JP5579287B2 - 被加工物から多数の薄片を同時にスライスするための方法 - Google Patents
被加工物から多数の薄片を同時にスライスするための方法 Download PDFInfo
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Description
発明の主題
本発明は、ワイヤ延在方向が交互になったワイヤスライスラッピング法によって、被加工物から多数の薄片をスライスする、特に結晶から半導体ウェハをスライスするための装置および方法に関する。
半導体ウェハは、例えば元素半導体(シリコン、ゲルマニウム)、化合物半導体(例えば、アルミニウム、ガリウムまたはインジウムなどの周期系の第3主族の元素および窒素、リンまたはヒ素などの周期系の第5主族の元素からなる)またはそれらの化合物(例えば、Si1-xGex、0<x<1)などの半導体材料からなる薄片である。半導体ウェハは、特に電子部品の基本材料として必要とされ、平坦度、清浄度、および欠陥が無いことに関して厳しい要件を満たさなければならない。
本発明の目的は、被加工物から多数の薄片を同時にスライスするための装置および方法であって、被加工物のスライスラッピング中の急速かつ高い温度変動をできる限り補償し、理想的な切断平面からの実際の切断面のずれをできる限り回避する装置および方法を特定することである。
上記目的は、被加工物から多数の薄片を同時にスライスするための装置であって、ワイヤと、互いに対して水平および平行に配置され、それらのそれぞれの軸を中心に回転可能に取付けられ、溝を有する少なくとも2つの円筒形のワイヤガイドロールと、送り装置とを備え、当該ワイヤは、1つの平面において互いに平行に延在する多数のワイヤセクションからなる水平なウェブが当該ワイヤガイドロール同士の間に存在するように当該ワイヤガイドロールの周囲の当該溝において導かれ、当該装置はさらに、当該ワイヤガイドロールの上方に配置され、当該ワイヤセクション上に研磨剤を吹き付けるための第1のノズルと、当該ワイヤガイドロールの当該軸に平行に当該ウェブの下方に配置され、横および下から当該被加工物のスライス間隙に冷却剤を吹き付けるための第2のノズルとを備える、装置によって達成される。
使用される当該研磨剤および使用される当該冷却剤は、温度を除いて同一の特性を有することができる。
上記方法は、好ましくは半導体ウェハの生産、特に好ましくは300mm以上の直径を有する、シリコンからなる半導体ウェハの生産、例えば450mmの直径を有する、シリコンからなるウェハの生産に用いられる。
図面を参照して、本発明について以下で詳細に説明する。
Claims (13)
- 被加工物から多数の薄片を同時にスライスするための方法であって、
ワイヤソーの送り装置によって、前記被加工物の軸が前記ワイヤソーのワイヤガイドロールの軸に平行であるように前記被加工物を保持するステップと、
前記送り装置によって、上方から垂直方向に前記ワイヤソーのウェブを通過するように前記被加工物を移動させるステップとを備え、
前記ウェブは、1つの平面において互いに平行に延在する多数のワイヤセクションから形成され、前記方法はさらに、
回転方向の連続的な変化を伴う前記ワイヤガイドロールの回転の結果として前記ワイヤセクションが前記被加工物に対して相対的に移動している際に、キャリア液体中の硬質物質のスラリを研磨剤として前記ワイヤセクションに供給するステップを備え、前記相対的な移動は、入口側から出口側まで前記被加工物を通り抜けるように前記ワイヤセクションを導き、前記方法はさらに、
前記ウェブを通る前記被加工物の移動中に生じるスライス間隙に横および下から冷却剤を吹き付けるステップを備え、前記冷却剤は、前記ワイヤガイドロールの前記軸に平行に前記ウェブの下方に配置されたノズルを介して前記スライス間隙に吹き付けられ、前記冷却剤は、前記ワイヤセクションの前記入口側とは反対側に位置するノズルを介してのみ前記スライス間隙に吹き付けられる、方法。 - キャリア液体中の硬質物質のさらなるスラリが前記冷却剤として使用される、請求項1に記載の方法。
- 使用される前記研磨剤および使用される前記冷却剤は、温度を除いて同一の特性を有する、請求項2に記載の方法。
- 使用される前記研磨剤および使用される前記冷却剤は、同一の温度を有する、請求項1または2に記載の方法。
- 使用される前記研磨剤および使用される前記冷却剤は、異なる温度を有する、請求項1または2に記載の方法。
- 前記冷却剤の温度は、前記ウェブを通る前記被加工物の移動中に変更される、請求項1または2に記載の方法。
- 前記冷却剤の温度は、前記被加工物における前記ワイヤセクションの係合長さに依存する態様で変更される、請求項6に記載の方法。
- 前記冷却剤の温度は、ワイヤ係合長さが大きくなるにつれて上昇し、前記ワイヤ係合長さが小さくなるにつれて低下する、請求項7に記載の方法。
- 吹き付けられる前記冷却剤の体積流量は、前記ウェブを通る前記被加工物の移動中は一定に保たれる、請求項1から8のいずれかに記載の方法。
- 吹き付けられる前記冷却剤の体積流量は、前記ウェブを通る前記被加工物の移動中に変更される、請求項1から8のいずれかに記載の方法。
- 吹き付けられる前記冷却剤の前記体積流量は、前記被加工物におけるワイヤ係合長さに依存する態様で変更される、請求項10に記載の方法。
- 吹き付けられる前記冷却剤の前記体積流量は、前記ワイヤ係合長さが大きくなるにつれて増大し、前記ワイヤ係合長さが小さくなるにつれて減少する、請求項11に記載の方法。
- 少なくとも450mmの直径を有する単結晶が前記被加工物として使用される、請求項1から12のいずれかに記載の方法。
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