JP5572757B2 - 電極基板並びにそれを備えた表示装置及びタッチパネル - Google Patents

Description

本発明は、電極基板並びにそれを備えた表示装置及びタッチパネルに関し、特に、配線剥がれの防止対策に関するものである。

近年、観察者の左右それぞれの目に異なる視点から見た像を視認させることにより視差を与えて３Ｄ表示（立体三次元表示）を行う液晶表示装置が開発され、その一部が製品化されている。

このような液晶表示装置として、光の透過領域と遮断領域とが交互にストライプ状に形成された視差バリアを液晶表示パネルに組み合わせ、該視差バリアにより液晶表示パネルが表示する右目用画像及び左目用画像のそれぞれに対して特定の視野角を与えて、空間内の特定の観察領域からであれば、左右それぞれの目に対応する像を視認可能にし、観察者がフィルタシステム等の視覚的補助具を使用しなくても３Ｄ表示を認識できるようにするものがある。

さらに、視差バリア機能の有効と無効とを切り替える手段をスイッチング液晶パネルで構成することにより、３Ｄ表示と２Ｄ表示（平面二次元表示）とを切り替えることが可能な２Ｄ／３Ｄ切替型の液晶表示装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。

スイッチング液晶パネルは、一対の基板が枠状のシール材によって貼り合わせられ、該シール材の内側に液晶層を封入して構成されている。このスイッチング液晶パネルを構成する両基板の互いに対向する内側表面には、表示領域と対応する視差バリア領域に、視差バリア機能切替用のスイッチ電極が設けられている。スイッチ電極には、引出配線がその一端部を重ねて接続されている。引出配線は、視差バリア領域外側の額縁領域を延びて基板縁部にまで引き出され、その引き出し先端部が外部接続端子を構成しており、該外部接続端子を介して外部回路に接続される。

また近年、液晶表示装置などの表示装置には、表示パネル上に設けられ、その表示画面上で指又はペンなどを用いて各種操作を行うことにより、表示装置に情報を入力する入力装置として、タッチパネルが広く使用されている。

タッチパネルは、その動作原理によって、抵抗膜方式、静電容量方式、赤外線方式、超音波方式、電磁誘導方式などに分類される。その中でも特に、静電容量方式のタッチパネルは、表示装置の光学特性を比較的損ない難く、表示装置に好適であることが知られている。

静電容量方式のタッチパネルには、表示領域と対応するタッチ領域にタッチ位置検出用のタッチ検出電極が設けられている。タッチ検出電極には、引出配線がその一端部を重ねて接続されている。引出配線は、タッチ領域外側の額縁領域を延びて基板縁部にまで引き出され、その引き出し先端部が外部接続端子を構成しており、該外部接続端子を介して外部回路に接続される。

上述したスイッチング液晶パネルやタッチパネルでは、表示画像を視認可能なように表示領域に対応する領域（視差バリア領域、タッチ領域）は透明である必要があり、当該領域に位置するスイッチ電極やタッチ検出電極は、インジウムスズ酸化物（Indium Tin Oxide、以下、ＩＴＯと称する）などの透明導電性酸化物により形成される。他方、非表示領域に対応する領域に位置する引出配線は、表示画像を遮るものでないので、透明である必要がなく、その材料には、透明導電性酸化物からなるスイッチ電極やタッチ検出電極との接続において電触反応を防止するために、チタン（Ｔｉ）やモリブデン（Ｍｏ）などの高融点金属が好適に採用される（例えば、特許文献２及び３参照）。

特開２００４−１３９０５４号公報 特開２００２−２２２９５４号公報（段落００２０欄） 特開２００６−４７９８５号公報（段落０１１７〜０１１９欄）

しかしながら、上述のように、スイッチング液晶パネルやタッチパネルなどを構成する電極基板において、スイッチ電極やタッチ検出電極を透明導電性酸化物により形成して透明電極とし、引出配線を高融点金属により形成した場合には、当該透明電極上から引出配線が剥がれやすいという問題がある。

本発明者は、このような電極基板について鋭意研鑽を重ねた結果、上記問題の原因が、透明電極を形成する透明導電性酸化物と引出配線を形成する高融点金属との相互の酸化還元反応と、透明電極上の引出配線部分に残留する膜ストレス（膜応力）とにあることを見出した。

すなわち、例えば、ＩＴＯからなる透明電極にチタン（Ｔｉ）からなる引出配線を一部重ねて接続すると、透明電極と引出配線との間で酸化還元反応が生じ、これに起因して透明電極と引出配線との密着性が低下する。また、透明電極を形成するＩＴＯの結晶構造は立方晶系のビックスバイト（Bixbyite）型構造を有するのに対し、引出配線を形成するチタン（Ｔｉ）の結晶構造は六方晶系の六方最密充填構造を有するので、結晶系の相違に起因して、透明電極上の引出配線部分にはその形成時における膨張や収縮により過大な膜ストレス（膜応力）が残留する。これら２つの要因が重なって、透明電極上から引出配線が剥がれやすくなる。

透明電極上から引出配線が剥がれると、これら透明電極と引出配線との間で導通がとれず、当該電極基板を正常に動作させることができなくなるため、その電極基板を含む不良品が発生して、歩留りが低下し、製造コストが増大する事態になってしまう。

本発明は、斯かる点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、引出配線が透明電極から剥がれることを防止し、これら引出配線と透明電極とを確実に接続して電極基板を正常に動作させることにある。

上記の目的を達成するために、この発明では、引出配線と透明電極との酸化還元反応を防止し且つ引出配線の膜ストレスを緩和すべく、引出配線の透明電極との接触部における材質を工夫した。

具体的には、本発明は、ベース基板と、該ベース基板上に設けられた透明導電性酸化物からなる透明電極と、該透明電極に一端部を重ねて接続されていると共に他端側が上記ベース基板の外縁側に引き出された引出配線とを備えた電極基板、並びにそれを備えた表示装置及びタッチパネルを対象とし、以下の解決手段を講じたものである。

すなわち、第１の発明は、電極基板であって、上記引出配線における透明電極との接触部は、高融点金属窒化物により形成され、窒素濃度が３５ａｔｏｍｓ／ｃｍ^２以上且つ６５ａｔｏｍｓ／ｃｍ^２以下であることを特徴とする。

この第１の発明では、引出配線における透明電極との接触部が高融点金属窒化物により形成されている。ここで、仮に、上記引出配線の接触部における窒素濃度が３５ａｔｏｍｓ／ｃｍ^２未満であると、当該引出配線と透明導電性酸化物からなる透明電極との相互の酸化還元反応を引出配線の剥がれを防止するにまで十分に抑えられない。他方、仮に、上記引出配線の接触部における窒素濃度が６５ａｔｏｍｓ／ｃｍ^２よりも高いと、当該引出配線を形成するための成膜時に、成膜装置内に堆積する膜が剥がれやすく、それがパーティクル源となって、基板表面に多量のパーティクルが付着したり、その成膜した膜内にパーティクルが混入する不具合を招く。その上、高融点金属窒化物は窒素濃度に高さに応じてその比抵抗が高くなるため、配線抵抗が高くなり過ぎて引出配線が機能しなくなるおそれもある。これに対して、第１の発明では、上記引出配線の接触部における窒素濃度が３５ａｔｏｍｓ／ｃｍ^２以上であるので、当該引出配線と透明電極との相互の酸化還元反応が十分に抑えられる。そして、上記引出配線の接触部における窒素濃度が６５ａｔｏｍｓ／ｃｍ^２以下であるので、当該引出配線を形成するための成膜時のパーティクル発生が抑制されて、基板表面へのパーティクル付着及び成膜した膜内へのパーティクル混入が防止される。しかも、当該引出配線をその導電性を確保して機能させることが可能である。また、高融点金属窒化物の結晶構造は、立方晶系の構造であって、透明導電性酸化物と結晶系が同じであるので、引出配線の形成時に当該配線に残留する膜ストレスが緩和される。したがって、引出配線が透明電極から剥がれることが防止され、これら引出配線と透明電極とを確実に接続して電極基板を不良なく正常に動作させることが可能になる。

第２の発明は、第１の発明の電極基板において、上記引出配線を覆う絶縁膜と、上記引出配線の引き出し先端部が重ねて接続されていると共に上記絶縁膜の外部に引き出された透明導電性酸化物からなる接続端子とをさらに備え、上記引出配線における接続端子との接触部も、高融点金属窒化物により形成され、窒素濃度が３５ａｔｏｍｓ／ｃｍ^２以上且つ６５ａｔｏｍｓ／ｃｍ^２以下であることを特徴とする。

この第２の発明では、引出配線が絶縁膜によって覆われているので、当該絶縁膜により外部からの湿気等の進入が阻止されて、引出配線の腐食が良好に防止される。さらに、この引出配線に接続されて上記絶縁膜の外部に引き出された接続端子は、透明導電性酸化物からなるので、耐腐食性が高く、大気中においても腐食され難い。これにより、外部回路などとの接続において、接続端子が腐食されることに起因して、その抵抗が高くなり接続不良を引き起こすことが回避される。

そして、引出配線における接続端子との接触部が高融点金属窒化物により形成され、その窒素濃度が３５ａｔｏｍｓ／ｃｍ^２以上且つ６５ａｔｏｍｓ／ｃｍ^２以下であるので、当該引出配線と透明導電性酸化物からなる接続端子との間でも、上述した引出配線と透明電極との間と同様な作用が奏されて、引出配線が接続端子から剥がれることが防止され、これら引出配線と接続端子とを確実に接続して電極基板を不良なく正常に動作させることが可能になる。

第３の発明は、第１又は第２の発明の電極基板において、上記引出配線は、上記透明電極との接触部を構成する高融点金属窒化物からなるバリア金属層と、該バリア金属層よりも低抵抗な金属からなる低抵抗金属層とが積層されて構成されていることを特徴とする。

この第３の発明では、引出配線がバリア金属層及び低抵抗金属層が順に積層された少なくとも２層の積層構造を有している。バリア金属層は、高融点金属窒化物からなり、透明電極との接触部を構成するので、上述した第１の発明の作用効果が具体的に奏される。さらに、低抵抗金属層は、バリア金属層よりも低抵抗な金属からなるので、引出配線が高融点金属窒化物のみからなる場合に比べて低抵抗化される。これにより、本発明が適用されるデバイスに応じて引出配線に必要な導電性を確保することが可能になる。

第４の発明は、第１〜第３の発明のいずれか１つの電極基板において、上記高融点金属窒化物は、窒化チタン（ＴｉＮ）、窒化モリブデン（ＭｏＮ）、窒化タンタル（ＴａＮ）、窒化タングステン（ＷＮ）又は窒化クロム（ＣｒＮ）であることを特徴とする。

この第４の発明によると、本発明の作用効果が具体的に奏されることにより、電極基板を含む不良品の発生が防止されて、歩留りの低下及び製造コストの増大が改善される。

第５の発明は、第１〜第４の発明のいずれか１つの電極基板において、上記透明導電性酸化物は、ＩＴＯ又はインジウム亜鉛酸化物（Indium Zinc Oxide、以下、ＩＺＯと称する）であることを特徴とする。

この第５の発明では、透明電極がＩＴＯ又はＩＺＯからなる。ＩＴＯ及びＩＺＯは、導電性を持ちながら比較的高い透明度を有しているので、表示パネルに重ねて使用される例えばスイッチング液晶パネルやタッチパネルなどの付加機能デバイスに本発明を適用した場合に、当該表示パネルの表示画面を良好に視認可能な構成とすることができる。

第６の発明は、表示装置であって、入力される画像データに応じて表示画像を生成する表示パネルと、該表示パネルによって生成された表示画像における第１の表示領域と第２の表示領域とにそれぞれ異なる特定の視野角を与える視差バリア手段と、該視差バリア手段の効果の有効と無効とを切り替えることにより第１の表示状態と第２の表示状態とを切り替えるスイッチング用液晶パネルとを備え、上記スイッチング用液晶パネルは、第１〜第５の発明のいずれか１つの電極基板を有することを特徴とする。

この第６の発明によると、第１〜第５の発明の電極基板が、引出配線と透明電極とを確実に接続して電極基板を不良なく正常に動作させることができるという優れた特性を備えているので、表示装置としても、歩留りの低下及び製造コストの増大を改善して、低コスト化を図ることができる。

第７の発明は、タッチパネルであって、第１〜第５の発明のいずれか１つの電極基板を備え、上記透明電極が設けられた領域であって接触体により接触されたタッチ位置を検出可能なタッチ領域と、該タッチ領域の外側に設けられた領域であって外部回路と接続するための端子領域とを有し、上記引出配線は、上記タッチ領域側から上記端子領域側に引き出され、上記端子領域を介して、上記タッチ領域に接触体が接触したときに該接触体の接触位置を検出するコントローラに電気的に接続されていることを特徴とする。

この第７の発明よると、第１〜第５の発明の電極基板が、引出配線と透明電極とを確実に接続して電極基板を不良なく正常に動作させることができるという優れた特性を備えているので、タッチパネルとしても、歩留りの低下及び製造コストの増大を改善して、低コスト化を図ることができる。

本発明によれば、引出配線における透明電極との接触部が高融点金属窒化物により形成され、窒素濃度が３５ａｔｏｍｓ／ｃｍ^２以上且つ６５ａｔｏｍｓ／ｃｍ^２以下であるので、引出配線が透明電極から剥がれることを防止でき、これら引出配線と透明電極とを確実に接続して電極基板を不良なく正常に動作させることができる。その結果、電極基板及びこれを備える表示装置やタッチパネルなどのデバイスについて、歩留りの低下及び製造コストの増大を改善することができ、低コスト化することができる。

図１は、実施形態１に係る２Ｄ／３Ｄ切替型の液晶表示装置の断面構造を概略的に示す断面図である。 図２は、駆動基板を概略的に示す平面図である。 図３は、駆動基板のスイッチ電極と外部接続端子との接続構造を一部拡大して概略的に示す平面図である。 図４は、図３のＡ−Ａ線、Ｂ−Ｂ線、Ｃ−Ｃ線、Ｄ−Ｄ線における断面構造を示す断面図である。 図５は、コモン基板を概略的に示す平面図である。 図６は、コモン基板のスイッチ電極と外部接続端子との接続構造を一部拡大して概略的に示す平面図である。 図７は、実施形態１に係る駆動基板の製造方法を示す工程図であって、図４対応箇所を示す断面図である。 図８は、実施形態１の変形例に係る引出配線の構造を示す図４のＢ−Ｂ線及びＣ−Ｃ線断面相当箇所の断面図である。 図９は、実施形態２に係るタッチパネルを備えた液晶表示装置の断面構造を概略的に示す断面図である。 図１０は、実施形態２に係るタッチパネルを概略的に示す平面図である。 図１１は、実施形態２に係るタッチパネルのタッチ検出電極と外部接続端子との接続構造を一部拡大して概略的に示す平面図である。 図１２は、図１１のＡ−Ａ線、Ｂ−Ｂ線、Ｃ−Ｃ線、Ｄ−Ｄ線における断面構造を示す断面図である。 図１３は、実施形態２に係るタッチパネルの製造方法における前半ステップを示す工程図であって、図１２対応箇所の断面図である。 図１４は、実施形態２に係るタッチパネルの製造方法における後半ステップを示す工程図であって、図１２対応箇所の断面図である。 図１５は、実施形態２の変形例に係る引出配線の構造を示す図１２のＢ−Ｂ線及びＣ−Ｃ線断面相当箇所の断面図である。 図１６は、その他の実施形態に係るタッチパネルのタッチ領域を一部拡大して示す平面図である。 図１７は、図１６のXVII−XVII線における断面構造を示す断面図である。 図１８は、その他の実施形態に係るタッチパネルを備えた２Ｄ／３Ｄ切替型の液晶表示装置の断面構造を概略的に示す断面図である。

以下、本発明の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、本発明は、以下の各実施形態に限定されるものではない。

《発明の実施形態１》
この実施形態１では、表示装置の一例として、２Ｄ表示と３Ｄ表示とを切り替え可能に構成された２Ｄ／３Ｄ切替型の液晶表示装置Ｓ１について説明する。

−２Ｄ／３Ｄ切替型の液晶表示装置Ｓ１の構成−
２Ｄ／３Ｄ切替型の液晶表示装置Ｓ１の断面構造を図１に示す。

２Ｄ／３Ｄ切替型の液晶表示装置Ｓ１は、透過型液晶表示装置であって、液晶表示パネルＤＰと、該液晶表示パネルＤＰの背面側に配置された光源装置であるバックライトユニットＢＬと、上記液晶表示パネルＤＰの表面側、つまり反バックライトユニットＢＬ側に配置されたスイッチング液晶パネルＳＰとを備えている。

＜液晶表示パネルＤＰの構成＞
液晶表示パネルＤＰは、互いに対向するように配置された薄膜トランジスタ（Thin Film Transistor、以下、ＴＦＴと称する）基板１及び対向基板２と、これらＴＦＴ基板１及び対向基板２の両外周縁部同士を接着する枠状のシール材３と、ＴＦＴ基板１と対向基板２との間にシール材３により囲まれて封入された液晶層４とを備えている。

この液晶表示パネルＤＰは、ＴＦＴ基板１と対向基板２とが重なる領域であって、シール材３の内側、つまり液晶層４が設けられた領域に画像表示を行う例えば矩形状の表示領域Ｄを有している。この表示領域Ｄは、画像の最小単位である画素がマトリクス状に複数配列されてなる。

また、液晶表示パネルＤＰは、表示領域Ｄの周囲に例えば矩形枠状の非表示領域を有し、該非表示領域の１辺側にＴＦＴ基板１が対向基板２から突出してその対向基板２側表面が外部に露出した端子領域（不図示）を有している。この端子領域には、ＦＰＣ（Flexible Printed Circuits）などの配線基板が異方性導電膜を介して実装され、該配線基板を介して外部回路から表示すべき画像に対応した画像データを含む表示用信号が液晶表示パネルＤＰに入力されるようになっている。

ＴＦＴ基板１は、図示しないが、ベース基板であるガラス基板などの絶縁性基板上に、互いに平行に延びるように設けられた複数のゲート配線と、該各ゲート配線と交差する方向に互いに平行に延びるように設けられた複数のソース配線と、これら各ゲート配線と各ソース配線との交差部毎に各画素に対応するように設けられたＴＦＴ及びそのドレインに接続された画素電極とを備え、各ＴＦＴのオンとオフとを切り替えることにより該各ＴＦＴに対応する画素電極に選択的に電位が印加されるように構成されている。

対向基板２は、図示しないが、ベース基板であるガラス基板などの絶縁性基板上に、上記ゲート配線及びソース配線に対応するように格子状に設けられたブラックマトリクスと、該ブラックマトリクスの格子間に各画素に対応して周期的に配列された例えば赤色層、緑色層及び青色層からなる複数のカラーフィルタと、それらブラックマトリクス及び各カラーフィルタを覆うように設けられ上記画素電極の群と対向する共通電極と、該共通電極上に柱状に設けられたフォトスペーサとを備えている。

これらＴＦＴ基板１及び対向基板２は、例えば矩形状に形成され、互いに対向する内側表面に配向膜（不図示）がそれぞれ設けられていると共に、外側表面に第１偏光板Ｈ１及び第２偏光板Ｈ２がそれぞれ設けられている。ＴＦＴ基板１上の第１偏光板Ｈ１と対向基板２上の第２偏光板Ｈ２とは、透過軸が９０°異なっている。また、液晶層４は、例えば電気光学特性を有するネマチックの液晶材料などにより構成されている。

＜バックライトユニットＢＬの構成＞
バックライトユニットＢＬは、図示しないが、ＬＥＤ（Light Emitting Diode）や冷陰極管などの光源、導光板、及び反射シートや拡散シート、プリズムシートなどの複数の光学シートを備え、光源から導光板に入射させた光を、その導光板の出射面から各光学シートを介して液晶表示パネルＤＰ側へ均一な面状の光として出射するように構成されている。

＜スイッチング液晶パネルＳＰの構成＞
スイッチング液晶パネルＳＰは、両面テープなどの貼付材９を介して液晶表示パネルＤＰに貼り付けられている。スイッチング液晶パネルＳＰは、互いに対向するように配置された各々電極基板である駆動基板５及びコモン基板６と、これら駆動基板５及びコモン基板６の両外周縁部同士を接着する枠状のシール材７と、駆動基板５とコモン基板６との間にシール材７により囲まれて封入された液晶層８とを備えている。

このスイッチング液晶パネルＳＰは、駆動基板５とコモン基板６とが重なる領域であって、シール材７の内側、つまり液晶層８が設けられた領域に例えば矩形状の視差バリア領域Ｂを有している。この視差バリア領域Ｂは、液晶表示パネルＤＰの表示領域Ｄに対応する領域に配置されており、後述するように、格子状の透光部と該透光部の格子間にマトリクス状に配置された遮光部とを有する視差バリアとしての機能を発揮可能に構成されている。

また、スイッチング液晶パネルＳＰは、視差バリア領域Ｂの周囲に設けられた例えば矩形枠状の額縁領域Ｆを有している。額縁領域Ｆは、液晶表示パネルＤＰの非表示領域に対応する領域に配置されている。この額縁領域Ｆの一辺側には、駆動基板５がコモン基板６から突出してそのコモン基板６側表面が外部に露出した駆動端子領域ＤＴ（図１では不図示、図２参照）が設けられている。また、額縁領域Ｆの他辺側には、コモン基板６が駆動基板５から突出してその駆動基板５側表面が外部に露出したコモン端子領域ＣＴ（図１では不図示、図５参照）が設けられている。これら各端子領域ＤＴ，ＣＴには、ＦＰＣなどの配線基板が異方性導電膜を介して実装され、該各配線基板を介して外部回路から駆動状態のオンとオフとを制御する制御信号がスイッチング液晶パネルＳＰに入力されるようになっている。

＜駆動基板５の構成＞
駆動基板５の構成を図２〜図４に示す。図２は、駆動基板５の概略平面図である。図３は、駆動基板５におけるスイッチ電極１２と外部接続端子１６との接続構造を一部拡大して概略的に示す平面図である。図４は、図中左側から順に図３のＡ−Ａ線、Ｂ−Ｂ線、Ｃ−Ｃ線、Ｄ−Ｄ線における断面構造を示す断面図である。

駆動基板５は、図２に示すように、ベース基板であるガラス基板などの絶縁性基板１０上に、視差バリア領域Ｂにストライプ状に配列された複数の駆動スイッチ電極１２と、該各駆動スイッチ電極１２に電気的に接続されて当該スイッチ電極１２毎に額縁領域Ｆを視差バリア領域Ｂ側から駆動端子領域ＤＴ側に引き出された引出配線１４と、該各引出配線１４の引き出し先に当該配線１４毎に設けられた外部接続端子１６とを備えている。

駆動スイッチ電極１２は、各々図２で上下方向（Ｙ軸方向；例えば画面縦方向）に線状に延びる細長い略長方形状に形成され、図２で左右方向（Ｘ軸方向；例えば画面横方向）に所定の間隔をあけて配置されており、当該スイッチ電極１２同士の間に隙間が形成されている。各駆動スイッチ電極１２の一端側には、図３に示すように、当該スイッチ電極１２から配線１２ａが引き出されると共に、その先端に内部接続端子１２ｂが形成されている。これら各駆動スイッチ電極１２は、透明導電性酸化物であるＩＴＯ又はＩＺＯからなり、本発明の透明電極を構成している。

外部接続端子１６は、絶縁性基板１０の端縁に沿って互いに所定の間隔をあけて一列に並んでいる。これら各外部接続端子１６は、透明導電性酸化物であるＩＴＯ又はＩＺＯからなり、上記駆動スイッチ電極１２と同一膜から形成されている。

引出配線１４は、視差バリア領域Ｂの周辺から駆動端子領域ＤＴの手前まで互いに並んで延びている。各引出配線１４は、内部接続端子１２ｂに引き出し基端部１４ａを重ねて接続されていると共に、外部接続端子１６に引き出し先端部１４ｂを重ねて接続されている。これら各引出配線１４は、図４（Ｂ−Ｂ断面及びＣ−Ｃ断面）に示すように、バリア金属層１５Ａ及び低抵抗金属層１５Ｂが順に積層されて構成されている。

バリア金属層１５Ａは、内部接続端子１２ｂ及び外部接続端子１６との接触部を構成している。このバリア金属層１５Ａは、高融点金属窒化物である窒化チタン（ＴｉＮ）からなり、その窒素濃度が３５ａｔｏｍｓ／ｃｍ^２以上且つ６５ａｔｏｍｓ／ｃｍ^２以下であって、比抵抗が１５０μΩｃｍ以上且つ５００μΩｃｍ以下の範囲にある。低抵抗金属層１５Ｂは、窒化チタン（ＴｉＮ）よりも低抵抗なチタン（Ｔｉ）からなり、比抵抗が６０μΩｃｍ以上且つ７５μΩｃｍ以下の範囲にある。

このように引出配線１４における内部接続端子１２ｂ及び外部接続端子１６との接触部が、窒素濃度３５ａｔｏｍｓ／ｃｍ^２〜６５ａｔｏｍｓ／ｃｍ^２の窒化チタン（ＴｉＮ）で形成されていることによって、当該引出配線１４が両接続端子１２ｂ，１６から剥がれることを防止できる。

すなわち、引出配線１４における内部接続端子１２ｂ及び外部接続端子１６との接触部を窒化チタン（Ｔｉ）により形成すると、当該引出配線１４と両接続端子１２ｂ，１６との相互の酸化還元反応を抑える効果が得られる。ここで、仮に、当該引出配線１４の接触部における窒素濃度が３５ａｔｏｍｓ／ｃｍ^２未満であると、当該引出配線１４と接続端子１２ｂ，１６との相互の酸化還元反応を引出配線１４の剥がれを防止するにまで十分に抑えられない。他方、仮に、上記引出配線１４の接触部における窒素濃度が６５ａｔｏｍｓ／ｃｍ^２よりも高いと、当該引出配線１４を形成するための成膜時に、成膜装置内に堆積する膜が剥がれやすく、それがパーティクル源となって、基板表面に多量のパーティクルが付着したり、その成膜した膜内にパーティクルが混入する不具合を招き、その上、窒化チタン（ＴｉＮ）は窒素濃度に応じてその比抵抗が高くなるため、配線抵抗が高くなり過ぎて引出配線１４が機能しなくなるおそれもある。

これに対して、本実施形態では、引出配線１４における内部接続端子１２ｂ及び外部接続端子１６との接触部を構成するバリア金属層１５Ａの窒素濃度が３５ａｔｏｍｓ／ｃｍ^２以上であるので、当該引出配線１４と両接続端子１２ｂ，１６との相互の酸化還元反応を十分に抑えることができる。そして、バリア金属層１５Ａにおける窒素濃度が６５ａｔｏｍｓ／ｃｍ^２以下であるので、当該引出配線１４を形成するための成膜時のパーティクル発生が抑制されて、基板表面へのパーティクル付着及び成膜した膜内へのパーティクル混入を防止することができる。しかも、バリア金属層１５Ａの比抵抗を配線として必要な導電性を確保できる範囲に抑えることができる。さらに、このバリア金属層１５Ａ上には低抵抗金属層１５Ｂが積層されているので、当該引出配線１４を窒化チタン（ＴｉＮ）のみからなる場合に比べて低抵抗化することができ、駆動基板５における引出配線１４に必要な導電性を得ることができる。また、窒化チタン（ＴｉＮ）の結晶構造は、立方晶系の構造であって、ＩＴＯやＩＺＯなどの透明導電性酸化物と結晶系が同じであるので、引出配線１４の形成時に当該配線１４に残留する膜ストレスを緩和することができる。したがって、引出配線１４が内部接続端子１２ｂ及び外部接続端子１６から剥がれることを防止できる。

上記バリア金属層１５Ａの窒素濃度は、上述の如く当該バリア金属層１５Ａと接続端子１２ｂ，１６との酸化還元反応を抑制する観点から、３５ａｔｏｍｓ／ｃｍ^２以上且つ６５ａｔｏｍｓ／ｃｍ^２以下であることが好ましく、さらに、４０ａｔｏｍｓ／ｃｍ^２以上且つ５０ａｔｏｍｓ／ｃｍ^２以下であることがよりいっそう好ましい。

なお、本実施形態では、バリア金属層１５Ａが窒化チタン（ＴｉＮ）からなるとしているが、当該バリア金属層１５Ａは、窒化チタン（ＴｉＮ）に代えて、窒化モリブデン（ＭｏＮ）、窒化タンタル（ＴａＮ）、窒化タングステン（ＷＮ）又は窒化クロム（ＣｒＮ）により形成されていてもよく、その他の高融点金属によって形成されていても構わない。また、低抵抗金属層１５Ｂも、チタン（Ｔｉ）に限らず、これに代えて、モリブデン（Ｍｏ）、タンタル（Ｔａ）、タングステン（Ｗ）又はクロム（Ｃｒ）により形成されていてもよく、その他の高融点金属によって形成されていても構わない。

＜コモン基板６の構成＞
コモン基板６の構成を図５及び図６に示す。図５は、コモン基板６の概略平面図である。図６は、コモン基板６におけるスイッチ電極２２と外部接続端子２６との接続構造を一部拡大して概略的に示す平面図である。

コモン基板６は、図５に示すように、ベース基板であるガラス基板などの絶縁性基板２０上に、視差バリア領域Ｂにストライプ状に配列された複数のコモンスイッチ電極２２と、該各コモンスイッチ電極２２に電気的に接続されて当該スイッチ電極２２毎に額縁領域Ｆを視差バリア領域Ｂ側からコモン端子領域ＣＴ側に引き出された引出配線２４と、該各引出配線２４の引き出し先に当該配線２４毎に設けられた外部接続端子２６とを備えている。

コモンスイッチ電極２２は、各々上記駆動スイッチ電極１２と交差するように各々Ｘ軸方向に線状に延びる細長い略長方形状に形成され、Ｙ軸方向に所定の間隔をあけて配置されており、当該スイッチ電極２２同士の間に隙間が形成されている。各コモンスイッチ電極２２の一端側には、図６に示すように、当該スイッチ電極２２から配線２２ａが引き出されると共に、その先端に内部接続端子２２ｂが形成されている。これら各コモンスイッチ電極２２も、透明導電性酸化物であるＩＴＯ又はＩＺＯからなり、本発明の透明電極を構成している。

外部接続端子２６は、絶縁性基板２０の外縁に沿って互いに所定の間隔をあけて一列に並んでいる。これら各外部接続端子２６は、透明導電性酸化物であるＩＴＯ又はＩＺＯからなり、上記コモンスイッチ電極２２と同一膜から形成されている。

引出配線２４は、視差バリア領域Ｂの周辺からコモン端子領域ＣＴの手前まで互いに並んで延びている。各引出配線２４は、内部接続端子２２ｂに引き出し基端部２４ａを重ねて接続されていると共に、外部接続端子２６に引き出し先端部２４ｂを重ねて接続されている。

これら各引出配線２４は、駆動基板５側の引出配線１４と同様に、窒素濃度が３５ａｔｏｍｓ／ｃｍ^２以上且つ６５ａｔｏｍｓ／ｃｍ^２以下（好ましくは４０ａｔｏｍｓ／ｃｍ^２以上且つ５０ａｔｏｍｓ／ｃｍ^２以下）の窒化チタン（ＴｉＮ）からなるバリア金属層と、チタン（Ｔｉ）からなる低抵抗金属層とが順に積層されて構成されている。これにより、コモン基板６においても、引出配線２４と内部接続端子２２ｂ及び外部接続端子２６との間で駆動基板５と同様な作用が奏され、当該引出配線２４が両接続端子２２ｂ，２６から剥がれることを防止できる。

なお、本実施形態では、引出配線２４のバリア金属層が窒化チタン（ＴｉＮ）からなるとしているが、当該バリア金属層は、窒化チタン（ＴｉＮ）に代えて、窒化モリブデン（ＭｏＮ）、窒化タンタル（ＴａＮ）、窒化タングステン（ＷＮ）又は窒化クロム（ＣｒＮ）により形成されていてもよく、その他の高融点金属によって形成されていても構わない。また、引出配線２４の低抵抗金属層も、チタン（Ｔｉ）に限らず、これに代えて、モリブデン（Ｍｏ）、タンタル（Ｔａ）、タングステン（Ｗ）又はクロム（Ｃｒ）により形成されていてもよく、その他の高融点金属によって形成されていても構わない。

これら駆動基板５及びコモン基板６は、例えば矩形状に形成され、互いに対向する内側表面に配向膜（不図示）がそれぞれ設けられている。さらにコモン基板６の外側表面には第３偏光板Ｈ３が設けられている。このコモン基板６上の第３偏光板Ｈ３は、上記対向基板２上の第２偏光板Ｈ２と透過軸の方向が同じである。液晶層８は、例えば電気光学特性を有するネマチックの液晶材料などにより構成されている。

＜２Ｄ／３Ｄ切替型の液晶表示装置Ｓ１の作動＞
上記構成の液晶表示装置Ｓ１では、通常の２Ｄ表示を行う第１の表示状態である２Ｄ表示状態と、観察者の左右それぞれの目に異なる視点から見た像を視認させることにより視差を与えて３Ｄ表示を行う第２の表示状態である３Ｄ表示状態とのいずれかの表示状態で画像表示が行われる。

表示動作時の液晶表示パネルＤＰでは、ゲート信号が各ゲート配線に順に出力されてゲート配線が駆動され、駆動された同一のゲート配線に接続されているＴＦＴが一斉にオン状態となったときに、ソース配線を介してソース信号がオン状態の各ＴＦＴに送られ、それら各ＴＦＴを介して画素電極に所定の電荷が書き込まれる。このような画素電極への選択的な電荷の書き込み動作が線順次で表示領域Ｄをなす画素の全行に対して実施される。これにより、ＴＦＴ基板１の各画素電極と対向基板２の共通電極との間において電位差が生じ、液晶層４に所定の電圧が印加される。そして、液晶表示パネルＤＰでは、液晶層４に印加する電圧の大きさによって液晶分子の配向状態を変えることにより、液晶層４でのバックライトユニットＢＬからの光の透過率を調整して画像が表示される。

３Ｄ表示状態での表示動作時には、液晶表示パネルＤＰにおいて、右目用画像と左目用画像とが各々画面横方向に複数列に分割されて互いの列が交互に並ぶように混合された複合画像が表示される。

そして、３Ｄ表示状態でのスイッチング液晶パネルＳＰでは、その駆動をオン状態とし、各駆動スイッチ電極１２と各コモンスイッチ電極２２とに異なる電位が一斉に印加される。このとき、各駆動スイッチ電極１２と各コモンスイッチ電極２２との間に所定の電圧が印加され、これら各駆動スイッチ電極１２と各コモンスイッチ電極２２とが重なる領域を通過した光の偏光軸がこれら両スイッチ電極１２，２２が重なる領域間を通過した光の偏光軸に対して９０°変えられる。これにより、各駆動スイッチ電極１２と各コモンスイッチ電極２２とが重なる領域と通過した光は、その偏光軸が第３偏光板Ｈ３の透過軸と９０°の角度をなすので、第３偏光板Ｈ３を透過しない。一方、これら両スイッチ電極１２，２２が重なる領域間を通過した光は、その偏光軸が第３偏光板Ｈ３の透過軸と平行であるので、第３偏光板Ｈ３を透過する。

本実施形態では、スイッチング液晶パネルＳＰと第３偏光板Ｈ３との関連した光学作用によって、スイッチング液晶パネルＳＰにおける駆動スイッチ電極１２とコモンスイッチ電極２２とが重なる各領域が遮光部を、これら両スイッチ電極間の各領域が透光部となり、視差バリア領域において、格子状の透光部と該透光部の格子間にマトリクス状に配置された遮光部とを有する視差バリアとしての機能が有効に発揮される。つまり、スイッチング液晶パネルＳＰ及び第３偏光板Ｈ３が本発明の視差バリアを構成している。

