JP5662257B2 - 半導体装置 - Google Patents
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Description
本実施形態のFinFETの平面図を図3に、図3中のA−A´における断面図を図4に示す。なお、図3においては、配線の下にある各フィン領域とコンタクト領域とは点線で示す。
第1の実施形態においては、1つのフィン領域を、SCR型ESD保護素子のアノード領域、カソード領域、トリガー領域としてそれぞれ用いていたが、本実施形態においては、複数のフィン領域を1つの組として、SCR型ESD保護素子のアノード領域、カソード領域、トリガー領域としてそれぞれ用いるという点が、第1の実施形態と異なる点である。この複数のフィン領域からなるアノード領域、カソード領域、トリガー領域はより低抵抗化するため、それぞれ複数のコンタクト領域を介してより太い配線に接続することにより、SCR型ESD保護素子の電流に対する耐性をより向上させることができる。さらに、1つの組を構成する隣り合う複数のフィン領域を同じ導電型拡散層を有するものとして形成することから、拡散層を形成するためのイオン注入時において要求されるマスクの精度が、第1の実施形態よりも緩和されるため、SCR型ESD保護素子の特性のバラツキを抑えつつ、より低コストで形成することができる。
第3の実施形態においては、フィン配列領域10のフィン領域を側壁イメージ転写法(sidewall image transfer)によって形成する。この側壁イメージ転写法とは、基板上にダミーパターンを配置し、ダミーパターンの側面を覆うように絶縁膜等のスペーサー材料膜を堆積して側壁スペーサーを形成し、ダミーパターンを除去し、残った長方形のリング状の側壁スペーサーによるパターンを用いてフィン領域を形成するものである。この方法によれば、側壁スペーサーの幅は、ダミーパターンの側壁に堆積されたスペーサー材料膜の膜厚に依存するため、均一な幅を有する側壁スペーサーを形成することができる。従って、本実施形態によれば、光リソグラフィよりも高い寸法精度でフィン領域を形成することができる。
A アノード端子
C カソード端子
Di ダイオード
Tr1 pnpバイポーラトランジスタ
Tr2 npnバイポーラトランジスタ
10 フィン配列領域
20 P型ウェル領域
21 N型ウェル領域
25 ウェル領域境界
30a 最外周フィン領域
41 カソード領域
42 アノード領域
43 ウェルコンタクト領域
44 トリガー領域
50 配線
51 コンタクト領域
51a ダミーコンタクト領域
60 STI領域
70 半導体基板
Claims (5)
- 半導体基板と、
前記半導体基板上に形成された第1の導電型の第1のウェル領域と、
前記半導体基板上に形成された第2の導電型の第2のウェル領域と、
前記第1のウェル領域と前記第2のウェル領域とに亘って、同じ方向で、且つ、同じピッチで配列する複数のフィン領域と、
を備える制御整流素子を有する半導体装置であって、
前記第1のウェル領域と前記第2のウェル領域とは、前記各フィン領域の短辺に沿った方向に接して並んでおり、それにより、前記各フィン領域の長辺と平行なウェル領域境界を形成し、
前記ウェル領域境界を挟み込むように位置する一対の前記フィン領域は、
前記第1のウェル領域内に位置し、且つ、第2の導電型の不純物拡散層領域を有するカソード領域と、
前記第2のウェル領域内に位置し、且つ、第1の導電型の不純物拡散層領域を有するアノード領域とからなり、
前記カソード領域と前記アノード領域とを挟むように位置する別の一対の前記フィン領域は、
前記第1のウェル領域内に位置し、且つ、第1の導電型の不純物拡散層領域を有するウェルコンタクト領域と、
前記第2のウェル領域内に位置し、且つ、第2の導電型の不純物拡散層領域を有するトリガー領域とからなり、
前記ウェルコンタクト領域と前記カソード領域と前記アノード領域と前記トリガー領域とは、それぞれPNP型バイポーラトランジスタ及びNPN型バイポーラトランジスタを構成するように各配線部に接続しており、
前記第1のウェル領域は、前記半導体基板の最外周に位置し、さらに、前記ウェルコンタクト領域よりも外周に位置し、第1の導電型の不純物拡散層領域を有し、且つ、電気的に浮遊状態にある最外周フィン領域を有する、
ことを特徴とする半導体装置。 - 前記第1のウェル領域は、前記最外周フィン領域を少なくとも2つ以上備える、ことを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
- 前記ウェルコンタクト領域と前記カソード領域と前記アノード領域と前記トリガー領域とは、それぞれ、少なくとも2つ以上の隣り合う前記フィン領域からなる、ことを特徴とする請求項1または2に記載の半導体装置。
- 半導体基板と、
前記半導体基板上に形成された第1の導電型の第1のウェル領域と、
前記半導体基板上に形成された第2の導電型の第2のウェル領域と、
前記第1のウェル領域と前記第2のウェル領域とに亘って、同じ方向で、且つ、同じピッチで配列する複数のフィン領域と、
を備える制御整流素子を有する半導体装置であって、
前記第1のウェル領域と前記第2のウェル領域とは、前記各フィン領域の短辺に沿った方向に接して並んでおり、それにより、前記各フィン領域の長辺と平行なウェル領域境界を形成し、
前記ウェル領域境界を挟み込むように位置する一対の前記フィン領域は、
前記第1のウェル領域内に位置し、且つ、第2の導電型の不純物拡散層領域を有するカソード領域と、
前記第2のウェル領域内に位置し、且つ、第1の導電型の不純物拡散層領域を有するアノード領域とからなり、
前記カソード領域と前記アノード領域とを挟むように位置する別の一対の前記フィン領域は、
前記第1のウェル領域内に位置し、且つ、第1の導電型の不純物拡散層領域を有するウェルコンタクト領域と、
前記第2のウェル領域内に位置し、且つ、第2の導電型の不純物拡散層領域を有するトリガー領域とからなり、
前記ウェルコンタクト領域と前記カソード領域と前記アノード領域と前記トリガー領域とは、それぞれPNP型バイポーラトランジスタ及びNPN型バイポーラトランジスタを構成するように各配線部に接続し、
前記ウェルコンタクト領域と前記カソード領域と前記アノード領域と前記トリガー領域とは、それぞれ、少なくとも2つ以上の隣り合う前記フィン領域からなる、
ことを特徴とする半導体装置。 - 複数の前記配線部は同じピッチで配列し、且つ、前記配線部のピッチは、前記フィン領域のピッチよりも広い、ことを特徴とする請求項3または4に記載の半導体装置。
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