JP5673181B2 - 半導体装置 - Google Patents
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Description
図1は、実施の形態1の半導体装置100を示す平面図である。
図7は、実施の形態2の半導体装置200を示す平面図である。
20 半導体素子
30、30A、30B、30C 配線部
40、40A、40B、40C、310 可動パッド
50、50A、50B、50C 境界部
60、60A、60B、60C 接続パッド
70 PCB基板
80 接続パッド
91 半田
92 バンプ
100、200 半導体装置
220 MEMS素子
300 振動子
310 梁部
Claims (6)
- 一方の面に埋め込み酸化層と、導電性を有する半導体層とがこの順で基板上に積層される半導体基板を加工して作製され、前記一方の面側で他の基板に接合される半導体装置であって、
前記埋め込み酸化層及び前記半導体層を加工して形成される半導体素子と、
前記埋め込み酸化層及び前記半導体層を平面視で線状に加工して形成され、一端が前記半導体素子に接続される配線部と、
前記配線部の前記一端とは反対の他端に連続する前記半導体層によって構成され、当該半導体層の下側に位置する前記埋め込み酸化層が除去されて前記基板との間に空隙が形成されることによって前記配線部の前記他端から自己の先端まで延伸するパッド部と、
前記パッド部と前記他の基板を接合する接合部と
を含む、半導体装置。 - 前記パッド部は、平面視で前記半導体基板の四隅又は四隅の近傍部に配置される、請求項1記載の半導体装置。
- 前記パッド部は、前記四隅又は前記四隅の近傍部の各々に複数形成されており、前記複数のパッド部の各々と前記配線部との境界部は、前記四隅に含まれる前記半導体基板の角部を中心とする同心円上に位置する、請求項2に記載の半導体装置。
- 前記パッド部は前記四隅又は前記四隅の近傍部の各々に複数形成されるとともに、前記接合部は前記複数のパッド部の各々を前記他の基板と接合するように複数配設されており、
前記複数の接合部は、前記四隅又は前記四隅の近傍部の各々において、平面視で外側に位置する接合部の方が平面視で内側に位置する接合部よりも、前記複数のパッド部の各々と前記配線部との境界部からの長さが長く設定されることにより、平面視で外側に位置する接合部のバネ定数の方が平面視で内側に位置する接合部バネ定数よりも小さい、請求項2又は3に記載の半導体装置。 - 前記パッド部は前記四隅又は前記四隅の近傍部の各々に複数形成されるとともに、前記接合部は前記複数のパッド部の各々を前記他の基板と接合するように複数配設されており、
前記複数のパッド部の各々の幅は、平面視で外側に位置するパッド部の幅の方が平面視で内側に位置するパッド部の幅よりも狭くなるように設定されている、請求項2乃至4のいずれか一項記載の半導体装置。 - 前記半導体素子はMEMS素子であり、前記MEMS素子は、前記配線部との間に、前記埋め込み酸化層が除去されて前記半導体基板との間に空隙が形成された半導体層によって構成される可動部を含む、請求項1乃至5のいずれか一項記載の半導体装置。
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