | 不飽和基を有する新規化合物及びこの化合物を含む組成物 | |
JP6526368B1 (ja) | 接着剤、積層体、電池外装用包装材、電池ケース、及び電池ケースの製造方法 | |
JP5810528B2 (ja) | 転写フィルム、樹脂積層体及びそれらの製造方法 | |
KR101363238B1 (ko) | 코팅제 및 그 제조 방법 | |
US11421065B2 (en) | Adhesive resin composition and adhesive sheet | |
JP5737466B1 (ja) | 重合性官能基及び架橋性官能基からなる群より選択される少なくとも1種の基を含有する含フッ素重合体を含む組成物及び塗装物品 | |
JPWO2007148684A1 (ja) | 無機・有機ハイブリッド組成物及びその用途 | |
TWI760326B (zh) | 黏著劑組合物及抗靜電表面保護膜 | |
JP6505370B2 (ja) | 積層体およびインデックスマッチング層形成用組成物 | |
CN105462468A (zh) | 具有铜薄膜的基材用底漆、具有铜薄膜的基材、具有铜薄膜的基材的制造方法以及导电膜 | |
TW201802214A (zh) | 黏著性組合物、黏著劑、黏著板片及顯示體 | |
JP2009018231A (ja) | 光触媒性積層塗膜 | |
JPWO2016080439A1 (ja) | 活性エネルギー線硬化性組成物、活性エネルギー線硬化性粘着剤組成物、粘着剤及び粘着シート、並びに新規ウレタン(メタ)アクリレート | |
TW202239588A (zh) | 顯示體 | |
JP2015044967A (ja) | フッ化ビニリデン系樹脂組成物 | |
KR101863049B1 (ko) | 디스플레이 접착제용 불소화 수지 조성물 및 이를 이용한 이방 전도성 접착 필름 | |
US10427388B2 (en) | Emulsion composition and production method thereof, and laminate and production method thereof | |
JP6187726B1 (ja) | 積層フィルム | |
WO2016125642A1 (ja) | 組成物及び成形品 | |
JP2014009339A (ja) | プラスチック製フィルム又はシート用活性エネルギー線硬化型接着剤組成物 | |
JP2017115078A (ja) | 粘着剤組成物、これを架橋させてなる粘着剤、マスキングフィルム用粘着剤、耐熱粘着フィルム用粘着剤、マスキング用耐熱粘着フィルム | |
JP7137742B2 (ja) | フッ化ビニリデン系樹脂組成物 | |
JP2019135309A (ja) | 粘着剤組成物及び帯電防止表面保護フィルム | |
KR101745761B1 (ko) | 도전성 적층체 | |
JP2006265271A (ja) | 帯電防止ハードコート剤およびハードコートフィルム |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20141202 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20141215 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5673885 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |