JP5607091B2 - 含フッ素マレイミド化合物及びその製造方法 - Google Patents
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- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 title claims description 57
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 title claims description 55
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 54
- -1 maleimide compound Chemical class 0.000 title claims description 49
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 14
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 87
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 claims description 24
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 21
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 claims description 16
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 15
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 14
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims description 13
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 12
- 239000011630 iodine Substances 0.000 claims description 12
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 10
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 9
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 9
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 claims description 9
- 125000000962 organic group Chemical class 0.000 claims description 8
- 238000007126 N-alkylation reaction Methods 0.000 claims description 6
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims description 5
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 5
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 20
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 19
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 14
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 13
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 12
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 12
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 11
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 11
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 10
- 239000000047 product Substances 0.000 description 10
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 10
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 10
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 9
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 7
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 7
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 6
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 6
- SJBBXFLOLUTGCW-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC(C(F)(F)F)=C1 SJBBXFLOLUTGCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 5
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DMAYBPBPEUFIHJ-UHFFFAOYSA-N 4-bromobut-1-ene Chemical compound BrCCC=C DMAYBPBPEUFIHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N Furan Chemical compound C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000001644 13C nuclear magnetic resonance spectroscopy Methods 0.000 description 3
- 150000003923 2,5-pyrrolediones Chemical class 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 125000005439 maleimidyl group Chemical group C1(C=CC(N1*)=O)=O 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 3
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 1-Octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 238000006471 dimerization reaction Methods 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 2
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 2
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 2
- 238000007100 recyclization reaction Methods 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 2
- QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N (1-hydroxycyclohexyl)-phenylmethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1(O)CCCCC1 QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWEKXPWNFQBJAY-UHFFFAOYSA-N (dimethyl-$l^{3}-silanyl)oxy-dimethylsilicon Chemical compound C[Si](C)O[Si](C)C KWEKXPWNFQBJAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GETTZEONDQJALK-UHFFFAOYSA-N (trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC=C1 GETTZEONDQJALK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKIYQFLILPKULA-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2,3,3,4,4-nonafluoro-4-methoxybutane Chemical compound COC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F OKIYQFLILPKULA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MEKOFIRRDATTAG-UHFFFAOYSA-N 2,2,5,8-tetramethyl-3,4-dihydrochromen-6-ol Chemical compound C1CC(C)(C)OC2=C1C(C)=C(O)C=C2C MEKOFIRRDATTAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 1
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N Isooctane Chemical compound CC(C)CC(C)(C)C NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N Maleimide Chemical compound O=C1NC(=O)C=C1 PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000029936 alkylation Effects 0.000 description 1
- 238000005804 alkylation reaction Methods 0.000 description 1
- BHELZAPQIKSEDF-UHFFFAOYSA-N allyl bromide Chemical compound BrCC=C BHELZAPQIKSEDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- DSVRVHYFPPQFTI-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl)-methyl-trimethylsilyloxysilane;platinum Chemical compound [Pt].C[Si](C)(C)O[Si](C)(C=C)C=C DSVRVHYFPPQFTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001460 carbon-13 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000007809 chemical reaction catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- JVSWJIKNEAIKJW-UHFFFAOYSA-N dimethyl-hexane Natural products CCCCCC(C)C JVSWJIKNEAIKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007323 disproportionation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 150000002221 fluorine Chemical class 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 150000004687 hexahydrates Chemical class 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229940104873 methyl perfluorobutyl ether Drugs 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000011085 pressure filtration Methods 0.000 description 1
- 125000006239 protecting group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000425 proton nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
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- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
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Description
本発明は、含フッ素マレイミド化合物及びその製造方法に関する。
従来、紫外線などの光照射により硬化可能なフッ素化合物としては、側鎖にパーフルオロアルキル基を有する重合性モノマー、例えば、アクリル酸含フッ素アルキルエステルやメタクリル酸含フッ素アルキルエステルを含む重合体が広く知られている。こうしたいわゆる含フッ素アクリル化合物は、紫外線硬化性ハードコート材によって得られるハードコート皮膜を表面の表面特性を向上させる添加剤として、近年、大きく注目されており、高機能化の要求も高まってきている。例えば、特許文献１、２等では、多官能Ｓｉ−Ｈ化合物を利用し、構造の制御により機能性が向上した含フッ素アクリレート等が記載されている。
これらの含フッ素アクリレートを、非フッ素化アクリレート系の硬化性組成物中にごく少量配合すると、塗工により含フッ素アクリレートが空気界面に濃縮した状態となる。この塗工表面に紫外線照射が行われることで、フッ素基が最表面に偏在した硬化皮膜が形成され、撥水、撥油、耐擦傷性などの優れた機能を発現する。しかし、アクリル化合物の紫外線によるラジカル重合は空気中で硬化を行った場合には酸素による阻害を受ける。この硬化阻害は、特に前述の塗工面の含フッ素化アクリレートが偏在しているような空気界面に近い層ほど受けやすい。このため添加された含フッ素アクリレートが最大限の特性を発揮するには、不活性ガス中での硬化などの手段をとる必要があった。
一方、マレイミド化合物は紫外線照射により２量化反応、単独重合、あるいは他のラジカル重合性化合物との共重合が可能であり、酸素による硬化阻害を受けにくいという大きな特徴をもつ。このためフッ素基を有しかつ十分に構造の制御された含フッ素マレイミド化合物とその合成法への要求が高まっていた。
マレイミド基を反応性基として導入し新規な化合物を合成することは広く試みられている。例えば特許文献３には無水マレイン酸とアミンとの反応による開環付加と分子内での再環化を行うことでマレイミド基を導入したシラン化合物が示されているが、このようにこれまでのマレイミド基の導入方法は再環化を伴う合成法が中心であり、未環化物の残存や副反応のため、収率や構造制御の点では十分な方法ではなかった。
本発明は、上記課題を解決するためになされたものであり、撥水撥油性に優れる硬化物を酸素による硬化阻害をほとんど受けずに形成することができる含フッ素マレイミド化合物、及び該含フッ素マレイミド化合物の収率の良い製造方法を提供することを目的とする。
上記課題を解決するため、本発明では、一分子中に、少なくとも一つのフルオロアルキル基及び／又はフルオロポリエーテル基を有し、
少なくとも一つのケイ素原子に結合した下記一般式（１）で示される残基を有するものであることを特徴とする含フッ素マレイミド化合物を提供する。
（式中、ａは、１〜１０の整数である）
少なくとも一つのケイ素原子に結合した下記一般式（１）で示される残基を有するものであることを特徴とする含フッ素マレイミド化合物を提供する。
このような含フッ素マレイミド化合物であれば撥水撥油性に優れる硬化物を酸素による硬化阻害をほとんど受けずに形成することができるものとなる。
また、前記含フッ素マレイミド化合物は、下記一般式（２）で示されるものであることが好ましい。
（式中、ａは前記同様であり、Ｒ１〜Ｒ２はそれぞれ独立に炭素数１〜１０の１価の炭化水素基であり、Ｒｆはそれぞれ独立にフルオロアルキル基又はフルオロポリエーテル基であり、Ｚは２価の炭化水素基であり、その一部に酸素原子、窒素原子、ケイ素原子を含んでいても良い。ｘ、ｙはそれぞれ１〜４の整数で、３≦ｘ＋ｙ≦５を満たす。）
このような含フッ素マレイミド化合物であれば、より撥水撥油性に優れる硬化物を形成することができ、また酸素による硬化阻害を一層受けないものとなる。
さらに、本発明では、上記含フッ素マレイミド化合物を製造する方法であって、
一分子中に、少なくとも一つのフルオロアルキル基及び／又はフルオロポリエーテル基を有し、少なくとも一つのケイ素原子を含み、塩素、臭素、及びヨウ素から選ばれるハロゲン原子により変性された有機基を有する含ハロゲン変性有機ケイ素化合物と、下記一般式（３）で示される化合物とをＮ−アルキル化反応させ、
得られた化合物を１００℃以上に加熱することで前記含フッ素マレイミド化合物を得ることを特徴とする含フッ素マレイミド化合物の製造方法を提供する。
一分子中に、少なくとも一つのフルオロアルキル基及び／又はフルオロポリエーテル基を有し、少なくとも一つのケイ素原子を含み、塩素、臭素、及びヨウ素から選ばれるハロゲン原子により変性された有機基を有する含ハロゲン変性有機ケイ素化合物と、下記一般式（３）で示される化合物とをＮ−アルキル化反応させ、
得られた化合物を１００℃以上に加熱することで前記含フッ素マレイミド化合物を得ることを特徴とする含フッ素マレイミド化合物の製造方法を提供する。
このような製造方法であれば収率良く前記含フッ素マレイミド化合物を合成することができる。
また、前記含ハロゲン変性有機ケイ素化合物を、少なくとも一つのフルオロアルキル基及び／又はフルオロポリエーテル基とケイ素原子に結合した水素原子とを有する含フッ素Ｓｉ−Ｈ化合物と、下記一般式（４）で示される化合物とのヒドロシリル化反応によって得ることができる。
（式中、ａは前記同様であり、Ｘは塩素、臭素、及びヨウ素から選ばれるハロゲン原子である。）
さらに、前記含ハロゲン変性有機ケイ素化合物を、ケイ素原子に結合した水素原子を２以上有するＳｉ−Ｈ化合物と、下記一般式（４）で示される化合物及び少なくとも一つのフルオロアルキル基及び／又はフルオロポリエーテル基と末端アルケニル基とを有する含フッ素化合物とのヒドロシリル化反応によって得ることができる。
（式中、ａは前記同様であり、Ｘは塩素、臭素、及びヨウ素から選ばれるハロゲン原子である。）
以上のような方法により含ハロゲン変性有機ケイ素化合物を合成することで、より収率良く含フッ素マレイミド化合物を合成することができる。
以上説明したように、本発明の含フッ素マレイミド化合物は、撥水撥油性に優れる硬化物を酸素による硬化阻害をほとんど受けずに形成することができるものとなり、また本発明の製造方法によればこの含フッ素マレイミド化合物を収率良く製造することができる。特に、本発明の含フッ素マレイミド化合物は、単体または各種コーティング剤に配合し、撥水撥油性の硬化物を形成することができ、ハードコート用の防汚添加剤として有用である。
以下、本発明の含フッ素マレイミド化合物について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。前述のように、撥水撥油性に優れる硬化物を酸素による硬化阻害をほとんど受けずに形成することができる含フッ素マレイミド化合物が望まれていた。
本発明者らは、上記課題を達成するため鋭意検討を重ねた結果、下記含フッ素マレイミド化合物であれば上記目的に一致する化合物となり、本発明の製造方法であればこれを収率良く合成可能なことを見出して、本発明を完成させた。以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の含フッ素マレイミド化合物は、一分子中に、少なくとも一つのフルオロアルキル基及び／又はフルオロポリエーテル基を有し、
少なくとも一つのケイ素原子に結合した下記一般式（１）で示される残基を有するものである。
（式中、ａは、１〜１０の整数である。）
少なくとも一つのケイ素原子に結合した下記一般式（１）で示される残基を有するものである。
本発明の含フッ素マレイミド化合物は、一分子中に、少なくとも一つのフルオロアルキル基及び／又はフルオロポリエーテル基を有するので、例えば、本発明の含フッ素マレイミド化合物をハードコート剤に添加し、塗工表面に紫外線照射することでフッ素基が最表面に偏在した硬化皮膜が形成され、撥水、撥油、耐擦傷性などの優れた機能を発現することが可能となる。
一般式（１）で示される残基は、ケイ素原子に結合しており、一分子中に少なくとも一つ含まれ、一分子中に２以上含まれることが好ましい。これにより、紫外線照射により空気中で硬化を行った場合でも、２量化反応、単独重合、あるいは他のラジカル重合性化合物との共重合が可能であり、酸素による硬化阻害を受けにくいものとなる。
式中、ａは１〜１０の整数であり、１であることが好ましい。
また、前記含フッ素マレイミド化合物は、下記一般式（２）で示されるものであることが好ましい。
（式中、ａは前記同様であり、Ｒ１〜Ｒ２はそれぞれ独立に炭素数１〜１０の１価の炭化水素基であり、Ｒｆはそれぞれ独立にフルオロアルキル基又はフルオロポリエーテル基であり、Ｚは２価の炭化水素基であり、その一部に酸素原子、窒素原子、ケイ素原子を含んでいても良い。ｘ、ｙはそれぞれ１〜４の整数で、３≦ｘ＋ｙ≦５を満たす。）
式中、ａは前記同様であり、Ｒ１〜Ｒ２はそれぞれ独立に炭素数１〜１０の１価の炭化水素基である。Ｒ１〜Ｒ２としては、特に制限されないが、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、フェニル基が例示される。
また、Ｒｆはそれぞれ独立にフルオロアルキル基又はフルオロポリエーテル基を示し、Ｚは、その一部に酸素原子、窒素原子、ケイ素原子を含んでいても良い２価の炭化水素基である。さらに、ｘ、ｙはそれぞれ１〜４の整数で、３≦ｘ＋ｙ≦５を満たし、好ましくは１〜３の整数で、ｘ＋ｙ＝４を満たすことが好ましい。
なお、一般式（２）において、各繰り返し単位の並びは特に制限されず、任意とすることができる。
本発明の含フッ素マレイミド化合物は、一分子中に、少なくとも一つのフルオロアルキル基及び／又はフルオロポリエーテル基を有し、少なくとも一つのケイ素原子を含み、塩素、臭素、及びヨウ素から選ばれるハロゲン原子により変性された有機基を有する含ハロゲン変性有機ケイ素化合物と、下記一般式（３）で示される保護されたマレイミド誘導体とをＮ−アルキル化反応させ、反応後に得られた化合物を１００℃以上に加熱して脱保護することにより得ることができる。
含ハロゲン変性有機ケイ素化合物は、一分子中に、少なくとも一つのフルオロアルキル基及び／又はフルオロポリエーテル基を有し、少なくとも一つのケイ素原子を含み、塩素、臭素、及びヨウ素から選ばれるハロゲン原子により変性された有機基を有する。ここで、フルオロアルキル基又はフルオロポリエーテル基は上記含フッ素マレイミド化合物と同様のものとすることができる。また、塩素、臭素、及びヨウ素から選ばれるハロゲン原子により変性された有機基とは一価の有機基中の水素原子を塩素、臭素、及びヨウ素から選ばれるハロゲン原子で置換したものであれば特に制限されず、例えば炭素原子数４〜１０の直鎖又は分岐アルキル基の末端の水素原子を塩素、臭素、及びヨウ素から選ばれるハロゲン原子で置換したものとすることができる。また、ハロゲン原子としては、特に臭素が好ましい。
このような含ハロゲン変性有機ケイ素化合物として好ましいものとしては、以下のような化合物が挙げられる。
（式中、ｎ、ｍは１〜４の整数であり、かつ３≦ｎ＋ｍ≦５を満たし、Ｒｆ、Ｘ及びＺは前記同様である。）
（式中、ｂは１〜１５の整数であり、Ｒｆ、Ｘ及びＺは前記同様である。）
（式中、Ｑはそれぞれ独立に下記のいずれかで表すことができる基であり、１分子中に、それぞれの基を必ず１つ以上含む。Ｒｆ、Ｘ及びＺは前記同様である。）
このような含ハロゲン変性有機ケイ素化合物として好ましいものとしては、以下のような化合物が挙げられる。
またＲｆはそれぞれ独立にフルオロアルキル基又はフルオロポリエーテル基であり、特に好ましいフルオロアルキル基として具体的には以下のものが挙げられる。
また、特に好ましいフルオロポリエーテル基としては以下のものが挙げられる。
（ただし、ｃ，ｄ，ｅ，ｆ，ｇはそれぞれ独立に０〜３０の整数であり、ｈは１〜３の整数でありＸ１、Ｘ２はそれぞれ独立にフッ素原子またはＣＦ３基であり、各繰り返し単位の並びは特に制限されず、任意とすることができる。）
これらＲｆ基は好ましくは分子量１５０〜１０，０００であり、特に分子量２００〜５，０００であることが好ましい。
また、Ｚは２価の炭化水素基であり、その一部に酸素原子、窒素原子、ケイ素原子を含んでいても良い。更に、フッ素原子を含むこともできる。このようなＺとして好ましい構造を以下に示す。
本発明の含ハロゲン変性有機ケイ素化合物は任意の方法で得られたものが使用できるが、具体的には、少なくとも一つのフルオロアルキル基及び／又はフルオロポリエーテル基とケイ素原子に結合した水素原子とを有する含フッ素Ｓｉ−Ｈ化合物と、下記一般式（４）で示される化合物とのヒドロシリル化反応によって得ることができる。
（式中、ａは前記同様であり、Ｘは塩素、臭素、及びヨウ素から選ばれるハロゲン原子である。）
以下に、含フッ素Ｓｉ−Ｈ化合物として用いることのできる化合物を例示する。このケイ素原子に結合した水素原子が一般式（４）のアルケニル基とヒドロシリル化反応し、含ハロゲン変性有機ケイ素化合物を得ることができる。
（式中、ｎ、ｍは１〜４の整数であり、３≦ｎ＋ｍ≦５をみたし、Ｒｆ及びＺは前記同様である。）
（式中、ｂは１〜１５の整数であり、Ｒｆ及びＺは前記同様である。）
（式中、ここでＱはそれぞれ独立に以下いずれかで表すことができる基であり、１分子中に、それぞれの基を必ず１つ以上含む。Ｒｆ及びＺは前記同様である。）
また、含フッ素Ｓｉ−Ｈ化合物は、例えば、含フッ素シロキサン化合物と環状Ｈシロキサン化合物の平衡化、含フッ素クロロシラン化合物と１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンとの不均化反応等の反応、多官能Ｓｉ−Ｈ化合物と末端アルケニル基を有するフッ素化合物をヒドロシリル化反応で付加させる方法により製造することができる。ここで多官能Ｓｉ−Ｈ化合物とは、一分子中に１以上のケイ素原子に結合した水素原子を有する化合物をいう。
さらに、前記含ハロゲン変性有機ケイ素化合物は、ケイ素原子に結合した水素原子を２以上有するＳｉ−Ｈ化合物と、一般式（４）で示される化合物及び少なくとも一つのフルオロアルキル基及び／又はフルオロポリエーテル基と末端アルケニル基とを有する含フッ素化合物とのヒドロシリル化反応によっても得ることができる。
この場合、多官能Ｓｉ−Ｈ化合物と一般式（４）で示される化合物を先に反応させ、得られた含ハロゲンＳｉ−Ｈ化合物と末端アルケニル基を有するフッ素化合物を反応させる合成手順を取ることもできる。または、多官能Ｓｉ−Ｈ化合物と一般式（４）で示される化合物、末端アルケニル基を有するフッ素化合物を全て混合し、同時に付加反応を行ってもよい。
多官能Ｓｉ−Ｈ化合物としては、その構造を制限されるものではないが、特に好ましいものとしては、以下のものが例示される。
また、少なくとも一つのフルオロアルキル基又はフルオロポリエーテル基と末端アルケニル基を有するフッ素化合物としては、以下のものを例示することができる。
上記のヒドロシリル化による付加反応は溶剤が存在しなくても実施可能であるが、必要に応じて溶剤で希釈しても良い。このとき該希釈溶剤はトルエン、キシレン、イソオクタンなど広く一般に用いられている有機溶剤を利用することができる。特に、沸点が目的とする反応温度以上でかつ反応を阻害せず反応後に生成する化合物が反応温度において可溶である有機溶剤が好ましく、たとえばｍ−キシレンヘキサフロライド、ベンゾトリフロライドなどのフッ素変性芳香族炭化水素系溶剤、メチルパーフルオロブチルエーテルなどのフッ素変性エーテル系溶剤の部分フッ素変性された溶剤を使うこともできる。
付加反応触媒は、例えば白金、ロジウムまたはパラジウムを含む化合物を使用することができる。中でも白金を含む化合物が好ましく、ヘキサクロロ白金（ＩＶ）酸六水和物、白金カルボニルビニルメチル錯体、白金−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体、白金−シクロビニルメチルシロキサン錯体、白金−オクチルアルデヒド／オクタノール錯体、あるいは活性炭に担持された白金を用いることができる。触媒の配合量は、含フッ素化合物及び／または一般式（４）で示される化合物の合計重量に対し、含まれる金属量が０．１〜５０００ｐｐｍとなることが好ましく、より好ましくは１〜１０００ｐｐｍである。
該付加反応において、目的の構造が得られるものであれば、反応の仕込み比は特に制限されず、任意の比率で付加反応を行った後に、目的の比率で付加が行われた成分を蒸留、カラム精製等で分離して取り出しても良い。また例えば一つのフルオロアルキル基及び／又はフルオロポリエーテル基が１つ付加した含フッ素Ｓｉ−Ｈ化合物を合成する場合、末端アルケニル基を有するフッ素化合物に対して大過剰の多官能Ｓｉ−Ｈ化合物存在下で反応を行い、余剰の多官能Ｓｉ―Ｈ化合物を取り除くことで、目的の含フッ素Ｓｉ−Ｈ化合物を得ることもできる。また逆に、多官能Ｓｉ−Ｈ化合物に一般式（４）で示される化合物を１付加した、ハロゲン変性有機基を１つ有するＳｉ−Ｈ化合物を合成し、残りのＳｉ−Ｈ基に含フッ素アルケニル化合物を反応させてもよい。さらに、多官能Ｓｉ―Ｈ化合物、含フッ素アルケニル化合物、一般式（４）で示される化合物の３種の化合物を全て混合し、同時に付加反応を行っても良い。
続いて、このようにして得られる分子中にフルオロアルキル基及び／またはフルオロポリエーテル基及びケイ素原子を含む含ハロゲン変性有機ケイ素化合物と、一般式（３）で示される化合物との反応によるＮ−アルキル化を行う。
ここでＮ−アルキル化は、含ハロゲン変性有機ケイ素化合物と一般式（３）で示される化合物を炭酸カリウム存在下で加熱、攪拌混合することで容易に進行する。ここで一般式（３）で示される化合物の仕込み比は含ハロゲン変性有機ケイ素化合物に含まれるハロゲン変性有機基と等ｍｏｌまたは、必要に応じてそれ以上用いることが望ましい。余剰分の一般式（３）で示される化合物は、反応後に減圧留去、分液、カラム精製等の手段で任意に取り除くこともできるし、そのまま混合物として用いても良い。
炭酸カリウムはハロゲン原子に対して等ｍｏｌ以上、好ましくは３〜１０ｍｏｌ倍を使用することが望ましい。
またＮ−アルキル化反応は無溶媒で行っても良いが、必要に応じて任意の溶媒で希釈してもよく、特に反応性の面から、エーテル類、ケトン類、アセトニトリル、ＤＭＦ（ジメチルホルムアミド）、ＤＭＳＯ（ジメチルスルホキシド）など非プロトン性の極性溶媒が好適である。
また反応温度は０℃〜８０℃、特に２０℃〜６０℃で行うことが望ましい。０℃以上であれば反応の進行は遅すぎず、８０℃以下であれば一般式（３）で示される化合物から保護基のフランが脱離してしまう可能性を抑制できる。反応時間は目的とする化合物の構造や溶媒量などにも左右されるが、通常１〜７２時間で終結する。
Ｎ−アルキル化で得られた化合物は、通常１００℃〜１８０℃、好ましくは１５０〜１７０℃で加熱することで、容易にフランが脱離し、目的とする含フッ素マレイミド化合物を得ることができる。加熱は単独あるいは必要に応じて、任意の溶媒希釈下で行うことができる。ここで用いられる溶媒としては、目的とする加熱温度範囲に沸点を持ち、反応前後の目的物を溶解させることができ、さらにそれらの物質に対して不活性であるものが好適であり、具体的にはアニソール、ＤＭＦを挙げることができる。
以下、実施例及び比較例を示して本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
〔実施例１〕
下記の化合物（５）２０．０ｇと４−ブロモ−１−ブテン１０．６ｇ、ｍ−キシレンヘキサフルオライド２０ｇを、攪拌および還流装置を備えたフラスコ中で９０℃に昇温し、塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液０．０４０ｇ（Ｐｔ単体として１．０×１０−７モルを含有）を混合し、１２時間加熱攪拌を継続した。加熱停止後に得られた混合溶液に活性炭１質量部を加え１時間攪拌した後に加圧ろ過を行った。ろ液から有機溶媒をエバポレーターで１１０℃／２Ｔｏｒｒの条件で揮発させ、２９．５ｇの淡黄色透明液体を得た。得られた液体は１Ｈ ＮＭＲ、１３Ｃ ＮＭＲから下記（６）の化合物であると同定した。
下記の化合物（５）２０．０ｇと４−ブロモ−１−ブテン１０．６ｇ、ｍ−キシレンヘキサフルオライド２０ｇを、攪拌および還流装置を備えたフラスコ中で９０℃に昇温し、塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液０．０４０ｇ（Ｐｔ単体として１．０×１０−７モルを含有）を混合し、１２時間加熱攪拌を継続した。加熱停止後に得られた混合溶液に活性炭１質量部を加え１時間攪拌した後に加圧ろ過を行った。ろ液から有機溶媒をエバポレーターで１１０℃／２Ｔｏｒｒの条件で揮発させ、２９．５ｇの淡黄色透明液体を得た。得られた液体は１Ｈ ＮＭＲ、１３Ｃ ＮＭＲから下記（６）の化合物であると同定した。
得られた化合物（６）１０．０ｇ、一般式（３）で示される化合物４．２４ｇ、炭酸カリウム１７．３ｇ、ＤＭＦ３０ｇを、攪拌装置及び還流装置を備えたフラスコ中で５０℃、４８時間攪拌した。攪拌停止後の溶液に酢酸エチル５０ｍｌを添加し、水１００ｍｌで３回洗浄した。洗浄後の上層について８０℃／２Ｔｏｒｒで溶媒の減圧留去を行い、半透明褐色で高粘調な液体９．２ｇを得た。得られた液体は１Ｈ ＮＭＲ、１３Ｃ ＮＭＲから下記の（７）の化合物であると同定した。
化合物（７）７．２ｇ、アニソール２１．３ｇを攪拌装置及び還流装置を備えたフラスコに仕込み、１６０℃のオイルバスで加熱し、アニソールが還流した状態で３０分加熱攪拌を行った。その後、反応溶液から、減圧留去により１５０℃／２Ｔｏｒｒで揮発分を除去し、半透明赤色で高粘調な液体６．０ｇを得た。得られた液体は１Ｈ ＮＭＲ、１３Ｃ ＮＭＲから下記の（８）の化合物であると同定した。この１Ｈ ＮＭＲを図１に示し、１３Ｃ ＮＭＲを図２に示した。
〔実施例２〕
下記化合物（１１）２０．０ｇと４−ブロモ−１−ブテン１３．５ｇ、ｍ−キシレンヘキサフルオライド２０ｇを、攪拌および還流装置を備えたフラスコ中で９０℃に昇温し、塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液０．０４０ｇ（Ｐｔ単体として１．０×１０−７モルを含有）を混合し、１２時間加熱攪拌を継続した。その後、反応溶液から、減圧留去により１１０℃／２Ｔｏｒｒで揮発分を除去し、３０．２ｇの淡黄色透明液体を得た。得られた液体は１Ｈ−ＮＭＲ、１３Ｃ−ＮＭＲから下記化合物（１２）であると同定した。
下記化合物（１１）２０．０ｇと４−ブロモ−１−ブテン１３．５ｇ、ｍ−キシレンヘキサフルオライド２０ｇを、攪拌および還流装置を備えたフラスコ中で９０℃に昇温し、塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液０．０４０ｇ（Ｐｔ単体として１．０×１０−７モルを含有）を混合し、１２時間加熱攪拌を継続した。その後、反応溶液から、減圧留去により１１０℃／２Ｔｏｒｒで揮発分を除去し、３０．２ｇの淡黄色透明液体を得た。得られた液体は１Ｈ−ＮＭＲ、１３Ｃ−ＮＭＲから下記化合物（１２）であると同定した。
得られた化合物（１２）１０．０ｇ、一般式（３）で示される化合物４．９２ｇ、炭酸カリウム２０．６ｇ、ＤＭＦ３０ｇを、攪拌装置及び還流装置を備えたフラスコ中で５０℃、４８時間攪拌した。攪拌停止後の溶液に酢酸エチル５０ｍｌを添加し、水１００ｍｌで３回洗浄した。洗浄後の有機層について８０℃／２Ｔｏｒｒで溶媒の減圧留去を行い、半透明褐色で高粘調な液体１１．１ｇを得た。得られた液体は１Ｈ−ＮＭＲ、１３Ｃ−ＮＭＲから下記の（１３）の化合物であると同定した。
化合物（１３）８.０ｇ、アニソール２４ｇを攪拌装置及び還流装置を備えたフラスコに仕込み、１６０℃のオイルバスで加熱し、アニソールが還流した状態で３０分加熱攪拌を行った。その後、反応溶液から、減圧留去により１５０℃／２Ｔｏｒｒで揮発分を除去し、半透明赤色の液体６．４ｇを得た。得られた液体の１Ｈ−ＮＭＲ、以下の表１のスぺクトルが得られ、下記（１４）の化合物であると同定した。
〔実施例３〕
下記化合物（１５）２０．０ｇと４−ブロモ−１−ブテン１５．０ｇ、ｍ−キシレンヘキサフルオライド２０ｇを、攪拌および還流装置を備えたフラスコ中で９０℃に昇温し、塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液０．０４０ｇ（Ｐｔ単体として１．０×１０−７モルを含有）を混合し、１２時間加熱攪拌を継続した。その後、反応溶液から、減圧留去により１１０℃／２Ｔｏｒｒで揮発分を除去し、３３．４ｇの淡黄色透明液体を得た。得られた液体は１Ｈ−ＮＭＲ、１３Ｃ−ＮＭＲから下記化合物（１６）であると同定した。
