JP5665664B2 - 固体高分子電解質膜・触媒金属複合電極及びその製造方法 - Google Patents
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Description
このような固体高分子電解質膜・触媒金属複合電極は、例えば、固体高分子電解質と触媒金属とを含むペースト状の触媒層形成材料を樹脂フィルム上で成膜し、これを固体高分子電解質膜の両面に接合して固体高分子電解質膜・触媒金属複合電極母体とし、次いで無電解めっきにより両電極の表面に触媒金属を担持させるか、又は両電極の表面に触媒金属のイオンを吸着させた後、還元処理することにより触媒金属を担持させることにより製造される(特許文献1を参照)。
しかしながら、上記した従来の固体高分子電解質膜・触媒金属複合電極では、生成した酸素や水素によって、触媒層に含まれる触媒金属が酸化あるいは還元されて電極の寿命が短くなるという問題があり、特に、アノードでは、酸化力の強い酸素ラジカルが触媒金属を酸化して触媒能を著しく低下させるという問題があった。
従って、本発明は、アノードにおける反応で生成した酸素により触媒金属が酸化されて触媒能が低下することを抑制し、それにより固体高分子電解質膜・触媒金属複合電極の寿命を延ばすことを目的とする。
図1は、実施の形態1に係る固体高分子電解質膜・触媒金属複合電極の上面図であり、図2は、図1のII−II矢視断面図である。図1及び2において、実施の形態1に係る固体高分子電解質膜・触媒金属複合電極は、固体高分子電解質膜1と、固体高分子電解質膜1の両面に形成された白金を含む触媒層2と、触媒層2の表面上の給電体接触部となる箇所に形成された金層3とから構成されている。実施の形態1における白金を含む触媒層2は、白金イオンの還元により固体高分子電解質膜1の表面に析出させたものであり、金層3は、電解めっき又は無電解めっき法により形成されたものである。
アノード反応:H2O→2H++1/2O2+2e-
カソード反応:2H++1/2O2+2e-→H2O
更に、アノード反応時には、白金の表面で水が水素イオンと酸素ラジカルとに分解され、この酸素ラジカルが白金と反応して白金酸化物を形成することがある。これらの反応は、以下の反応式で表される。
H2O→2H++O・+2e-
O・+Pt→PtO
図3は、実施の形態2に係る固体高分子電解質膜・触媒金属複合電極の上面図であり、図4は、図3のIV−IV矢視断面図である。図3及び4において、実施の形態2に係る固体高分子電解質膜・触媒金属複合電極は、固体高分子電解質膜1と、固体高分子電解質膜1の両面に形成された白金を含む触媒層2と、触媒層2の表面において格子状に形成された金層3とから構成されており、金層3の一部は、給電体接触部となる箇所に形成されている。つまり、実施の形態2では、実施の形態1のように給電体接触部となる箇所全体に金層3が形成されているのではなく、給電体接触部となる箇所の一部に金層3が形成されている。このように構成された固体高分子電解質膜・触媒金属複合電極は、素子寿命を延ばすことができる上に、素子全体に安定した通電性を確保することができるという効果を奏する。
図5は、実施の形態3に係る固体高分子電解質膜・触媒金属複合電極の上面図であり、図6は、図5のVI−VI矢視断面図である。図5及び6において、実施の形態3に係る固体高分子電解質膜・触媒金属複合電極は、固体高分子電解質膜1と、固体高分子電解質膜1の両面に形成された白金を含む触媒層2と、触媒層2の表面上の給電体接触部となる箇所に形成されると共にそれ以外の箇所において格子状に形成された金層3とから構成されている。つまり、実施の形態3では、給電体接触部となる箇所以外の箇所にも金層3が格子状に形成されている点が実施の形態1と異なる。このように構成された固体高分子電解質膜・触媒金属複合電極は、通電による給電体接触部の触媒の酸化、通電不良が抑制でき、素子全体に安定した通電性を確保することができるという効果を奏する。
図7は、実施の形態4に係る固体高分子電解質膜・触媒金属複合電極の上面図であり、図8は、図7のVIII−VIII矢視断面図である。図7及び8において、実施の形態4に係る固体高分子電解質膜・触媒金属複合電極は、固体高分子電解質膜1と、固体高分子電解質膜1の両面に形成された白金を含む触媒層2と、触媒層2の表面上の給電体接触部となる箇所に形成されると共にそれ以外の箇所において格子状に形成された金層3と、給電体接触部となる箇所以外の触媒層2表面と金層3とを被覆する白金めっき層4とから構成されている。つまり、実施の形態4では、給電体接触部となる箇所以外の触媒層2表面と金層3とが白金めっき層4で被覆されている点が実施の形態3と異なる。このように構成された固体高分子電解質膜・触媒金属複合電極は、実施の形態3よりも金層3と白金との接触面積が増大し、また大気中の汚染物質等の影響を受け難いため、触媒層2への通電性が更に向上するという効果を奏する。