上記液晶表示パネルＤＰに表示された右目用画像と左目用画像との複合画像は、上記スイッチング液晶パネルＳＰ及び第３偏光板Ｈ３がなす視差バリアを介することで、観察者の左右それぞれの目に異なる視点から見た画像が視認されるように右目用画像と左目用画像とで異なる所定の視野角に分離されて、３Ｄ表示が行われる。このとき、表示画面を９０°回転させて縦と横とを切り替えても、視差バリアがマトリクス状に配置された遮光部を有しているので、液晶表示パネルＤＰに表示された複合画像も同方向に９０°回転させて表示することにより、当該複合画像の右目用画像と左目用画像とをそれぞれ所定の視野角に分離することができ、所望の３Ｄ表示を実現することができる。本実施形態では、液晶表示パネルＤＰにおいて、右目用画像に対応する画素により構成される領域及び左目用画像に対応する画素により構成される領域のそれぞれが第１の表示領域及び第２の表示領域となる。

一方、２Ｄ表示状態による表示動作時には、液晶表示パネルＤＰにおいて、通常の２次元平面画像が表示される。そして、スイッチング液晶パネルＳＰでは、その駆動をオフ状態とし、各駆動スイッチ電極１２と各コモンスイッチ電極２２とに同じ電位が印加されることにより、視差バリアとしての機能を無効にして、入射した光をそのままの偏光軸として出射させる。これにより、観察者の両目に同じ画像が視認されて、２Ｄ表示が行われる。

−製造方法−
次に、上記２Ｄ／３Ｄ切替型の液晶表示装置Ｓ１の製造方法について、一例を挙げて説明する。本実施形態では、駆動基板５とコモン基板６とを一枚ずつ製造し、それら両基板５，６を貼り合わせて一枚のスイッチング液晶パネルＳＰを製造する枚葉方式の製造方法を例に挙げて説明するが、複数のセル単位を含むマザーパネルを作製し、該マザーパネルをセル単位毎に分断することにより、複数のスイッチング液晶パネルＳＰを同時に作製する多面取り方式の製造方法にも適用することができる。このことは液晶表示パネルＤＰについても同様である。

２Ｄ／３Ｄ切替型の液晶表示装置Ｓ１の製造方法は、スイッチング液晶パネル製造工程と、液晶表示パネル製造工程と、バックライトユニット製造工程と、モジュール化工程とを含む。

＜スイッチング液晶パネル製造工程＞
スイッチング液晶パネル製造工程は、駆動基板製造工程と、コモン基板製造工程と、貼合工程とを含む。

＜駆動基板製造工程＞
駆動基板製造工程を図７（ａ）〜（ｃ）に示す。なお、この図７（ａ）〜（ｃ）は、図４対応箇所の断面をそれぞれ示している。

まず、予め準備したガラス基板などの絶縁性基板１０上に、スパッタリング法により、立方晶系のビックスバイト型構造を有するＩＴＯ又はＩＺＯからなる透明導電膜を成膜する。そして、この透明導電膜をフォトリソグラフィーによりパターニングして、図７（ａ）に示すように、駆動スイッチ電極１２及び外部接続端子１６を形成する。

次いで、駆動スイッチ電極１２及び外部接続端子１６が形成された基板上に、スパッタリング法により、図７（ｂ）に示すように、立方晶系の塩化ナトリウム（ＮａＣｌ）型構造を有する窒化チタン（ＴｉＮ）膜６０と六方晶系の結晶構造を有するチタン（Ｔｉ）膜６２とを順に成膜して、これらが積層された金属積層膜６４を形成する。そして、この金属積層膜６４をフォトリソグラフィーによりパターニングして、図７（ｃ）に示すように、引出配線１４を形成する。

このようにして、駆動基板５を製造することができる。

＜コモン基板製造工程＞
予め準備したガラス基板などの絶縁性基板２０上に、上記駆動基板製造工程と同様にして、コモンスイッチ電極２２、引出配線２４及び外部接続端子２６をフォトリソグラフィーを繰り返し行って形成することにより、コモン基板６を製造する。

＜貼合工程＞
駆動基板５及びコモン基板６の表面に対して、印刷法などにより配向膜をそれぞれ形成した後に、必要に応じてラビング処理を行う。次いで、駆動基板５又はコモン基板６の表面に対して、ディスペンサなどにより紫外線硬化型の樹脂からなるシール材７を枠状に描画し、該シール材７の内側領域に液晶材料を所定量滴下する。

そして、駆動基板５とコモン基板６とをシール材７及び液晶材料を介して減圧下で貼り合わせて液晶層８を構成した後、その貼り合わせた貼合体を大気圧下に開放することにより、貼合体の表面を加圧する。さらに、その状態でシール材７を紫外線の照射によって硬化させることにより、駆動基板５とコモン基板６とを接着してスイッチング液晶パネルＳＰを製造する。しかる後に、駆動基板５の外側表面に対して第３偏光板Ｈ３を貼り付ける。

＜液晶表示パネル製造工程＞
液晶表示パネル製造工程は、ＴＦＴ基板製造工程と、対向基板製造工程と、貼合工程とを含む。

＜ＴＦＴ基板製造工程＞
予め準備したガラス基板などの絶縁性基板上に、ゲート配線、ソース配線、ＴＦＴ及び画素電極を、フォトリソグラフィーを繰り返し行う周知の方法で形成することにより、ＴＦＴ基板１を製造する。

＜対向基板製造工程＞
予め準備したガラス基板などの絶縁性基板上に、ブラックマトリクス、カラーフィルタ、共通電極及びフォトスペーサを、フォトリソグラフィーを繰り返し行う周知の方法で形成することにより、対向基板２を製造する。

＜貼合工程＞
ＴＦＴ基板１及び対向基板２の表面に対して配向膜を形成した後、必要に応じてラビング処理を行う。そして、スイッチング液晶パネル製造工程における貼合工程と同様にして、ＴＦＴ基板１と対向基板２とを貼り合わせて液晶層４を構成し、シール材３を硬化させてこれら両基板１，２を接着することにより、液晶表示パネルＤＰを製造する。しかる後、ＴＦＴ基板１及び対向基板２の外側表面に対して、第１偏光板Ｈ１及び第２偏光板Ｈ２をそれぞれ貼り付ける。

＜バックライトユニット製造工程＞
まず、公知の射出成形装置などを用いて導光板のベースとなるアクリル樹脂板を成形し、該アクリル樹脂板に光を散乱させるための例えばドット形状のパターンを形成することにより、導光板を製造する。次いで、この導光板に反射シートや拡散シート、プリズムシートなどの光学シートを貼り付けて組み立てる。その後、導光板と光学シートとの貼合体にＬＥＤや冷陰極管などの光源を取り付けることにより、バックライトユニットＢＬを製造する。

＜モジュール化工程＞
スイッチング液晶パネルＳＰ及び液晶表示パネルＤＰの各端子領域ＤＴ，ＣＴに対し、異方性導電膜を介してＦＰＣなどの配線基板をそれぞれ実装する。そして、スイッチング液晶パネルＳＰと液晶表示パネルＤＰとを両面テープなどの貼付材９を介して貼り合わせ、液晶表示パネルＤＰの背面側にバックライトユニットＢＬを搭載する。このようにして、スイッチング液晶パネルＳＰ、液晶表示パネルＤＰ及びバックライトユニットＢＬをモジュール化する。

以上の工程を行って、図１に示す２Ｄ／３Ｄ切替型の液晶表示装置Ｓ１を製造することができる。

−実施形態１の効果−
この実施形態１によると、駆動基板５上の引出配線１４における内部接続端子１２ｂ及び外部接続端子１６との接触部を構成するバリア金属層１５Ａが窒化チタン（ＴｉＮ）により形成され、その窒素濃度が３５ａｔｏｍｓ／ｃｍ^２以上且つ６５ａｔｏｍｓ／ｃｍ^２以下であるので、当該引出配線１４が両接続端子１２ｂ，１６から剥がれることを防止でき、これら引出配線１４と両接続端子１２ｂ，１６とを確実に接続して駆動基板５を不良なく正常に動作させることができる。

また、コモン基板６上の引出配線２４も上記駆動基板５上の引出配線１４と同様な構成を備えるので、当該引出配線２４が内部接続端子２２ｂ及び外部接続端子２６から剥がれることを防止でき、これら引出配線２４と両接続端子２２ｂ，２６とを確実に接続してコモン基板６も不良なく正常に動作させることができる。

したがって、スイッチング液晶パネルＳＰ及びこれを備える２Ｄ／３Ｄ切替型の液晶表示装置Ｓ１について、歩留りの低下及び製造コストの増大を改善することができ、低コスト化することができる。

《実施形態１の変形例》
図８は、上記実施形態１の変形例に係る引出配線１４の構造を示す断面図であって、図中左側から順に図４のＢ−Ｂ線及びＣ−Ｃ線における断面相当箇所を示している。

上記実施形態１では、引出配線１４が窒化チタン（ＴｉＮ）からなるバリア金属層１５Ａとチタン（Ｔｉ）からなる低抵抗金属層１４Ｂとが順に積層された２層構造（Ｔｉ／ＴｉＮ）を有するとしたが、本変形例の引出配線１４は、窒化チタン（ＴｉＮ）からなるバリア金属層１５Ａと、チタン（Ｔｉ）からなる低抵抗金属層１５Ｂと、窒化チタン（ＴｉＮ）からなる窒化金属層１５Ｃとが順に積層された３層構造（ＴｉＮ／Ｔｉ／ＴｉＮ）を有している。