下記化合物（１５）２０．０ｇと４−ブロモ−１−ブテン１５．０ｇ、ｍ−キシレンヘキサフルオライド２０ｇを、攪拌および還流装置を備えたフラスコ中で９０℃に昇温し、塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液０．０４０ｇ（Ｐｔ単体として１．０×１０−７モルを含有）を混合し、１２時間加熱攪拌を継続した。その後、反応溶液から、減圧留去により１１０℃／２Ｔｏｒｒで揮発分を除去し、３３．４ｇの淡黄色透明液体を得た。得られた液体は１Ｈ−ＮＭＲ、１３Ｃ−ＮＭＲから下記化合物（１６）であると同定した。
得られた化合物（１６）１０．０ｇ、一般式（３）で示される化合物３．４９ｇ、炭酸カリウム１４．６ｇ、ＤＭＦ３０ｇを、攪拌装置及び還流装置を備えたフラスコ中で５０℃、４８時間攪拌した。攪拌停止後の溶液に酢酸エチル５０ｍｌを添加し、水１００ｍｌで３回洗浄した。洗浄後の有機層について８０℃／２Ｔｏｒｒで溶媒の減圧留去を行い、半透明褐色で高粘調な液体１１．１ｇを得た。得られた液体は１Ｈ ＮＭＲ、１３Ｃ ＮＭＲから下記の（１７）の化合物であると同定した。
化合物（１７）８.０ｇ、アニソール２４ｇを攪拌装置及び還流装置を備えたフラスコに仕込み、１６０℃のオイルバスで加熱し、アニソールが還流した状態で３０分加熱攪拌を行った。その後、反応溶液から、減圧留去により１５０℃／２Ｔｏｒｒで揮発分を除去し、半透明赤色の液体６．３ｇを得た。得られた液体の１Ｈ ＮＭＲ、以下の表２のスぺクトルが得られ、下記（１８）の化合物であると同定した。
〔比較例１〕
４−ブロモ−１−ブテンに替えて、３−ブロモ−１−プロペン９．５２ｇを使用した以外は実施例１の（６）の合成方法と全く同一の手順で反応を行ったが、付加反応は進行せず、原料（５）がそのまま回収された。
４−ブロモ−１−ブテンに替えて、３−ブロモ−１−プロペン９．５２ｇを使用した以外は実施例１の（６）の合成方法と全く同一の手順で反応を行ったが、付加反応は進行せず、原料（５）がそのまま回収された。
〔比較例２〕
化合物（５）２０．０ｇと下記化合物（９）１６．２ｇ、ｍ−キシレンヘキサフルオライド２０ｇを、攪拌および還流装置を備えたフラスコ中で９０℃に昇温し、塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液０．０４０ｇ（Ｐｔ単体として１．０×１０−７モルを含有）を混合し、１２時間加熱攪拌を継続した。反応溶液の１Ｈ ＮＭＲを測定したところ、目的とするアリル基への付加反応は進行しておらず、下記のような化合物（１０）が生成しており、目的の化合物は得られなかった。
化合物（５）２０．０ｇと下記化合物（９）１６．２ｇ、ｍ−キシレンヘキサフルオライド２０ｇを、攪拌および還流装置を備えたフラスコ中で９０℃に昇温し、塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液０．０４０ｇ（Ｐｔ単体として１．０×１０−７モルを含有）を混合し、１２時間加熱攪拌を継続した。反応溶液の１Ｈ ＮＭＲを測定したところ、目的とするアリル基への付加反応は進行しておらず、下記のような化合物（１０）が生成しており、目的の化合物は得られなかった。
以上により、本発明の含フッ素マレイミド化合物の製造方法であれば、本発明の含フッ素マレイミド化合物を収率良く得られることが示された。
さらに、本発明の含フッ素マレイミド化合物が撥水撥油性に優れる硬化物を酸素による硬化阻害をほとんど受けずに形成することができることを示すために、実施例１で合成した含フッ素マレイミド化合物と、比較例３として含フッ素アクリレート組成物（東京化成工業株式会社製：アクリル酸１Ｈ，１Ｈ−ペンタデカフルオロ−ｎ−オクチル １００質量部、ＢＡＳＦ社製 イルガキュアー１８４ ３質量部）を準備した。これらをメチルエチルケトンで４０ｗｔ％に希釈して、ガラス板上にスピンコートし、コンベア型紫外線照射装置（パナソニック電工社製）で、窒素雰囲気中１．６Ｊ／ｃｍ２の紫外線を照射して硬化膜を形成し、その硬化状態を確認した。結果を以下表３に示す。
上記結果より、本発明の含フッ素マレイミド化合物であれば酸素による硬化阻害をほとんど受けずに撥水撥油性に優れる硬化物を成型することが出来ることが示された。一方で、含フッ素アクリレートを用いた方では酸素による硬化阻害を生じた。
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
Claims (4)
- 一分子中に、少なくとも一つのフルオロアルキル基及び／又はフルオロポリエーテル基を有し、
少なくとも一つのケイ素原子に結合した下記一般式（１）で示される残基を有するものである含フッ素マレイミド化合物であって、
下記一般式（２）で示されるものであることを特徴とする含フッ素マレイミド化合物。
- 請求項１に記載の含フッ素マレイミド化合物を製造する方法であって、
一分子中に、少なくとも一つのフルオロアルキル基及び／又はフルオロポリエーテル基を有し、少なくとも一つのケイ素原子を含み、塩素、臭素、及びヨウ素から選ばれるハロゲン原子により変性された有機基を有する含ハロゲン変性有機ケイ素化合物と、下記一般式（３）で示される化合物とをＮ−アルキル化反応させ、
得られた化合物を１００℃以上に加熱することで前記含フッ素マレイミド化合物を得ることを特徴とする含フッ素マレイミド化合物の製造方法。
- 前記含ハロゲン変性有機ケイ素化合物を、少なくとも一つのフルオロアルキル基及び／又はフルオロポリエーテル基とケイ素原子に結合した水素原子とを有する含フッ素Ｓｉ−Ｈ化合物と、下記一般式（４）で示される化合物とのヒドロシリル化反応によって得ることを特徴とする請求項２に記載の含フッ素マレイミド化合物の製造方法。
- 前記含ハロゲン変性有機ケイ素化合物を、ケイ素原子に結合した水素原子を２以上有するＳｉ−Ｈ化合物と、下記一般式（４）で示される化合物及び少なくとも一つのフルオロアルキル基及び／又はフルオロポリエーテル基と末端アルケニル基とを有する含フッ素化合物とのヒドロシリル化反応によって得ることを特徴とする請求項２に記載の含フッ素マレイミド化合物の製造方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2012039682A JP5607091B2 (ja) | 2012-02-27 | 2012-02-27 | 含フッ素マレイミド化合物及びその製造方法 |