触媒層2の表面上に金層3を形成して、触媒層2の表面からマスキングを除去した後、給電体接触部となる箇所にマスキングを行い、給電体接触部となる箇所以外の触媒層2表面と金層3上とに白金めっき層4を形成する(白金めっき層形成工程)。その後、給電体接触部となる箇所からマスキングを除去する。白金めっき層4を形成する方法としては、無電解めっき法及び電解めっき法のどちらでも構わない。白金めっき液としては、公知のものを使用でき、例えば、ヘキサヒドロキシ白金酸等を含み、pHを7程度に調整された白金めっき液が挙げられる。白金めっき層4の膜厚は、白金めっき液への浸漬時間、液温等を変えることにより制御することができる。白金めっき層4の膜厚は、白金めっき層4が金層3を被覆していれば特に限定されないが、通常、0.25μm〜0.75μmである。ヘキサヒドロキシ白金酸を含む白金めっき液を使用した場合の電解めっき条件としては、通常、液温として25℃〜35℃、電流密度として1.0A/dm2〜2.0A/dm2、めっき時間として5.5分〜11分である。
[実施例1]
固体高分子電解質膜としてのナフィオン(登録商標)117(大きさ15mm×11mm、厚さ170μm、デュポン製)を70℃の30%希塩酸に浸漬し、20分程度煮沸した。続いて、固体高分子電解質膜をイオン交換水に15分以上浸漬して塩素イオンを除去した。清浄化された固体高分子電解質膜をテトラアンミン白金ジクロライド水溶液(テトラアンミン白金ジクロライド濃度は7.49×10-4mol/L(0.25g/L)である)に40℃で10分間浸漬し、膜表面に白金イオンを吸着させた。次に、固体高分子電解質膜を水素化ホウ素ナトリウム水溶液(水素化ホウ素ナトリウム濃度は5.29×10-2mol/L(2.0g/L)であり、水酸化ナトリウムでpHを12に調整したもの)に50℃で2時間浸漬し、膜表面に吸着させた白金イオンを還元して白金を析出させた。
実施例1と同様にして、両面に約1.1mg/cm2の白金触媒層が形成された固体高分子電解質膜を作製した。次に、白金触媒層が形成された固体高分子電解質膜の両面に金めっき層が図3及び4に示すように形成されるようにソルダーレジストでマスキングした後、実施例1と同様の条件で電解金めっきを行い、図3及び4に示すような0.5μmの金めっき層を形成した。電解金めっき後、固体高分子電解質膜をイオン交換水にて水洗した後、100℃の真空電気炉中で乾燥させ、マスキングを除去した。
実施例1と同様にして、両面に約1.1mg/cm2の白金触媒層が形成された固体高分子電解質膜を作製した。次に、白金触媒層が形成された固体高分子電解質膜の両面に金めっき層が図5及び6に示すように形成されるようにソルダーレジストでマスキングした後、実施例1と同様の条件で電解金めっきを行い、図5及び6に示すような0.5μmの金めっき層を形成した。電解金めっき後、固体高分子電解質膜をイオン交換水にて水洗した後、100℃の真空電気炉中で乾燥させ、マスキングを除去した。
実施例3と同様にして、金めっき層の形成までを行い、イオン交換水にて水洗後、固体高分子電解質膜を100℃の真空電気炉中で乾燥させ、マスキングを除去した。次に、給電体接触部にソルダーレジストでマスキングを施した後、白金めっき液(プラチュナN1、ミコアジャパン株式会社製)に浸漬し、液温30℃、電流密度1.5A/dm2、通電時間7.5分の条件で電解白金めっきを行い、図7及び8に示すような0.5μmの白金めっき層を形成した。電解白金めっき後、固体高分子電解質膜をイオン交換水にて水洗後、100℃の真空電気炉中で乾燥させ、マスキングを除去した。
実施例1から電解金めっきプロセスを省略し、固体高分子電解質膜・触媒金属複合電極を作製した。
Claims (5)
- 固体高分子電解質膜の両面に、白金イオンの還元により析出した白金を含む触媒層が形成され、且つアノードとなる触媒層の表面上の少なくとも給電体接触部に金層が形成されていることを特徴とする固体高分子電解質膜・触媒金属複合電極。
- 前記金層は、アノードとなる前記触媒層の表面において格子状に形成されていることを特徴とする請求項1に記載の固体高分子電解質膜・触媒金属複合電極。
- 前記給電体接触部以外が、白金めっき層で被覆されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の固体高分子電解質膜・触媒金属複合電極。
- 固体高分子電解質膜を白金イオンを含む水溶液に浸漬して固体高分子電解質膜に白金イオンを吸着させた後、還元処理することにより固体高分子電解質膜の両面に白金を析出させて触媒層を形成し、次いでアノードとなる触媒層の表面上の少なくとも給電体接触部に無電解めっき法又は電解めっき法により金層を形成することを特徴とする固体高分子電解質膜・触媒金属複合電極の製造方法。
- 前記金層形成後、前記給電体接触部以外を無電解めっき法又は電解めっき法により白金めっき層で被覆することを特徴とする請求項4に記載の固体高分子電解質膜・触媒金属複合電極の製造方法。
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