このような積層構造の引出配線１４を備える駆動基板５は、駆動スイッチ電極１２及び外部接続端子１６を形成した基板上に、スパッタリング法により、窒化チタン（ＴｉＮ）膜６０及びチタン（Ｔｉ）膜６２の成膜に続いて、さらに窒化チタン（ＴｉＮ）膜を成膜して、３層構造の金属積層膜を形成し、該金属積層膜をフォトリソグラフィーによりパターニングして、引出配線１４を形成することにより、製造することができる。

なお、この変形例では駆動基板５の引出配線１４の構造について説明したが、同様な構造をコモン基板６の引出配線２４にも採用することができる。

《発明の実施形態２》
この実施形態２では、本発明をタッチパネルに適用した場合について、表示装置の一例として液晶表示装置を挙げて、タッチパネルＴＰ付きの液晶表示装置Ｓ２について説明する。

−タッチパネルＴＰ付きの液晶表示装置Ｓ２の構成−
タッチパネルＴＰ付きの液晶表示装置Ｓ２の断面構造を図９に示す。

タッチパネルＴＰ付きの液晶表示装置Ｓ２は、透過型液晶表示装置であって、上記実施形態１と同様な構成の液晶表示パネルＤＰ及びバックライトユニットＢＬと、液晶表示パネルＤＰの表面側に設けられた電極基板であるタッチパネルＴＰとを備えている。

＜タッチパネルＴＰの構成＞
タッチパネルＴＰの構成を図１０〜図１２に示す。図１０は、タッチパネルＴＰの概略平面図である。図１１は、タッチパネルＴＰにおけるタッチ位置検出用の電極２２と外部接続端子４８との接続構造を一部拡大して示す平面図である。図１２は、図中左側から順に図１１のＡ−Ａ線、Ｂ−Ｂ線、Ｃ−Ｃ線、Ｄ−Ｄ線における断面構造を示す断面図である。

本実施形態のタッチパネルＴＰは、液晶表示パネルＤＰの対向基板２を構成する絶縁性基板３０の表面に直接形成され、タッチパネルＴＰ付きの液晶表示装置Ｓ２を全体として薄型に構成している。タッチパネルＴＰは、投影型静電容量方式（プロジェクテッドキャパシティブ方式）のタッチパネルに構成され、図１０に示すように、接触体（使用者の指など）により接触されたタッチ位置を検出するための領域である例えば矩形状のタッチ領域Ｔと、該タッチ領域Ｔの周囲に設けられた例えば矩形枠状の額縁領域Ｆと、該額縁領域Ｆの一辺側（図１０で右側）に設けられた端子領域ＴＴとを有している。タッチ領域Ｔは、液晶表示パネルＤＰの表示領域Ｄに対応する領域に配置されている。額縁領域Ｆは、液晶表示パネルＤＰの非表示領域に対応する領域に配置されている。

そして、タッチパネルＴＰは、タッチ領域Ｔに設けられたタッチ位置検出用のタッチ検出電極３２，３８と、該タッチ検出電極３２，３８に電気的に接続されて額縁領域Ｆをタッチ領域Ｔ側から端子領域ＴＴ側に引き出された複数の引出配線４６と、これら各引出配線４６の引き出し先に設けられた外部接続端子４８と、これら各外部接続端子４６に電気的に接続された外部回路であるコントローラ５０とを備えている。

タッチ検出電極３２，３８は、マトリクス状に配置された複数の第１電極３２（図１０で斜線を付した電極）と、同じくマトリクス状に配置された複数の第２電極３８（図１０で白抜きの電極）とにより構成されている。これら第１電極３２及び第２電極３８は、図１０で斜め方向に交互に並ぶように全体としてハニカム状に配列されている。

第１電極３２は、略矩形状に形成され、図１０で左右方向（Ｘ軸方向）及び上下方向（Ｙ軸方向）に互いの角部を突き合わせるように所定の間隔で配置されている。そして、Ｘ軸方向に整列する複数の第１電極３２は、図１１に示すように、隣り合う第１電極３２同士が第１連結部３４により連結されて一体に形成され、第１電極群３６を構成している。つまり、第１電極３２及び第１連結部３４は、Ｘ軸方向に交互に配置されており、この第１連結部３４を介して一体に形成された第１電極３２の列からなる第１電極群３６が、Ｙ軸方向に互いに平行に複数列並んでいる。第１電極３２及び第１連結部３４は、透明導電性酸化物であるＩＴＯ又はＩＺＯからなる。

第２電極３８も、例えば略矩形状に形成され、Ｘ軸方向及びＹ軸方向に互いの角部を突き合わせるように所定の間隔で配置されている。そして、Ｙ軸方向に整列する複数の第２電極３８は、隣り合う第２電極３８同士が第２連結部４０により連結されて電気的に接続され、第２電極群４２を構成している。つまり、第２電極３８及び第２連結部４０は、Ｙ軸方向に交互に配置されており、この第２連結部４０を介して電気的に接続された第２電極３８の列からなる第２電極群４２が、Ｘ軸方向に互いに平行に複数列並んでいる。第２電極３８及び第２連結部４０も、透明導電性酸化物であるＩＴＯ又はＩＺＯからなる。

上記第１電極群３６（第１電極３２）、第１連結部３４及び第２電極群４２（第２電極３８）は、図１２（Ａ−Ａ断面）に示すように、対向基板２を構成する絶縁性基板３０の外側表面に形成されている。そして、第１連結部３４だけが島状の層間絶縁膜３９によって覆われている。一方、第２連結部４０は、層間絶縁膜３９上を第１連結部３４と交差する方向に延びて、該層間絶縁膜３９を介して第１連結部３４を跨ぐ架橋構造を構成しており、その両端部が隣り合う第２電極３８の角部に接続されている。

このように本実施形態では、第１電極群３６と第２電極群４２とが同一層に設けられているので、タッチ位置における第１電極３２及び第２電極３８と指などの接触体との間に形成される静電容量の変化を同程度に生じさせることができる。これによって、第１電極３２と第２電極３８とで静電容量の変化の感度差を少なくすることができ、感度の良いタッチ位置の検出を行うことができる。

上記各第１電極群３６及び各第２電極群４２の一方側には、図１１に示すように、第１電極３２又は第２電極３８から配線４３が引き出されると共に、その先端に内部接続端子４４が形成されている。本実施形態では、これら第１電極群３６、第２電極群４２、配線４２及び内部接続端子４４が本発明の透明電極を構成している。

上記第１電極群３６（第１電極３２）、第２電極群４２（第２電極３８）、第２連結部４０及び層間絶縁膜３９は、図１２（Ａ−Ａ断面）に示すように、保護絶縁膜４９によって覆われている。この保護絶縁膜４９は、アクリルベースの有機絶縁材料などからなり、図１１に示すように端子領域ＴＴには形成されておらず、各外部接続端子４８を外部に露出させている。

外部接続端子４８は、対向基板２を構成する絶縁性基板３０の端縁に沿って互いに所定の間隔をあけて一列に並んでいる。これら各外部接続端子４８は、透明導電性酸化物であるＩＴＯ又はＩＺＯからなり、上記第１電極３２及び第２電極３８と同一膜から形成されている。このように保護絶縁膜４９の外部に露出する外部接続端子４８は、ＩＴＯ又はＩＺＯからなるので、耐腐食性が高く、大気中においても腐食され難い。これにより、外部回路との接続において、当該接続端子４８が腐食されることに起因して、その抵抗が高くなり接続不良を引き起こすことが回避される。

引出配線４６は、タッチ領域Ｔの周辺から端子領域ＴＴの手前まで互いに並んで延びている。これら各引出配線４６は、保護絶縁膜４９によって覆われており、その全体が当該絶縁膜４９の外縁よりも内側に配置されている。これにより、保護絶縁膜４９によって外部からの湿気等の進入が阻止されて、引出配線４６の腐食が良好に防止される。

各引出配線４６は、内部接続端子４４に引き出し基端部４６ａを重ねて接続されていると共に、外部接続端子４８に引き出し先端部４６ｂを重ねて接続されている。これら各引出配線４６は、図１２（Ｂ−Ｂ断面及びＣ−Ｃ断面）に示すように、上記実施形態１における駆動基板５及びコモン基板６の引出配線１４と同様に、窒素濃度が３５ａｔｏｍｓ／ｃｍ^２以上且つ６５ａｔｏｍｓ／ｃｍ^２以下（好ましくは４０ａｔｏｍｓ／ｃｍ^２以上且つ５０ａｔｏｍｓ／ｃｍ^２以下）の窒化チタン（ＴｉＮ）からなるバリア金属層４７Ａと、チタン（Ｔｉ）からなる低抵抗金属層４７Ｂとが順に積層されて構成されている。これにより、引出配線４６と内部接続端子４４及び外部接続端子４８との間で上記実施形態１における駆動基板５と同様な作用が奏され、当該引出配線４６が両接続端子４４，４８から剥がれることを防止できる。