| TW102106599A TWI557132B (zh) | 2012-02-27 | 2013-02-25 | Fluorine-containing maleimide compound and method for producing the same |
| CN201310060694.3A CN103288866B (zh) | 2012-02-27 | 2013-02-26 | 含氟马来酰亚胺化合物及其制造方法 |
| KR1020130020357A KR101946071B1 (ko) | 2012-02-27 | 2013-02-26 | 불소 함유 말레이미드 화합물 및 그의 제조 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2012039682A JP5607091B2 (ja) | 2012-02-27 | 2012-02-27 | 含フッ素マレイミド化合物及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2013173700A JP2013173700A (ja) | 2013-09-05 |
| JP5607091B2 true JP5607091B2 (ja) | 2014-10-15 |
Family
ID=49090445
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2012039682A Active JP5607091B2 (ja) | 2012-02-27 | 2012-02-27 | 含フッ素マレイミド化合物及びその製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5607091B2 (ja) |
| KR (1) | KR101946071B1 (ja) |
| CN (1) | CN103288866B (ja) |
| TW (1) | TWI557132B (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP3272518B1 (en) * | 2015-03-18 | 2022-05-11 | Riken Technos Corporation | Hard coat laminate film and method for producing same |
| JP2023077454A (ja) * | 2021-11-25 | 2023-06-06 | 信越化学工業株式会社 | イミド結合及び重合性不飽和結合含有環状オルガノシロキサン、及びそれを含む硬化性樹脂組成物 |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0796591B2 (ja) * | 1988-07-22 | 1995-10-18 | 信越化学工業株式会社 | フッ化ビニリデン系グラフト共重合体の製造方法 |
| JP3281030B2 (ja) | 1992-05-08 | 2002-05-13 | 株式会社メニコン | 眼用レンズ材料 |
| JPH0756125A (ja) * | 1993-08-11 | 1995-03-03 | Toray Ind Inc | コンタクトレンズ |
| JP2000143983A (ja) * | 1998-11-06 | 2000-05-26 | Tomoegawa Paper Co Ltd | 回路積層材料 |
| JP2000212189A (ja) * | 1999-01-18 | 2000-08-02 | Aisin Seiki Co Ltd | Ｏ―シリル化アリ―ルマレイミドの製造 |
| US20060009578A1 (en) * | 2004-07-07 | 2006-01-12 | Dershem Stephen M | Compositions containing maleimide-substituted silsesquioxanes and methods for use thereof |
| US7777064B2 (en) * | 2006-03-02 | 2010-08-17 | Designer Molecules, Inc. | Adhesive compositions containing cyclic siloxanes and methods for use thereof |
| WO2007100329A1 (en) * | 2006-03-02 | 2007-09-07 | Designer Molecules, Inc. | Adhesive composition containing cyclic siloxanes |
| US20100113643A1 (en) * | 2007-04-09 | 2010-05-06 | Designer Molecules, Inc. | Curatives for epoxy adhesive compositions |
| CN102020846B (zh) * | 2010-09-29 | 2014-03-19 | 北京化工大学 | 糠胺型苯并噁嗪树脂/马来酰亚胺化合物组合物 |
-
2012
- 2012-02-27 JP JP2012039682A patent/JP5607091B2/ja active Active
-
2013
- 2013-02-25 TW TW102106599A patent/TWI557132B/zh active
- 2013-02-26 KR KR1020130020357A patent/KR101946071B1/ko active IP Right Grant
- 2013-02-26 CN CN201310060694.3A patent/CN103288866B/zh active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN103288866B (zh) | 2016-09-14 |
| KR20130098218A (ko) | 2013-09-04 |
| CN103288866A (zh) | 2013-09-11 |
| TWI557132B (zh) | 2016-11-11 |
| TW201402589A (zh) | 2014-01-16 |
| JP2013173700A (ja) | 2013-09-05 |
| KR101946071B1 (ko) | 2019-02-08 |
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