なお、本実施形態では、バリア金属層４７Ａが窒化チタン（ＴｉＮ）からなるとしているが、当該バリア金属層４７Ａは、窒化チタン（ＴｉＮ）に代えて、窒化モリブデン（ＭｏＮ）、窒化タンタル（ＴａＮ）、窒化タングステン（ＷＮ）又は窒化クロム（ＣｒＮ）により形成されていてもよく、その他の高融点金属によって形成されていても構わない。また、低抵抗金属層４７Ｂも、チタン（Ｔｉ）に限らず、これに代えて、モリブデン（Ｍｏ）、タンタル（Ｔａ）、タングステン（Ｗ）又はクロム（Ｃｒ）により形成されていてもよく、その他の高融点金属によって形成されていても構わない。

＜コントローラ５０の構成＞
コントローラ５０は、例えばＴＡＢ（Tape Automated Bonding）と呼ばれる駆動集積回路として端子領域ＴＴに実装されている。このコントローラ５０は、検出回路５２として、タッチ領域Ｔが接触体にタッチされることにより、タッチ位置にある第１電極３２及び第２電極３８と接触体との間に生じる静電容量の変化を検出する静電容量検出回路、或いは、タッチされることによりタッチ位置にある第１電極３２及び第２電極３８のそれぞれに生じるインピーダンスの変化を検出するインピーダンス検出回路を備えている。そして、コントローラ５０は、引出配線４６を経由して検出回路５２により検出される信号同士を比較することにより、タッチ領域Ｔにおける接触体のタッチ位置、及びそのタッチ位置の移動動作を検出するように構成されている。

−製造方法−
次に、上記タッチパネルＴＰ付きの液晶表示装置Ｓ２の製造方法について、一例を挙げて説明する。タッチパネルＴＰ付きの液晶表示装置Ｓ２の製造方法は、タッチパネル製造工程と、液晶表示パネル製造工程と、バックライトユニット製造工程と、モジュール化工程とを含む。なお、液晶表示パネル製造工程及びバックライトユニット製造工程は、上記実施形態１と同様であるので、その詳細な説明を省略する。

＜タッチパネル製造工程＞
タッチパネル製造工程を図１３及び図１４に示す。図１３は、タッチパネル製造工程の前半ステップを示す工程図である。図１４は、タッチパネル製造工程の後半ステップを示す工程図である。なお、これら図１３及び図１４は、図１２対応箇所の断面を示している。

まず、予め準備したガラス基板などの絶縁性基板３０上に、スパッタリング法により、立方晶系のビックスバイト型構造を有するＩＴＯ又はＩＺＯからなる透明導電膜を成膜する。そして、この透明導電膜をフォトリソグラフィーによりパターニングして、図１３（ａ）に示すように、第１電極群３６（第１電極３２）、第１連結部３４、第２電極群４２（第２電極３８）及び外部接続端子４８を形成する。

次いで、第１電極群３６（第１電極３２）、第１連結部３４、第２電極群４２（第２電極３８）及び外部接続端子４８が形成された基板上に、スパッタリング法により、図１３（ｂ）に示すように、立方晶系の塩化ナトリウム（ＮａＣｌ）型構造を有する窒化チタン（ＴｉＮ）膜６０と六方晶系の結晶構造を有するチタン（Ｔｉ）膜６２とを順に成膜して、これらが積層された金属積層膜６４を形成する。そして、この金属積層膜６４をフォトリソグラフィーによりパターニングして、図１３（ｃ）に示すように、引出配線４６を形成する。

続いて、引出配線４６が形成された基板上に、ＣＶＤ（Chemical Vapor Diposition）法により、第１電極群３６（第１電極３２）、第１連結部３４、第２電極群４２（第２電極３８）、外部接続端子４８及び引出配線４６を覆うように、例えば窒化珪素（ＳｉＮ）からなる絶縁膜を成膜する。そして、この絶縁膜をフォトリソグラフィーによりパターニングして、図１４（ａ）に示すように、層間絶縁膜３９を形成する。

次に、層間絶縁膜３９が形成された基板上に、スパッタリング法により、ＩＴＯ又はＩＺＯからなる透明導電膜を成膜する。そして、この透明導電膜をフォトリソグラフィーによりパターニングして、図１４（ｂ）に示すように、第２連結部４０を形成する。

その後、第２連結部４０が形成された基板上に、スピンコート法又はスリットコート法により、例えばアクリルベースの有機絶縁材料からなる絶縁膜を成膜する。そして、この絶縁膜をフォトリソグラフィーによりパターニングして、図１４（ｃ）に示すように、端子領域ＴＴにある絶縁膜部分を除去して当該絶縁膜から外部接続端子４８を露出させて、保護絶縁膜４９を形成する。

このようにして、タッチパネルＴＰを製造することができる。しかる後、このタッチパネル付きの基板３０を対向基板製造工程に投入する。液晶表示パネル製造工程では、当該基板３０の裏面側にブラックマトリクス及びカラーフィルタ等の構成を作り込んでタッチパネルＴＰ付きの対向基板２を製造する他は、上記実施形態１と同様な工程を行う。

＜モジュール化工程＞
液晶表示パネルＤＰの端子領域に対し、異方性導電膜を介してＦＰＣなどの配線基板を実装する。また、タッチパネルＴＰの端子領域ＴＴに対してコントローラ５０を実装する。そして、タッチパネルＴＰ付きの液晶表示パネルＤＰの背面側にバックライトユニットＢＬを搭載する。このようにして、タッチパネルＴＰ付きの液晶表示パネルＤＰとバックライトユニットＢＬとをモジュール化する。

以上の工程を行って、図９に示すタッチパネルＴＰ付きの液晶表示装置Ｓ２を製造することができる。

−実施形態２の効果−
この実施形態２によると、引出配線４６における内部接続端子４４及び外部接続端子４８との接触部を構成するバリア金属層４７Ａが窒化チタン（ＴｉＮ）により構成され、その窒素濃度が３５ａｔｏｍｓ／ｃｍ^２以上且つ６５ａｔｏｍｓ／ｃｍ^２以下であるので、引出配線４６が両接続端子４４，４８から剥がれることを防止でき、これら引出配線４６と両接続端子４４，４８とを確実に接続してタッチパネルＴＰを不良なく正常に動作させることができる。これにより、タッチパネルＴＰ及びこれを備える液晶表示装置Ｓ２について、歩留りの低下及び製造コストの増大を改善することができ、低コスト化することができる。

《実施形態２の変形例》
図１５は、上記実施形態２の変形例に係る引出配線４６の構造を示す断面図であって、図中左側から順に図１２のＢ−Ｂ線及びＣ−Ｃ線断面相当箇所を示している。

上記実施形態２では、引出配線４６が窒化チタン（ＴｉＮ）からなるバリア金属層４７Ａとチタン（Ｔｉ）からなる低抵抗金属層４７Ｂとが順に積層された２層構造（Ｔｉ／ＴｉＮ）を有するとしたが、本変形例の引出配線４６は、窒化チタン（ＴｉＮ）からなるバリア金属層４７Ａと、チタン（Ｔｉ）からなる低抵抗金属層４７Ｂと、窒化チタン（ＴｉＮ）からなる窒化金属層４７Ｃとが順に積層された３層構造（ＴｉＮ／Ｔｉ／ＴｉＮ）を有している。

このような積層構造の引出配線４６を備えるタッチパネルＴＰは、第１電極群３６（第１電極３２）、第１連結部３４、第２電極群４２（第２電極３８）及び外部接続端子４８を形成した基板上に、スパッタリング法により、窒化チタン（ＴｉＮ）膜６０及びチタン（Ｔｉ）膜６２の成膜に続いて、さらに窒化チタン（ＴｉＮ）膜を成膜して、３層構造の金属積層膜を形成し、該金属積層膜をフォトリソグラフィーによりパターニングして、引出配線４６を形成することにより、製造することができる。

《その他の実施形態》
上記実施形態１，２及びこれらの変形例については、以下の構成及び製造方法としてもよい。

＜第１電極３２、第１連結部３４、第２電極３８、第２連結部４０の配置＞
図１６は、その他の実施形態に係るタッチパネルＴＰのタッチ領域Ｔを一部拡大して示す概略平面図である。図１７は、図１６のXVII−XVII線における断面構造を示す断面図である。

上記実施形態２では、第１電極３２、第１連結部３４及び第２電極３８が基板３０表面に形成されて第１連結部３４だけが層間絶縁膜３９によって覆われており、第２連結部４０が層間絶縁膜３９を介して第１連結部３４を跨ぐ架橋構造になっている構成について説明したが、これに限らない。

例えば、図１６及び図１７に示すように、第１電極３２、第２電極３８、第２連結部４０が基板３０表面に形成されて隣り合う第２電極３８の角部がその間の第２連結部４０に重ねて接続され、該第２連結部４０の中央部分だけが層間絶縁膜３９によって覆われており、第１連結部３４が層間絶縁膜３９を介して第２連結部４０を跨ぐ架橋構造になっていてもよい。また、層間絶縁膜３９がタッチ領域Ｔの略全域に設けられ、該層間絶縁膜３９上に第１電極群３６（第１電極３２）及び第２電極群４２（第２電極３８）が配置されていても構わない。

＜２Ｄ／３Ｄ切替型の液晶表示装置の構成＞
図１８は、その他の実施形態における２Ｄ／３Ｄ切替型の液晶表示装置Ｓ３の断面構造を概略的に示す断面図である。

上記実施形態１では、タッチパネルＴＰを備えない２Ｄ／３Ｄ切替型の液晶表示装置Ｓ１について説明したが、本発明はこれに限らず、図１８に示すように、２Ｄ／３Ｄ切替型の液晶表示装置Ｓ３は、タッチパネルＴＰを備えていてもよい。この場合にも、タッチパネルＴＰは、液晶表示装置Ｓ３を全体として薄型化する観点から、スイッチング液晶パネルＳＰを構成する基板（例えばコモン基板６）の表面に直接形成されていることが好ましい。

このようなタッチパネルＴＰ付きの２Ｄ／３Ｄ切替型の液晶表示装置Ｓ３においては、駆動基板５及びコモン基板６が上記実施形態１と同様に、タッチパネルＴＰが上記実施形態２と同様に構成されていることが好ましい。このように構成されていれば、駆動基板５、コモン基板６及びタッチパネルＴＰのそれぞれを、引出配線１４，２４，４６と内部接続端子１２ｂ，２２ｂ，４４及び外部接続端子１６，２６，４８とを確実に接続して正常に動作させることができるので、タッチパネルＴＰ付きの２Ｄ／３Ｄ切替型の液晶表示装置Ｓ３としての歩留りの低下及び製造コストの増大を大幅に改善することができる。

また、タッチパネルＴＰ付きの２Ｄ／３Ｄ切替型の液晶表示装置Ｓ３においては、駆動基板５及びコモン基板６の少なくとも一方だけが上記実施形態１と同様な構成を有していてもよく、タッチパネルＴＰだけが上記実施形態２と同様な構成を有していても構わない。このような構成であっても、タッチパネルＴＰ付きの２Ｄ／３Ｄ切替型の液晶表示装置Ｓ３の歩留りの低下及び製造コストの増大の改善に寄与する。

また、上記実施形態１では、液晶表示パネルＤＰの前面側にスイッチング液晶パネルＳＰが配置された構成の２Ｄ／３Ｄ切替型の液晶表示装置Ｓ１について説明したが、本発明はこれに限らない。例えば、液晶表示パネルＤＰの背面側にスイッチング液晶パネルＳＰが配置された構成の２Ｄ／３Ｄ切替型の液晶表示装置であってもよい。

またその他に、上記実施形態１では、２Ｄ／３Ｄ切替型の液晶表示装置Ｓ１を例に挙げて説明したが、本発明はこれに限らず、第２の表示状態において異なる視野角に分離される画像は、右目用画像及び左目用画像のように相互に関連を必要とするものだけではない。

例えば、自動車の運転席のドライバーにカーナビゲーションシステムの映像を表示し、且つ助手席の同乗者にテレビの映像を表示するような表示装置への利用が考えられる。複数の観察者に異なる映像を表示する場合には、視差バリアを介して視認される液晶表示パネルＤＰの画像が、所定の距離をおいた複数の観察者のそれぞれが観察すべき画像として分離できるように、視差バリアの遮光部と透光部の配置パターン、すなわち駆動スイッチ電極１２及びコモンスイッチ電極２２の配置パターンを適宜設定すればよい。

また、本発明に係るスイッチング液晶パネルＤＰやタッチパネルＴＰなどの付加機能デバイスは、液晶表示装置Ｓ１，Ｓ２，Ｓ３だけでなく、有機ＥＬ（Electro Luminescence）表示装置や無機ＥＬ表示装置、プラズマ表示装置、ＦＰＤ（Field Emission Display；電界放出ディスプレイ）などの他の各種表示装置にも適用することができる。

＜タッチパネルＴＰの構成＞
上記実施形態２では、投影型静電容量方式（プロジェクテッドキャパシティブ方式）のタッチパネルＴＰを例に挙げて説明したが、本発明はこれに限らない。例えば、タッチ領域の全面に設けられた位置検出用の透明電極と、タッチ領域内の電界分布を均一化するためにその透明電極の周縁部分に設けられた複数のセグメントからなるリニアライゼーション電極と、該リニアライゼーション電極の四隅に設けられた端子部にそれぞれ一端部を重ねて接続されていると共に他端側が基板外縁側に引き出された複数（例えば４本）の引出配線と、該各引出配線を介して上記端子部に一定の交流電圧を印加すると共にその端子部を経由して流れる電流を検出する電流検出回路とを備え、タッチ位置に応じて変化する各端子部と接地点との間のインピーダンスを検出することにより、タッチ位置及びその移動を検出する表面静電容量方式（サーフィスキャパシティブ方式）のタッチパネルであってもよい。またその他、透明導電性酸化物からなる透明電極とこれに一部を重ねて接続される引出配線とを備えていれば、種々の方式のタッチパネルに適用することができる。

以上、本発明の好ましい実施形態及び変形例について説明したが、本発明の技術的範囲は、上記の実施形態及び変形例の範囲に限定されない。上記実施形態及び変形例が例示であり、それらの各構成要素や各処理プロセスの組合せに、さらにいろいろな変形例が可能なこと、またそうした変形性も本発明の範囲にあることは当業者に理解されるところである。

以上説明したように、本発明は、電極基板並びにそれを備えた表示装置及びタッチパネルについて有用であり、特に、引出配線が透明電極から剥がれることを防止し、これら引出配線と透明電極とを確実に接続して電極基板を正常に動作させることが要望される電極基板並びにそれを備えた表示装置及びタッチパネルに適している。

ＤＰ 液晶表示パネル
Ｓ１，Ｓ２，Ｓ３ 液晶表示装置
ＳＰ スイッチング液晶パネル
ＴＰ タッチパネル（電極基板）
Ｔ タッチ領域
ＴＴ 端子領域
５ 駆動基板（電極基板）
６ コモン基板（電極基板）
１０，２０，３０ 絶縁性基板（ベース基板）
１２ 駆動スイッチ電極（透明電極）
１２ａ，２２ａ，４２ 配線
１２ｂ，２２ｂ，４４ 内部接続端子
１４，２４，４６ 引出配線
１５Ａ，４７Ａ バリア金属層
１５Ｂ，４７Ｂ 低抵抗金属層
１６，２６，４８ 外部接続端子
２２ コモンスイッチ電極（透明電極）
３２ 第１電極（透明電極）
３８ 第２電極（透明電極）
５０ コントローラ

Claims (7)

1. ベース基板と、
   上記ベース基板上に設けられた透明導電性酸化物からなる透明電極と、
   上記透明電極に一端部を重ねて接続されていると共に他端側が上記ベース基板の外縁側に引き出された引出配線とを備えた電極基板であって、
   上記引出配線における透明電極との接触部は、高融点金属窒化物により形成され、窒素濃度が３５ａｔｏｍｓ／ｃｍ^２以上且つ６５ａｔｏｍｓ／ｃｍ^２以下である
   ことを特徴とする電極基板。
2. 請求項１に記載の電極基板において、
   上記引出配線を覆う絶縁膜と、上記引出配線の引き出し先端部が重ねて接続されていると共に上記絶縁膜の外部に引き出された透明導電性酸化物からなる接続端子とをさらに備え、
   上記引出配線における接続端子との接触部も、高融点金属窒化物により形成され、窒素濃度が３５ａｔｏｍｓ／ｃｍ^２以上且つ６５ａｔｏｍｓ／ｃｍ^２以下である
   ことを特徴とする電極基板。
3. 請求項１又は２に記載の電極基板において、
   上記引出配線は、上記透明電極との接触部を構成する高融点金属窒化物からなるバリア金属層と、該バリア金属層よりも低抵抗な金属からなる低抵抗金属層とが積層されて構成されている
   ことを特徴とする電極基板。
4. 請求項１〜３のいずれか１項に記載の電極基板において、
   上記高融点金属窒化物は、窒化チタン、窒化モリブデン、窒化タンタル、窒化タングステン又は窒化クロムである
   ことを特徴とする電極基板。
5. 請求項１〜４のいずれか１項に記載の電極基板において、
   上記透明導電性酸化物は、インジウムスズ酸化物又はインジウム亜鉛酸化物である
   ことを特徴とする電極基板。
6. 入力される画像データに応じて表示画像を生成する表示パネルと、
   上記表示パネルによって生成された表示画像における第１の表示領域と第２の表示領域とにそれぞれ異なる特定の視野角を与える視差バリア手段と、
   上記視差バリア手段の効果の有効と無効とを切り替えることにより第１の表示状態と第２の表示状態とを切り替えるスイッチング液晶パネルとを備え、
   上記スイッチング液晶パネルは、請求項１〜５のいずれか１項に記載の電極基板を有する
   ことを特徴とする表示装置。
7. 請求項１〜５のいずれか１項に記載の電極基板を備え、
   上記透明電極が設けられた領域であって接触体により接触されたタッチ位置を検出可能なタッチ領域と、該タッチ領域の外側に設けられた領域であって外部回路と接続するための端子領域とを有し、
   上記引出配線は、上記タッチ領域側から上記端子領域側に引き出され、上記端子領域を介して、上記タッチ領域に接触体が接触したときに該接触体の接触位置を検出するコントローラに電気的に接続されている
   ことを特徴とするタッチパネル。

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